JPH10123563A - Liquid crystal display device and its fault correction method - Google Patents
Liquid crystal display device and its fault correction methodInfo
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- JPH10123563A JPH10123563A JP27432296A JP27432296A JPH10123563A JP H10123563 A JPH10123563 A JP H10123563A JP 27432296 A JP27432296 A JP 27432296A JP 27432296 A JP27432296 A JP 27432296A JP H10123563 A JPH10123563 A JP H10123563A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、透過型または反射
型のアクティブマトリクス型液晶表示装置およびその欠
陥修正方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transmission type or reflection type active matrix type liquid crystal display device and a method for repairing defects thereof.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶表示装置は、二枚の対向する透明電
極間に液晶分子を挟み、この電極間の液晶分子に電気信
号を加え、外部からの入射光の偏光成分を制御すること
により光透過量を制御し、情報を表示させるものであ
る。通常の状態、つまり、電圧を印加していないときに
光を通し、電圧を印加したときに光を遮断する液晶表示
装置をノーマリーホワイト方式の液晶表示装置という。
液晶表示装置はＣＲＴに比べ、消費電力が非常に少な
く、薄くて軽量という長所を有する。このような長所が
多くの分野において受け入れられたことにより、近年、
その生産量は年々増加している。2. Description of the Related Art A liquid crystal display device sandwiches liquid crystal molecules between two opposing transparent electrodes, applies an electric signal to the liquid crystal molecules between the electrodes, and controls the polarization component of incident light from the outside. The transmission amount is controlled to display information. A liquid crystal display device that transmits light in a normal state, that is, when no voltage is applied, and blocks light when a voltage is applied, is called a normally white liquid crystal display device.
Liquid crystal display devices have the advantages of very low power consumption, thinness and light weight compared to CRTs. With these advantages being accepted in many areas,
Its production is increasing year by year.
【０００３】一方で、近年のコンピュータのマルチメデ
ィア化に伴い、表示装置が表現するべき情報量は飛躍的
に増大し、液晶表示装置において、より高解像度のもの
が要求されている。この結果、ある一定サイズの液晶表
示装置において、構成する絵素数については増加する一
方、サイズにおいては縮小化の一途を辿っている。On the other hand, with the recent increase in the number of multimedia computers, the amount of information to be represented by a display device has increased dramatically, and a higher resolution liquid crystal display device has been required. As a result, in a liquid crystal display device having a certain size, the number of picture elements constituting the liquid crystal display device increases while the size of the liquid crystal display device keeps decreasing.
【０００４】しかしながら、このような絵素数の増加
と、絵素サイズの縮小化を同時に図ることにより、液晶
表示装置の製造過程における欠陥発生率は飛躍的に増大
することになる。[0004] However, by simultaneously increasing the number of picture elements and reducing the size of the picture elements, the defect occurrence rate in the manufacturing process of the liquid crystal display device is dramatically increased.
【０００５】例えば、絵素を駆動するためのスイッチン
グ素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor)において
は薄膜形成欠陥による動作異常、また、各絵素に信号を
供給するためのゲート配線やソース配線においては断
線、短絡等、欠陥発生の頻度が高まり、これらは歩留を
低下させる直接の原因となっている。For example, a TFT (Thin Film Transistor), which is a switching element for driving a picture element, has an abnormal operation due to a defect in forming a thin film, and a gate wiring and a source wiring for supplying a signal to each picture element. The frequency of occurrence of defects such as disconnection and short circuit increases, and these are direct causes of lowering the yield.
【０００６】そこで通常、液晶表示装置の製造時に発生
する欠陥を、何らかの方法により修正する方法が用意さ
れている。一般的には、液晶表示装置には予め欠陥修正
専用の配線が設けられる。Therefore, a method for correcting a defect generated during the manufacture of a liquid crystal display device by some method is usually prepared. Generally, a wiring dedicated to defect correction is provided in advance in a liquid crystal display device.
【０００７】図９（ａ）、（ｂ）および図１０は、従来
の液晶表示装置およびその欠陥修正方法を説明するため
の図である。図９は従来の液晶表示装置の表示領域の構
成を示す図であり、図９（ｂ）は図９（ａ）のＢ−Ｂ断
面図である。また、図１０は修正用予備配線を有する従
来の液晶表示装置の全体構造について、各層の関係を簡
単に示したものである。FIGS. 9 (a), 9 (b) and 10 are views for explaining a conventional liquid crystal display device and a method of correcting a defect thereof. FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a display area of a conventional liquid crystal display device, and FIG. 9B is a cross-sectional view taken along a line BB of FIG. 9A. FIG. 10 simply shows the relationship between each layer in the entire structure of a conventional liquid crystal display device having a spare wiring for correction.
【０００８】図９および図１０において、ガラス基板１
０１上にソース信号配線１０６およびゲート信号配線１
０４が、絶縁膜層１０３を介して互いに直交するよう形
成され、その交差部近傍にはＴＦＴ１０９が形成されて
いる。ＴＦＴ１０９は、少なくとも、ゲート信号配線１
０４から枝状に分岐したゲート電極１０４ａ、ソース信
号配線１０６から分岐したソース電極１０６ａ、半導体
層１０７およびドレイン電極１０８からなり、ドレイン
電極１０８には絵素電極１１０が接続されている。In FIG. 9 and FIG.
01 on the source signal wiring 106 and the gate signal wiring 1
04 are formed so as to be orthogonal to each other with the insulating film layer 103 interposed therebetween, and a TFT 109 is formed near the intersection. The TFT 109 has at least the gate signal wiring 1
The gate electrode 104a is branched from the gate electrode 104, the source electrode 106a is branched from the source signal line 106, the semiconductor layer 107, and the drain electrode 108. The pixel electrode 110 is connected to the drain electrode 108.
【０００９】また、ゲート信号配線１０４と同じ層には
液晶の保持に寄与する補助容量を形成するための補助容
量線１０２が設けられている。さらに、これらゲート信
号配線１０４および補助容量線１０２と同じ層であって
表示領域の外側には、欠陥を修正するための修正用予備
配線２００が設けられている。On the same layer as the gate signal wiring 104, an auxiliary capacitance line 102 for forming an auxiliary capacitance contributing to holding of liquid crystal is provided. Further, on the same layer as the gate signal wiring 104 and the auxiliary capacitance line 102 and outside the display region, a spare auxiliary wiring 200 for correcting a defect is provided.
【００１０】この液晶パネルにおいて、パネル内のソー
ス信号配線１０６に断線部２２０が発見された場合に
は、図１１に示すように、接続部２３０にレーザ照射を
することによりソース信号配線１０６と修正用予備配線
２００とを接続し、さらに、タブを用いて上下の修正用
予備配線２００をパネル基板の外部で接続するという方
法がとられていた。In this liquid crystal panel, when a disconnection portion 220 is found in the source signal wiring 106 in the panel, as shown in FIG. And the auxiliary wiring 200 for correction is connected outside the panel substrate using tabs.
【００１１】[0011]
【発明が解決しようとする課題】上記従来の方法によれ
ば、液晶パネルに修正専用の配線である修正用予備配線
を設けているが、しかしながら、この修正用予備配線は
形成できる本数に制限があるため多くの欠陥を修正する
ことはできず、また、同一の信号配線に同時に二箇所以
上の断線が存在する場合には全ての欠陥を修正すること
は不可能であった。According to the above-mentioned conventional method, the liquid crystal panel is provided with a spare wiring for repair, which is a dedicated wiring for repair. However, the number of spare spare wires for repair is limited. For this reason, many defects cannot be corrected, and when two or more disconnections are simultaneously present in the same signal wiring, it is impossible to correct all the defects.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、絶縁性基板上に、ゲート信号配線とソース信号配線
とが直交して形成され、前記ゲート信号配線とソース信
号配線との交差部近傍に薄膜トランジスタが形成され、
該薄膜トランジスタに接続された絵素電極がマトリクス
状に配置されていると共に、補助容量線が設けられてい
る液晶表示装置において、前記補助容量線が格子状であ
ると共に、該補助容量線の交差部が各絵素内に位置する
ことを特徴とし、そのことにより上記目的が達成され
る。According to the liquid crystal display device of the present invention, a gate signal line and a source signal line are formed orthogonally on an insulating substrate, and an intersection of the gate signal line and the source signal line. A thin film transistor is formed in the vicinity,
In a liquid crystal display device in which picture element electrodes connected to the thin film transistors are arranged in a matrix and storage capacitance lines are provided, the storage capacitance lines are formed in a lattice shape, and intersections of the storage capacitance lines are provided. Is located in each picture element, thereby achieving the above object.
【００１３】前記補助容量線が、欠陥修正用配線を兼ね
ることが好ましい。It is preferable that the auxiliary capacitance line also serves as a defect correction wiring.
【００１４】本発明の液晶表示装置の欠陥修正方法は、
絶縁性基板上において、ゲート信号配線と、該ゲート信
号配線と直交するソース信号配線と、前記ゲート信号配
線およびソース信号配線との交差部近傍に形成された薄
膜トランジスタと、該薄膜トランジスタに接続されマト
リクス状に配置された絵素電極と、補助容量線とを備え
ている液晶表示装置の欠陥修正方法において、前記補助
容量線が、各絵素内で交差する格子状に形成されてお
り、前記ゲート信号配線またはソース信号配線の何れか
において欠陥箇所が存在する場合に、前記補助容量線の
うち、前記欠陥箇所を囲むコの字状の配線を、バイパス
配線として用いることにより、前記欠陥箇所が存在する
信号配線に正常な信号を伝播させることを特徴とし、そ
のことにより上記目的が達成される。The defect repair method for a liquid crystal display device according to the present invention comprises:
A gate signal wiring, a source signal wiring orthogonal to the gate signal wiring, a thin film transistor formed near an intersection of the gate signal wiring and the source signal wiring, and a matrix connected to the thin film transistor on the insulating substrate. In a method for correcting a defect of a liquid crystal display device comprising a picture element electrode arranged in a pixel and an auxiliary capacity line, the auxiliary capacity line is formed in a grid shape crossing in each picture element, and the gate signal When a defective portion exists in any of the wiring and the source signal wiring, the U-shaped wiring surrounding the defective portion is used as a bypass wiring among the auxiliary capacitance lines, so that the defective portion exists. It is characterized by propagating a normal signal to the signal wiring, thereby achieving the above object.
【００１５】前記コの字状の配線が、前記欠陥箇所を有
する信号配線に接続される絵素電極と重畳していること
が好ましい。It is preferable that the U-shaped wiring overlaps a picture element electrode connected to the signal wiring having the defective portion.
【００１６】以下、上記構成による作用について説明を
行う。The operation of the above configuration will be described below.
【００１７】請求項１の発明によれば、補助容量線が、
ゲート信号配線およびソース信号配線に対して平行な配
線を交差させた格子状に形成されているので、これを欠
陥修正用配線として利用する場合、パネル外部に形成す
るには制限があった予備配線の本数を大幅に増やすこと
ができることになる。このとき、欠陥修正用配線の交差
部を絵素毎に設けることができるので、絵素単位で欠陥
修正を行うことが可能となり、例えば、同一の信号配線
において、同時に二箇所以上の断線が存在する場合に
も、全ての欠陥を修正することが可能となる。また、交
差部が絵素の中央部に位置することにより、各信号配線
との間で寄生容量が発生しにくいので、絵素の電気的特
性を乱すことがない。According to the first aspect of the present invention, the auxiliary capacitance line is
Since it is formed in a grid pattern in which wirings parallel to the gate signal wiring and source signal wiring cross each other, when this is used as a wiring for defect repair, there is a limit to the formation of extra wiring outside the panel. Can be greatly increased. At this time, since the intersection of the defect correction wiring can be provided for each picture element, it is possible to perform the defect correction for each picture element. For example, in the same signal wiring, two or more disconnections exist simultaneously. In this case, all the defects can be corrected. In addition, since the intersection is located at the center of the picture element, a parasitic capacitance is hardly generated between the signal wiring and each of the signal wirings, so that the electric characteristics of the picture element are not disturbed.
【００１８】請求項２の発明によれば、補助容量線が欠
陥修正用配線を兼ねており、たとえ欠陥修正を行わなく
ても配線形成が無駄になることがない。According to the second aspect of the present invention, the auxiliary capacitance line also serves as a defect repair wiring, so that even if the defect repair is not performed, the wiring formation is not wasted.
【００１９】請求項３の発明によれば、ゲート信号配線
およびソース信号配線に対して平行な配線が各絵素毎に
交差して格子状となった補助容量線から信号配線上の欠
陥をコの字状に囲む配線を切り離し、これをバイパス配
線として利用するので、制限のあった欠陥修正数を大幅
に増やすことができ、絵素単位で欠陥修正を行うことが
可能となるので、例えば、同一の信号配線において同時
に二箇所以上の断線が存在する場合にも全ての欠陥を修
正することが可能となる。According to the third aspect of the present invention, a defect on the signal wiring is controlled by the auxiliary capacitance line formed in a grid shape by crossing the wiring parallel to the gate signal wiring and the source signal wiring for each picture element. Since the wiring surrounding the shape of a square is separated and used as a bypass wiring, the number of limited defect corrections can be greatly increased, and it becomes possible to perform defect correction on a picture element basis. Even when two or more disconnections are present simultaneously in the same signal wiring, all the defects can be corrected.
【００２０】請求項４の発明によれば、信号配線上の欠
陥箇所をコの字状に囲む配線を、欠陥箇所を有する信号
配線に接続された絵素電極と重畳させる。これにより、
元来、正常に作動する絵素電極とは重畳しにくい接続経
路を選択することになるので、正常な絵素電極の電気的
特性を乱すことがない。According to the fourth aspect of the present invention, the wiring surrounding the defect on the signal wiring in a U-shape is overlapped with the picture element electrode connected to the signal wiring having the defect. This allows
Originally, a connection path that does not easily overlap with a normally operating picture element electrode is selected, so that the electrical characteristics of a normal picture element electrode are not disturbed.
【００２１】[0021]
（実施形態１）実施形態１の液晶表示装置およびその修
正方法について、図面に基づき以下に説明を行う。(Embodiment 1) A liquid crystal display device of Embodiment 1 and a method for correcting the same will be described below with reference to the drawings.
【００２２】図１（ａ）および（ｂ）に、本実施形態１
の液晶表示装置の構成を示す。図１（ａ）は本実施形態
１の液晶表示装置の上面図であり、図１（ｂ）は図１
（ａ）のＡ−Ａ断面図である。FIGS. 1A and 1B show the first embodiment.
1 shows a configuration of a liquid crystal display device. FIG. 1A is a top view of the liquid crystal display device according to the first embodiment, and FIG.
It is an AA sectional view of (a).
【００２３】図１（ａ）および（ｂ）において、アクテ
ィブマトリクス基板には、ガラス基板１上に、補助容量
線２が格子状に形成されている。この補助容量線２の上
には、ガラス基板１全面を覆うようにして第１の絶縁膜
層３が形成され、この上にはゲート信号配線４と、ゲー
ト信号配線４から枝状に分岐するような形状でゲート電
極４ａが設けられている。また、ゲート信号配線４上に
第２の絶縁膜層５が設けられており、ゲート信号配線４
とは絶縁膜層５を介して直交する形でソース信号配線６
が配設され、このソース信号配線６からはソース電極６
ａが枝状に分岐しており、ゲート信号配線４とソース信
号配線６との交差部近傍には、少なくとも前記ゲート電
極４ａおよびソース電極６ａと、半導体層７、ドレイン
電極８からなる公知のＴＦＴ９が設けられており、この
ＴＦＴ９によって、ドレイン電極８に接続された絵素電
極１０が駆動される。さらに、この基板全体を覆うよう
に配向膜１１が形成されている。このアクティブマトリ
クス基板５０と、ガラス基板１上に配向膜１１および対
向電極１２を形成した対向基板５１とを貼り合わせ、二
枚の基板間に液晶を封入することにより液晶表示装置が
構成される。In FIGS. 1A and 1B, an auxiliary matrix line 2 is formed on an active matrix substrate on a glass substrate 1 in a lattice pattern. A first insulating film layer 3 is formed on the auxiliary capacitance line 2 so as to cover the entire surface of the glass substrate 1, and a gate signal line 4 and a branch from the gate signal line 4 are formed thereon. The gate electrode 4a is provided in such a shape. Further, the second insulating film layer 5 is provided on the gate signal wiring 4, and
Is perpendicular to the source signal wiring 6 via the insulating film layer 5.
Are provided, and a source electrode 6
a is branched in a branch shape, and a known TFT 9 including at least the gate electrode 4a and the source electrode 6a, the semiconductor layer 7, and the drain electrode 8 is provided near the intersection of the gate signal line 4 and the source signal line 6. Are provided, and the pixel electrode 10 connected to the drain electrode 8 is driven by the TFT 9. Further, an alignment film 11 is formed so as to cover the entire substrate. The active matrix substrate 50 and the counter substrate 51 having the alignment film 11 and the counter electrode 12 formed on the glass substrate 1 are attached to each other, and liquid crystal is sealed between the two substrates to form a liquid crystal display device.
【００２４】ここで、上記補助容量線２について以下に
説明を行う。補助容量線２は、ガラス基板１上に格子状
に設けられており、より詳細には、ゲート信号配線４お
よびソース信号配線５それぞれに平行な配線が、各絵素
の中央部で交差するような形状となるよう設けられてい
る。また、本実施形態１において、補助容量線２はＩＴ
Ｏ等の透明導電膜によって形成されているので、不透明
の金属材料を用いるよりも開口率の点で有利となってい
る。Here, the auxiliary capacitance line 2 will be described below. The auxiliary capacitance lines 2 are provided in a grid pattern on the glass substrate 1, and more specifically, wiring lines parallel to the gate signal lines 4 and the source signal lines 5 intersect at the center of each picture element. It is provided so that it may become a suitable shape. In the first embodiment, the auxiliary capacitance line 2 is connected to the IT
Since it is formed of a transparent conductive film such as O, it is more advantageous in terms of aperture ratio than using an opaque metal material.
【００２５】以上のような構成の液晶表示装置では、補
助容量線２と、第１の絶縁膜層３および第２の絶縁膜層
５を介して高さ方向に隣り合う絵素電極１０とによって
補助容量が形成され、この補助容量が液晶の保持に寄与
することになる。また、保持に必要な補助容量を得るに
は、補助容量線２の線幅、第１の絶縁膜層３および第２
の絶縁膜層５を形成する材料の厚みまたはその誘電率
等、各種パラメータを適宜調整する必要がある。In the liquid crystal display device having the above-described structure, the auxiliary capacitance line 2 and the picture element electrodes 10 adjacent in the height direction via the first insulating film layer 3 and the second insulating film layer 5 are used. A storage capacitor is formed, and this storage capacitor contributes to holding the liquid crystal. Further, in order to obtain an auxiliary capacitance required for holding, the line width of the auxiliary capacitance line 2, the first insulating film layer 3 and the second
It is necessary to appropriately adjust various parameters such as the thickness of the material forming the insulating film layer 5 or the dielectric constant thereof.
【００２６】さらに、これと別の実施形態を図２に示
す。尚、図２の上面図は図１（ａ）と同様であり、図２
は図１（ａ）のＡ−Ａ断面図である。また、図２中の参
照符号は図１と共通とする。別の実施形態では図２に示
すように、補助容量線２の層を二本の信号配線の層（ゲ
ート信号配線４とソース信号配線６）の間に形成する構
成を採用している。ただし、この場合には、上記の液晶
表示装置と同様の製造プロセスを用いようとすると、Ｔ
ＦＴ９において、ゲート電極４ａと、ソース電極６ａお
よびドレイン電極８との間には第１および第２の絶縁膜
層３、５からなる２層の絶縁膜層が形成されることにな
るので、用いる絶縁膜層３、５の誘電率や厚みによって
はＴＦＴ９の動作異常が起こらないようにするために、
ゲート電圧を増大させるか、あるいは、ＴＦＴ９と重な
る部分だけ少なくとも一方の絶縁膜層（３または５の何
れか）の厚みを薄くする等の処理が必要となる場合があ
る。FIG. 2 shows another embodiment. The top view of FIG. 2 is the same as FIG.
FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA in FIG. The reference numerals in FIG. 2 are common to those in FIG. In another embodiment, as shown in FIG. 2, a configuration in which the layer of the auxiliary capacitance line 2 is formed between two signal wiring layers (the gate signal wiring 4 and the source signal wiring 6). However, in this case, if an attempt is made to use a manufacturing process similar to that of the above-described liquid crystal display device, T
In the FT 9, two insulating film layers including the first and second insulating film layers 3 and 5 are formed between the gate electrode 4 a and the source electrode 6 a and the drain electrode 8. In order to prevent an abnormal operation of the TFT 9 depending on the dielectric constant and the thickness of the insulating film layers 3 and 5,
In some cases, processing such as increasing the gate voltage or reducing the thickness of at least one of the insulating film layers (either 3 or 5) only in the portion overlapping the TFT 9 may be required.
【００２７】次に、図１の液晶表示装置の欠陥修正方法
について、図面に基づき以下に説明を行う。Next, a method of correcting a defect of the liquid crystal display device shown in FIG. 1 will be described below with reference to the drawings.
【００２８】図３（ａ）および（ｂ）は、本実施形態１
の液晶表示装置の欠陥修正方法について説明するための
図である。図３（ａ）は、断線欠陥が生じている本実施
形態１の液晶表示装置であり、図３（ｂ）は、図３
（ａ）の液晶表示装置の欠陥修正方法を示す図である。
図３（ａ）において、図面の中央を走るゲート信号配線
４において、紙面向かって左端の絵素列部分に断線部２
０が存在する。このような断線が生じる理由としては、
例えば、製造工程において電極層を蒸着あるいはスパッ
タリングする際、ゴミ、埃等が混入したために正しく層
が形成されなかった、あるいは、フォトリソグラフィに
おいてマスクを用いて露光を行う際に、ゴミ、埃等がマ
スクとなり正しくパターニングされなかった、等が考え
られる。FIGS. 3A and 3B show the first embodiment.
FIG. 4 is a diagram for describing a defect repair method of the liquid crystal display device of FIG. FIG. 3A shows a liquid crystal display device according to the first embodiment in which a disconnection defect has occurred, and FIG.
FIG. 3A is a diagram illustrating a defect repair method of the liquid crystal display device.
In FIG. 3A, in a gate signal line 4 running in the center of the drawing, a broken portion 2
0 exists. The reason for such a disconnection is that
For example, when the electrode layer is deposited or sputtered in the manufacturing process, the layer is not formed correctly due to contamination of dust, dust, or the like, or when exposure is performed using a mask in photolithography, dust, dust, etc. It is possible that the pattern was not properly patterned as a mask.
【００２９】このような断線欠陥に対して何れの修正も
施されなかった場合には、次のような現象が生じて、観
察上の不具合を生じる。例えば、ゲート信号配線４に信
号を供給する電源が紙面向かって左側に搭載されている
場合、同一ゲート信号配線４上の、断線部２０より電源
側（紙面左側）のＴＦＴ９ａには電圧が供給されるた
め、この絵素は正常に駆動する。その一方、断線部２０
に対して電源と反対側（紙面右側）に位置するＴＦＴ９
ｂには電圧が供給されないので、絵素は全く駆動しない
ことになる。この場合、ノーマリーホワイトの液晶で
は、ＴＦＴ９ｂに接続されている絵素は常に点灯状態
（光透過状態）となり、画面上では輝線となって現れ
る。If any correction is not made to such a disconnection defect, the following phenomenon occurs, causing an observational defect. For example, when a power supply for supplying a signal to the gate signal wiring 4 is mounted on the left side in the drawing, a voltage is supplied to the TFT 9a on the same gate signal wiring 4 on the power supply side (left side in the drawing) from the disconnection portion 20. Therefore, this picture element is driven normally. On the other hand, the disconnection portion 20
TFT9 located on the opposite side of the power supply (right side on the paper)
Since no voltage is supplied to b, the picture element is not driven at all. In this case, in the normally white liquid crystal, the picture element connected to the TFT 9b is always in a lighting state (light transmitting state) and appears as a bright line on the screen.
【００３０】このような不具合を解消するために、本発
明においては格子状に形成された補助容量線２をバイパ
ス配線として利用することにより断線部２０を接続し、
ゲート信号配線４に対して正常に電圧が供給されるよう
に修正する。詳しくは、以下に説明するような方法をと
る。In order to solve such a problem, in the present invention, the disconnection portion 20 is connected by using the auxiliary capacitance line 2 formed in a lattice shape as a bypass wiring.
Correction is made so that a voltage is normally supplied to the gate signal wiring 4. Specifically, a method described below is used.
【００３１】上記の断線部２０を接続するには、図３
（ｂ）に示すように、まず、接続するために必要な最小
限の補助容量線２（欠陥箇所を囲むコの字状の配線）
を、周囲の補助容量線２からレーザ照射により切り離
す。本実施形態１においては６箇所の切断部１６（×印
で表示）で切り離す。続いて、切り離された補助容量線
２と、ゲート信号配線４との交差部１７にレーザ照射を
してこれらを接続すると修正が完成する。To connect the above-described disconnection section 20, FIG.
As shown in (b), first, the minimum auxiliary capacitance line 2 necessary for connection (U-shaped wiring surrounding a defective portion)
Is separated from the surrounding auxiliary capacitance line 2 by laser irradiation. In the first embodiment, cutting is performed at six cutting portions 16 (indicated by crosses). Subsequently, the laser beam is irradiated to the intersection 17 between the separated auxiliary capacitance line 2 and the gate signal line 4 to connect them to complete the correction.
【００３２】尚、補助容量線２により断線部２０を接続
するには、図３（ｂ）および図４に示すように二通りの
接続経路が考えられるが、正常に動作している絵素電極
１０ａの下に配線を走らせることは、正常な絵素の電気
的特性を微妙に変化させてしまうので、図３（ｂ）のよ
うな接続経路を選択することが好ましい。すなわち、欠
陥が生じている信号配線に接続されている絵素電極１０
ｂ側に接続経路をとる方がよい。In order to connect the disconnection portion 20 with the auxiliary capacitance line 2, two types of connection paths are conceivable as shown in FIGS. 3B and 4, but a normally operating picture element electrode is used. Since running the wiring under 10a slightly changes the electrical characteristics of a normal picture element, it is preferable to select a connection path as shown in FIG. That is, the picture element electrode 10 connected to the defective signal wiring
It is better to take a connection path on the b side.
【００３３】ここで、レーザ光を用いて修正を行うシス
テムの構造を、図５を用いて説明する。通常、レーザ光
としては、シングルモードのＹＡＧ(Yttrium-Aluminium
-Garnet)レーザやエキシマレーザ等が用いられる。図５
において、レーザ発振器６０により出力されたレーザ光
６１を、スリット６２とＮＤフィルタ６３とを通過させ
ることにより形状およびパワーの調整を行い、液晶パネ
ル６４に照射する。基板上の配線を切断するには、例え
ばＹＡＧレーザを１０-9〜１０-6Ｊ／μｍ2のレーザパ
ワーで照射すればよい。Here, the structure of a system for performing correction using laser light will be described with reference to FIG. Normally, a single mode YAG (Yttrium-Aluminum)
-Garnet) laser or excimer laser is used. FIG.
In, the shape and power of the laser light 61 output from the laser oscillator 60 are adjusted by passing the laser light 61 through the slit 62 and the ND filter 63, and the liquid crystal panel 64 is irradiated. In order to cut the wiring on the substrate, for example, a YAG laser may be irradiated at a laser power of 10 −9 to 10 −6 J / μm 2 .
【００３４】さらに、本発明の液晶表示装置では、従来
では修正することが不可能であった欠陥、例えば、図６
のように、同一の信号配線上（図６においてはソース信
号配線６上）で二箇所以上の断線が生じている場合や、
もしくは、線欠陥が修正用予備配線の数よりも多い場合
等でも修正が可能となる。その修正方法としては、上記
した修正方法を個々の断線箇所に対して施すのみであ
る。また、図６のように、ソース信号配線６において断
線が生じたとしても、上記のようなゲート信号配線４で
断線が生じた場合と同様の方法を採用することによっ
て、欠陥修正が可能となる。すなわち、断線部２０を接
続するために必要な接続経路のみ補助容量線２を切り離
し（断線部２０一箇所につき６箇所の切断部１６で切
断）、その切り離した補助容量線２と、ソース信号配線
６との交差部１７にレーザ照射を行い、補助容量線２と
ソース信号配線６とを接続する。Further, in the liquid crystal display device of the present invention, a defect which cannot be corrected conventionally, for example, as shown in FIG.
In the case where two or more disconnections occur on the same signal wiring (on the source signal wiring 6 in FIG. 6),
Alternatively, even when the number of line defects is larger than the number of spare wirings for repair, the repair can be performed. As the correction method, only the above-described correction method is applied to each disconnection point. Also, as shown in FIG. 6, even if the disconnection occurs in the source signal wiring 6, the defect can be corrected by employing the same method as that in the case where the disconnection occurs in the gate signal wiring 4 as described above. . That is, the auxiliary capacitance line 2 is cut off only at a connection path necessary for connecting the disconnection portion 20 (cut at six cutting portions 16 for each disconnection portion 20), and the separated storage capacitance line 2 and the source signal wiring Laser irradiation is performed on the intersection 17 between the storage capacitor line 6 and the storage capacitor line 2 and the source signal wiring 6.
【００３５】以上、本実施形態１では透過型液晶表示装
置について説明を行ったが、これに限らず、反射型液晶
表示装置についても同様の構成および欠陥修正方法を採
用することが可能である。As described above, the transmission type liquid crystal display device has been described in the first embodiment. However, the present invention is not limited to this, and the same configuration and the same defect correction method can be applied to a reflection type liquid crystal display device.
【００３６】（実施形態２）本実施形態２では、上記実
施形態１で説明した液晶表示装置において、配線間のリ
ーク（短絡）による不良が発生した場合の修正方法につ
いて説明を行う。(Embodiment 2) In Embodiment 2, a description will be given of a method of correcting a failure caused by a leak (short circuit) between wirings in the liquid crystal display device described in Embodiment 1 above.
【００３７】図７（ａ）および（ｂ）は、本実施形態２
による液晶表示装置の欠陥修正方法を説明するための図
である。図７（ａ）は、本発明の液晶表示装置で短絡不
良が生じている状態を示す図であり、図７（ｂ）は、図
７（ａ）の液晶表示装置の欠陥修正方法を示す図であ
る。FIGS. 7A and 7B show the second embodiment.
FIG. 3 is a diagram for explaining a defect repair method for a liquid crystal display device according to the present invention. FIG. 7A is a diagram showing a state in which a short circuit failure has occurred in the liquid crystal display device of the present invention, and FIG. 7B is a diagram showing a defect repair method of the liquid crystal display device of FIG. It is.
【００３８】図７（ａ）では、短絡部３０において、ソ
ース信号配線６とゲート信号配線４とがリークしてい
る。このようなリーク部の修正を行うには、図７（ｂ）
のように、まず、ソース信号線６を短絡部３０を挟む二
箇所の切断部３６で切断する。本実施形態２においては
ゲート信号配線４上の切断部３６で切断したが、これに
限定されるものではなく、ソース信号配線６を切断する
ものでもよい。また、二箇所の切断部３６は何れも、短
絡部３０から最も近い補助容量線２よりも、短絡部３０
寄りの位置とした。In FIG. 7A, at the short-circuit portion 30, the source signal wiring 6 and the gate signal wiring 4 leak. To correct such a leak, FIG.
First, the source signal line 6 is cut at two cut portions 36 sandwiching the short-circuit portion 30. In the second embodiment, the cutting is performed at the cutting portion 36 on the gate signal wiring 4. However, the cutting is not limited to this, and the source signal wiring 6 may be cut. In addition, each of the two cut portions 36 is shorter than the storage capacitor line 2 closest to the short-circuit portion 30.
The position was closer.
【００３９】この後、上記実施形態１の断線欠陥修正方
法と同様、リーク部分を囲むコの字状の配線（接続経
路）を補助容量線２からレーザ照射によって切り離す
（×印で示す６箇所の切断部１６で切断）。本実施形態
２では、正常に動作する絵素電極１０ａの電気的特性を
乱すことのないよう、切断した信号配線（ここではゲー
ト信号配線４）に接続される絵素電極１０ｂと重なるよ
うな接続経路となるよう補助容量線２を切り離し、切り
離された補助容量線２とゲート信号配線４との交差部に
レーザ照射を行って両者を接続することにより、欠陥修
正が完了する。Thereafter, similarly to the disconnection defect repairing method of the first embodiment, the U-shaped wiring (connection path) surrounding the leak portion is cut off from the auxiliary capacitance line 2 by laser irradiation (at six locations indicated by crosses). Cutting at the cutting section 16). In the second embodiment, the connection that overlaps the pixel electrode 10b connected to the cut signal wiring (here, the gate signal wiring 4) so as not to disturb the electrical characteristics of the normally operating pixel electrode 10a. The auxiliary capacitance line 2 is cut off as a path, and the intersection of the separated auxiliary capacitance line 2 and the gate signal wiring 4 is irradiated with a laser beam to connect the two, thereby completing defect repair.
【００４０】さらに、従来の方法では完全に修正するこ
とは不可能であった欠陥、例えば図８のように同一の信
号配線上で二箇所以上の短絡が生じている場合、また
は、線欠陥が修正用予備配線の数よりも多い場合等でも
修正が可能となる。その修正方法としては、上記した修
正方法を、個々の短絡箇所に対して施すのみである。す
なわち、ソース信号配線６を、短絡部３０を挟む二箇所
の切断部３６で切断し、この切断部３６を接続するため
に必要な補助容量線２を切り離し（断線部２０一箇所に
つき６箇所の切断部１６で切断）、この切り離した補助
容量線２と、ソース信号配線６との交差部１７にレーザ
照射を行い、補助容量線２とソース信号配線６とを接続
すれば欠陥修正が完了する。Further, a defect which cannot be completely corrected by the conventional method, for example, when two or more short-circuits occur on the same signal wiring as shown in FIG. Even when the number is larger than the number of spare wirings for correction, the correction can be performed. As the correction method, the above-described correction method is only applied to each short-circuited portion. That is, the source signal wiring 6 is cut at two cut portions 36 sandwiching the short-circuit portion 30, and the auxiliary capacitance line 2 necessary for connecting the cut portions 36 is cut off (6 cuts per disconnection portion 20). Laser cutting is performed on the intersection 17 between the separated auxiliary capacitance line 2 and the source signal wiring 6 to connect the auxiliary capacitance line 2 and the source signal wiring 6 to complete the defect correction. .
【００４１】[0041]
【発明の効果】請求項１の発明によれば、補助容量線
が、ゲート信号配線およびソース信号配線に対して平行
な配線を交差させた格子状に形成されているので、これ
を欠陥修正用配線として利用する場合、従来ではパネル
外部に形成するには制限があった予備配線の本数を大幅
に増やすことができることになる。このとき、欠陥修正
用配線の交差部を絵素毎に設けることができるので、絵
素単位で欠陥修正を行うことが可能となり、例えば、同
一の信号配線において、同時に二箇所以上の断線が存在
する場合にも、全ての欠陥を修正することが可能とな
る。また、交差部が絵素の中央部に位置することによ
り、各信号配線との間で寄生容量が発生しにくいので、
絵素の電気的特性を乱すことがない。According to the first aspect of the present invention, the auxiliary capacitance line is formed in a lattice shape in which wirings parallel to the gate signal wiring and the source signal wiring are crossed. In the case of using as a wiring, the number of spare wirings which has conventionally been limited to be formed outside the panel can be greatly increased. At this time, since the intersection of the defect correction wiring can be provided for each picture element, it is possible to perform the defect correction for each picture element. For example, in the same signal wiring, two or more disconnections exist simultaneously. In this case, all the defects can be corrected. Also, since the intersection is located at the center of the picture element, parasitic capacitance is unlikely to occur between each signal wiring.
It does not disturb the electrical characteristics of the picture element.
【００４２】請求項２の発明によれば、補助容量線が欠
陥修正用配線を兼ねており、たとえ欠陥修正を行わなく
ても配線形成が無駄になることがない。According to the second aspect of the present invention, the auxiliary capacitance line also serves as a defect repair wiring, so that even if the defect repair is not performed, the wiring formation is not wasted.
【００４３】請求項３の発明によれば、ゲート信号配線
およびソース信号配線に対して平行な配線が各絵素毎に
交差して格子状となった補助容量線から信号配線上の欠
陥をコの字状に囲む配線を切り離し、これをバイパス配
線として利用するので、従来では制限のあった欠陥修正
数を大幅に増やすことができ、絵素単位で欠陥修正を行
うことが可能となるので、例えば、同一の信号配線にお
いて同時に二箇所以上の断線が存在する場合にも全ての
欠陥を修正することが可能となる。According to the third aspect of the present invention, a defect on the signal wiring is controlled by the auxiliary capacitance line formed in a grid shape by crossing the wiring parallel to the gate signal wiring and the source signal wiring for each picture element. Since the wiring surrounding the shape of a square is separated and used as a bypass wiring, the number of defect corrections that had been limited in the past can be greatly increased, and it becomes possible to perform defect correction in pixel units. For example, even when two or more disconnections exist in the same signal wiring at the same time, all the defects can be corrected.
【００４４】請求項４の発明によれば、信号配線上の欠
陥箇所をコの字状に囲む配線を、欠陥箇所を有する信号
配線に接続された絵素電極と重畳させる。これにより、
元来、正常に作動する絵素電極とは重畳しにくい接続経
路を選択することになるので、正常な絵素電極の電気的
特性を乱すことがない。According to the fourth aspect of the present invention, the wiring surrounding the defect on the signal wiring in a U-shape is overlapped with the picture element electrode connected to the signal wiring having the defect. This allows
Originally, a connection path that does not easily overlap with a normally operating picture element electrode is selected, so that the electrical characteristics of a normal picture element electrode are not disturbed.
【図１】（ａ）および（ｂ）は、実施形態１の液晶表示
装置の構成を示す図である。（ａ）は本実施形態１の液
晶表示装置の上面図であり、（ｂ）は図１（ａ）のＡ−
Ａ断面図である。FIGS. 1A and 1B are diagrams illustrating a configuration of a liquid crystal display device according to a first embodiment. FIG. FIG. 1A is a top view of the liquid crystal display device according to the first embodiment, and FIG.
It is A sectional drawing.
【図２】実施形態１における液晶表示装置の別の実施形
態を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating another embodiment of the liquid crystal display device according to the first embodiment.
【図３】（ａ）および（ｂ）は、実施形態１の液晶表示
装置の欠陥修正方法について説明するための図である。
（ａ）は、断線不良が生じている実施形態１の液晶表示
装置を示す図であり、（ｂ）は、図３（ａ）の液晶表示
装置の欠陥修正方法を示す図である。FIGS. 3A and 3B are diagrams for explaining a defect correcting method of the liquid crystal display device according to the first embodiment.
FIG. 3A is a diagram illustrating the liquid crystal display device according to the first embodiment in which a disconnection failure has occurred, and FIG. 3B is a diagram illustrating a defect repair method of the liquid crystal display device in FIG.
【図４】図３（ｂ）とは別の液晶表示装置の欠陥修正方
法を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a defect repair method of the liquid crystal display device different from that of FIG. 3 (b).
【図５】レーザ光を用いた欠陥修正システムの構造図で
ある。FIG. 5 is a structural diagram of a defect repair system using laser light.
【図６】本発明の液晶表示装置において、同一信号配線
上に断線欠陥が複数存在する状態の欠陥修正方法を示す
図である。FIG. 6 is a diagram showing a defect correction method in a state where a plurality of disconnection defects exist on the same signal wiring in the liquid crystal display device of the present invention.
【図７】（ａ）および（ｂ）は、実施形態２における欠
陥修正方法について説明するための図である。（ａ）
は、本発明の液晶表示装置の信号配線上に短絡不良が生
じている状態を示す図であり、（ｂ）は、図７（ａ）の
液晶表示装置の欠陥修正方法を示す図である。FIGS. 7A and 7B are diagrams for explaining a defect repair method according to the second embodiment. (A)
7A is a diagram showing a state in which a short-circuit failure has occurred on a signal wiring of the liquid crystal display device of the present invention, and FIG. 7B is a diagram showing a defect repair method of the liquid crystal display device of FIG.
【図８】本発明の液晶表示装置において、同一信号配線
上に短絡欠陥が複数存在する場合の欠陥修正方法を示す
図である。FIG. 8 is a diagram showing a defect repair method when a plurality of short-circuit defects exist on the same signal wiring in the liquid crystal display device of the present invention.
【図９】（ａ）および（ｂ）は、従来の液晶表示装置の
表示領域の構成を示す図である。（ａ）は、従来の液晶
表示装置の構成を示す上面図であり、（ｂ）は、図９
（ａ）のＢ−Ｂ断面図である。FIGS. 9A and 9B are diagrams showing a configuration of a display area of a conventional liquid crystal display device. FIG. 9A is a top view illustrating a configuration of a conventional liquid crystal display device, and FIG.
It is a BB sectional view of (a).
【図１０】修正用予備配線を有する従来の液晶表示装置
の構成を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a configuration of a conventional liquid crystal display device having a spare wiring for correction.
【図１１】修正用予備配線を用いる液晶表示装置の欠陥
修正方法の例を説明するための図である。FIG. 11 is a diagram for explaining an example of a defect repair method for a liquid crystal display device using a repair spare line.
１、１０１ ガラス基板 ２、１０２ 補助容量線 ３、１０３、５ 絶縁膜層 ４、１０４ ゲート信号配線 ４ａ、１０４ａ ゲート電極 ６、１０６ ソース信号配線 ６ａ、１０６ａ ソース電極 ７、１０７ 半導体層 ８、１０８ ドレイン電極 ９、１０９、９ａ、９ｂ ＴＦＴ １０、１１０ 絵素電極 １１ 配向膜 １２ 対向電極 １６ 切断部 １７ 交差部 ２０ 断線部 ５０ アクティブマトリクス基板 ５１ 対向基板 ６０ レーザ発振器 ６１ レーザ光 ６２ スリット ６３ ＮＤフィルタ ６４ 液晶パネル ２００ 修正用予備配線 ２２０ 断線部 ２３０ 接続部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 101 Glass substrate 2, 102 Storage capacitance line 3, 103, 5 Insulating film layer 4, 104 Gate signal wiring 4a, 104a Gate electrode 6, 106 Source signal wiring 6a, 106a Source electrode 7, 107 Semiconductor layer 8, 108 Drain Electrode 9, 109, 9a, 9b TFT 10, 110 Picture element electrode 11 Alignment film 12 Counter electrode 16 Cut section 17 Intersection section 20 Disconnection section 50 Active matrix substrate 51 Counter substrate 60 Laser oscillator 61 Laser beam 62 Slit 63 ND filter 64 Liquid crystal Panel 200 Preliminary wiring for repair 220 Disconnection 230 Connection
Claims (4)
ス信号配線とが直交して形成され、前記ゲート信号配線
とソース信号配線との交差部近傍に薄膜トランジスタが
形成され、該薄膜トランジスタに接続された絵素電極が
マトリクス状に配置されていると共に、補助容量線が設
けられている液晶表示装置において、 前記補助容量線が格子状であると共に、該補助容量線の
交差部が各絵素内に位置することを特徴とする液晶表示
装置。1. A gate signal line and a source signal line are formed orthogonally on an insulating substrate, and a thin film transistor is formed near an intersection of the gate signal line and the source signal line, and is connected to the thin film transistor. In the liquid crystal display device, in which the picture element electrodes are arranged in a matrix and the auxiliary capacity lines are provided, the auxiliary capacity lines are in a grid shape, and the intersections of the auxiliary capacity lines are formed in each picture element. A liquid crystal display device characterized by being located at:
ねることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the auxiliary capacitance line also serves as a defect repair wiring.
と、該ゲート信号配線と直交するソース信号配線と、前
記ゲート信号配線およびソース信号配線との交差部近傍
に形成された薄膜トランジスタと、該薄膜トランジスタ
に接続されマトリクス状に配置された絵素電極と、補助
容量線とを備えている液晶表示装置の欠陥修正方法にお
いて、 前記補助容量線が、各絵素内で交差する格子状に形成さ
れており、 前記ゲート信号配線またはソース信号配線の何れかにお
いて欠陥箇所が存在する場合に、前記補助容量線のう
ち、前記欠陥箇所を囲むコの字状の配線を、バイパス配
線として用いることにより、前記欠陥箇所が存在する信
号配線に正常な信号を伝播させることを特徴とする液晶
表示装置の欠陥修正方法。3. A gate signal wiring, a source signal wiring orthogonal to the gate signal wiring, a thin film transistor formed near an intersection of the gate signal wiring and the source signal wiring on the insulating substrate, and the thin film transistor In the method for correcting a defect of a liquid crystal display device comprising a picture element electrode connected in a matrix and a storage capacity line, the storage capacity line is formed in a grid shape crossing in each picture element. In the case where a defect is present in any of the gate signal wiring and the source signal wiring, the U-shaped wiring surrounding the defect in the auxiliary capacitance line is used as a bypass wiring, A defect correcting method for a liquid crystal display device, wherein a normal signal is propagated to a signal wiring having a defective portion.
有する信号配線に接続される絵素電極と重畳しているこ
とを特徴とする請求項３記載の液晶表示装置の欠陥修正
方法。4. The defect correcting method for a liquid crystal display device according to claim 3, wherein the U-shaped wiring overlaps a picture element electrode connected to the signal wiring having the defective portion. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27432296A JPH10123563A (en) | 1996-10-17 | 1996-10-17 | Liquid crystal display device and its fault correction method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27432296A JPH10123563A (en) | 1996-10-17 | 1996-10-17 | Liquid crystal display device and its fault correction method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10123563A true JPH10123563A (en) | 1998-05-15 |
Family
ID=17540043
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27432296A Pending JPH10123563A (en) | 1996-10-17 | 1996-10-17 | Liquid crystal display device and its fault correction method |
Country Status (1)
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