JPH11321098A

JPH11321098A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH11321098A
Application number: JP10136736A
Authority: JP
Inventors: Tsutayoshi Misawa; 伝美三沢; Taizo Nishimoto; 泰三西本; Takashi Tsukahara; 宇塚原; Akira Ogiso; 章小木曽; Hirosuke Takuma; 啓輔詫摩; Kenji Mizogami; 健二溝上
Original assignee: Yamamoto Chemicals Inc; Mitsui Chemicals Inc
Current assignee: Yamamoto Chemicals Inc; Mitsui Chemicals Inc
Priority date: 1998-05-19
Filing date: 1998-05-19
Publication date: 1999-11-24
Anticipated expiration: 2018-05-19
Also published as: JP3742507B2

Abstract

(57)【要約】【課題】波長５２０〜６９０ｎｍのレーザーで良好な
高密度記録再生が可能な追記型光記録媒体及びこれに使
用されるジピロメテン金属キレート化合物を提供する。【解決手段】ジピロメテン金属キレート化合物、特に
下記一般式（１）で示されるジピロメテン金属キレート
化合物を少なくとも２種以上記録層に含有してなる光記
録媒体。【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ジピロメテン金属
キレート化合物を用いた、従来に比較して高密度に記録
および再生可能な光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、ＣＤと比較して大容量な光記録媒
体として、容量４．７ＧＢであるＤＶＤが開発され、商
品化されている。ＤＶＤは再生専用媒体であるので、こ
の容量に見合った記録再生可能な光記録媒体が望まれて
いる。その中でも、追記型のものはＤＶＤ−Ｒと呼ぶ。

【０００３】ＤＶＤでは高密度記録を行うためにレーザ
ー光の発振波長が６３０ｎｍ〜６８０ｎｍ近傍とＣＤの
場合より短波長化している。このような短波長用途の有
機色素系光記録媒体の色素としては、シアニン、アゾ、
ベンゾピラン、ベンゾジフラノン、インジゴ、ジオキサ
ジン、ポルフィリン系色素等が提案されており、特開平
４−７４６９０号公報、特開平５−３８８７８号公報、
特開平６−４０１６１号公報、特開平６−４０１６２号
公報、特開平６−１９９０４５号公報、特開平６−３３
６０８６号公報、特開平７−７６１６９号公報、特開平
７−１２５４４１号公報、特開平７−２６２６０４号公
報、特開平９−１５６２１８号公報、特開平９−１９３
５４４号公報、特開平９−１９３５４５号公報、特開平
９−１９３５４７号公報、特開平９−１９４７４８号公
報、特開平９−２０２０５２号公報、特開平９−２６７
５６２号公報、特開平９−２７４７３２号公報等がある
が、耐久性の問題や、特に短波長用途に固有の問題、例
えば、絞られたレーザー光で小さいピットを開けるべき
ところが、周りへの影響が大きく、分布の大きいピット
形成に起因するジッターの悪化、半径方向へのクロスト
ークの悪化や、ピットが極端に小さくなることに起因す
る変調度の悪化、あるいは、目的とするレーザー波長に
おいて、不適切な光学定数（屈折率、消衰係数）を有す
る有機色素を記録層に選択することに起因する反射率の
低下や感度の悪化等についてはなんら解決されていない
のが現状である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、波長
５２０〜６９０ｎｍの短波長レーザーでの記録および再
生が可能でかつ、耐久性に優れた高密度記録に適した光
記録媒体を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、有機色素
としてジピロメテン金属キレート化合物を用いた記録お
よび再生が可能な高密度記録に適した光記録媒体の提案
を行っている（特願平９−２００５９６号）。本発明者
らは、前記ジピロメテン金属キレート化合物を用いた光
記録媒体について更に鋭意検討を進めた結果、同化合物
を２種類以上記録層に用いることで、有機色素系の欠点
である光学特性の波長依存性に起因する反射率の低下や
感度の悪化の改善、更にはジッター特性や耐久性に優れ
た光記録媒体が得られることを見出し、本発明を完成す
るに至った。即ち、本発明は、基板上に少なくとも記録層および反射層を有する光記
録媒体において、記録層中に、ジピロメテン金属キレー
ト化合物を少なくとも２種以上含有する光記録媒体、ジピロメテン金属キレート化合物が、下記一般式
（１）から選ばれたものである記載の光記録媒体、

【０００６】

【化３】〔式中、Ｒ₁〜Ｒ₇は、各々独立に、水素原子、ハロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、
カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数２０以下の置換
または未置換のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチ
オ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、アシルアミノ基、アラルキル基、アリール基又はヘ
テロアリール基を表す。ここで、Ｒ₅とＲ₆は結合して芳
香環を形成しても良く、置換基を有しても良い。Ｍは遷
移元素を表す。〕

【０００７】ジピロメテン金属キレート化合物の少な
くとも１種が、下記一般式（２）から選ばれたものであ
る又はに記載の光記録媒体、

【０００８】

【化４】〔式中、Ｒ₉〜Ｒ₁₅は、各々独立に、水素原子、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ
基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数２０以下の
置換または未置換のアルキル基、アルコキシ基、アルキ
ルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケ
ニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモ
イル基、アシルアミノ基、アラルキル基を表し、Ｒ₈及
びＲ₁₆は、各々独立に、炭素数２０以下の置換または未
置換のアルケニル基又はアリール基を表し、Ｍは銅又は
コバルトを表す。〕

【０００９】レーザー波長において、記録層の屈折率
が１．８以上であり、消衰係数が０．０４〜０．４０で
ある〜のいずれかに記載の光記録媒体、波長５２０〜６９０ｎｍの範囲から選択されるレーザ
ー光に対して、記録および再生が可能である〜のい
ずれかに記載の光記録媒体、に関するものである。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。

【００１１】一般式（１）及び（２）で示されるジピロ
メテン金属キレート化合物において、Ｒ₁〜Ｒ₁₆の具体
例としては、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シア
ノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、スル
ホン酸基、炭素数２０以下の未置換のアルキル基、アル
コキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリー
ルチオ基、アルケニル基、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、アシルアミノ基、アラルキル
基、アリール基又はヘテロアリール基等が挙げられる。
また、これらの置換基は、さらに置換されても良く、か
かる置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アル
キルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アラ
ルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、エステル基、アシル基、ジア
ルキルアミノ基等が挙げられる。

【００１２】Ｍの具体例としては、ジピロメテン化合物
とキレートを形成する能力を有する遷移元素であれば特
に制限されないが、８、９、１０族（VIII族）、１１族
（Ib族）、１２族（IIb族）、３族（IIIa族）、４族（I
Va族）、５族（Va族）、６族（VIa族）、７族（VIIa
族）の金属が挙げられ、好ましくは、ニッケル、コバル
ト、鉄、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銅、オス
ミウム、イリジウム、白金、亜鉛等であり、耐光性の点
から特に銅、コバルトが好ましい。

【００１３】本発明の一般式（１）で示されるジピロメ
テン金属キレート化合物は、限定されないが、例えば、
Aust. J. Chem, 1965, 11, 1835-45、Heteroatom Chemi
stry, Vol .1, 5, 389 (1990)、USP-4,774,339、USP-5,
433,896等に記載の方法に準じて製造される。代表的に
は、以下の２段階反応にて製造することができる。

【００１４】まず、第１段階では一般式（３）で示され
る化合物と一般式（４）で示される化合物、又は一般式
（５）で示される化合物と一般式（６）で示される化合
物とを臭化水素酸や塩化水素酸等の酸触媒の存在下、適
当な溶媒中で反応して、一般式（７）で示されるジピロ
メテン化合物を得る。次いで第２段階では一般式（７）
で示されるジピロメテン化合物とニッケル、コバルト、
鉄、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銅、オスミウ
ム、イリジウム、白金、亜鉛等金属の酢酸塩やハロゲン
化物とを反応させて、一般式（１）で示されるジピロメ
テン金属キレート化合物を得る。

【００１５】

【化５】

【００１６】

【化６】

【００１７】

【化７】

【００１８】

【化８】

【００１９】

【化９】〔式（３）〜（７）において、Ｒ₁〜Ｒ₇は前記と同じ意
味を表す。〕

【００２０】本発明の一般式（１）で示されるジピロメ
テン金属キレート化合物の好ましい。具体例としては、
表−１に示す置換基を有する化合物が挙げられる。

【００２１】

【表１】

【００２２】

【表２】

【００２３】

【表３】

【００２４】

【表４】

【００２５】

【表５】

【００２６】

【表６】

【００２７】

【表７】

【００２８】

【表８】

【００２９】

【表９】

【００３０】本発明の具体的構成について以下に説明す
る。本発明の光記録媒体は図１に示すような貼り合わせ
構造を有している。すなわち、基板１上に記録層２が形
成されており、その上に密着して反射層３が設けられて
おり、さらにその上に接着層４を介して基板５が貼り合
わされている。ただし、記録層２の下または上に別の層
があっても良く、反射層３の上に別の層があっても良
い。

【００３１】基板の材質としては、基本的には記録光お
よび再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカ
ーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メ
チル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹
脂等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。
これらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に
成形される。必要に応じて、基板表面に案内溝やピット
を形成することもある。このような案内溝やピットは、
基板の成形時に付与することが望ましいが、基板の上に
紫外線硬化樹脂層を用いて付与することもできる。通常
ＤＶＤとして用いる場合は、厚さ１．２ｍｍ程度、直径
８０ないし１２０ｍｍ程度の円盤状であり、中央に直径
１５ｍｍ程度の穴が開いている。

【００３２】本発明においては、基板上に記録層を設け
るが、本発明の記録層は、ジピロメテン金属キレート化
合物を少なくとも２種以上含有する。好ましくはジピロ
メテン金属キレート化合物は一般式（１）で示される化
合物から選択されるものであり、より好ましくは、一般
式（２）で表される化合物を少なくと１種含むことが望
ましい。中でも、５２０ｎｍ〜６９０ｎｍより選択され
る記録および再生レーザー波長に対して適度な光学定数
（光学定数は複素屈折率（ｎ＋ｋｉ）で表現される。式
中のｎ、ｋは、実数部ｎと虚数部ｋとに相当する係数で
ある。ここでは、ｎを屈折率、ｋを消衰係数とする。）
を有する必要がある。

【００３３】一般に有機色素は、波長λに対し、屈折率
ｎと消衰係数ｋが大きく変化する特徴がある。ｎが１．
８より小さい値になると正確な信号読み取りに必要な反
射率と信号変調度は得られず、ｋが０．４０を越えても
反射率が低下して良好な再生信号が得られないだけでな
く、再生光により信号が変化しやすく実用に適さない。
この特徴を考慮して、目的とするレーザー波長において
好ましい光学定数を有する有機色素を選択し記録層を成
膜することで、高い反射率を有し、かつ、感度の良い媒
体とすることができる。

【００３４】本発明で使用する一般式（１）で表される
ジピロメテン金属キレート化合物は、いずれも上記の好
ましい光学定数を有するものであり、更に、記録層に２
種以上使用することで、所望の光学定数の選択を容易に
するものである。

【００３５】これらのジピロメテン金属キレート化合物
は、その実用性から相互の最大吸収波長の差が１００ｎ
ｍ以内であることが好ましく、更に好ましくは６０ｎｍ
以内である。また、これらのジピロメテン金属キレート
化合物の混合割合については特に制限はされないが、前
記の理由で、光学定数ｎが１．８以上、好ましくは２．
０以上で、且つ、ｋが０．０４〜０．４０、好ましくは
０．０４〜０．２０になるように混合するのが好まし
い。

【００３６】本発明の光記録媒体を５２０ｎｍ〜６９０
ｎｍから選択されるレーザー光で再生することは、基本
的には、反射率が２０％あれば一応可能であるが、３０
％以上の反射率が好ましい。

【００３７】記録層を成膜する際に、必要に応じて前記
の色素に、クエンチャー、色素分解促進剤、紫外線吸収
剤、接着剤などを混合するか、あるいは、そのような効
果を有する化合物を前記色素の置換基として導入するこ
とも可能である。

【００３８】クエンチャーの具体例としては、アセチル
アセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフ
ェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテ
コール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフ
ェノレート系などの金属錯体が好ましい。また、アミン
も好適である。

【００３９】熱分解促進剤としては、例えば、金属系ア
ンチノッキング剤、メタロセン化合物、アセチルアセト
ナート系金属錯体などの金属化合物が挙げられる。

【００４０】さらに、必要に応じて、バインダー、レベ
リング剤、消泡剤などを併用することもできる。好まし
いバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、
ケトン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウレタ
ン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポ
リオレフィンなどが挙げられる。

【００４１】記録層を基板の上に成膜する際に、基板の
耐溶剤性や反射率、記録感度などを向上させるために、
基板の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良
い。

【００４２】ここで、記録層における一般式（１）で示
されるジピロメテン金属キレート化合物の含有量は、３
０％以上、好ましくは６０％以上である。尚、実質的に
１００％であることも好ましい。

【００４３】記録層を設ける方法は、例えば、スピンコ
ート法、スプレー法、キャスト法、浸漬法などの塗布
法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法などが挙げら
れるが、スピンコート法が簡便で好ましい。

【００４４】スピンコート法などの塗布法を用いる場合
には、一般式（１）で示されるジピロメテン金属キレー
ト化合物を１〜４０重量％、好ましくは３〜３０重量％
となるように溶媒に溶解あるいは分散させた塗布液を用
いるが、この際、溶媒は基板にダメージを与えないもの
を選ぶことが好ましい。例えば、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、オクタフルオロペンタノ
ール、アリルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、テトラフルオロプロパノールなどのアルコー
ル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シ
クロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘ
キサン、ジメチルシクロヘキサンなどの脂肪族または脂
環式炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼンな
どの芳香族炭化水素系溶媒、四塩化炭素、クロロホル
ム、テトラクロロエタン、ジブロモエタンなどのハロゲ
ン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンなどのエー
テル系溶媒、アセトン、３−ヒドロキシ−３−メチル−
２−ブタノンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、乳酸メ
チルなどのエステル系溶媒、水などが挙げられる。これ
らは単独で用いても良く、あるいは、複数混合しても良
い。

【００４５】なお、必要に応じて、記録層の色素を高分
子薄膜などに分散して用いたりすることもできる。

【００４６】また、基板にダメージを与えない溶媒を選
択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着
法などが有効である。

【００４７】色素層の膜厚は、特に限定するものではな
いが、好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍである。色素層
の膜厚を５０ｎｍより薄くすると、熱拡散が大きいため
記録できないか、記録信号に歪が発生する上、信号振幅
が小さくなる。また、膜厚が３００ｎｍより厚い場合は
反射率が低下し、再生信号特性が悪化する。

【００４８】次に記録層の上に、好ましくは５０ｎｍ〜
３００ｎｍの厚さの反射層を形成する。反射層の材料と
しては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例え
ば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐ
ｔ、Ｔａ、ＣｒおよびＰｄの金属を単独あるいは合金に
して用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、
Ａｇは反射率が高く反射層の材料として適している。こ
れ以外でも下記のものを含んでいても良い。例えば、Ｍ
ｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆ
ｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓ
ｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属お
よび半金属を挙げることができる。また、Ａｕを主成分
とするものは反射率の高い反射層が容易に得られるため
好適である。ここで主成分というのは含有率が５０％以
上のものをいう。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈
折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層と
して用いることも可能である。

【００４９】反射層を形成する方法としては、例えば、
スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真
空蒸着法などが挙げられる。また、基板の上や反射層の
下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上など
のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を
設けることもできる。

【００５０】さらに、反射層上に形成される保護層の材
料としては反射層を外力から保護するものであれば特に
限定しない。有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などを挙
げることができる。また、無機物質としては、Ｓｉ
Ｏ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂などが挙げられる。
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶媒に溶解し
て塗布液を塗布し、乾燥することによって形成すること
ができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当
な溶媒に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗
布し、紫外線を照射して硬化させることによって形成す
ることができる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、
ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエ
ステルアクリレートなどのアクリレート樹脂を用いるこ
とができる。これらの材料は単独であるいは混合して用
いても良く、１層だけでなく多層膜にして用いても良
い。

【００５１】保護層の形成の方法としては、記録層と同
様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッ
タ法や化学蒸着法などの方法が用いられるが、この中で
もスピンコート法が好ましい。

【００５２】保護層の膜厚は、一般には０．１μｍ〜１
００μｍの範囲であるが、本発明においては、３μｍ〜
３０μｍであり、より好ましくは５μｍ〜２０μｍであ
る。保護層の上にさらにレーベルなどの印刷を行うこと
もできる。

【００５３】また、反射層面に保護シートまたは基板を
貼り合わせる、あるいは反射層面相互を内側とし対向さ
せ、光記録媒体２枚を貼り合わせるなどの手段を用いて
も良い。

【００５４】また、基板鏡面側に、表面保護やごみ等の
付着防止のために紫外線硬化性樹脂、無機系薄膜等を成
膜しても良い。

【００５５】本発明でいう波長５２０ｎｍ〜６９０ｎｍ
のレーザーは、特に制限はないが、例えば、可視光領域
の広範囲で波長選択のできる色素レーザーや波長６３３
ｎｍのヘリウムネオンレーザー、最近開発されている波
長６８０、６５０、６３５ｎｍ付近の高出力半導体レー
ザー、波長５３２ｎｍの高調波変換ＹＡＧレーザーなど
が挙げられる。本発明では、これらから選択される１波
長または複数波長において高密度記録および再生が可能
となる。

【００５６】

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れによりなんら限定されるものではない。

【００５７】〔実施例１〕ジピロメテン金属キレート化
合物（１−５５）０．１４ｇと化合物（１−６８）０．
０６ｇをジメチルシクロヘキサン１０ｍｌに溶解し、色
素溶液を調製した。基板は、ポリカーボネート樹脂製で
連続した案内溝（トラックピッチ：０．８μｍ）を有す
る直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの円盤状のものを用
いた。

【００５８】この基板上に色素溶液を回転数１５００ｒ
ｐｍでスピンコートし、７０℃で３時間乾燥して記録層
を形成した。この記録層の光学定数は、６３５ｎｍでは
ｎが２．２、ｋが０．０８であった。

【００５９】この記録層の上にバルザース社製スパッタ
装置（ＣＤＩ−９００）を用いてＡｕをスパッタし、厚
さ１００ｎｍの反射層を形成した。スパッタガスには、
アルゴンガスを用いた。スパッタ条件は、スパッタパワ
ー２．５ｋＷ、スパッタガス圧１．０×１０^-2Ｔｏｒｒ
で行った。

【００６０】さらに反射層上に紫外線硬化性接着剤ＳＤ
−３０１（大日本インキ化学工業製）をスピンコート
し、その上にポリカーボネート樹脂製で直径１２０ｍ
ｍ、厚さ０．６ｍｍの円盤状基板をのせた後、紫外線を
照射して貼り合わせた光記録媒体を作製した。

【００６１】得られた光記録媒体に、波長６３５ｎｍで
レンズの開口数が０．６の半導体レーザーヘッドを搭載
したパルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−
１０００）およびＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダー
を用いて、線速３．８ｍ／ｓ、レーザーパワー１０ｍＷ
で最短ピット長が０．４０μｍになるように記録した。
記録後、６５０ｎｍ赤色半導体レーザーヘッド（レンズ
の開口数は０．６）を搭載した評価装置を用いて信号を
再生し、反射率、ジッターおよび変調度を測定した結
果、６５０ｎｍ再生で反射率５２％、ジッター８．２
％、変調度０．６５といずれも良好な値を示した。ま
た、１００時間のカーボンアークでの耐光性試験、並び
に８０℃、８５％の耐湿熱試験後も変化は見られなかっ
た。また、０．７ｍＷの再生光で１００万回再生しても
ジッターの変化は１％以下であった。

【００６２】〔実施例２〕基板にポリカーボネート樹脂
製で連続した案内溝（トラックピッチ：０．７４μｍ）
を有する直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの円盤状のも
のを用いる以外は実施例１と同様にして光記録媒体を作
製した。

【００６３】得られた光記録媒体に、実施例１と同様に
パルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０
００）および、ＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを
用いて記録した。記録後、６５０ｎｍ赤色半導体レーザ
ーヘッドを搭載した評価装置を用いて信号を再生し、反
射率、ジッターおよび変調度を測定した結果、６５０ｎ
ｍ再生で反射率５１％、ジッター８．４％、変調度０．
６６といずれも良好な値を示した。また、１００時間の
カーボンアークでの耐光性試験、並びに８０℃、８５％
の耐湿熱試験後も変化は見られなかった。また、０．７
ｍＷの再生光で１００万回再生してもジッターの変化は
１％以下であった。

【００６４】〔実施例３〕ジピロメテン金属キレート化
合物（１−６８）０．１ｇと化合物（１−１０２）０．
１ｇをジメチルシクロヘキサン１０ｍｌに溶解し、色素
溶液を調製する以外は、実施例２と同様にして光記録媒
体を作製した。この光記録媒体の記録層の光学定数は、
６３５nｍではｎが２．３、ｋが０．１０であった。

【００６５】得られた光記録媒体に、実施例１と同様に
パルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０
００）および、ＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコーダーを
用いて記録した。記録後、６５０ｎｍ赤色半導体レーザ
ーヘッドを搭載した評価装置を用いて信号を再生し、反
射率、ジッターおよび変調度を測定した結果、６５０ｎ
ｍ再生で反射率４９％、ジッター７．８％、変調度０．
６４といずれも良好な値を示した。また、１００時間の
カーボンアークでの耐光性試験、並びに８０℃、８５％
の耐湿熱試験後も変化は見られなかった。また、０．７
ｍＷの再生光で１００万回再生してもジッターの変化は
１％以下であった。

【００６６】〔実施例４〜２０〕表−１に記載したジピ
ロメテン金属キレート化合物（１−１〜１−１３３）を
適宜、混合して用いる以外は実施例２と同様にして光記
録媒体を作製し、記録した。記録後、６５０ｎｍ赤色半
導体レーザーヘッドを搭載した評価装置を用いて信号を
再生し、反射率、ジッターおよび変調度を測定した結
果、いずれも良好な値を示した。また、１００時間のカ
ーボンアークでの耐光性試験、並びに８０℃、８５％の
耐湿熱試験後も変化は見られなかった。また、０．７ｍ
Ｗの再生光で１００万回再生してもジッターの変化は１
％以下であった。

【００６７】〔比較例１〕実施例１において、ジピロメ
テン金属キレート化合物（１−４１）０．２ｇをジメチ
ルシクロヘキサン１０ｍｌに溶解してスピンコートする
以外は同様にして光記録媒体を作製した。作製した媒体
に実施例１と同様に６３５ｎｍ半導体レーザーヘッドを
搭載したパルステック工業製光ディスク評価装置（ＤＤ
Ｕ−１０００）および、ＫＥＮＷＯＯＤ製ＥＦＭエンコ
ーダーを用いて、線速度３．８ｍ／ｓ、レーザーパワー
１０ｍＷで記録した。記録後、６５０ｎｍ赤色半導体レ
ーザーヘッドを搭載した評価装置を用いて信号を再生
し、反射率、ジッターおよび変調度を測定した結果、６
５０ｎｍ再生で反射率６１％、ジッター２０％以上、変
調度０．６４とジッター特性が劣っていた。

【００６８】〔比較例２〕実施例１において、ペンタメ
チンシアニン色素ＮＫ−２９２９「1,3,3,1',3',3'-ヘ
キサメチル-2',2'-(4,5,4',5'-ジベンゾ)インドジカル
ボシアニンパークロレート、日本感光色素研究所製」１
ｇをテトラフルオロプロパノール１０ｍｌに溶解してス
ピンコートする以外は同様にして光記録媒体を作製し
た。作製した媒体に実施例１と同様に６３５ｎｍ半導体
レーザーヘッドを搭載したパルステック工業製光ディス
ク評価装置（ＤＤＵ−１０００）および、ＫＥＮＷＯＯ
Ｄ製ＥＦＭエンコーダーを用いて、線速度３．８ｍ／
ｓ、レーザーパワー１０ｍＷで記録した。記録後、６５
０ｎｍ赤色半導体レーザーヘッドを搭載した評価装置を
用いて信号を再生し、反射率、ジッターおよび変調度を
測定した結果、６５０ｎｍ再生で反射率９％、ジッター
２０％以上、変調度０．１３と劣っていた。また、１０
０時間のカーボンアークでの耐光性試験後、信号は劣化
し、再生ができなかった。

【００６９】以上の実施例１〜２０及び比較例１〜２に
おいて、記録層の光学定数及び各光記録媒体を６３５ｎ
ｍで記録して、６５０ｎｍで再生したときの反射率、ジ
ッター、変調度を表−２にまとめて示す。尚、表−２
中、混合比はジメチルシクロヘキサンに対して２０ｇ／
ｌの濃度となるジピロメテン金属化合物の重量比を表
す。また、各化合物の最大吸収波長（λmax）はそれぞ
れの化合物を単独で成膜した状態で測定したものであ
る。

【００７０】

【表１０】

【００７１】

【表１１】

【００７２】

【表１２】

【００７３】

【表１３】

【００７４】

【発明の効果】本発明のジピロメテン金属キレート化合
物を少なくとも２種以上記録層として用いることによ
り、高密度光記録媒体として非常に注目されている波長
５２０〜６９０ｎｍのレーザーで記録再生が可能で耐久
性に優れた追記形光記録媒体を提供することが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光記録媒体の層構成の一例を示す
断面構造図である。

【符号の説明】

１基板２記録層３反射層４接着層５基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者塚原宇神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地三井化学株式会社内 (72)発明者小木曽章神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地三井化学株式会社内 (72)発明者詫摩啓輔神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地三井化学株式会社内 (72)発明者溝上健二神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地三井化学株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に少なくとも記録層および反射層
を有する光記録媒体において、記録層中に、ジピロメテ
ン金属キレート化合物を少なくとも２種以上含有する光
記録媒体。
【請求項２】ジピロメテン金属キレート化合物が、下
記一般式（１）から選ばれたものである請求項１記載の
光記録媒体。【化１】〔式中、Ｒ₁〜Ｒ₇は、各々独立に、水素原子、ハロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、
カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数２０以下の置換
または未置換のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチ
オ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、アシルアミノ基、アラルキル基、アリール基又はヘ
テロアリール基を表す。ここで、Ｒ₅とＲ₆は結合して芳
香環を形成しても良く、置換基を有しても良い。Ｍは遷
移元素を表す。〕
【請求項３】ジピロメテン金属キレート化合物の少な
くとも１種が、下記一般式（２）から選ばれたものであ
る請求項１又は２に記載の光記録媒体。【化２】〔式中、Ｒ₉〜Ｒ₁₅は、各々独立に、水素原子、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ
基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数２０以下の
置換または未置換のアルキル基、アルコキシ基、アルキ
ルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルケ
ニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモ
イル基、アシルアミノ基、アラルキル基を表し、Ｒ₈及
びＲ₁₆は、各々独立に、炭素数２０以下の置換または未
置換のアルケニル基又はアリール基を表し、Ｍは銅又は
コバルトを表す。〕
【請求項４】レーザー波長において、記録層の屈折率
が１．８以上であり、消衰係数が０．０４〜０．４０で
ある請求項１〜３のいずれか１項記載の光記録媒体。
【請求項５】波長５２０〜６９０ｎｍの範囲から選択
されるレーザー光に対して、記録および再生が可能であ
る請求項１〜３のいずれか１項記載の光記録媒体。