JP2003255371A - Display device and method for recovering disconnection thereof - Google Patents
Display device and method for recovering disconnection thereofInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は表示装置および該表
示装置の断線修復方法に関する。さらに詳しくは、とく
に液晶表示装置に適用した場合に、映像信号線の断線修
復が可能な表示装置および該表示装置の断線修復方法に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device and a method for repairing disconnection of the display device. More specifically, the present invention relates to a display device capable of repairing disconnection of a video signal line, particularly when applied to a liquid crystal display device, and a disconnection repair method for the display device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来のアクティブマトリクス型液晶表示
装置などの表示装置において、映像信号線の断線を修正
する方法として、たとえば特開平４−１９５１２２号公
報が開示されている。図７は該特開平４−１９５１２２
号公報の液晶表示装置における略１画素の平面図であ
る。図７において、１は走査線、２は映像信号線、４は
画素電極、７は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、１０はコ
ンタクトホール、１４はＩＴＯ（Indium Tin Oxide）パ
ターンを示している。該特開平４−１９５１２２号公報
記載の技術においては、画素電極と同時に形成されるＩ
ＴＯパターン１４を映像信号線２上に残しておき、さら
にコンタクトホールによって事前に該映像信号線とＩＴ
Ｏパターンとを接続させておくことによって、映像信号
線が断線しても上層のＩＴＯパターンにより接続されて
いることから、映像信号線の断線による線欠陥を防止す
るものである。2. Description of the Related Art In a display device such as a conventional active matrix type liquid crystal display device, a method for correcting disconnection of a video signal line is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 4-195122. FIG. 7 shows the above-mentioned Japanese Laid-Open Patent Publication No.
FIG. 3 is a plan view of approximately one pixel in the liquid crystal display device of the publication. In FIG. 7, 1 is a scanning line, 2 is a video signal line, 4 is a pixel electrode, 7 is a thin film transistor (TFT), 10 is a contact hole, and 14 is an ITO (Indium Tin Oxide) pattern. In the technique disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-195122, I formed simultaneously with the pixel electrode
The TO pattern 14 is left on the video signal line 2, and the video signal line and IT
By connecting with the O pattern, even if the video signal line is disconnected, since the ITO pattern is connected by the upper layer, the line defect due to the disconnection of the video signal line is prevented.
【０００３】また、その他の従来技術として、特開平１
１−１０９４１８号公報が開示されている。図８は該特
開平１１−１０９４１８号公報の液晶表示装置における
略１画素の平面図である。図８において、図７と同じ構
成部分については同一符号を付すこととし、５はソース
電極、６はドレイン電極、１５はゲート電極、１６はチ
ャネル層、１７は配線冗長膜である。該該特開平１１−
１０９４１８号公報記載の技術においては、走査線１と
映像信号線２との交差部を含む領域において、映像信号
線上に積層された絶縁膜に、映像信号線と電気的に接続
するためのコンタクトホールを開口し、前記絶縁膜上に
前記コンタクトホールを覆うように画素電極と同層の透
明導電膜からなる配線冗長膜１７を設けている。このよ
うな構成とすることで、走査線と映像信号線との交差部
における映像信号線の断線を抑制するものである。Further, as another conventional technique, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 1
Japanese Patent Laid-Open No. 1-109418 is disclosed. FIG. 8 is a plan view of approximately one pixel in the liquid crystal display device disclosed in JP-A-11-109418. 8, the same components as those in FIG. 7 are designated by the same reference numerals, 5 is a source electrode, 6 is a drain electrode, 15 is a gate electrode, 16 is a channel layer, and 17 is a wiring redundancy film. The above-mentioned JP-A-11-
In the technique described in Japanese Patent No. 109418, a contact hole for electrically connecting the video signal line to an insulating film laminated on the video signal line in a region including an intersection of the scanning line 1 and the video signal line 2. And a wiring redundancy film 17 made of a transparent conductive film in the same layer as the pixel electrode is provided on the insulating film so as to cover the contact hole. With such a configuration, disconnection of the video signal line at the intersection of the scanning line and the video signal line is suppressed.
【０００４】さらに、その他の従来技術として、特開平
９−１１３９３０号公報が開示されている。図９は該特
開平９−１１３９３０号公報の液晶表示装置における略
１画素の平面図である。図９において、図７〜８と同じ
構成部分については同一符号を付すこととし、３は蓄積
容量線、１３は断線部である。該特開平９−１１３９３
０号公報記載の技術においては、画素電極４の一部を映
像信号線２と重なるように配置し、映像信号線に断線が
生じた場合（断線部１３）、該断線部１３をまたぐ位置
にレーザー照射することにより、映像信号線の断線を救
済するものである。Further, as another conventional technique, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-113930 is disclosed. FIG. 9 is a plan view of approximately one pixel in the liquid crystal display device disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 9-113930. In FIG. 9, the same components as those in FIGS. 7 to 8 are designated by the same reference numerals, 3 is a storage capacitance line, and 13 is a disconnection portion. JP-A-9-11393
In the technique described in Japanese Patent Publication No. 0, a part of the pixel electrode 4 is arranged so as to overlap the video signal line 2, and when a disconnection occurs in the video signal line (disconnection portion 13), the pixel electrode 4 is placed at a position across the disconnection portion 13. By irradiating the laser, the disconnection of the video signal line is remedied.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記特
開平４−１９５１２２号公報記載の技術においては、映
像信号線の修復のために、事前にコンタクトホールを形
成しておく必要があり、それは結果として、映像信号線
の電位自体が表面に露出されてしまうことになる。それ
によって、外部からの静電気の影響を受けやすくなって
しまう。その結果として、静電気破壊などの新たな不良
が発生してしまう可能性がある。さらには、画素電極４
とＩＴＯパターン１４とが、製造工程中の異物の発生な
どにより短絡してしまった場合は、該画素は点欠陥とな
ってしまうという問題がある。However, in the technique disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-195122, it is necessary to form a contact hole in advance in order to restore the video signal line, which results in The potential of the video signal line itself is exposed on the surface. This makes it more susceptible to external static electricity. As a result, a new defect such as electrostatic breakdown may occur. Furthermore, the pixel electrode 4
If the ITO pattern 14 and the ITO pattern 14 are short-circuited due to the generation of foreign matter during the manufacturing process, the pixel becomes a point defect.
【０００６】また、前記特開平１１−１０９４１８号公
報記載の技術においては、映像信号線における走査線と
の交差部における断線については救済できるが、その交
差部以外の領域において、映像信号線に断線が発生した
場合には救済できないという問題がある。Further, in the technique disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 11-109418, the disconnection at the intersection of the video signal line with the scanning line can be remedied, but the disconnection is made in the video signal line in the area other than the intersection. If this occurs, there is a problem that it cannot be relieved.
【０００７】さらに、前記特開平９−１１３９３０号公
報記載の技術においては、映像信号線の断線を修復する
ことは可能であるが、該特開平９−１１３９３０号公報
記載の技術においては、画素電極自体を映像信号線と重
ねており、映像信号線の断線部をまたぐ該画素電極と映
像信号線との重なり部にレーザー照射することで断線を
修復している。その結果として、該画素は常に断線を修
復した映像信号線の電位となることから、該画素は点欠
陥になってしまうという問題がある。Further, in the technique disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 9-113930, it is possible to repair the disconnection of the video signal line, but in the technique described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 9-113930, the pixel electrode The line itself is overlapped with the video signal line, and the line break is repaired by irradiating the overlapping portion of the pixel electrode and the video signal line straddling the line break of the video signal line with laser. As a result, since the pixel always has the potential of the video signal line in which the disconnection is repaired, there is a problem that the pixel becomes a point defect.
【０００８】本発明は、叙上の事情に鑑み、点欠陥を発
生させることなく、かつ製造工程を増加させることない
とともに、映像信号線の断線を修復し、製造歩留まりを
向上させることができる表示装置および該表示装置の断
線修復方法を提供することを目的とする。In view of the above circumstances, the present invention is a display capable of repairing disconnection of video signal lines and improving manufacturing yield without causing point defects and increasing the number of manufacturing processes. An object of the present invention is to provide a device and a method for repairing disconnection of the display device.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
表示装置は、絶縁性基板上に形成された走査線と、該走
査線と並行に形成された蓄積容量線と、前記走査線およ
び前記蓄積容量線と絶縁膜を介して交差して形成された
映像信号線と、前記走査線、前記蓄積容量線および前記
映像信号線とに囲まれた画素電極とを備える表示装置で
あって、前記走査線と前記映像信号線との交差部を含
み、かつ１画素内で複数の分断部を有する、前記映像信
号線上または下に形成された冗長配線を備えてなること
を特徴とする。According to another aspect of the present invention, there is provided a display device comprising: a scanning line formed on an insulating substrate; a storage capacitance line formed in parallel with the scanning line; and the scanning line. And a video signal line formed by intersecting the storage capacitance line via an insulating film, and a pixel electrode surrounded by the scanning line, the storage capacitance line and the video signal line. A redundant wiring formed above or below the video signal line, including a crossing portion between the scanning line and the video signal line, and having a plurality of dividing portions within one pixel.
【００１０】本発明の請求項２記載の表示装置は、前記
請求項１記載の表示装置において、前記冗長配線が、前
記映像信号線上に形成された絶縁膜のさらに上層に形成
されるか、または前記映像信号線下に形成された絶縁膜
のさらに下層に形成されている。A display device according to a second aspect of the present invention is the display device according to the first aspect, wherein the redundant wiring is formed on an upper layer of an insulating film formed on the video signal line, or It is formed further below the insulating film formed under the video signal line.
【００１１】本発明の請求項３記載の表示装置は、前記
請求項１記載の表示装置において、前記冗長配線が、前
記映像信号線上に直接形成されるか、または前記映像信
号線下に直接形成されている。A display device according to a third aspect of the present invention is the display device according to the first aspect, wherein the redundant wiring is formed directly on the video signal line or directly below the video signal line. Has been done.
【００１２】本発明の請求項４記載の表示装置は、前記
請求項１、２または３記載の表示装置において、前記冗
長配線が、前記画素電極と同一層の導電膜で形成されて
いる。A display device according to claim 4 of the present invention is the display device according to claim 1, 2 or 3, wherein the redundant wiring is formed of a conductive film in the same layer as the pixel electrode.
【００１３】本発明の請求項５記載の表示装置は、絶縁
性基板上に形成された走査線と、該走査線と並行に形成
された蓄積容量線と、前記走査線および前記蓄積容量線
と絶縁膜を介して交差して形成された映像信号線と、前
記走査線、前記蓄積容量線および前記映像信号線とに囲
まれた画素電極とを備える表示装置であって、前記映像
信号線と前記走査線または前記蓄積容量線との交差部以
外の領域において、前記映像信号線上または下に形成さ
れた冗長配線を備えてなることを特徴とする。According to a fifth aspect of the present invention, in a display device, a scanning line formed on an insulating substrate, a storage capacitance line formed in parallel with the scanning line, the scanning line and the storage capacitance line are provided. A display device comprising: a video signal line formed by intersecting via an insulating film; and a pixel electrode surrounded by the scanning line, the storage capacitance line and the video signal line, wherein the video signal line In a region other than an intersection with the scanning line or the storage capacitance line, a redundant wiring formed on or under the video signal line is provided.
【００１４】本発明の請求項６記載の表示装置は、前記
請求項５記載の表示装置において、前記冗長配線が、前
記映像信号線上に形成された絶縁膜のさらに上層に形
成、または前記映像信号線下に形成された絶縁膜のさら
に下層に形成されている。A display device according to a sixth aspect of the present invention is the display device according to the fifth aspect, wherein the redundant wiring is formed on an upper layer of an insulating film formed on the video signal line, or the video signal. It is formed further below the insulating film formed under the line.
【００１５】本発明の請求項７記載の表示装置は、前記
請求項５記載の表示装置において、前記冗長配線が、前
記映像信号線上に直接形成、または前記映像信号線下に
直接形成されている。According to a seventh aspect of the present invention, in the display device according to the fifth aspect, the redundant wiring is directly formed on the video signal line or directly below the video signal line. .
【００１６】本発明の請求項８記載の表示装置は、前記
請求項５、６または７記載の表示装置において、前記冗
長配線が、前記画素電極と同一層の導電膜で形成されて
いる。According to an eighth aspect of the present invention, in the display device according to the fifth, sixth or seventh aspect, the redundant wiring is formed of a conductive film in the same layer as the pixel electrode.
【００１７】本発明の請求項９記載の表示装置の断線修
復方法は、絶縁性基板上に形成された走査線と、該走査
線と並行に形成された蓄積容量線と、前記走査線および
前記蓄積容量線と絶縁膜を介して交差して形成された映
像信号線と、前記走査線、前記蓄積容量線および前記映
像信号線とに囲まれた画素電極とを備える表示装置の断
線修復方法であって、前記走査線と前記映像信号線との
交差部を含み、かつ１画素内で複数の分断部を有するよ
うに、前記映像信号線上に形成された絶縁膜のさらに上
層に冗長配線を、または前記映像信号線下に形成された
絶縁膜のさらに下層に冗長配線を形成する工程と、前記
映像信号線の断線部をまたぎ、かつ前記冗長配線と前記
映像信号線とが重なる領域において、前記冗長配線と前
記映像信号線とを接続する工程とを含むことを特徴とす
る。According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a method for repairing a broken wire in a display device, wherein a scanning line formed on an insulating substrate, a storage capacitance line formed in parallel with the scanning line, the scanning line and the scanning line. A method for repairing a disconnection of a display device, comprising: a video signal line formed to intersect with a storage capacitance line via an insulating film; and a pixel electrode surrounded by the scanning line, the storage capacitance line and the video signal line. A redundant wiring is further provided on the insulating film formed on the video signal line so as to include a crossing portion between the scanning line and the video signal line and to have a plurality of divided portions in one pixel. Alternatively, in the step of forming a redundant wiring in a layer further below the insulating film formed under the video signal line, in a region where the disconnection portion of the video signal line is crossed and the redundant wiring and the video signal line overlap each other, Redundant wiring and the video signal line Characterized in that it comprises a step of connection.
【００１８】本発明の請求項１０記載の表示装置の断線
修復方法は、前記請求項９記載の表示装置の断線修復方
法において、前記映像信号線の断線部をまたぎ、かつ前
記冗長配線と前記映像信号線とが重なる領域において、
前記冗長配線と前記映像信号線とを接続する工程はレー
ザー照射する工程を含んでいる。A disconnection repairing method for a display device according to a tenth aspect of the present invention is the method for repairing a disconnection for a display device according to the ninth aspect, in which the disconnection portion of the video signal line is straddled and the redundant wiring and the image are connected. In the area where the signal line overlaps,
The step of connecting the redundant wiring and the video signal line includes a step of laser irradiation.
【００１９】[0019]
【発明の実施の形態】実施の形態１
本発明の実施の形態１を図１〜２により説明する。図１
は本発明の実施の形態１における薄膜トランジスタ（Ｔ
ＦＴ）を用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置の
略１画素の平面図であり、図２は図１における映像信号
線の断線修復方法を説明する略１画素の平面図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION First Embodiment A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Figure 1
Is a thin film transistor (T
FIG. 2 is a plan view of approximately 1 pixel of an active matrix type liquid crystal display device using FT), and FIG. 2 is a plan view of approximately 1 pixel for explaining a method of repairing disconnection of a video signal line in FIG.
【００２０】図１〜２において、１はＴＦＴのゲートを
駆動する走査線（ゲート線）、２は映像信号線（ソース
線）、３は蓄積容量線、４は画素電極、５はソース電
極、６はドレイン電極、７は薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ）、８は冗長配線、９は冗長配線の分断部、１０はコ
ンタクトホール、１１は半導体膜、１２はレーザー照射
部、１３は断線部を示している。1 and 2, 1 is a scanning line (gate line) for driving a gate of a TFT, 2 is a video signal line (source line), 3 is a storage capacitance line, 4 is a pixel electrode, 5 is a source electrode, 6 is a drain electrode, 7 is a thin film transistor (TF
T), 8 is a redundant wiring, 9 is a dividing portion of the redundant wiring, 10 is a contact hole, 11 is a semiconductor film, 12 is a laser irradiation portion, and 13 is a disconnection portion.
【００２１】図１は蓄積容量を、画素電極と蓄積容量線
との重なり部で形成する方式（共通Ｃｓ方式）を用いた
略１画素を表す平面図を示しており、まずその製造工程
について図１〜２を参照しながら説明する。絶縁性基板
上に、走査線１および蓄積容量線３となる第１層の導電
膜を成膜する。第１層の導電膜としては、たとえばＡ
ｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｍｏや、これらに他の物質を添
加した合金などからなる薄膜が用いられる。つぎに写真
製版工程により第１層の導電膜をパターニングすること
により走査線１および蓄積容量線３を形成する。この蓄
積容量線３は、本実施の形態１においては、１画素にお
ける略中央部に配置され、かつ略Ｈ字形状となるように
映像信号線と並行に沿う突起部を有するようにパターニ
ングされている。FIG. 1 is a plan view showing approximately one pixel using a method (common Cs method) in which a storage capacitor is formed at an overlapping portion of a pixel electrode and a storage capacitor line. A description will be given with reference to 1-2. On the insulating substrate, a first-layer conductive film to be the scanning line 1 and the storage capacitance line 3 is formed. As the conductive film of the first layer, for example, A
A thin film made of 1, Cr, Cu, Ta, Mo, or an alloy obtained by adding another substance to these is used. Next, the scanning line 1 and the storage capacitor line 3 are formed by patterning the conductive film of the first layer by a photolithography process. In the first embodiment, the storage capacitor line 3 is arranged at a substantially central portion of one pixel and is patterned so as to have a substantially H-shaped projection portion extending in parallel with the video signal line. There is.
【００２２】そののち、プラズマＣＶＤなどの成膜装置
により、ゲート絶縁膜（図示せず）、半導体膜１１、オ
ーミックコンタクト膜（図示せず）を連続形成する。ゲ
ート絶縁膜としては、ＳｉＮｘ，ＳｉＯｘ、ＳｉＯｘＮ
ｙやこれらの積層膜が用いられる。半導体膜１１として
は、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）、ポリシリコン
（ｐ−Ｓｉ）などが用いられる。さらにオーミックコン
タクト膜にはａ−Ｓｉ膜やｐ−Ｓｉ膜に燐（Ｐ）などを
微量にドーピングしたｎ−ａ−Ｓｉ、ｎ−ｐ−Ｓｉが用
いられる。そして写真製版工程により半導体膜およびオ
ーミックコンタクト膜をドライエッチングなどによりパ
ターニングする。After that, a gate insulating film (not shown), a semiconductor film 11, and an ohmic contact film (not shown) are continuously formed by a film forming apparatus such as plasma CVD. As the gate insulating film, SiNx, SiOx, SiOxN
y or a laminated film of these is used. As the semiconductor film 11, amorphous silicon (a-Si), polysilicon (p-Si), or the like is used. Further, as the ohmic contact film, n-a-Si or n-p-Si, which is obtained by doping an a-Si film or a p-Si film with a small amount of phosphorus (P) or the like, is used. Then, the semiconductor film and the ohmic contact film are patterned by dry etching or the like by a photolithography process.
【００２３】つぎに、映像信号線２となる第２層の導電
膜を成膜する。第２層の導電膜としては、たとえばＡ
ｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｍｏや、これらに他の物質を添
加した合金などからなる薄膜、異種の金属膜を積層した
もの、または膜厚方向に組成の異なるものを用いること
ができる。そして写真製版工程により映像信号線をパタ
ーニングする。この映像信号線のパターニングの際、ソ
ース電極５、ドレイン電極６も同時に形成されるように
する。Next, a second-layer conductive film to be the video signal line 2 is formed. As the conductive film of the second layer, for example, A
It is possible to use a thin film made of 1, Cr, Cu, Ta, Mo, an alloy in which another substance is added to these, a laminated film of different kinds of metal films, or a film having a different composition in the film thickness direction. Then, the video signal line is patterned by the photoengraving process. At the time of patterning the video signal line, the source electrode 5 and the drain electrode 6 are also formed at the same time.
【００２４】つぎに、プラズマＣＶＤなどの成膜装置に
より、層間絶縁膜（図示せず）を形成する。そして写真
製版工程により該層間絶縁膜をパターニングする。層間
絶縁膜としては、ゲート絶縁膜と同様にＳｉＮｘ，Ｓｉ
Ｏｘ、ＳｉＯｘＮｙやこれらの積層膜が用いられる。こ
の層間絶縁膜のパターニングにより、コンタクトホール
１０が形成され、ドレイン電極６と後述する画素電極４
とが該コンタクトホール１０を介して電気的に導通可能
となる。Next, an interlayer insulating film (not shown) is formed by a film forming apparatus such as plasma CVD. Then, the interlayer insulating film is patterned by a photolithography process. As the interlayer insulating film, similar to the gate insulating film, SiNx, Si
Ox, SiOxNy, or a laminated film of these is used. By patterning the interlayer insulating film, the contact hole 10 is formed, and the drain electrode 6 and the pixel electrode 4 described later are formed.
And can be electrically conducted through the contact hole 10.
【００２５】そして、層間絶縁膜上に画素電極４となる
たとえばＩＴＯ、ＳｎＯ2などの透明金属である導電性
薄膜を成膜し、写真製版工程により該導電性薄膜を走査
線１、蓄積容量線３および映像信号線２とによって囲ま
れるようにパターニングすることで、ＴＦＴなどが形成
された絶縁性基板（以下、アレイ基板という）が完成す
る。本実施の形態１においては、該画素電極形成の際に
同時に、同一層の導電膜にて、冗長配線８を、走査線と
映像信号線との交差部を含み、１画素内において複数
（本実施の形態１では２つ）の分断部を有するように、
該映像信号線上に形成している。ここで、本明細書にお
いて分断部とは、隣接する画素（図１においては縦方向
に隣接する画素）とのあいだをまたぐことなく、１画素
内における分断部を示すものとする。さらに図１〜２に
おいては、該冗長配線８は、映像信号線と蓄積容量線と
の交差部において映像信号線が断線した場合に修復可能
なように、該映像信号線と蓄積容量線との交差部を含む
ように形成されている。Then, a conductive thin film which is a transparent metal such as ITO or SnO 2 to be the pixel electrode 4 is formed on the interlayer insulating film, and the conductive thin film is formed into a scanning line 1 and a storage capacitor line by a photolithography process. By patterning so as to be surrounded by 3 and the video signal line 2, an insulating substrate (hereinafter referred to as an array substrate) on which TFTs and the like are formed is completed. In the first embodiment, simultaneously with the formation of the pixel electrodes, a plurality of redundant wirings 8 are formed in one pixel in the same conductive film in the same layer, including redundant wirings 8 including the intersections of the scanning lines and the video signal lines. In the first embodiment, it has two dividing parts,
It is formed on the video signal line. Here, in the present specification, the dividing portion refers to a dividing portion within one pixel without straddling an adjacent pixel (pixel adjacent in the vertical direction in FIG. 1). Further, in FIGS. 1 and 2, the redundant wiring 8 is formed between the video signal line and the storage capacitance line so that the redundant signal can be repaired when the video signal line is disconnected at the intersection of the video signal line and the storage capacitance line. It is formed to include the intersection.
【００２６】以上のようなアレイ基板製造工程中、映像
信号線の成膜またはパターニング中の異物などの発生に
より、図２に示されるように映像信号線の断線（断線部
１３）が生じる場合がある。該断線は、アレイ基板の各
製造工程中における画像検査装置などによる検査によっ
て発見される。通常、映像信号線に断線が生じた場合、
駆動回路側から該断線部までは当該電位は供給されるも
のの、駆動回路側から該断線部より遠い領域には当該電
位が供給されず、線欠陥不良となって製造歩留まりの低
下をもたらしていた。During the array substrate manufacturing process as described above, there is a case where a disconnection of the video signal line (disconnection portion 13) occurs as shown in FIG. 2 due to the generation of foreign matter during film formation or patterning of the video signal line. is there. The disconnection is found by inspection by an image inspection device or the like during each manufacturing process of the array substrate. Normally, when the video signal line is broken,
Although the potential is supplied from the drive circuit side to the disconnection portion, the potential is not supplied to a region farther from the drive circuit side than the disconnection portion, resulting in a line defect defect and a reduction in manufacturing yield. .
【００２７】よって、前記断線を修復するために、図２
に示されるように、映像信号線に断線が生じた場合（断
線部１３）、該断線部１３をまたぎ、かつ冗長配線と映
像信号線との重なり部におけるレーザー照射部１２にレ
ーザーを照射することで、溶融した金属によって映像信
号線２と断線部を含む冗長配線８とを確実に導通させ
る。このレーザー光は、ＹＡＧレーザーまたはエキシマ
レーザーであること、さらに該レーザー光の波長は０．
１〜１．０６μｍであることが好ましい。また、レーザ
ー光の照射方向はアレイ基板の表面側（冗長配線側）ま
たはアレイ基板の裏面側（映像信号線側）からのどちら
からでもよい。また、該レーザー光の照射強度は、前記
のように金属膜に照射する場合、出力密度１×１０2〜
１×１０4Ｊ／ｍ2の範囲であることが好ましい。さらに
レーザー照射部１２のレーザー光の照射範囲としては直
径２μｍ程度が好ましく、接続抵抗の安定性の面から、
前記冗長配線と映像信号線との重なり部の断線部１３を
またぐ、それぞれの映像信号線と冗長配線との重なり部
に２〜４箇所程度照射することが好ましい。Therefore, in order to repair the disconnection, FIG.
When a disconnection occurs in the video signal line (disconnection portion 13), laser irradiation is performed on the laser irradiation portion 12 across the disconnection portion 13 and in the overlapping portion of the redundant wiring and the video signal line as shown in FIG. Then, the video signal line 2 and the redundant wiring 8 including the disconnection portion are surely brought into conduction by the molten metal. The laser light is a YAG laser or an excimer laser, and the wavelength of the laser light is 0.
It is preferably 1 to 1.06 μm. Further, the irradiation direction of the laser light may be from the front side of the array substrate (redundant wiring side) or the back side of the array substrate (video signal line side). Further, the irradiation intensity of the laser light is such that when the metal film is irradiated as described above, the output density is 1 × 10 2 to
It is preferably in the range of 1 × 10 4 J / m 2 . Further, the laser irradiation area of the laser irradiation section 12 is preferably about 2 μm in diameter, and from the viewpoint of stability of connection resistance,
It is preferable to irradiate the overlapping portion of each video signal line and the redundant wiring at about 2 to 4 places across the disconnection portion 13 of the overlapping portion of the redundant wiring and the video signal line.
【００２８】前記構成および工程により、映像信号線の
断線を含む画素において点欠陥となることなく、かつ製
造工程を増加させることなく、映像信号線の断線を修復
可能となる。なお、本実施の形態１においては、冗長配
線が映像信号線と絶縁膜を介して形成される例について
示しているため、上述のように断線部においてはレーザ
ー照射する必要があったが、映像信号線と冗長配線とが
直接接触するような層構成を有する表示装置において
は、上述のレーザー照射を行なう必要もなく、映像信号
線の断線が防止可能である。With the above structure and process, the disconnection of the video signal line can be repaired without causing a point defect in the pixel including the disconnection of the video signal line and without increasing the manufacturing process. In the first embodiment, the example in which the redundant wiring is formed via the video signal line and the insulating film is shown. Therefore, it is necessary to irradiate the laser in the disconnection portion as described above. In a display device having a layer structure in which the signal line and the redundant wiring are in direct contact with each other, it is not necessary to perform the above laser irradiation, and disconnection of the video signal line can be prevented.
【００２９】また、前記冗長配線の分断部９の間隔は、
該冗長配線のパターニング精度にも依存するが、該間隔
が１０μｍより狭いと該冗長配線のパターニングの際に
該冗長配線同士の短絡が生じる可能性があり、逆に５０
μｍよりも広いと映像信号線に断線が生じた場合に修復
できる範囲が狭くなってしまうため、１０〜５０μｍの
範囲であることが好ましい。The interval between the dividing portions 9 of the redundant wiring is
Although depending on the patterning accuracy of the redundant wirings, if the spacing is narrower than 10 μm, short circuits may occur between the redundant wirings when patterning the redundant wirings, and conversely 50
When the width is larger than μm, the range that can be repaired when the video signal line is broken becomes narrow, so that the range is preferably 10 to 50 μm.
【００３０】実施の形態２
本発明の実施の形態２を図３により説明する。図３はＴ
ＦＴを用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置の略
１画素を表す平面図である。図３において、図１〜２と
同じ構成部分については同一符号を付しており、差異に
ついて説明する。本実施の形態２においては、前記実施
の形態１とは異なり、冗長配線を分断せず、映像信号線
全域において該冗長配線を形成している。本実施の形態
２の製造工程については、実施の形態１と同様であるの
で、説明を省略する。Second Embodiment A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Figure 3 is T
FIG. 3 is a plan view showing approximately one pixel of an active matrix type liquid crystal display device using FT. In FIG. 3, the same components as those in FIGS. 1 and 2 are designated by the same reference numerals, and the differences will be described. In the second embodiment, unlike the first embodiment, the redundant wiring is not divided and the redundant wiring is formed in the entire video signal line. The manufacturing process of the second embodiment is the same as that of the first embodiment, and the description thereof is omitted.
【００３１】前述のような構成とすることで、実施の形
態１と同様に映像信号線の断線を修復することが可能と
なる。With the configuration as described above, it becomes possible to repair the disconnection of the video signal line as in the first embodiment.
【００３２】実施の形態３
本発明の実施の形態３を図４により説明する。図４はＴ
ＦＴを用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置の略
１画素を表す平面図である。図４において、図１〜３と
同じ構成部分については同一符号を付しており、差異に
ついて説明する。本実施の形態３においては、前記実施
の形態１、２とは異なり、冗長配線を、走査線と映像信
号線との交差部以外の領域において、形成している。本
実施の形態３の製造工程については、実施の形態１と同
様であるので、説明を省略する。Third Embodiment A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Figure 4 is T
FIG. 3 is a plan view showing approximately one pixel of an active matrix type liquid crystal display device using FT. 4, the same components as those in FIGS. 1 to 3 are designated by the same reference numerals, and the differences will be described. In the third embodiment, unlike the first and second embodiments, the redundant wiring is formed in a region other than the intersection of the scanning line and the video signal line. The manufacturing process of the third embodiment is the same as that of the first embodiment, and the description thereof will be omitted.
【００３３】前述のような構成とすることで、走査線と
映像信号線との交差部以外の領域において、実施の形態
１と同様に映像信号線の断線を修復することが可能とな
る。With the above-described structure, it is possible to repair the disconnection of the video signal line in the region other than the intersection of the scanning line and the video signal line as in the first embodiment.
【００３４】実施の形態４
本発明の実施の形態４を図５により説明する。図５はＴ
ＦＴを用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置の略
１画素を表す平面図である。図５において、図１〜４と
同じ構成部分については同一符号を付しており、差異に
ついて説明する。本実施の形態４においては、前記実施
の形態１〜３とは異なり、冗長配線を、走査線、映像信
号線および蓄積容量線の交差部以外の領域において、形
成している。本実施の形態４の製造工程については、実
施の形態１と同様であるので、説明を省略する。Fourth Embodiment A fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Figure 5 is T
FIG. 3 is a plan view showing approximately one pixel of an active matrix type liquid crystal display device using FT. 5, the same components as those in FIGS. 1 to 4 are designated by the same reference numerals, and the differences will be described. In the fourth embodiment, unlike the first to third embodiments, the redundant wiring is formed in a region other than the intersection of the scanning line, the video signal line and the storage capacitance line. The manufacturing process of the fourth embodiment is similar to that of the first embodiment, and thus the description thereof is omitted.
【００３５】前述のような構成とすることで、走査線、
映像信号線および蓄積容量線の交差部以外の領域におい
て、実施の形態１と同様に映像信号線の断線を修復する
ことが可能となる。また、実施の形態１と同様に、前記
冗長配線の分断部９の間隔は、該冗長配線のパターニン
グ精度にも依存するが、該間隔が１０μｍより狭いと該
冗長配線のパターニングの際に該冗長配線同士の短絡が
生じる可能性があり、逆に５０μｍよりも広いと映像信
号線に断線が生じた場合に修復できる範囲が狭くなって
しまうため、１０〜５０μｍの範囲であることが好まし
い。With the configuration as described above, the scanning line,
In a region other than the intersection of the video signal line and the storage capacitor line, it is possible to repair the disconnection of the video signal line as in the first embodiment. Further, as in the first embodiment, the spacing of the dividing portions 9 of the redundant wiring depends on the patterning accuracy of the redundant wiring, but if the spacing is smaller than 10 μm, the redundancy is formed when patterning the redundant wiring. There is a possibility that short circuits will occur between the wirings, and conversely, if it is wider than 50 μm, the range that can be repaired in the case of a break in the video signal line becomes narrower, so the range is preferably 10 to 50 μm.
【００３６】実施の形態５
本発明の実施の形態５を図６により説明する。図６はＴ
ＦＴを用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置の略
１画素を表す平面図である。図６において、図１〜５と
同じ構成部分については同一符号を付しており、差異に
ついて説明する。本実施の形態５においては、前記実施
の形態１〜４とは異なり、冗長配線を、映像信号線と蓄
積容量線との交差部以外の領域において、形成してい
る。本実施の形態５の製造工程については、実施の形態
１と同様であるので、説明を省略する。Fifth Embodiment A fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Figure 6 is T
FIG. 3 is a plan view showing approximately one pixel of an active matrix type liquid crystal display device using FT. 6, the same components as those in FIGS. 1 to 5 are designated by the same reference numerals, and the differences will be described. In the fifth embodiment, unlike the first to fourth embodiments, the redundant wiring is formed in a region other than the intersection of the video signal line and the storage capacitance line. The manufacturing process of the fifth embodiment is the same as that of the first embodiment, and the description thereof is omitted.
【００３７】前述のような構成とすることで、映像信号
線と蓄積容量線との交差部以外の領域において、実施の
形態１と同様に映像信号線の断線を修復することが可能
となる。また実施の形態１と同様に、前記冗長配線の分
断部９の間隔は、該冗長配線のパターニング精度にも依
存するが、該間隔が１０μｍより狭いと該冗長配線のパ
ターニングの際に該冗長配線同士の短絡が生じる可能性
があり、逆に５０μｍよりも広いと映像信号線に断線が
生じた場合に修復できる範囲が狭くなってしまうため、
１０〜５０μｍの範囲であることが好ましい。With the above-described structure, it is possible to repair the disconnection of the video signal line in the region other than the intersection of the video signal line and the storage capacitance line, as in the first embodiment. Similarly to the first embodiment, the interval of the dividing portions 9 of the redundant wiring depends on the patterning accuracy of the redundant wiring, but if the interval is less than 10 μm, the redundant wiring is patterned at the time of patterning the redundant wiring. There is a possibility that short circuits will occur between them, and conversely, if it is wider than 50 μm, the range that can be repaired in the event of a disconnection in the video signal line will be narrowed.
It is preferably in the range of 10 to 50 μm.
【００３８】ここで、前記実施の形態２においては、冗
長配線を分断せず、映像信号線全域において形成する例
について示しているが、該冗長配線８と画素電極４と
が、製造工程中の異物の発生などにより短絡する不良が
多発する場合は、該実施の形態２の場合、画素電極の負
荷が増加し、結果として点欠陥になってしまう可能性が
ある。このように、冗長配線８と画素電極４とが、短絡
する不良が多発する場合においては、前記実施の形態１
および実施の形態３〜５のように、冗長配線を分断して
配置する構成の方が、冗長配線と画素電極とが短絡して
も、画素電極の負荷の増加を小さく抑えることができ、
点欠陥の発生も抑制することが可能である。さらに前記
実施の形態では、１画素内における冗長配線の分断部を
実施の形態１では２箇所、実施の形態４、５においては
１箇所、それぞれ設ける例について示しているが、それ
に限定されることなく、上述の冗長配線と画素電極短絡
時の画素電極の負荷を考慮して、３箇所、４箇所など適
宜変更してもよい。Here, in the second embodiment, an example is shown in which the redundant wiring is not divided and is formed in the entire video signal line, but the redundant wiring 8 and the pixel electrode 4 are formed during the manufacturing process. In the case of the second embodiment, in the case where a short circuit occurs frequently due to the generation of foreign matter, the load on the pixel electrode increases in the second embodiment, which may result in a point defect. As described above, in the case where the redundant wiring 8 and the pixel electrode 4 are frequently short-circuited with each other, the first embodiment is described.
In addition, as in the third to fifth embodiments, the configuration in which the redundant wiring is divided and arranged can suppress the increase in the load of the pixel electrode to be small even if the redundant wiring and the pixel electrode are short-circuited.
It is also possible to suppress the occurrence of point defects. Further, in the above-described embodiment, an example in which the dividing portion of the redundant wiring in one pixel is provided at two places in the first embodiment and one place in the fourth and fifth embodiments is shown, but the present invention is not limited to this. Instead, it may be appropriately changed to three places or four places in consideration of the redundant wiring and the load on the pixel electrode when the pixel electrode is short-circuited.
【００３９】なお、走査線と映像信号線との交差部にお
いて、映像信号線の断線が製造工程中多発する場合は、
前記実施の形態１、２、５で示した冗長配線の配置を用
いるのが好ましく、映像信号線と蓄積容量線との交差部
において映像信号線の断線が多発する場合は、前記実施
の形態１〜３で示した冗長配線の配置を用いるのが好ま
しく、さらに走査線、蓄積容量線および映像信号線の交
差部において映像信号線の断線が多発する場合は、前記
実施の形態１、２で示した冗長配線の配置を用いるのが
好ましい。映像信号線における、走査線または蓄積容量
線との交差部における断線がとくに顕著でない場合は、
前記実施の形態のいずれの冗長配線の配置を用いてもよ
い。When the disconnection of the video signal line frequently occurs at the intersection of the scanning line and the video signal line,
It is preferable to use the redundant wiring arrangement shown in the first, second, and fifth embodiments, and when the disconnection of the video signal line frequently occurs at the intersection of the video signal line and the storage capacitor line, the first embodiment is used. It is preferable to use the arrangement of the redundant wirings shown in FIGS. 3 to 3, and in the case where the disconnection of the video signal lines frequently occurs at the intersections of the scanning lines, the storage capacitance lines and the video signal lines, it is shown in the first and second embodiments. It is preferable to use a redundant wiring arrangement. If the disconnection at the intersection of the video signal line with the scanning line or the storage capacitance line is not particularly remarkable,
Any of the redundant wiring arrangements of the above embodiments may be used.
【００４０】また、前記実施の形態においては、冗長配
線が映像信号線の上に絶縁膜を介して形成される例につ
いて説明を行なっているが、この層構成に限定されるこ
となく、冗長配線が映像信号線の上に直接形成される層
構成に適用してもよく、この場合はレーザー照射する工
程を省略可能である。さらに、前記実施の形態において
は、冗長配線が映像信号線の上に形成される例について
説明を行なっているが、この層構成に限らず、冗長配線
が映像信号線の下に形成される場合に適用してもよく、
映像信号線と絶縁膜を介して交差する走査線とを備えた
あらゆる表示装置に適用しても、何ら差し支えないこと
は勿論である。Further, in the above-mentioned embodiment, an example in which the redundant wiring is formed on the video signal line via the insulating film is explained, but the redundant wiring is not limited to this layer structure. May be applied to a layer structure formed directly on the video signal line, and in this case, the laser irradiation step can be omitted. Further, in the above-described embodiment, an example in which the redundant wiring is formed above the video signal line has been described, but the present invention is not limited to this layer structure, and when the redundant wiring is formed below the video signal line. May be applied to
It goes without saying that there is no problem even if it is applied to any display device provided with a video signal line and a scanning line intersecting with an insulating film.
【００４１】さらに、前記実施の形態においては、液晶
を用いた表示装置について説明を行なっているが、液晶
を用いた表示装置に限定されることなくエレクトロルミ
ネセンス素子、フィールドシーケンシャルなどを用いた
ものであっても、映像信号線と絶縁膜を介して交差する
走査線とを備えたあらゆる表示装置に適用可能である。Further, although the display device using the liquid crystal has been described in the above-mentioned embodiment, the display device is not limited to the display device using the liquid crystal, and the one using the electroluminescence element, the field sequential or the like. However, it can be applied to any display device provided with a video signal line and a scanning line intersecting with an insulating film.
【００４２】[0042]
【発明の効果】請求項１にかかわる本発明によれば、絶
縁性基板上に形成された走査線と、該走査線と並行に形
成された蓄積容量線と、前記走査線および前記蓄積容量
線と絶縁膜を介して交差して形成された映像信号線と、
前記走査線、前記蓄積容量線および前記映像信号線とに
囲まれた画素電極とを備える表示装置であって、前記走
査線と前記映像信号線との交差部を含み、かつ１画素内
で複数の分断部を有する、前記映像信号線上または下に
形成された冗長配線を備えているので、点欠陥を発生さ
せることなく映像信号線の断線を修復することが可能と
なる。According to the present invention of claim 1, the scanning line formed on the insulating substrate, the storage capacitance line formed in parallel with the scanning line, the scanning line and the storage capacitance line. And a video signal line formed by intersecting with an insulating film,
A display device comprising a pixel electrode surrounded by the scanning line, the storage capacitor line, and the video signal line, the display device including an intersection of the scanning line and the video signal line, and a plurality of pixels in one pixel. Since the redundant wiring formed on or below the video signal line having the dividing portion is provided, it is possible to repair the disconnection of the video signal line without causing point defects.
【００４３】請求項２にかかわる本発明によれば、前記
請求項１記載の表示装置において、前記冗長配線が、前
記映像信号線上に形成された絶縁膜のさらに上層に形成
されるか、または前記映像信号線下に形成された絶縁膜
のさらに下層に形成されているので、点欠陥を発生させ
ることなく映像信号線の断線を修復することが可能とな
る。According to a second aspect of the present invention, in the display device according to the first aspect, the redundant wiring is formed on a layer further above an insulating film formed on the video signal line, or Since it is formed in a layer further below the insulating film formed under the video signal line, it becomes possible to repair the disconnection of the video signal line without causing point defects.
【００４４】請求項３にかかわる本発明によれば、前記
請求項１記載の表示装置において、前記冗長配線が、前
記映像信号線上に直接形成されるか、または前記映像信
号線下に直接形成されているので、点欠陥を発生させる
ことなく、かつ容易に映像信号線の断線を修復すること
が可能となる。According to the present invention of claim 3, in the display device according to claim 1, the redundant wiring is directly formed on the video signal line or directly below the video signal line. Therefore, it is possible to easily repair the disconnection of the video signal line without causing a point defect.
【００４５】請求項４にかかわる本発明によれば、前記
請求項１、２または３記載の表示装置において、前記冗
長配線が、前記画素電極と同一層の導電膜で形成されて
いるので、点欠陥を発生させることなく、かつ製造工程
を増加することなく映像信号線の断線を修復することが
可能となる。According to the present invention of claim 4, in the display device according to claim 1, 2 or 3, the redundant wiring is formed of a conductive film in the same layer as the pixel electrode. It is possible to repair the disconnection of the video signal line without causing a defect and increasing the number of manufacturing processes.
【００４６】請求項５にかかわる本発明によれば、絶縁
性基板上に形成された走査線と、該走査線と並行に形成
された蓄積容量線と、前記走査線および前記蓄積容量線
と絶縁膜を介して交差して形成された映像信号線と、前
記走査線、前記蓄積容量線および前記映像信号線とに囲
まれた画素電極とを備える表示装置であって、前記映像
信号線と前記走査線または前記蓄積容量線との交差部以
外の領域において、前記映像信号線上または下に形成さ
れた冗長配線を備えているので、点欠陥を発生させるこ
となく映像信号線の断線を修復することが可能となる。According to the present invention of claim 5, the scanning line formed on the insulating substrate, the storage capacitance line formed in parallel with the scanning line, the insulation between the scanning line and the storage capacitance line are provided. A display device comprising: a video signal line formed to intersect through a film; and a pixel electrode surrounded by the scanning line, the storage capacitor line, and the video signal line, wherein the video signal line and the Since a redundant wiring formed on or under the video signal line is provided in a region other than the intersection of the scanning line or the storage capacitance line, the disconnection of the video signal line can be repaired without causing a point defect. Is possible.
【００４７】請求項６にかかわる本発明によれば、前記
請求項５記載の表示装置において、前記冗長配線が、前
記映像信号線上に形成された絶縁膜のさらに上層に形成
されるか、または前記映像信号線下に形成された絶縁膜
のさらに下層に形成されているので、点欠陥を発生させ
ることなく映像信号線の断線を修復することが可能とな
る。According to a sixth aspect of the present invention, in the display device according to the fifth aspect, the redundant wiring is formed on an upper layer of an insulating film formed on the video signal line, or Since it is formed in a layer further below the insulating film formed under the video signal line, it becomes possible to repair the disconnection of the video signal line without causing point defects.
【００４８】請求項７にかかわる本発明によれば、前記
請求項５記載の表示装置において、前記冗長配線が、前
記映像信号線上に直接形成されるか、または前記映像信
号線下に直接形成されているので、点欠陥を発生させる
ことなく、かつ容易に映像信号線の断線を修復すること
が可能となる。According to the present invention of claim 7, in the display device according to claim 5, the redundant wiring is formed directly on the video signal line or directly below the video signal line. Therefore, it is possible to easily repair the disconnection of the video signal line without causing a point defect.
【００４９】請求項８にかかわる本発明によれば、前記
請求項５、６または７記載の表示装置において、前記冗
長配線が、前記画素電極と同一層の導電膜で形成されて
いるので、点欠陥を発生させることなく、かつ製造工程
を増加することなく映像信号線の断線を修復することが
可能となる。According to the present invention of claim 8, in the display device according to claim 5, 6 or 7, the redundant wiring is formed of a conductive film in the same layer as the pixel electrode. It is possible to repair the disconnection of the video signal line without causing a defect and increasing the number of manufacturing processes.
【００５０】請求項９にかかわる本発明によれば、絶縁
性基板上に形成された走査線と、該走査線と並行に形成
された蓄積容量線と、前記走査線および前記蓄積容量線
と絶縁膜を介して交差して形成された映像信号線と、前
記走査線、前記蓄積容量線および前記映像信号線とに囲
まれた画素電極とを備える表示装置の断線修復方法であ
って、前記走査線と前記映像信号線との交差部を含み、
かつ１画素内で複数の分断部を有するように、前記映像
信号線上に形成された絶縁膜のさらに上層に冗長配線
を、または前記映像信号線下に形成された絶縁膜のさら
に下層に冗長配線を形成する工程と、前記映像信号線の
断線部をまたぎ、かつ前記冗長配線と前記映像信号線と
が重なる領域において、前記冗長配線と前記映像信号線
とを接続する工程とを含んでいるので、点欠陥を発生さ
せることなく、映像信号線の断線を修復可能な表示装置
を得ることができる。According to the ninth aspect of the present invention, the scanning line formed on the insulating substrate, the storage capacitance line formed in parallel with the scanning line, the scanning line and the storage capacitance line are insulated from each other. A method for repairing a disconnection of a display device, comprising: a video signal line formed by intersecting through a film; and a pixel electrode surrounded by the scanning line, the storage capacitance line and the video signal line, the scan comprising: A line and an intersection of the video signal line,
In addition, a redundant wiring is further provided on the upper layer of the insulating film formed on the video signal line, or a redundant wiring is further provided on the lower layer of the insulating film formed under the video signal line so as to have a plurality of divided portions within one pixel. And a step of connecting the redundant wiring and the video signal line in a region that straddles the disconnection portion of the video signal line and in which the redundant wiring and the video signal line overlap each other. Therefore, it is possible to obtain the display device capable of repairing the disconnection of the video signal line without causing the point defect.
【００５１】請求項１０にかかわる本発明によれば、前
記請求項９記載の表示装置の断線修復方法において、前
記映像信号線の断線部をまたぎ、かつ前記冗長配線と前
記映像信号線とが重なる領域において、前記冗長配線と
前記映像信号線とを接続する工程がレーザー照射する工
程を含んでいるので、点欠陥を発生させることなく、映
像信号線の断線を確実に修復可能な表示装置を得ること
ができる。According to a tenth aspect of the present invention, in the disconnection repairing method for a display device according to the ninth aspect, the disconnection portion of the video signal line is straddled and the redundant wiring and the video signal line overlap each other. In the area, since the step of connecting the redundant wiring and the video signal line includes the step of irradiating with a laser, a display device capable of surely repairing the disconnection of the video signal line without generating a point defect is obtained. be able to.
【図１】本発明の実施の形態１における薄膜トランジス
タ（ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリクス型液晶表示
装置の略１画素の平面図である。FIG. 1 is a plan view of approximately one pixel of an active matrix type liquid crystal display device using a thin film transistor (TFT) according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の実施の形態１における映像信号線の断
線修復方法を説明する略１画素の平面図である。FIG. 2 is a plan view of substantially one pixel for explaining the method of repairing the disconnection of the video signal line in the first embodiment of the present invention.
【図３】本発明の実施の形態２における表示装置の略１
画素の平面図である。FIG. 3 is a schematic view of a display device according to a second embodiment of the present invention.
It is a top view of a pixel.
【図４】本発明の実施の形態３における表示装置の略１
画素の平面図である。FIG. 4 is a schematic view of a display device 1 according to a third embodiment of the present invention.
It is a top view of a pixel.
【図５】本発明の実施の形態４における表示装置の略１
画素の平面図である。FIG. 5 is a schematic view of a display device 1 according to a fourth embodiment of the present invention.
It is a top view of a pixel.
【図６】本発明の実施の形態５における表示装置の略１
画素の平面図である。FIG. 6 is a schematic view of a display device according to a fifth embodiment of the present invention.
It is a top view of a pixel.
【図７】従来技術の液晶表示装置における略１画素の平
面図である。FIG. 7 is a plan view of approximately one pixel in a conventional liquid crystal display device.
【図８】従来技術の液晶表示装置における略１画素の平
面図である。FIG. 8 is a plan view of approximately one pixel in a conventional liquid crystal display device.
【図９】従来技術の液晶表示装置における略１画素の平
面図である。FIG. 9 is a plan view of approximately one pixel in a conventional liquid crystal display device.
１ 走査線 ２ 映像信号線 ３ 蓄積容量線 ４ 画素電極 ５ ソース電極 ６ ドレイン電極 ７ 薄膜トランジスタ ８ 冗長配線 ９ 冗長配線の分断部 １０ コンタクトホール １１ 半導体膜 １２ レーザー照射部 １３ 断線部 １４ ＩＴＯパターン １５ ゲート電極 １６ チャネル層 １７ 配線冗長膜 1 scan line 2 video signal lines 3 storage capacity line 4 pixel electrodes 5 Source electrode 6 drain electrode 7 Thin film transistor 8 redundant wiring 9 Redundant wiring section 10 contact holes 11 Semiconductor film 12 Laser irradiation part 13 disconnection 14 ITO pattern 15 Gate electrode 16 channel layers 17 wiring redundancy film
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/3205 Ｈ０１Ｌ 29/78 ６１２Ｃ ５Ｇ４３５ 29/786 ６１２Ａ 21/88 Ｚ Ｆターム(参考） 2H088 FA14 FA19 HA02 MA20 2H092 GA25 GA26 HA04 JA24 JB21 JB71 MA30 NA12 5C094 AA42 BA03 BA43 CA19 DA14 EA04 EA10 FB12 FB14 FB15 HA08 5F033 HH04 HH05 HH08 HH11 HH17 HH20 HH21 HH38 JJ01 JJ04 JJ05 JJ08 JJ11 JJ17 JJ20 JJ21 JJ38 KK08 KK11 KK17 KK20 KK21 LL04 MM05 NN03 QQ08 QQ11 QQ53 RR04 RR06 RR08 SS15 VV15 XX36 5F110 AA27 BB01 CC07 EE03 EE04 EE06 FF02 FF03 FF04 FF09 FF30 GG02 GG13 GG15 GG45 HK02 HK03 HK04 HK06 HK09 HK14 HK16 HK21 HK35 HK39 HL07 HM19 NN03 NN22 NN23 NN24 NN35 NN72 NN73 QQ09 5G435 AA17 AA19 BB12 CC09 HH12 HH14 KK05 LL06 LL07 LL08Front page continuation (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H01L 21/3205 H01L 29/78 612C 5G435 29/786 612A 21/88 Z F term (reference) 2H088 FA14 FA19 HA02 MA20 2H092 GA25 GA26 HA04 JA24 JB21 JB71 MA30 NA12 5C094 AA42 BA03 BA43 CA19 DA14 EA04 EA10 FB12 FB14 FB15 HA08 5F033 HH04 HH05 HH08 HH11 HH17 HH20 HH21 HH38 JJ01 JJ04 JJ05 JJ08 JJ11 JJ17 JJ20 JJ21 JJ38 KK08 KK11 KK17 KK20 KK21 LL04 MM05 NN03 QQ08 QQ11 QQ53 RR04 RR06 RR08 SS15 VV15 XX36 5F110 AA27 BB01 CC07 EE03 EE04 EE06 FF02 FF03 FF04 FF09 FF30 GG02 GG13 GG15 GG45 GG45 GG04 NN06 NN07 NN14 NN17 NN17 NN17 NN17 NN07 NN07 NN07 NN17 NN17 NN07 NN07 NN07 NN07 NN17 NN07 NN07 NN07 NN07 NN07 NN07 NN07 NN07 NN07 NN7 LL08
Claims (10)
走査線と並行に形成された蓄積容量線と、前記走査線お
よび前記蓄積容量線と絶縁膜を介して交差して形成され
た映像信号線と、前記走査線、前記蓄積容量線および前
記映像信号線とに囲まれた画素電極とを備える表示装置
であって、前記走査線と前記映像信号線との交差部を含
み、かつ１画素内で複数の分断部を有する、前記映像信
号線上または下に形成された冗長配線を備えてなること
を特徴とする表示装置。1. A scan line formed on an insulating substrate, a storage capacitance line formed in parallel with the scan line, and the scan line and the storage capacitance line intersecting with an insulating film. A video signal line, and a pixel electrode surrounded by the scanning line, the storage capacitor line and the video signal line, including an intersection of the scanning line and the video signal line, A display device comprising a redundant wiring formed above or below the video signal line and having a plurality of dividing portions in one pixel.
成された絶縁膜のさらに上層に形成されるか、または前
記映像信号線下に形成された絶縁膜のさらに下層に形成
される請求項１記載の表示装置。2. The redundant wiring is formed on an upper layer of an insulating film formed on the video signal line, or formed on a lower layer of an insulating film formed under the video signal line. 1. The display device according to 1.
接形成されるか、または前記映像信号線下に直接形成さ
れる請求項１記載の表示装置。3. The display device according to claim 1, wherein the redundant wiring is formed directly on the video signal line or directly below the video signal line.
の導電膜で形成される請求項１、２または３記載の表示
装置。4. The display device according to claim 1, wherein the redundant wiring is formed of a conductive film in the same layer as the pixel electrode.
走査線と並行に形成された蓄積容量線と、前記走査線お
よび前記蓄積容量線と絶縁膜を介して交差して形成され
た映像信号線と、前記走査線、前記蓄積容量線および前
記映像信号線とに囲まれた画素電極とを備える表示装置
であって、前記映像信号線と前記走査線または前記蓄積
容量線との交差部以外の領域において、前記映像信号線
上または下に形成された冗長配線を備えてなることを特
徴とする表示装置。5. A scan line formed on an insulating substrate, a storage capacitance line formed in parallel with the scan line, and the scan line and the storage capacitance line intersecting with each other through an insulating film. A video signal line, and a pixel electrode surrounded by the scanning line, the storage capacitance line, and the video signal line, wherein the video signal line and the scanning line or the storage capacitance line are A display device comprising a redundant wiring formed above or below the video signal line in a region other than the intersection.
成された絶縁膜のさらに上層に形成されるか、または前
記映像信号線下に形成された絶縁膜のさらに下層に形成
される請求項５記載の表示装置。6. The redundant wiring is formed on an upper layer of an insulating film formed on the video signal line, or formed on a lower layer of an insulating film formed under the video signal line. 5. The display device according to item 5.
接形成されるか、または前記映像信号線下に直接形成さ
れる請求項５記載の表示装置。7. The display device according to claim 5, wherein the redundant wiring is formed directly on the video signal line or directly under the video signal line.
の導電膜で形成される請求項５、６または７記載の表示
装置。8. The display device according to claim 5, 6 or 7, wherein the redundant wiring is formed of a conductive film in the same layer as the pixel electrode.
走査線と並行に形成された蓄積容量線と、前記走査線お
よび前記蓄積容量線と絶縁膜を介して交差して形成され
た映像信号線と、前記走査線、前記蓄積容量線および前
記映像信号線とに囲まれた画素電極とを備える表示装置
の断線修復方法であって、前記走査線と前記映像信号線
との交差部を含み、かつ１画素内で複数の分断部を有す
るように、前記映像信号線上に形成された絶縁膜のさら
に上層に冗長配線を、または前記映像信号線下に形成さ
れた絶縁膜のさらに下層に冗長配線を形成する工程と、
前記映像信号線の断線部をまたぎ、かつ前記冗長配線と
前記映像信号線とが重なる領域において、前記冗長配線
と前記映像信号線とを接続する工程とを含むことを特徴
とする表示装置の断線修復方法。9. A scan line formed on an insulating substrate, a storage capacitance line formed in parallel with the scan line, and the scan line and the storage capacitance line intersecting with each other through an insulating film. And a video signal line, and a pixel electrode surrounded by the scanning line, the storage capacitance line, and the video signal line. Part of the insulating film formed on the video signal line, a redundant wiring is formed on the upper part of the insulating film formed on the video signal line, or an insulating film formed under the video signal line is further formed. A step of forming redundant wiring in the lower layer,
A disconnection of the display device, comprising a step of connecting the redundant wiring and the video signal line in a region that straddles a disconnection portion of the video signal line and in which the redundant wiring and the video signal line overlap each other. How to repair.
つ前記冗長配線と前記映像信号線とが重なる領域におい
て、前記冗長配線と前記映像信号線とを接続する工程が
レーザー照射する工程を含む請求項９記載の表示装置の
断線修復方法。10. The step of connecting the redundant wiring and the video signal line to each other in a region straddling the disconnection portion of the video signal line and overlapping the redundant wiring and the video signal line includes laser irradiation. The method for repairing the disconnection of the display device according to claim 9.
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| JP2002051935A JP2003255371A (en) | 2002-02-27 | 2002-02-27 | Display device and method for recovering disconnection thereof |
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-
2002
- 2002-02-27 JP JP2002051935A patent/JP2003255371A/en active Pending
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