JPH11334048A - パターン形成方法、パターン形成装置、パターン形成用版およびパターン形成用版の製造方法 - Google Patents
パターン形成方法、パターン形成装置、パターン形成用版およびパターン形成用版の製造方法Info
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- JPH11334048A JPH11334048A JP10144892A JP14489298A JPH11334048A JP H11334048 A JPH11334048 A JP H11334048A JP 10144892 A JP10144892 A JP 10144892A JP 14489298 A JP14489298 A JP 14489298A JP H11334048 A JPH11334048 A JP H11334048A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 大きな設備を用いることなく安価にパターン
を形成可能とする。 【解決手段】 版(1)をパターン形成面に密着させて流
動体(62)によるパターンをパターン形成面(111)上に形
成するものである。版(1)をパターン形成面(111)に密着
させるステップと、流動体(62)を供給するために版(1)
のパターン転写領域(10)に複数設けられた貫通穴(12)に
流動体(62)を供給するステップと、貫通穴(12)を介して
パターン形成面(111)に流動体(62)が付着した後に版(1)
をパターン形成面(111)から剥離するステップと、を備
えている。
を形成可能とする。 【解決手段】 版(1)をパターン形成面に密着させて流
動体(62)によるパターンをパターン形成面(111)上に形
成するものである。版(1)をパターン形成面(111)に密着
させるステップと、流動体(62)を供給するために版(1)
のパターン転写領域(10)に複数設けられた貫通穴(12)に
流動体(62)を供給するステップと、貫通穴(12)を介して
パターン形成面(111)に流動体(62)が付着した後に版(1)
をパターン形成面(111)から剥離するステップと、を備
えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路等
のパターン形成技術に係り、特に版とインクジェット方
式とをともに用いる新しいパターン形成方法の提案に関
する。
のパターン形成技術に係り、特に版とインクジェット方
式とをともに用いる新しいパターン形成方法の提案に関
する。
【０００２】
【従来の技術】シリコン基板またはガラス基板上に集積
回路等を製造する一般的方法としてフォトリソグラフィ
ー法がある。このフォトリソグラフィー法を使用してパ
ターンを形成するには、まずシリコンウェハ上にレジス
トと呼ばれる感光材を薄く塗布し、ガラス乾板に写真製
版で作成した集積回路パターンを光で焼き付けて転写す
る。転写されたレジストパターンをマスクしレジストの
下の材料をエッチングするなどして配線パターンや素子
を形成していくものである。このフォトリソグラフィー
法ではレジスト塗布、露光、現像等の工程が必要とされ
ることから、大型の装置、配電設備、排気設備などの設
備の整った半導体工場等でなければ、微細パターンの作
成ができない。このため微細パターンを形成するための
より小規模の他の方法が研究されてきた。
回路等を製造する一般的方法としてフォトリソグラフィ
ー法がある。このフォトリソグラフィー法を使用してパ
ターンを形成するには、まずシリコンウェハ上にレジス
トと呼ばれる感光材を薄く塗布し、ガラス乾板に写真製
版で作成した集積回路パターンを光で焼き付けて転写す
る。転写されたレジストパターンをマスクしレジストの
下の材料をエッチングするなどして配線パターンや素子
を形成していくものである。このフォトリソグラフィー
法ではレジスト塗布、露光、現像等の工程が必要とされ
ることから、大型の装置、配電設備、排気設備などの設
備の整った半導体工場等でなければ、微細パターンの作
成ができない。このため微細パターンを形成するための
より小規模の他の方法が研究されてきた。
【０００３】例えばモールドを利用してパターンを形成
するＭＩＭＩＣ（micromolding incapillaries）という
方法が、Journal of American Chemical Society 1996,
No. 118, pp 5722-5731に開示されている。この方法で
は、高分子で製作されたμｍオーダーの溝構造が設けら
れた版を基板上に載置し、流動体を溝の側面から毛管現
象によって浸透させる。版の材料としてはポリジメチル
シロキサンを用い、流動体としてはポリマーや溶解液、
コロイド溶液等を用いる。流動体と基板との反応が完了
した後に版を除去すれば、基板上にパターンが形成され
ているのである。
するＭＩＭＩＣ（micromolding incapillaries）という
方法が、Journal of American Chemical Society 1996,
No. 118, pp 5722-5731に開示されている。この方法で
は、高分子で製作されたμｍオーダーの溝構造が設けら
れた版を基板上に載置し、流動体を溝の側面から毛管現
象によって浸透させる。版の材料としてはポリジメチル
シロキサンを用い、流動体としてはポリマーや溶解液、
コロイド溶液等を用いる。流動体と基板との反応が完了
した後に版を除去すれば、基板上にパターンが形成され
ているのである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記Ｍ
ＩＭＩＣ法では流動体を毛管現象により浸透させるもの
であるため、版の側面から流動体が供給できる距離には
限度があった。そのため幅の大きな版による大きなパタ
ーンを形成することができないという問題があった。そ
こで本願発明者は上記問題に鑑み、版に貫通穴を設ける
ことにより版の大きさに限定されずに流動体を供給する
方法を考案した。
ＩＭＩＣ法では流動体を毛管現象により浸透させるもの
であるため、版の側面から流動体が供給できる距離には
限度があった。そのため幅の大きな版による大きなパタ
ーンを形成することができないという問題があった。そ
こで本願発明者は上記問題に鑑み、版に貫通穴を設ける
ことにより版の大きさに限定されずに流動体を供給する
方法を考案した。
【０００５】すなわち本発明の第１の課題は、貫通穴が
設けられた版を用いてパターンを形成する工程を示すこ
とにより、大きな設備を用いることなく安価にパターン
形成が可能なパターン形成方法を提供することである。
本発明の第２の課題は、貫通穴が設けられた版を用いて
パターンを形成可能な装置を示すことにより、大きな設
備を用いることなく安価にパターン形成が可能なパター
ン形成装置を提供することである。本発明の第３の課題
は、貫通穴が設けられた版の構造を示すことにより、大
きな設備を用いることなく安価にパターン形成が可能な
パターン形成用版を提供することである。本発明の第４
の課題は、貫通穴を版に設けた版の製造方法を示すこと
により、大きな設備を用いることなく安価にパターン形
成が可能なパターン形成用版の製造方法を提供すること
である。
設けられた版を用いてパターンを形成する工程を示すこ
とにより、大きな設備を用いることなく安価にパターン
形成が可能なパターン形成方法を提供することである。
本発明の第２の課題は、貫通穴が設けられた版を用いて
パターンを形成可能な装置を示すことにより、大きな設
備を用いることなく安価にパターン形成が可能なパター
ン形成装置を提供することである。本発明の第３の課題
は、貫通穴が設けられた版の構造を示すことにより、大
きな設備を用いることなく安価にパターン形成が可能な
パターン形成用版を提供することである。本発明の第４
の課題は、貫通穴を版に設けた版の製造方法を示すこと
により、大きな設備を用いることなく安価にパターン形
成が可能なパターン形成用版の製造方法を提供すること
である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記第１の課題を解決す
る発明は、版をパターン形成面に密着させて流動体によ
るパターンをパターン形成面上に形成するパターン形成
方法であって、版をパターン形成面に密着させるステッ
プと、流動体を供給するために版のパターン転写領域に
複数設けられた貫通穴に流動体を供給するステップと、
貫通穴を介してパターン形成面に流動体が付着した後に
当該版をパターン形成面から剥離するステップと、を備
えている。版とは凹版であっても凸版であっても平板で
あってっもよい。また版の表面が平面で構成されていて
も曲面状に加工されていてもよい。パターン形成面は平
面上であっても曲面上であってもよい。すなわちパター
ン形成面は基板等の硬い材質の表面であってもフィルム
等の可撓性のある材質の表面であってもよい。流動体と
は貫通穴から供給可能な粘度を備えたものであればよ
く、インクのみならずあらゆる有機材料や無機材料が使
用可能である。また微粒子を含んだコロイド状液であっ
てもよい。例えばカーボン粉末を溶剤に分散させブラッ
クマトリクス形成用としたもの、透明電極用材料を溶剤
に溶かし透明電極形成用としたもの、金属微粒子を溶剤
に分散させ電極パターン形成用としたもの等任意に使用
できる。パターン転写領域は均一なパターン形状をした
ものであっても特定のパターンに合わせて成形したもの
であってもよい。版形成時の露光領域を変更することで
任意のパターン形状に適用させればよい。貫通穴は版の
パターン転写領域に流動体を供給可能であればその位置
や個数に限定されない。短時間で十分な流動体の供給が
可能なノズル径とノズルの個数を備えていればよい。流
動体を貫通穴に供給する方法としてはインクジェット方
式等、流動体に圧力を加える方法が迅速でかつ管理可能
なので好ましいが、他の方法であってもよい。例えば貫
通穴を毛管現象により流動体を供給可能に構成するので
あれば、毛管現象による自然な流動体の供給が可能であ
る。また毛管現象とインクジェット方式等の強制供給手
段とを併用してもよい。版の材料はパターンの形状を維
持可能な物理的強度を備え流動体に対する化学的安定性
を備えるものであれば何でもよい。特に流動体供給後に
空気を自然に抜くために多孔質材料で構成することが好
ましい。
る発明は、版をパターン形成面に密着させて流動体によ
るパターンをパターン形成面上に形成するパターン形成
方法であって、版をパターン形成面に密着させるステッ
プと、流動体を供給するために版のパターン転写領域に
複数設けられた貫通穴に流動体を供給するステップと、
貫通穴を介してパターン形成面に流動体が付着した後に
当該版をパターン形成面から剥離するステップと、を備
えている。版とは凹版であっても凸版であっても平板で
あってっもよい。また版の表面が平面で構成されていて
も曲面状に加工されていてもよい。パターン形成面は平
面上であっても曲面上であってもよい。すなわちパター
ン形成面は基板等の硬い材質の表面であってもフィルム
等の可撓性のある材質の表面であってもよい。流動体と
は貫通穴から供給可能な粘度を備えたものであればよ
く、インクのみならずあらゆる有機材料や無機材料が使
用可能である。また微粒子を含んだコロイド状液であっ
てもよい。例えばカーボン粉末を溶剤に分散させブラッ
クマトリクス形成用としたもの、透明電極用材料を溶剤
に溶かし透明電極形成用としたもの、金属微粒子を溶剤
に分散させ電極パターン形成用としたもの等任意に使用
できる。パターン転写領域は均一なパターン形状をした
ものであっても特定のパターンに合わせて成形したもの
であってもよい。版形成時の露光領域を変更することで
任意のパターン形状に適用させればよい。貫通穴は版の
パターン転写領域に流動体を供給可能であればその位置
や個数に限定されない。短時間で十分な流動体の供給が
可能なノズル径とノズルの個数を備えていればよい。流
動体を貫通穴に供給する方法としてはインクジェット方
式等、流動体に圧力を加える方法が迅速でかつ管理可能
なので好ましいが、他の方法であってもよい。例えば貫
通穴を毛管現象により流動体を供給可能に構成するので
あれば、毛管現象による自然な流動体の供給が可能であ
る。また毛管現象とインクジェット方式等の強制供給手
段とを併用してもよい。版の材料はパターンの形状を維
持可能な物理的強度を備え流動体に対する化学的安定性
を備えるものであれば何でもよい。特に流動体供給後に
空気を自然に抜くために多孔質材料で構成することが好
ましい。
【０００７】上記本発明の具体例は以下のようなもので
ある。例えば、上記版には貫通穴がパターン形成領域に
沿って配置されているものであって、流動体を供給する
ステップは、版に設けられている総ての貫通穴に対し加
圧により流動体を供給するものである。
ある。例えば、上記版には貫通穴がパターン形成領域に
沿って配置されているものであって、流動体を供給する
ステップは、版に設けられている総ての貫通穴に対し加
圧により流動体を供給するものである。
【０００８】また上記版には貫通穴が略均一に配置され
ているものであって、流動体を供給するステップは、版
に設けられている貫通穴のうちパターン転写領域に位置
している貫通穴にインクジェット方式により選択的に流
動体を供給するものである。
ているものであって、流動体を供給するステップは、版
に設けられている貫通穴のうちパターン転写領域に位置
している貫通穴にインクジェット方式により選択的に流
動体を供給するものである。
【０００９】さらに上記版は多孔質材料で構成されるも
のであって、版をパターン形成面から剥離するステップ
では、貫通穴を介して供給された流動体の余剰分が多孔
質材料に吸収された後に版をパターン形成面から剥離す
る。
のであって、版をパターン形成面から剥離するステップ
では、貫通穴を介して供給された流動体の余剰分が多孔
質材料に吸収された後に版をパターン形成面から剥離す
る。
【００１０】上記第２の課題を解決する発明は、版をパ
ターン形成面に密着させて流動体によるパターンをパタ
ーン形成面上に形成するためのパターン形成装置であっ
て、版をパターン形成面に密着させる版移送機構と、流
動体を貯蔵する流動体貯蔵機構と、流動体貯蔵機構から
版のパターン転写領域に複数設けられた貫通穴に流動体
を供給する流動体供給機構と、版移送機構による版の移
送および流動体供給機構による流動体の供給を制御する
制御装置と、を備える。そして制御装置は、版移送機構
により版をパターン形成面に密着させ、流動体供給機構
により貫通穴を介して流動体を供給し、パターン形成面
に流動体が付着した後に当該版をパターン形成面から剥
離させる。流動体貯蔵機構とは何からの方法で流動体を
溜めておくことができればよく、例えば流動体を溜める
タンク、そのタンクから流動体を流すパイプ等により構
成される。版移送機構とは版とパターン形成面との相対
位置を変更可能な機構であり、版を移送するものでもパ
ターン形成面のある基板等を移送するものでも双方とも
に移送するものでもよい。流動体供給機構とはインクジ
ェット方式等により強制的に流動体を供給するものの
他、毛管現象を利用して流動体のリザーバから自然に流
動体が供給可能に構成したものも含む。インクジェット
方式の場合、版の任意の位置にインクジェット式記録ヘ
ッドから流動体を吐出可能に構成したものも含む。この
場合インクジェット式記録ヘッドと版との相対位置を変
更可能に構成されたヘッド移送機構も含まれる。
ターン形成面に密着させて流動体によるパターンをパタ
ーン形成面上に形成するためのパターン形成装置であっ
て、版をパターン形成面に密着させる版移送機構と、流
動体を貯蔵する流動体貯蔵機構と、流動体貯蔵機構から
版のパターン転写領域に複数設けられた貫通穴に流動体
を供給する流動体供給機構と、版移送機構による版の移
送および流動体供給機構による流動体の供給を制御する
制御装置と、を備える。そして制御装置は、版移送機構
により版をパターン形成面に密着させ、流動体供給機構
により貫通穴を介して流動体を供給し、パターン形成面
に流動体が付着した後に当該版をパターン形成面から剥
離させる。流動体貯蔵機構とは何からの方法で流動体を
溜めておくことができればよく、例えば流動体を溜める
タンク、そのタンクから流動体を流すパイプ等により構
成される。版移送機構とは版とパターン形成面との相対
位置を変更可能な機構であり、版を移送するものでもパ
ターン形成面のある基板等を移送するものでも双方とも
に移送するものでもよい。流動体供給機構とはインクジ
ェット方式等により強制的に流動体を供給するものの
他、毛管現象を利用して流動体のリザーバから自然に流
動体が供給可能に構成したものも含む。インクジェット
方式の場合、版の任意の位置にインクジェット式記録ヘ
ッドから流動体を吐出可能に構成したものも含む。この
場合インクジェット式記録ヘッドと版との相対位置を変
更可能に構成されたヘッド移送機構も含まれる。
【００１１】例えば、上記版は貫通穴がパターン形成領
域に沿って配置されているものであって、流動体供給機
構は、版に設けられている総ての貫通穴に流動体を供給
する圧力室と当該圧力室の少なくとも一の壁面を変形さ
せて当該圧力室に体積変化を及ぼすことが可能な圧電体
素子とを備える。
域に沿って配置されているものであって、流動体供給機
構は、版に設けられている総ての貫通穴に流動体を供給
する圧力室と当該圧力室の少なくとも一の壁面を変形さ
せて当該圧力室に体積変化を及ぼすことが可能な圧電体
素子とを備える。
【００１２】また例えば上記版には貫通穴が略均一に配
置されているものであって、流動体供給機構は、流動体
を吐出可能に構成されたインクジェット式記録ヘッドと
当該ヘッドを版に設けられている任意の貫通穴に移送す
るヘッド移送機構とを備える。制御装置は、貫通穴のう
ちパターン転写領域に位置している貫通穴にヘッドを移
送させ流動体を供給させる。
置されているものであって、流動体供給機構は、流動体
を吐出可能に構成されたインクジェット式記録ヘッドと
当該ヘッドを版に設けられている任意の貫通穴に移送す
るヘッド移送機構とを備える。制御装置は、貫通穴のう
ちパターン転写領域に位置している貫通穴にヘッドを移
送させ流動体を供給させる。
【００１３】さらに例えば上記版は多孔質材料で構成さ
れるものであって、制御装置は、貫通穴を介して供給さ
れた流動体の余剰分が多孔質材料に吸収された後に版を
パターン形成面から剥離させる。
れるものであって、制御装置は、貫通穴を介して供給さ
れた流動体の余剰分が多孔質材料に吸収された後に版を
パターン形成面から剥離させる。
【００１４】上記第３の課題を解決する発明は、流動体
をパターン形成面に付着させてパターンを形成するため
のパターン形成用版であって、版のパターン転写領域が
凹版状に形成されており、当該パターン転写領域に貫通
穴が複数設けられている。
をパターン形成面に付着させてパターンを形成するため
のパターン形成用版であって、版のパターン転写領域が
凹版状に形成されており、当該パターン転写領域に貫通
穴が複数設けられている。
【００１５】また本発明は、流動体をパターン形成面に
付着させてパターンを形成するためのパターン形成用版
であって、版のパターン転写領域が凸版状に形成されて
おり、当該パターン転写領域に貫通穴が複数設けられて
いる。
付着させてパターンを形成するためのパターン形成用版
であって、版のパターン転写領域が凸版状に形成されて
おり、当該パターン転写領域に貫通穴が複数設けられて
いる。
【００１６】さらに本発明は、流動体をパターン形成面
に付着させてパターンを形成するためのパターン形成用
版であって、版のパターン転写領域が流動体に対し親和
性を示すように形成され、パターンの非転写領域が流動
体に対し非親和性を示すように形成されており、パター
ン転写領域に貫通穴が複数設けられている。
に付着させてパターンを形成するためのパターン形成用
版であって、版のパターン転写領域が流動体に対し親和
性を示すように形成され、パターンの非転写領域が流動
体に対し非親和性を示すように形成されており、パター
ン転写領域に貫通穴が複数設けられている。
【００１７】ここで親和性であるか非親和性であるか
は、パターン形成対象である流動体がどのような性質を
備えているかで決まる。例えば親水性のある流動体であ
れば、親水性のある組成が親和性を示し、疎水性のある
組成が非親和性を示す。逆に親油性のある流動体であれ
ば、親水性のある組成が非親和性を示し、疎水性のある
組成が親和性を示す。流動体を何にするかは、インクジ
ェット方式の工業的応用対象によって種々に変更して適
用することになる。
は、パターン形成対象である流動体がどのような性質を
備えているかで決まる。例えば親水性のある流動体であ
れば、親水性のある組成が親和性を示し、疎水性のある
組成が非親和性を示す。逆に親油性のある流動体であれ
ば、親水性のある組成が非親和性を示し、疎水性のある
組成が親和性を示す。流動体を何にするかは、インクジ
ェット方式の工業的応用対象によって種々に変更して適
用することになる。
【００１８】また例えば、上記版はパターン転写領域が
形成対象となるパターン形状に形成されている。また上
記版はパターン転写領域が略均一に配列された定型パタ
ーンとして形成されていてもよい。また上記版は多孔質
材料で形成されていてもよい。さらに上記版に形成され
た貫通穴の内壁は流動体に対し非親和性を示すように形
成されていてもよい。
形成対象となるパターン形状に形成されている。また上
記版はパターン転写領域が略均一に配列された定型パタ
ーンとして形成されていてもよい。また上記版は多孔質
材料で形成されていてもよい。さらに上記版に形成され
た貫通穴の内壁は流動体に対し非親和性を示すように形
成されていてもよい。
【００１９】上記第４の課題を解決する発明は、流動体
をパターン形成面に付着させてパターンを形成するため
のパターン形成用版の製造方法であって、基台にレジス
ト層を形成する工程と、レジスト層のうちパターンに合
わせて露光する工程と、露光されたレジスト層を現像す
る工程と、現像されたレジスト層が設けられた基台をエ
ッチングする工程と、エッチングされた基台に多孔質材
料を塗布する工程と、塗布された多孔質材料を硬化させ
る工程と、硬化した多孔質材料を基台から剥離する工程
と、剥離された多孔質材料のパターン形成領域に複数の
貫通穴を形成して版を形成する工程と、を備えている。
露光はマスクをレジスト層に形成して光を照射するもの
であっても位置選択性のあるレーザ光ピックアップを用
いて所定のパターンに合わせて露光するものであっても
よい。レジスト層はポジ型であってもネガ型であっても
よい。版を凹版にするか凸版にするかによりレジスト層
の型と露光領域とを定める。
をパターン形成面に付着させてパターンを形成するため
のパターン形成用版の製造方法であって、基台にレジス
ト層を形成する工程と、レジスト層のうちパターンに合
わせて露光する工程と、露光されたレジスト層を現像す
る工程と、現像されたレジスト層が設けられた基台をエ
ッチングする工程と、エッチングされた基台に多孔質材
料を塗布する工程と、塗布された多孔質材料を硬化させ
る工程と、硬化した多孔質材料を基台から剥離する工程
と、剥離された多孔質材料のパターン形成領域に複数の
貫通穴を形成して版を形成する工程と、を備えている。
露光はマスクをレジスト層に形成して光を照射するもの
であっても位置選択性のあるレーザ光ピックアップを用
いて所定のパターンに合わせて露光するものであっても
よい。レジスト層はポジ型であってもネガ型であっても
よい。版を凹版にするか凸版にするかによりレジスト層
の型と露光領域とを定める。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施するための最
良の形態を、図面を参照して説明する。 （実施形態１）本発明の実施形態１は、凹版状の版を用
いて液晶パネルのカラーフィルタ等に用いられるブラッ
クマトリクス（遮光性パターン）を形成する方法に関す
る。図１に本実施形態１に使用する版のパターン転写面
の平面図を示す。図２は図１のＡ−Ａ切断面を模式的に
表現した断面図である。図１および図２に示すように本
実施形態の版１は原版１００のパターン転写面にパター
ン転写領域１０を凹状に形成して構成されている。パタ
ーン転写領域１０にはさら原版１００の背面に貫通する
貫通穴１２が複数設けられている。貫通穴１２の内壁は
流動体に対し非親和性を示すように加工することが好ま
しい。非親和性に加工すれば、流動体を供給していない
ときに貫通穴１２内部から流動体が排除され、液滴の切
れがよいからである。凹状に成形されずに残っている領
域がパターン非転写領域１１を構成する。パターン転写
領域１０の形状は液晶パネルのカラーフィルタに形成す
るブラックマトリクスのパターン形状に合わせて成形さ
れている。版１を構成する材料は多孔質材料を用いる。
多孔質材料を用いれば版１をパターン形成面に密着させ
た状態で貫通穴から流動体を供給しても凹部の空気が多
孔質材料中を逃げるため、パターン転写領域１０の隅々
まで流動体を充填させることができるからである。多孔
質材料としては、例えばポリジメチルシロキサン等を用
いる。版１のパターン転写領域１０の厚みはパターン非
転写領域１１との段差によって成形される凹部の容量が
パターン形成に必要な流動体量に足りるように調整され
る。微小径の貫通穴１２を供給可能な流動体は溶剤成分
が多く蒸発による体積減少が激しい。この体積減少を見
越した量の流動体を充填可能とする必要がある。版１の
パターン非転写領域１１の厚みは版が十分な物理的強度
を備える程度の厚みであって貫通穴１２が長くなること
による流路抵抗の増加を防止できる程度の厚みに調整さ
れる。
良の形態を、図面を参照して説明する。 （実施形態１）本発明の実施形態１は、凹版状の版を用
いて液晶パネルのカラーフィルタ等に用いられるブラッ
クマトリクス（遮光性パターン）を形成する方法に関す
る。図１に本実施形態１に使用する版のパターン転写面
の平面図を示す。図２は図１のＡ−Ａ切断面を模式的に
表現した断面図である。図１および図２に示すように本
実施形態の版１は原版１００のパターン転写面にパター
ン転写領域１０を凹状に形成して構成されている。パタ
ーン転写領域１０にはさら原版１００の背面に貫通する
貫通穴１２が複数設けられている。貫通穴１２の内壁は
流動体に対し非親和性を示すように加工することが好ま
しい。非親和性に加工すれば、流動体を供給していない
ときに貫通穴１２内部から流動体が排除され、液滴の切
れがよいからである。凹状に成形されずに残っている領
域がパターン非転写領域１１を構成する。パターン転写
領域１０の形状は液晶パネルのカラーフィルタに形成す
るブラックマトリクスのパターン形状に合わせて成形さ
れている。版１を構成する材料は多孔質材料を用いる。
多孔質材料を用いれば版１をパターン形成面に密着させ
た状態で貫通穴から流動体を供給しても凹部の空気が多
孔質材料中を逃げるため、パターン転写領域１０の隅々
まで流動体を充填させることができるからである。多孔
質材料としては、例えばポリジメチルシロキサン等を用
いる。版１のパターン転写領域１０の厚みはパターン非
転写領域１１との段差によって成形される凹部の容量が
パターン形成に必要な流動体量に足りるように調整され
る。微小径の貫通穴１２を供給可能な流動体は溶剤成分
が多く蒸発による体積減少が激しい。この体積減少を見
越した量の流動体を充填可能とする必要がある。版１の
パターン非転写領域１１の厚みは版が十分な物理的強度
を備える程度の厚みであって貫通穴１２が長くなること
による流路抵抗の増加を防止できる程度の厚みに調整さ
れる。
【００２１】図３に本実施形態のパターン形成装置の構
成図を示す。図３に示すように本実施形態のパターン形
成装置２００は上記版１、圧力室基板２、圧電体素子
３、版移送機構４、制御装置５および流動体貯蔵機構６
を備えている。
成図を示す。図３に示すように本実施形態のパターン形
成装置２００は上記版１、圧力室基板２、圧電体素子
３、版移送機構４、制御装置５および流動体貯蔵機構６
を備えている。
【００２２】圧力室基板２は版１と接合されて版１のパ
ターン非転写面に流動体を供給可能に構成されている。
具体的な構成としては、図４の断面図に示すように圧力
室基板２は版１のパターン非転写面を側壁２２で囲み、
その一面に振動板２３を形成して構成されている。版
１、側壁２２および振動板２３により圧力室２１が形成
され、振動板２３に設けられたインクタンク口２４を介
して流動体６２を貯蔵可能に構成されている。圧力室基
板２は例えばシリコン、ガラス又は石英をエッチングし
て製造することが微細加工に適する。振動板２３は、例
えば熱酸化膜等により構成される。振動板２３上のキャ
ビティ２１に対応する位置には圧電体素子３が形成され
ている。振動板２３にはインクタンク口２４が設けら
れ、タンク２６から任意の流動体１０を供給可能に構成
されている。なお本実施形態の流動体としてはカーボン
粉末を溶剤に溶かしてコロイド状溶液としたものを使用
する。
ターン非転写面に流動体を供給可能に構成されている。
具体的な構成としては、図４の断面図に示すように圧力
室基板２は版１のパターン非転写面を側壁２２で囲み、
その一面に振動板２３を形成して構成されている。版
１、側壁２２および振動板２３により圧力室２１が形成
され、振動板２３に設けられたインクタンク口２４を介
して流動体６２を貯蔵可能に構成されている。圧力室基
板２は例えばシリコン、ガラス又は石英をエッチングし
て製造することが微細加工に適する。振動板２３は、例
えば熱酸化膜等により構成される。振動板２３上のキャ
ビティ２１に対応する位置には圧電体素子３が形成され
ている。振動板２３にはインクタンク口２４が設けら
れ、タンク２６から任意の流動体１０を供給可能に構成
されている。なお本実施形態の流動体としてはカーボン
粉末を溶剤に溶かしてコロイド状溶液としたものを使用
する。
【００２３】圧電体素子３は図４に示すように下電極３
０と上電極３２との間に圧電体薄膜３１を挟持して構成
されている。下電極３０および上電極３２は安定性のあ
る導電性材料、例えば白金で形成されている。圧電体薄
膜３１は電気機械変換作用を示す材料、例えばＰＺＴ
（ジルコン酸チタン酸鉛）等の強誘電体材料からなる結
晶構造で構成されている。圧電体素子３１は制御回路５
から供給される制御信号Ｓｐに対応して体積変化を生ず
ることが可能に構成されている。
０と上電極３２との間に圧電体薄膜３１を挟持して構成
されている。下電極３０および上電極３２は安定性のあ
る導電性材料、例えば白金で形成されている。圧電体薄
膜３１は電気機械変換作用を示す材料、例えばＰＺＴ
（ジルコン酸チタン酸鉛）等の強誘電体材料からなる結
晶構造で構成されている。圧電体素子３１は制御回路５
から供給される制御信号Ｓｐに対応して体積変化を生ず
ることが可能に構成されている。
【００２４】なお上記圧力室基板は圧電体素子に体積変
化を生じさせて流動体を吐出させる構成であったが、発
熱体により流動体に熱を加えその膨張によって液滴を吐
出させるような構成であってもよい。
化を生じさせて流動体を吐出させる構成であったが、発
熱体により流動体に熱を加えその膨張によって液滴を吐
出させるような構成であってもよい。
【００２５】なお図示を簡単にするために、各図では圧
力室２１および圧電体素子３をそれぞれ一個図示した
が、圧力室を所定領域ごとに複数設けそれに対応させて
圧電体素子３も複数設けてもよい。
力室２１および圧電体素子３をそれぞれ一個図示した
が、圧力室を所定領域ごとに複数設けそれに対応させて
圧電体素子３も複数設けてもよい。
【００２６】版移送機構４はモータ４０その他図示しな
い機械構造により構成されている。モータ４０は制御装
置５からの駆動信号Ｓｍに応じて駆動可能に構成され、
モータ４０の力が版１および圧力室基板２を図の上下方
向に移送可能に構成されている。なお版移送機構４は基
板１１０に対する版１および圧力室基板２の位置を相対
的に変化可能な構成を備えていれば十分である。このた
め上記構成の他に基板１１０が版１等に対して動くもの
であっても、版１等と基板１１０とがともに動くもので
あってもよい。
い機械構造により構成されている。モータ４０は制御装
置５からの駆動信号Ｓｍに応じて駆動可能に構成され、
モータ４０の力が版１および圧力室基板２を図の上下方
向に移送可能に構成されている。なお版移送機構４は基
板１１０に対する版１および圧力室基板２の位置を相対
的に変化可能な構成を備えていれば十分である。このた
め上記構成の他に基板１１０が版１等に対して動くもの
であっても、版１等と基板１１０とがともに動くもので
あってもよい。
【００２７】制御装置５はコンピュータ装置またはシー
ケンサとしての機能を備え、当該パターン形成装置に本
発明のパターン形成方法を実行させることが可能に構成
されている。当該装置は版移送機構２のモータ４０には
駆動信号Ｓｍを出力して版１とパターン形成面１１１と
の距離を任意のタイミングで変更可能である。また当該
装置は圧電体素子３に吐出信号Ｓｐを供給して任意のタ
イミングで圧力室基板２から流動体６２を版１に供給可
能に構成されている。
ケンサとしての機能を備え、当該パターン形成装置に本
発明のパターン形成方法を実行させることが可能に構成
されている。当該装置は版移送機構２のモータ４０には
駆動信号Ｓｍを出力して版１とパターン形成面１１１と
の距離を任意のタイミングで変更可能である。また当該
装置は圧電体素子３に吐出信号Ｓｐを供給して任意のタ
イミングで圧力室基板２から流動体６２を版１に供給可
能に構成されている。
【００２８】流動体貯蔵機構６はタンク６０およびパイ
プ６１により構成されている。タンク６０は本発明の流
動体を貯蔵するものであり、パイプ６１はタンク６０に
貯蔵された流動体を圧力室基板２のインクタンク口２４
に供給するように構成されている。
プ６１により構成されている。タンク６０は本発明の流
動体を貯蔵するものであり、パイプ６１はタンク６０に
貯蔵された流動体を圧力室基板２のインクタンク口２４
に供給するように構成されている。
【００２９】（パターン形成方法）次に上記パターン形
成装置２００を使用したパターン形成の方法について説
明する。まず圧電体素子３に吐出信号Ｓｐが加えられな
い状態では図４に示すように、流動体６２は圧力室基板
２の圧力室２１内に充填されている。流動体の表面張力
が大きい場合、この状態では貫通穴１２に流れることは
ない。パターンを形成する対象となる基板１１０は版移
送機構４により版１の移送が可能な位置に載置される。
成装置２００を使用したパターン形成の方法について説
明する。まず圧電体素子３に吐出信号Ｓｐが加えられな
い状態では図４に示すように、流動体６２は圧力室基板
２の圧力室２１内に充填されている。流動体の表面張力
が大きい場合、この状態では貫通穴１２に流れることは
ない。パターンを形成する対象となる基板１１０は版移
送機構４により版１の移送が可能な位置に載置される。
【００３０】次いで制御装置５は版１および圧力室基板
２を基板１１０に向けて移送し、版１のパターン転写面
と基板１１０のパターン形成面１１１とを図５に示すよ
うに密着させる。
２を基板１１０に向けて移送し、版１のパターン転写面
と基板１１０のパターン形成面１１１とを図５に示すよ
うに密着させる。
【００３１】そして制御装置５は吐出信号Ｓｐを圧電体
素子３に供給する。圧電体素子３は電圧の印加により体
積変化を生じ、振動板２３を変形させる。この結果、図
５に示すように破線で示す元の位置Ｐ１から撓んだ位置
Ｐ２に振動板２３が変形する。振動板２３が変形すると
圧力室２１の流動体の圧力が上昇して、貫通穴１２から
パターン転写領域１０の凹部へ流動体が入り込む。流動
体が凹部入り込むと、その流入量相当分の空気を逃す必
要がある。凹部は基板１１０と版１とで四方を塞がれて
いるものの、版１が多孔質材料でできているためこの流
動体の流入量相当量の空気は版１の壁から外部へ抜け
る。このため凹部に空気が残留せずパターン転写領域１
０の隅々まで流動体が充填される。
素子３に供給する。圧電体素子３は電圧の印加により体
積変化を生じ、振動板２３を変形させる。この結果、図
５に示すように破線で示す元の位置Ｐ１から撓んだ位置
Ｐ２に振動板２３が変形する。振動板２３が変形すると
圧力室２１の流動体の圧力が上昇して、貫通穴１２から
パターン転写領域１０の凹部へ流動体が入り込む。流動
体が凹部入り込むと、その流入量相当分の空気を逃す必
要がある。凹部は基板１１０と版１とで四方を塞がれて
いるものの、版１が多孔質材料でできているためこの流
動体の流入量相当量の空気は版１の壁から外部へ抜け
る。このため凹部に空気が残留せずパターン転写領域１
０の隅々まで流動体が充填される。
【００３２】制御装置５は基板１１０上に流動体が接触
したら、圧電体素子３にさらに吐出信号Ｓｐを加えなが
ら駆動信号Ｓｍを版移送機構４に供給する。版１は圧力
室基板２とともに引き上げられ、適量の流動体が版１の
パターン転写領域１０の形状に合わせて転写される。基
板１１０に対し熱処理や化学的処理等を施し、流動体の
溶剤成分を蒸発させれば、流動体中のカーボン粒子が基
板１１０上に定着する。これら処理によって、図６に示
すようにパターン転写領域１０の形状がそのまま基板１
１０のパターン形成面１１１に転写されたブラックマト
リクス１１２が形成される。
したら、圧電体素子３にさらに吐出信号Ｓｐを加えなが
ら駆動信号Ｓｍを版移送機構４に供給する。版１は圧力
室基板２とともに引き上げられ、適量の流動体が版１の
パターン転写領域１０の形状に合わせて転写される。基
板１１０に対し熱処理や化学的処理等を施し、流動体の
溶剤成分を蒸発させれば、流動体中のカーボン粒子が基
板１１０上に定着する。これら処理によって、図６に示
すようにパターン転写領域１０の形状がそのまま基板１
１０のパターン形成面１１１に転写されたブラックマト
リクス１１２が形成される。
【００３３】なお毛管現象により圧力室２１の流動体６
２が自然にパターン転写領域１０の凹部に導かれるよう
に構成した場合には、制御装置５は版１を上下させる制
御のみでよい。この構成では凹部が常に流動体６２で満
たされた状態となっているので、版１を基板１１０に密
着させてから再び版１を剥離すれば、パターン形成面１
１１上に流動体のパターンが残されるからである。
２が自然にパターン転写領域１０の凹部に導かれるよう
に構成した場合には、制御装置５は版１を上下させる制
御のみでよい。この構成では凹部が常に流動体６２で満
たされた状態となっているので、版１を基板１１０に密
着させてから再び版１を剥離すれば、パターン形成面１
１１上に流動体のパターンが残されるからである。
【００３４】（版製造方法）次に図７を参照して版１の
製造方法を説明する。図７の（ａ）〜（ｆ）は製造工程
断面図である。 レジスト層形成工程（図７（ｂ））： レジスト層塗布
工程は原版１００のパターン形成面にレジスト層を形成
する工程である。まず上記した多孔質材料を成形して原
版形状に仕上げる（図７（ａ））。次いで原版１００の
一面にレジスト層１０１を形成する。レジスト材料とし
てはポジ型でもネガ型でもよい。ネガ型レジストは露光
された部分が現像液に非溶解となって残される。ポジ型
レジストは露光されなかった部分が現像液に非溶解とな
って残される。スピンナー法、スプレー法等の方法を用
いて均一な厚さに塗布しレジスト層１０１を形成する。
製造方法を説明する。図７の（ａ）〜（ｆ）は製造工程
断面図である。 レジスト層形成工程（図７（ｂ））： レジスト層塗布
工程は原版１００のパターン形成面にレジスト層を形成
する工程である。まず上記した多孔質材料を成形して原
版形状に仕上げる（図７（ａ））。次いで原版１００の
一面にレジスト層１０１を形成する。レジスト材料とし
てはポジ型でもネガ型でもよい。ネガ型レジストは露光
された部分が現像液に非溶解となって残される。ポジ型
レジストは露光されなかった部分が現像液に非溶解とな
って残される。スピンナー法、スプレー法等の方法を用
いて均一な厚さに塗布しレジスト層１０１を形成する。
【００３５】露光工程（図７（ｃ））： 露光工程はレ
ジスト層１０１をレジストの型に合わせて露光する工程
である。すなわちレジスト層１０１の材料としてポジ型
レジストを用いた場合にはパターン非転写領域１１に光
１０２を照射する。ネガ型レジストを用いた場合にはパ
ターン転写領域１１に光１０２を照射する。レジスト材
料にはノボラック型、化学増幅型などを用いる。光１０
２にはＵＶランプ、エキシマレーザ等の公知の光源を用
いる。
ジスト層１０１をレジストの型に合わせて露光する工程
である。すなわちレジスト層１０１の材料としてポジ型
レジストを用いた場合にはパターン非転写領域１１に光
１０２を照射する。ネガ型レジストを用いた場合にはパ
ターン転写領域１１に光１０２を照射する。レジスト材
料にはノボラック型、化学増幅型などを用いる。光１０
２にはＵＶランプ、エキシマレーザ等の公知の光源を用
いる。
【００３６】現像工程（図７（ｄ））： 現像工程は露
光されたレジスト層を現像してパターン非転写領域のレ
ジスト層のみを残す工程である。現像処理に用いる現像
液には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや水酸
化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウムなど
アルカリ水溶液またはキシレンなどの有機溶剤等の公知
のものを用いる。現像したらドライエッチング、イオン
トリミング法、酸化ケイ素に対するエッチングレートの
高いエッチング液を用いたウェットエッチング等を使用
して、パターン転写領域１０のレジスト層を除去する。
光されたレジスト層を現像してパターン非転写領域のレ
ジスト層のみを残す工程である。現像処理に用いる現像
液には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや水酸
化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウムなど
アルカリ水溶液またはキシレンなどの有機溶剤等の公知
のものを用いる。現像したらドライエッチング、イオン
トリミング法、酸化ケイ素に対するエッチングレートの
高いエッチング液を用いたウェットエッチング等を使用
して、パターン転写領域１０のレジスト層を除去する。
【００３７】エッチング工程（図７（ｅ））： エッチ
ング工程は基板材料１００の現像されたレジスト層１０
１側をエッチングして、パターン転写領域１０に凹部を
形成する。エッチング方法としては、例えば、湿式の異
方性エッチング、平行平板型反応性イオンエッチング等
の活性気体を用いた異方性エッチングを用いる。このエ
ッチングは選択比が高く、多孔質材料のみを選択的にエ
ッチングする。エッチングの深度は上記したようにパタ
ーンとして必要な流動体の量に応じて適宜調整する。エ
ッチング後には残存しているレジスト層１０１を溶剤等
で除去する。
ング工程は基板材料１００の現像されたレジスト層１０
１側をエッチングして、パターン転写領域１０に凹部を
形成する。エッチング方法としては、例えば、湿式の異
方性エッチング、平行平板型反応性イオンエッチング等
の活性気体を用いた異方性エッチングを用いる。このエ
ッチングは選択比が高く、多孔質材料のみを選択的にエ
ッチングする。エッチングの深度は上記したようにパタ
ーンとして必要な流動体の量に応じて適宜調整する。エ
ッチング後には残存しているレジスト層１０１を溶剤等
で除去する。
【００３８】貫通穴形成工程（図７（ｆ））： 貫通穴
形成工程はエッチングされた原版１００に複数の貫通穴
１２を開ける工程である。貫通穴１２を形成するには、
レーザー加工、パンチング等の方法を用いる。貫通穴１
２の個数は流動体を十分に凹部に供給できる程度の数と
する。なお版の多孔質材料自体が流動体に非親和性を示
さない場合には貫通穴１２の内壁を流動体に対し非親和
性に加工することが好ましい。流動体に対し非親和性を
示すように表面加工する方法についてはその他の変形例
において後述する。
形成工程はエッチングされた原版１００に複数の貫通穴
１２を開ける工程である。貫通穴１２を形成するには、
レーザー加工、パンチング等の方法を用いる。貫通穴１
２の個数は流動体を十分に凹部に供給できる程度の数と
する。なお版の多孔質材料自体が流動体に非親和性を示
さない場合には貫通穴１２の内壁を流動体に対し非親和
性に加工することが好ましい。流動体に対し非親和性を
示すように表面加工する方法についてはその他の変形例
において後述する。
【００３９】本実施形態１によれば、版は凹版状に成形
され凹部には貫通穴が設けられているので、大きなパタ
ーンの一体形成ができ、大きな設備を用いることなく安
価にパターン形成が可能である。特にパターン転写領域
に貫通穴から直接流動体を供給可能なので、従来の方法
に比べ広い範囲にパターンを形成可能である。したがっ
て液晶パネルのブラックマトリクスや透明電極、通常電
極等のパターン形成方法として適する。
され凹部には貫通穴が設けられているので、大きなパタ
ーンの一体形成ができ、大きな設備を用いることなく安
価にパターン形成が可能である。特にパターン転写領域
に貫通穴から直接流動体を供給可能なので、従来の方法
に比べ広い範囲にパターンを形成可能である。したがっ
て液晶パネルのブラックマトリクスや透明電極、通常電
極等のパターン形成方法として適する。
【００４０】（実施形態２）本発明の実施形態２は、凸
版状の版に関する。図８に本実施形態２の版におけるパ
ターン転写面の平面図を示す。図９は図８のＡ−Ａ切断
面を模式的に表現した断面図である。図８および図９に
示すように本実施形態の版１ｂは原版１００のパターン
転写面にパターン転写領域１０ｂを凸状に形成して構成
されている。パターン転写領域１０ｂにはさら原版１０
０の背面に貫通する貫通穴１２ｂが複数設けられてい
る。貫通穴１２ｂは上記実施形態１と同様に流動体に対
し非親和性になるよう加工することが好ましい。凸状に
成形されずに残っている領域がパターン非転写領域１１
ｂを構成する。版１ｂを構成する材料や厚みに関しては
上記実施形態１と同様なので説明を省略する。本実施形
態の版１ｂは上記実施形態１と同様なパターン形成装置
２００に装着されて使用される。
版状の版に関する。図８に本実施形態２の版におけるパ
ターン転写面の平面図を示す。図９は図８のＡ−Ａ切断
面を模式的に表現した断面図である。図８および図９に
示すように本実施形態の版１ｂは原版１００のパターン
転写面にパターン転写領域１０ｂを凸状に形成して構成
されている。パターン転写領域１０ｂにはさら原版１０
０の背面に貫通する貫通穴１２ｂが複数設けられてい
る。貫通穴１２ｂは上記実施形態１と同様に流動体に対
し非親和性になるよう加工することが好ましい。凸状に
成形されずに残っている領域がパターン非転写領域１１
ｂを構成する。版１ｂを構成する材料や厚みに関しては
上記実施形態１と同様なので説明を省略する。本実施形
態の版１ｂは上記実施形態１と同様なパターン形成装置
２００に装着されて使用される。
【００４１】（パターン形成方法）本実施形態のパター
ン形成方法自体も上記実施形態１とほぼ同様である。ま
ずパターン転写領域１０ｂとパターン形成面１１１との
間に図１０に示すようなわずかな間隙を設けるまで版１
ｂを基板１１０方向に移送し接近させる。この間隙にお
いて毛管現象が生じ、貫通穴１２ｂから供給された流動
体６２をパターン転写領域１０ｂ全体に充填させること
ができる。版１を移送したら、制御装置５は流動体６２
を供給する。流動体６２は貫通穴１２ｂから基板１１０
上に供給され液滴６３を形成する。流動体の液滴６３が
十分に基板１１０に馴染んだり化学反応が生じた後に版
１ｂを基板１１０から剥離する。このような手順により
基板１１０上にパターンが形成される。流動体がカーボ
ン粉末を溶剤に溶かしたものであって、パターン転写領
域１０ｂが図８のような格子形状を備えていれば、上記
処理によって基板１１０上に液晶パネルに使用するカラ
ーフィルタ用のブラックマトリクスが形成される。
ン形成方法自体も上記実施形態１とほぼ同様である。ま
ずパターン転写領域１０ｂとパターン形成面１１１との
間に図１０に示すようなわずかな間隙を設けるまで版１
ｂを基板１１０方向に移送し接近させる。この間隙にお
いて毛管現象が生じ、貫通穴１２ｂから供給された流動
体６２をパターン転写領域１０ｂ全体に充填させること
ができる。版１を移送したら、制御装置５は流動体６２
を供給する。流動体６２は貫通穴１２ｂから基板１１０
上に供給され液滴６３を形成する。流動体の液滴６３が
十分に基板１１０に馴染んだり化学反応が生じた後に版
１ｂを基板１１０から剥離する。このような手順により
基板１１０上にパターンが形成される。流動体がカーボ
ン粉末を溶剤に溶かしたものであって、パターン転写領
域１０ｂが図８のような格子形状を備えていれば、上記
処理によって基板１１０上に液晶パネルに使用するカラ
ーフィルタ用のブラックマトリクスが形成される。
【００４２】なお本実施形態の版１ｂの製造方法は上記
実施形態１の版の製造方法に準拠して実施すればよい。
ただしレジスト材料のポジとネガあるいは露光領域と非
露光領域とを逆に設定する必要がある。上記したように
本実施形態２によれば、凸版のパターン形成用版によっ
ても上記実施形態１と同様の効果を奏することができ
る。
実施形態１の版の製造方法に準拠して実施すればよい。
ただしレジスト材料のポジとネガあるいは露光領域と非
露光領域とを逆に設定する必要がある。上記したように
本実施形態２によれば、凸版のパターン形成用版によっ
ても上記実施形態１と同様の効果を奏することができ
る。
【００４３】（実施形態３）本発明の実施形態３はイン
クジェット式記録ヘッドを用いた任意のパターン形成が
可能なパターン形成装置に関する。
クジェット式記録ヘッドを用いた任意のパターン形成が
可能なパターン形成装置に関する。
【００４４】図１０に本実施形態のパターン形成装置の
構成図を示す。図１０に示すように本実施形態のパター
ン形成装置２００ｂは上記版１、インクジェット式記録
ヘッド２ｂ、版移送機構４ｂ、制御装置５ｂ、流動体貯
蔵機構６ｂおよびヘッド移送機構７を備えている。
構成図を示す。図１０に示すように本実施形態のパター
ン形成装置２００ｂは上記版１、インクジェット式記録
ヘッド２ｂ、版移送機構４ｂ、制御装置５ｂ、流動体貯
蔵機構６ｂおよびヘッド移送機構７を備えている。
【００４５】版１については上記実施形態１または２で
使用したものをそのまま使用可能である。特に本実施形
態ではインクジェット式記録ヘッドの移送により任意の
パターンを形成可能に構成したので、版は格子状や一定
間隔のドットを有する均一なパターンを有するものでよ
い。すなわちパターン転写領域１０とパターン非転写領
域１１とが一定の規則にしたがって連結され、貫通穴１
２から流動体を供給するか否かを選択することにより任
意のパターン転写領域１０に流動体を供給可能なように
構成する。
使用したものをそのまま使用可能である。特に本実施形
態ではインクジェット式記録ヘッドの移送により任意の
パターンを形成可能に構成したので、版は格子状や一定
間隔のドットを有する均一なパターンを有するものでよ
い。すなわちパターン転写領域１０とパターン非転写領
域１１とが一定の規則にしたがって連結され、貫通穴１
２から流動体を供給するか否かを選択することにより任
意のパターン転写領域１０に流動体を供給可能なように
構成する。
【００４６】インクジェット式記録ヘッド２ｂは、図１
１に示すように圧力室基板２０の一方の面に圧電体素子
３を設けた振動板２３が設けられ、他方の面にノズル２
８が設けられたノズル板２９が貼り合わせられて構成さ
れている。圧力室基板２０はシリコン、ガラス又は石英
等をエッチングすることにより、圧力室２１、リザーバ
２５、供給口２６等が形成されている。圧力室２１を仕
切る部分が側壁２２を構成する。振動板２３および圧電
体素子３に関しては上記実施形態１と同様の構成を備え
る。ただし圧電体素子３は個々の圧力室２１に対応して
それぞれ備えられる。ノズル板２９に設けられるノズル
２８は個々の圧力室２１に対応してそれぞれ設けられて
いる。以上の構成により、当該インクジェット式記録ヘ
ッド２ｂは、流動体貯蔵機構６から供給された流動体６
２がインクタンク口２４を介してリザーバ２５に導入さ
れ、供給口２６ｑを経て各圧力室２１に充填可能に構成
されている。圧電体素子３に電圧が印加されると対応す
る圧力室２１に体積変化が生じ、その圧力室に対応して
設けられたノズル２８から流動体の液滴６３を吐出可能
に構成されている。
１に示すように圧力室基板２０の一方の面に圧電体素子
３を設けた振動板２３が設けられ、他方の面にノズル２
８が設けられたノズル板２９が貼り合わせられて構成さ
れている。圧力室基板２０はシリコン、ガラス又は石英
等をエッチングすることにより、圧力室２１、リザーバ
２５、供給口２６等が形成されている。圧力室２１を仕
切る部分が側壁２２を構成する。振動板２３および圧電
体素子３に関しては上記実施形態１と同様の構成を備え
る。ただし圧電体素子３は個々の圧力室２１に対応して
それぞれ備えられる。ノズル板２９に設けられるノズル
２８は個々の圧力室２１に対応してそれぞれ設けられて
いる。以上の構成により、当該インクジェット式記録ヘ
ッド２ｂは、流動体貯蔵機構６から供給された流動体６
２がインクタンク口２４を介してリザーバ２５に導入さ
れ、供給口２６ｑを経て各圧力室２１に充填可能に構成
されている。圧電体素子３に電圧が印加されると対応す
る圧力室２１に体積変化が生じ、その圧力室に対応して
設けられたノズル２８から流動体の液滴６３を吐出可能
に構成されている。
【００４７】なお上記圧力室基板は圧電体素子に体積変
化を生じさせて流動体を吐出させる構成であったが、発
熱体により流動体に熱を加えその膨張によって液滴を吐
出させるような構成であってもよい。
化を生じさせて流動体を吐出させる構成であったが、発
熱体により流動体に熱を加えその膨張によって液滴を吐
出させるような構成であってもよい。
【００４８】版移送機構４ｂは上記実施形態１の版移送
機構４と同様の構成を備えるが、本実施形態では版１の
みを移送可能に構成される。インクジェット式記録ヘッ
ド２ｂはヘッド移送機構７により版１とは独立して移送
されるからである。
機構４と同様の構成を備えるが、本実施形態では版１の
みを移送可能に構成される。インクジェット式記録ヘッ
ド２ｂはヘッド移送機構７により版１とは独立して移送
されるからである。
【００４９】流動体貯蔵機構６ｂはタンク６０およびパ
イプ６１により構成されている。タンク６０は本発明の
流動体を貯蔵するものであり、パイプ６１はタンク６０
に貯蔵された流動体をインクジェット式記録ヘッド２ｂ
のインクタンク口２４に供給するように構成されてい
る。
イプ６１により構成されている。タンク６０は本発明の
流動体を貯蔵するものであり、パイプ６１はタンク６０
に貯蔵された流動体をインクジェット式記録ヘッド２ｂ
のインクタンク口２４に供給するように構成されてい
る。
【００５０】ヘッド移送機構７はモータ７０および７１
その他図示しない機械構造により構成されている。モー
タ７０は制御装置５ｂからのＸ軸方向駆動信号Ｓｘに応
じてインクジェット式記録ヘッド２ｂをＸ軸方向に移送
可能に構成される。モータ７１は制御装置５ｂからのＹ
軸方向駆動信号Ｓｙに応じてインクジェット式記録ヘッ
ド２ｂをＹ軸方向に移送可能に構成される。なお版移送
機構７は版１に対するインクジェット式記録ヘッド２ｂ
の位置を相対的に変化可能な構成を備えていれば十分で
ある。このため上記構成の他に版１および基板１１０が
インクジェット式記録ヘッド２ｂに対して動くものであ
っても、インクジェット式記録ヘッド２ｂと版１および
基板１１０とがともに動くものであってもよい。
その他図示しない機械構造により構成されている。モー
タ７０は制御装置５ｂからのＸ軸方向駆動信号Ｓｘに応
じてインクジェット式記録ヘッド２ｂをＸ軸方向に移送
可能に構成される。モータ７１は制御装置５ｂからのＹ
軸方向駆動信号Ｓｙに応じてインクジェット式記録ヘッ
ド２ｂをＹ軸方向に移送可能に構成される。なお版移送
機構７は版１に対するインクジェット式記録ヘッド２ｂ
の位置を相対的に変化可能な構成を備えていれば十分で
ある。このため上記構成の他に版１および基板１１０が
インクジェット式記録ヘッド２ｂに対して動くものであ
っても、インクジェット式記録ヘッド２ｂと版１および
基板１１０とがともに動くものであってもよい。
【００５１】制御装置５ｂはコンピュータ装置またはシ
ーケンサとしての機能を備え、当該パターン形成装置に
本発明のパターン形成方法を実行させることが可能に構
成されている。当該装置は版移送機構４ｂには駆動信号
Ｓｍを出力して版１とパターン形成面１１１との距離を
任意のタイミングで変更可能である。また当該装置は圧
電体素子３に吐出信号Ｓｐを供給して任意のタイミング
でインクジェット式記録ヘッド２ｂから流動体の液滴６
３を版１に供給可能に構成されている。さらにヘッド移
送機構７にはＸ軸方向駆動信号ＳｘとＹ軸方向Ｓｙとを
供給することによりインクジェット式記録ヘッド２ｂを
版１に対して任意の相対位置へ移送可能に構成されてい
る。
ーケンサとしての機能を備え、当該パターン形成装置に
本発明のパターン形成方法を実行させることが可能に構
成されている。当該装置は版移送機構４ｂには駆動信号
Ｓｍを出力して版１とパターン形成面１１１との距離を
任意のタイミングで変更可能である。また当該装置は圧
電体素子３に吐出信号Ｓｐを供給して任意のタイミング
でインクジェット式記録ヘッド２ｂから流動体の液滴６
３を版１に供給可能に構成されている。さらにヘッド移
送機構７にはＸ軸方向駆動信号ＳｘとＹ軸方向Ｓｙとを
供給することによりインクジェット式記録ヘッド２ｂを
版１に対して任意の相対位置へ移送可能に構成されてい
る。
【００５２】（パターン形成方法）次に上記パターン形
成装置２００ｂを使用したパターン形成の方法について
説明する。まず制御装置５ｂは版１を基板１１０に向け
て移送し、版１のパターン転写面と基板１１０のパター
ン形成面１１１とを密着させる（実施形態２の凸版を使
用する場合にはわずかな間隙を空ける）。次いで制御装
置５はＸ軸方向駆動信号ＳｘおよびＹ軸方向駆動信号Ｓ
ｙをヘッド移送機構７に供給する。この駆動信号により
インクジェット式記録ヘッド２ｂは例えば図１３の矢印
で示すように予め設定されたパターン形成経路で移送さ
れていく。インクジェット式記録ヘッド２ｂの移送とと
もに制御装置５ｂはパターン転写領域１０の貫通穴１２
が設けられている位置で吐出信号Ｓｐをインクジェット
式記録ヘッド２ｂに供給する。インクジェット式記録ヘ
ッド２ｂからは流動体の液滴６３が版１のパターン形成
経路上にある貫通穴１２に吐出される。流動体の液滴６
３が着弾した貫通穴１２には毛管現象が作用するため、
流動体６２が貫通穴１２を通って版１のパターン転写面
に達する。パターン転写面は凹版に形成されていても凸
版に形成されていてもパターン形成面１１１に密着して
いるので（実施形態２の凸版を使用する場合にはわずか
な間隙が空いているので）、インクジェット式記録ヘッ
ド２ｂの移送経路に従ったパターンで流動体６２が基板
１１０上に付着する。この基板１１０に熱処理等の後処
理を施せば、図１４に示すように基板１１０のパターン
形成面１１１には流動体のパターン１１２が形成でき
る。
成装置２００ｂを使用したパターン形成の方法について
説明する。まず制御装置５ｂは版１を基板１１０に向け
て移送し、版１のパターン転写面と基板１１０のパター
ン形成面１１１とを密着させる（実施形態２の凸版を使
用する場合にはわずかな間隙を空ける）。次いで制御装
置５はＸ軸方向駆動信号ＳｘおよびＹ軸方向駆動信号Ｓ
ｙをヘッド移送機構７に供給する。この駆動信号により
インクジェット式記録ヘッド２ｂは例えば図１３の矢印
で示すように予め設定されたパターン形成経路で移送さ
れていく。インクジェット式記録ヘッド２ｂの移送とと
もに制御装置５ｂはパターン転写領域１０の貫通穴１２
が設けられている位置で吐出信号Ｓｐをインクジェット
式記録ヘッド２ｂに供給する。インクジェット式記録ヘ
ッド２ｂからは流動体の液滴６３が版１のパターン形成
経路上にある貫通穴１２に吐出される。流動体の液滴６
３が着弾した貫通穴１２には毛管現象が作用するため、
流動体６２が貫通穴１２を通って版１のパターン転写面
に達する。パターン転写面は凹版に形成されていても凸
版に形成されていてもパターン形成面１１１に密着して
いるので（実施形態２の凸版を使用する場合にはわずか
な間隙が空いているので）、インクジェット式記録ヘッ
ド２ｂの移送経路に従ったパターンで流動体６２が基板
１１０上に付着する。この基板１１０に熱処理等の後処
理を施せば、図１４に示すように基板１１０のパターン
形成面１１１には流動体のパターン１１２が形成でき
る。
【００５３】上記したように本実施形態３によれば版と
インクジェット式記録ヘッドとを相対的に移送可能に構
成したので、版を特定のパターンに合わせて形成しなく
ても任意のパターンを形成可能である。特にインクジェ
ット式記録ヘッドは多量生産され小型で安価であるため
この技術を応用することにより、家庭用プリンタサイズ
で手頃な価格で任意のパターンを形成可能な製造装置を
提供することができる。
インクジェット式記録ヘッドとを相対的に移送可能に構
成したので、版を特定のパターンに合わせて形成しなく
ても任意のパターンを形成可能である。特にインクジェ
ット式記録ヘッドは多量生産され小型で安価であるため
この技術を応用することにより、家庭用プリンタサイズ
で手頃な価格で任意のパターンを形成可能な製造装置を
提供することができる。
【００５４】（その他の変形例）本発明は上記実施形態
によらず種々に変形して適用することが可能である。例
えば上記実施形態で示した版に設けるパターン転写領域
の形状は単なる例示であり、これに拘らず種々に変更が
可能である。図１等のように同一のパターンが規則正し
く均一に配置されるものの他、基板に設けるパターンに
合わせて版のパターン転写領域を成形してもよい。この
ような構成であれば、上記実施形態３のようにインクジ
ェット式記録ヘッドによる描画をしなくても複雑なパタ
ーンを一体成形可能である。
によらず種々に変形して適用することが可能である。例
えば上記実施形態で示した版に設けるパターン転写領域
の形状は単なる例示であり、これに拘らず種々に変更が
可能である。図１等のように同一のパターンが規則正し
く均一に配置されるものの他、基板に設けるパターンに
合わせて版のパターン転写領域を成形してもよい。この
ような構成であれば、上記実施形態３のようにインクジ
ェット式記録ヘッドによる描画をしなくても複雑なパタ
ーンを一体成形可能である。
【００５５】また版はパターン形状以外にも上記実施形
態によらず変形可能である。例えば上記実施形態ではパ
ターン形成用版は凹版にしたり凸版にしたりしたが、平
板に加工してもよい。平板でパターン形成用版を構成す
る場合、パターン転写領域を流動体に対し親和性のある
親和性領域に、パターン非転写領域を流動体に対し親和
性のない非親和性領域にする表面処理を行う。版の表面
を親和性にしたり非親和性にしたりすることは幾つかの
方法で実現が可能である。
態によらず変形可能である。例えば上記実施形態ではパ
ターン形成用版は凹版にしたり凸版にしたりしたが、平
板に加工してもよい。平板でパターン形成用版を構成す
る場合、パターン転写領域を流動体に対し親和性のある
親和性領域に、パターン非転写領域を流動体に対し親和
性のない非親和性領域にする表面処理を行う。版の表面
を親和性にしたり非親和性にしたりすることは幾つかの
方法で実現が可能である。
【００５６】例えば硫黄化合物の自己集合化単分子膜を
形成する方法がある。この方法では、版の表面に金等の
金属層を設け、それを黄化合物を含む溶解液に浸漬して
自己集合化単分子膜を形成する。硫黄化合物の組成によ
り流動体に対し親和性にしたり非親和性にしたりが可能
である。例えば版自体を流動体に非親和性を示す多孔質
材料で構成した場合、金層を設けてパターン非転写領域
１１に相当する領域の金をレーザ光等で蒸発させ除去す
る。その後硫黄化合物への浸漬により流動体に対し親和
性を示す硫黄化合物を自己集積化させればよい。硫黄化
合物の自己集積化膜が形成された領域がパターン転写領
域になり自己集合化膜がない領域がパターン非転写領域
となる。
形成する方法がある。この方法では、版の表面に金等の
金属層を設け、それを黄化合物を含む溶解液に浸漬して
自己集合化単分子膜を形成する。硫黄化合物の組成によ
り流動体に対し親和性にしたり非親和性にしたりが可能
である。例えば版自体を流動体に非親和性を示す多孔質
材料で構成した場合、金層を設けてパターン非転写領域
１１に相当する領域の金をレーザ光等で蒸発させ除去す
る。その後硫黄化合物への浸漬により流動体に対し親和
性を示す硫黄化合物を自己集積化させればよい。硫黄化
合物の自己集積化膜が形成された領域がパターン転写領
域になり自己集合化膜がない領域がパターン非転写領域
となる。
【００５７】またパラフィン等の有機物質を選択的に版
に付着させることで同様の平版を製造できる。この方法
では流動体に対し親和性を示す多孔質材料で基版を製造
する。次いで基版にパラフィンを塗布しパラフィンを転
写領域に合わせてマスクする。そしてレーザ光のエネル
ギーでパラフィンを蒸発させる。パラフィンが除去され
た領域がパターン転写領域、パラフィンが残された領域
がパターン非転写領域となる。
に付着させることで同様の平版を製造できる。この方法
では流動体に対し親和性を示す多孔質材料で基版を製造
する。次いで基版にパラフィンを塗布しパラフィンを転
写領域に合わせてマスクする。そしてレーザ光のエネル
ギーでパラフィンを蒸発させる。パラフィンが除去され
た領域がパターン転写領域、パラフィンが残された領域
がパターン非転写領域となる。
【００５８】また選択的プラズマ処理によっても同様の
平版を製造できる。プラズマを照射した領域は版表面に
多量の未反応基と架橋層が発生する。これを待機または
酸素雰囲気にさらすと未反応基が酸化され、カルボニル
基、水酸基が形成される。これらの基は極性を備えてい
るため親水性がある。一方ガラスやプラスチックの多く
は非親水性を備える。したがって部分的なプラズマ処理
によって親水性の領域および非親水性の領域を生成可能
である。流動体は水に対し親和性（親水性）を示すか否
かに分類されるので、上記方法によっても本発明の平版
が製造可能である。さらに電荷を版表面に与える方法に
よっても流動体に対し親和性を示す領域と非親和性を示
す領域とが混在した平版を製造可能である。
平版を製造できる。プラズマを照射した領域は版表面に
多量の未反応基と架橋層が発生する。これを待機または
酸素雰囲気にさらすと未反応基が酸化され、カルボニル
基、水酸基が形成される。これらの基は極性を備えてい
るため親水性がある。一方ガラスやプラスチックの多く
は非親水性を備える。したがって部分的なプラズマ処理
によって親水性の領域および非親水性の領域を生成可能
である。流動体は水に対し親和性（親水性）を示すか否
かに分類されるので、上記方法によっても本発明の平版
が製造可能である。さらに電荷を版表面に与える方法に
よっても流動体に対し親和性を示す領域と非親和性を示
す領域とが混在した平版を製造可能である。
【００５９】さらに親和性（非親和性）を示す版に非親
和性（親和性）を示す膜を形成していくことでも実現で
きる。これは各種印刷法によって実現できる。
和性（親和性）を示す膜を形成していくことでも実現で
きる。これは各種印刷法によって実現できる。
【００６０】
【発明の効果】本発明によれば、貫通穴が設けられた版
を用いてパターンを形成する工程を備えたパターン形成
方法を提供したので、大きな設備を用いることなく安価
にパターン形成が可能である。特にパターン転写領域に
貫通穴から直接流動体を供給可能なので、版の大きさに
限定されずに流動体を供給できる。さらに版はマスター
として何回でも使用可能であるため償却費が少なく、パ
ターンの製造コストを下げることができる。本発明によ
れば、貫通穴が設けられた版を用いてパターンを形成可
能な構成を備えたパターン形成装置を提供したので、大
きな設備を用いることなく安価にパターン形成が可能で
ある。特にパターン転写領域に貫通穴から直接流動体を
供給可能なので、版の大きさに限定されずに流動体を供
給できる。本発明によれば、貫通穴が設けられたパター
ン形成用版を提供したので、大きな設備を用いることな
く安価にパターン形成が可能である。特にパターン転写
領域に貫通穴から直接流動体を供給可能なので、版の大
きさに限定されずに流動体を供給できる。本発明によれ
ば、貫通穴を版に設けた版の製造方法を提供したので、
大きな設備を用いることなく安価にパターン形成が可能
である。特にパターン転写領域に貫通穴から直接流動体
を供給可能なので、版の大きさに限定されずに流動体を
供給できる。以上の本発明によれば、例えば流動体とし
てカーボン粉末が分散されたコロイド状溶液を用いれ
ば、溶液の溶媒成分を蒸発させることで基板上にカラー
フィルタ用ブラックマトリクスを形成することができ
る。流動体として透明電極材料を溶解した溶液を用いれ
ば、パターン形成後に熱処理することで透明電極膜を形
成することが可能である。流動体として金属微粒子を分
散させたコロイド状溶液を用いれば、パターン形成後に
熱処理することで導電性のあるパターン金属膜を形成可
能である。
を用いてパターンを形成する工程を備えたパターン形成
方法を提供したので、大きな設備を用いることなく安価
にパターン形成が可能である。特にパターン転写領域に
貫通穴から直接流動体を供給可能なので、版の大きさに
限定されずに流動体を供給できる。さらに版はマスター
として何回でも使用可能であるため償却費が少なく、パ
ターンの製造コストを下げることができる。本発明によ
れば、貫通穴が設けられた版を用いてパターンを形成可
能な構成を備えたパターン形成装置を提供したので、大
きな設備を用いることなく安価にパターン形成が可能で
ある。特にパターン転写領域に貫通穴から直接流動体を
供給可能なので、版の大きさに限定されずに流動体を供
給できる。本発明によれば、貫通穴が設けられたパター
ン形成用版を提供したので、大きな設備を用いることな
く安価にパターン形成が可能である。特にパターン転写
領域に貫通穴から直接流動体を供給可能なので、版の大
きさに限定されずに流動体を供給できる。本発明によれ
ば、貫通穴を版に設けた版の製造方法を提供したので、
大きな設備を用いることなく安価にパターン形成が可能
である。特にパターン転写領域に貫通穴から直接流動体
を供給可能なので、版の大きさに限定されずに流動体を
供給できる。以上の本発明によれば、例えば流動体とし
てカーボン粉末が分散されたコロイド状溶液を用いれ
ば、溶液の溶媒成分を蒸発させることで基板上にカラー
フィルタ用ブラックマトリクスを形成することができ
る。流動体として透明電極材料を溶解した溶液を用いれ
ば、パターン形成後に熱処理することで透明電極膜を形
成することが可能である。流動体として金属微粒子を分
散させたコロイド状溶液を用いれば、パターン形成後に
熱処理することで導電性のあるパターン金属膜を形成可
能である。
【図１】実施形態１の版の平面図である。
【図２】実施形態１の版の断面図である。
【図３】実施形態１のパターン形成装置の構成図であ
る。
る。
【図４】実施形態１の版と圧力室基板の断面図である。
【図５】実施形態１のパターン形成方法を説明する断面
図である。
図である。
【図６】実施形態１の版によって転写されたパターン形
状である。
状である。
【図７】実施形態１の版の製造方法を説明する製造工程
断面図である。
断面図である。
【図８】実施形態２の版の平面図である。
【図９】実施形態２の版の断面図である。
【図１０】実施形態２のパターン形成方法を説明する断
面図である。
面図である。
【図１１】実施形態３のパターン形成装置の構成図であ
る。
る。
【図１２】インクジェット式記録ヘッドの主要部一部断
面図である。
面図である。
【図１３】インクジェット式記録ヘッドの移送経路の説
明図である。
明図である。
【図１４】実施形態３のパターン形成方法により形成さ
れた基板パターン平面図である。
れた基板パターン平面図である。
１、１ｂ…パターン形成用版 ２…圧力室基板 ２ｂ…インクジェット式記録ヘッド ３…圧電体素子 ４、４ｂ…版移送機構 ５、５ｂ…制御装置 ６、６ｂ…流動体貯蔵機構 ７…ヘッド移送機構 １０．１０ｂ…パターン転写領域 １１、１１ｂ…パターン非転写領域 １２，１２ｂ…貫通穴 １００…基版 ２００、２００ｂ…パターン形成装置
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｆ 1/1343 Ｇ０２Ｆ 1/1343 Ｇ０３Ｆ 7/34 Ｇ０３Ｆ 7/34 Ｈ０１Ｌ 21/30 Ｈ０１Ｌ 21/30
Claims (16)
- 【請求項１】 版をパターン形成面に密着させて流動体
によるパターンを前記パターン形成面上に形成するパタ
ーン形成方法であって、 前記版を前記パターン形成面に密着させるステップと、 前記流動体を供給するために前記版のパターン転写領域
に複数設けられた貫通穴に前記流動体を供給するステッ
プと、 前記貫通穴を介して前記パターン形成面に前記流動体が
付着した後に当該版を前記パターン形成面から剥離する
ステップと、を備えたことを特徴とするパターン形成方
法。 - 【請求項２】 前記版には前記貫通穴がパターン形成領
域に沿って配置されているものであって、 前記流動体を供給するステップは、前記版に設けられて
いる総ての貫通穴に対し加圧により前記流動体を供給す
るものである請求項１に記載のパターン形成方法。 - 【請求項３】 前記版には前記貫通穴が略均一に配置さ
れているものであって、 前記流動体を供給するステップは、前記版に設けられて
いる貫通穴のうちパターン転写領域に位置している貫通
穴にインクジェット方式により選択的に前記流動体を供
給するものである請求項１に記載のパターン形成方法。 - 【請求項４】 前記版は一般大気に対して多孔質材料で
構成されるものである請求項１に記載のパターン形成方
法。 - 【請求項５】 版をパターン形成面に密着させて流動体
によるパターンを前記パターン形成面上に形成するため
のパターン形成装置であって、 前記版を前記パターン形成面に密着させる版移送機構
と、 前記流動体を貯蔵する流動体貯蔵機構と、 前記流動体貯蔵機構から前記版のパターン転写領域に複
数設けられた貫通穴に前記流動体を供給する流動体供給
機構と、 前記版移送機構による前記版の移送および前記流動体供
給機構による前記流動体の供給を制御する制御装置と、
を備え、 前記制御装置は、前記版移送機構により前記版を前記パ
ターン形成面に密着させ、前記流動体供給機構により前
記貫通穴を介して前記流動体を供給し、前記パターン形
成面に前記流動体が付着した後に当該版を前記パターン
形成面から剥離させることを特徴とするパターン形成装
置。 - 【請求項６】 前記版には前記貫通穴がパターン形成領
域に沿って配置されているものであって、 前記流動体供給機構は、前記版に設けられている総ての
貫通穴に前記流動体を供給する圧力室と当該圧力室の少
なくとも一の壁面を変形させて当該圧力室に体積変化を
及ぼすことが可能な圧電体素子とを備える請求項５に記
載のパターン形成装置。 - 【請求項７】 前記版には前記貫通穴が略均一に配置さ
れているものであって、 前記流動体供給機構は、前記流動体を吐出可能に構成さ
れたインクジェット式記録ヘッドと当該ヘッドを前記版
に設けられている任意の貫通穴に移送するヘッド移送機
構とを備え、 前記制御装置は、前記前記貫通穴のうちパターン転写領
域に位置している貫通穴に前記ヘッドを移送させ前記流
動体を供給させる請求項５に記載のパターン形成装置。 - 【請求項８】 前記版は一般大気に対して多孔質材料で
構成されるものである請求項５に記載のパターン形成装
置。 - 【請求項９】 流動体をパターン形成面に付着させてパ
ターンを形成するためのパターン形成用版であって、 前記版のパターン転写領域が凹版状に形成されており、
当該パターン転写領域に貫通穴が複数設けられているパ
ターン形成用版。 - 【請求項１０】 流動体をパターン形成面に付着させて
パターンを形成するためのパターン形成用版であって、 前記版のパターン転写領域が凸版状に形成されており、
当該パターン転写領域に貫通穴が複数設けられているパ
ターン形成用版。 - 【請求項１１】 流動体をパターン形成面に付着させて
パターンを形成するためのパターン形成用版であって、 前記版のパターン転写領域が前記流動体に対し親和性を
示すように形成され、パターンの非転写領域が前記流動
体に対し非親和性を示すように形成されており、前記パ
ターン転写領域に貫通穴が複数設けられているパターン
形成用版。 - 【請求項１２】 前記パターン転写領域が形成対象とな
るパターン形状に形成されている請求項９乃至請求項１
１のいずれか一項に記載のパターン形成用版。 - 【請求項１３】 前記パターン転写領域が略均一に配列
された定型パターンとして形成されている請求項９乃至
請求項１１のいずれか一項に記載のパターン形成用版。 - 【請求項１４】 前記版は多孔質材料で形成されている
請求項９乃至請求項１１のいずれか一項に記載のパター
ン形成用版。 - 【請求項１５】 前記版に形成された貫通穴の内壁は前
記流動体に対し非親和性を示すように形成されている請
求項９乃至請求項１１のいずれか一項に記載のパターン
形成用版。 - 【請求項１６】 流動体をパターン形成面に付着させて
パターンを形成するためのパターン形成用版の製造方法
であって、 基台にレジスト層を形成する工程と、 前記レジスト層のうちパターンに合わせて露光する工程
と、 露光された前記レジスト層を現像する工程と、 現像された前記レジスト層が設けられた基台をエッチン
グする工程と、 エッチングされた基台に多孔質材料を塗布する工程と、 塗布された前記多孔質材料を硬化させる工程と、 硬化した前記多孔質材料を前記基台から剥離する工程
と、 剥離された前記多孔質材料のパターン形成領域に複数の
貫通穴を形成して版を形成する工程と、を備えたことを
特徴とするパターン形成用版の製造方法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14489298A JP3780700B2 (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | パターン形成方法、パターン形成装置、パターン形成用版、パターン形成用版の製造方法、カラーフィルタの製造方法、導電膜の製造方法及び液晶パネルの製造方法 |
| US09/317,998 US6646662B1 (en) | 1998-05-26 | 1999-05-25 | Patterning method, patterning apparatus, patterning template, and method for manufacturing the patterning template |
| TW088108694A TW404890B (en) | 1998-05-26 | 1999-05-25 | Patterning method, patterning apparatus, patterning template, and method for manufacturing the patterning template |
| KR1019990019049A KR100586224B1 (ko) | 1998-05-26 | 1999-05-26 | 패턴 형성방법, 패턴 형성장치, 패턴 형성용 판, 및 패턴 형성용 판의 제조방법 |
| EP99304095A EP0962962B1 (en) | 1998-05-26 | 1999-05-26 | Patterning technique using a template, and a ink jet system |
| DE69935179T DE69935179T2 (de) | 1998-05-26 | 1999-05-26 | Strukturierungstechnik unter Verwendung eines Templates und Tintenstrahlsystems |
| CNB991075668A CN1161242C (zh) | 1998-05-26 | 1999-05-26 | 构图方法，构图装置，构图模板及构图模板制造方法 |
| US10/424,790 US7306742B2 (en) | 1998-05-26 | 2003-04-29 | Patterning method, patterning apparatus, patterning template, and method for manufacturing the patterning template |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14489298A JP3780700B2 (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | パターン形成方法、パターン形成装置、パターン形成用版、パターン形成用版の製造方法、カラーフィルタの製造方法、導電膜の製造方法及び液晶パネルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11334048A true JPH11334048A (ja) | 1999-12-07 |
| JP3780700B2 JP3780700B2 (ja) | 2006-05-31 |
Family
ID=15372782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14489298A Expired - Fee Related JP3780700B2 (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | パターン形成方法、パターン形成装置、パターン形成用版、パターン形成用版の製造方法、カラーフィルタの製造方法、導電膜の製造方法及び液晶パネルの製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6646662B1 (ja) |
| EP (1) | EP0962962B1 (ja) |
| JP (1) | JP3780700B2 (ja) |
| KR (1) | KR100586224B1 (ja) |
| CN (1) | CN1161242C (ja) |
| DE (1) | DE69935179T2 (ja) |
| TW (1) | TW404890B (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006053548A (ja) * | 2004-07-16 | 2006-02-23 | Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd | カラーフィルターの製造方法、画素形成用インク、カラーフィルターおよびそれを使用した画像表示装置 |
| JP2006162538A (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-22 | Seiko Instruments Inc | 微量質量測定装置 |
| JP2010530641A (ja) * | 2007-06-18 | 2010-09-09 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | インプリント・リソグラフィのための溶媒支援層の形成 |
| JP2015057323A (ja) * | 2013-09-16 | 2015-03-26 | ゼロックス コーポレイションＸｅｒｏｘ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | インクを用いる可変データデジタル印刷システムのための親水性画像化部材の表面材料、および親水性画像化部材の表面材料を製造するための方法 |
| JP2015201562A (ja) * | 2014-04-09 | 2015-11-12 | 株式会社ディスコ | 保護膜形成方法 |
| WO2016031237A1 (ja) * | 2014-08-29 | 2016-03-03 | 株式会社ミノグループ | 微細凹凸パターン付き基板の製造方法及びそれにより得られる微細凹凸パターン付き基板 |
| CN111300370A (zh) * | 2020-03-12 | 2020-06-19 | 方园幸 | 一种牛角梳制作的划线装置 |
Families Citing this family (98)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7432634B2 (en) | 2000-10-27 | 2008-10-07 | Board Of Regents, University Of Texas System | Remote center compliant flexure device |
| SG142150A1 (en) * | 2000-07-16 | 2008-05-28 | Univ Texas | High-resolution overlay alignment systems for imprint lithography |
| US6696220B2 (en) * | 2000-10-12 | 2004-02-24 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Template for room temperature, low pressure micro-and nano-imprint lithography |
| WO2002006902A2 (en) | 2000-07-17 | 2002-01-24 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Method and system of automatic fluid dispensing for imprint lithography processes |
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