JPH05262041A - 光記録媒体 - Google Patents
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- JPH05262041A JPH05262041A JP4058550A JP5855092A JPH05262041A JP H05262041 A JPH05262041 A JP H05262041A JP 4058550 A JP4058550 A JP 4058550A JP 5855092 A JP5855092 A JP 5855092A JP H05262041 A JPH05262041 A JP H05262041A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 32
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 10
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical group [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 abstract description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 abstract description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 abstract description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)F NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】記録感度が優れ、高い反射率を示し、再生光波
長に対して、反射率の波長依存性が少ない光記録媒体を
提供する。 【構成】基板上に順に有機色素からなる記録層及び反射
層を含む構造の光記録媒体において、記録層の有機色素
として下記化１〔一般式（Ｉ）〕で表される色素と下記
化２〔一般式（II）〕で表される色素を混合してなるも
のである光記録媒体。 【化１】 〔ただし、一般式（Ｉ）中、Ｘ-は対アニオンを示
す〕。 【化２】 〔ただし、一般式（II）中、Ｘ-は対アニオンを示
す〕。
長に対して、反射率の波長依存性が少ない光記録媒体を
提供する。 【構成】基板上に順に有機色素からなる記録層及び反射
層を含む構造の光記録媒体において、記録層の有機色素
として下記化１〔一般式（Ｉ）〕で表される色素と下記
化２〔一般式（II）〕で表される色素を混合してなるも
のである光記録媒体。 【化１】 〔ただし、一般式（Ｉ）中、Ｘ-は対アニオンを示
す〕。 【化２】 〔ただし、一般式（II）中、Ｘ-は対アニオンを示
す〕。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は追記型光記録媒体に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】光情報記録媒体は、コンパクトディスク
（ＣＤ）に代表される再生専用形ディスクが広く普及
し、これに続いて将来大きな需要が期待される追記形光
ディスク、および書換え形光ディスクの研究が盛んに行
われている。この中でシアニン色素、フタロシアニン色
素、ナフタロシアニン色素等の有機色素を用いた追記形
光ディスクはテルル等の無機系材料を用いた光ディスク
に比べ、回転塗布による製膜が可能であることから、低
コスト化が期待できるために新たに注目されている。近
年では、さらに再生専用形光ディスク、すなわちコンパ
クトディスク（ＣＤ）と互換性があり、かつ一回の記録
が可能な追記形光ディスク（ＣＤ−ＷＯ）が提案され、
コンパクトディスクの規格に準拠する追記形光ディスク
の研究開発が一層盛んに行われている。特に、再生レー
ザー光に対してディスク未記録部の反射率を高くするた
めに種々のディスク構造が検討されている。
（ＣＤ）に代表される再生専用形ディスクが広く普及
し、これに続いて将来大きな需要が期待される追記形光
ディスク、および書換え形光ディスクの研究が盛んに行
われている。この中でシアニン色素、フタロシアニン色
素、ナフタロシアニン色素等の有機色素を用いた追記形
光ディスクはテルル等の無機系材料を用いた光ディスク
に比べ、回転塗布による製膜が可能であることから、低
コスト化が期待できるために新たに注目されている。近
年では、さらに再生専用形光ディスク、すなわちコンパ
クトディスク（ＣＤ）と互換性があり、かつ一回の記録
が可能な追記形光ディスク（ＣＤ−ＷＯ）が提案され、
コンパクトディスクの規格に準拠する追記形光ディスク
の研究開発が一層盛んに行われている。特に、再生レー
ザー光に対してディスク未記録部の反射率を高くするた
めに種々のディスク構造が検討されている。
【０００３】例えば、反射率を高めるために、基板の上
に特定の光学定数を有する色素記録層、さらに金、銀、
銅、アルミニウム等の金属反射層を所定の膜厚に積層し
てなる構造が提案されている。この構造によれば、記録
再生レ−ザ−光に対する反射率を高くするがことが可能
である。そこで、従来、このために記録層色素として入
手しやすいシアニン色素が種々提案されている。しか
し、従来提案されているシアニン色素は、記録再生波長
を中心として波長のわずかな変化に対して反射率が急激
に変化する、すなわち、反射率の波長依存性が大きい。
記録再生用に用いられている半導体レ−ザは温度等の外
的要因により、その発振波長が１０ｎｍ程度変動すると
言われている。そのためレーザ発振波長の変動により、
ディスクの反射率、吸収率、ひいては記録感度が変化し
てしまう問題が指摘されている。
に特定の光学定数を有する色素記録層、さらに金、銀、
銅、アルミニウム等の金属反射層を所定の膜厚に積層し
てなる構造が提案されている。この構造によれば、記録
再生レ−ザ−光に対する反射率を高くするがことが可能
である。そこで、従来、このために記録層色素として入
手しやすいシアニン色素が種々提案されている。しか
し、従来提案されているシアニン色素は、記録再生波長
を中心として波長のわずかな変化に対して反射率が急激
に変化する、すなわち、反射率の波長依存性が大きい。
記録再生用に用いられている半導体レ−ザは温度等の外
的要因により、その発振波長が１０ｎｍ程度変動すると
言われている。そのためレーザ発振波長の変動により、
ディスクの反射率、吸収率、ひいては記録感度が変化し
てしまう問題が指摘されている。
【０００４】波長依存性を軽減し、記録感度するため
に、特定の異なる光学定数を有するシアニン色素を混合
して用いることが、特開平２−１７９７９０号公報に開
示されている。しかし、ここに具体的に開示されている
混合色素では、レーザ発振波長の±１０ｎｍで反射率の
変動率が５％であり、記録感度もレーザパワー１０．５
ｎＷであって８ｍＷでは、記録特性が劣る。
に、特定の異なる光学定数を有するシアニン色素を混合
して用いることが、特開平２−１７９７９０号公報に開
示されている。しかし、ここに具体的に開示されている
混合色素では、レーザ発振波長の±１０ｎｍで反射率の
変動率が５％であり、記録感度もレーザパワー１０．５
ｎＷであって８ｍＷでは、記録特性が劣る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記問題に
鑑み、記録層材料として特定の色素の新規な組合せによ
る混合物を使用し、反射率が高く、しかも反射率の波長
依存性が大きく軽減され、さらに記録感度も改善された
光記録媒体を提供するものである。
鑑み、記録層材料として特定の色素の新規な組合せによ
る混合物を使用し、反射率が高く、しかも反射率の波長
依存性が大きく軽減され、さらに記録感度も改善された
光記録媒体を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明における光記録媒
体は、基板上に順に有機色素からなる記録層及び反射層
を含む構造の光記録媒体において、記録層の有機色素と
して化３〔一般式（Ｉ）〕
体は、基板上に順に有機色素からなる記録層及び反射層
を含む構造の光記録媒体において、記録層の有機色素と
して化３〔一般式（Ｉ）〕
【化３】 〔ただし、一般式（Ｉ）中、Ｘ-は対アニオンを示す〕
で表される色素と化４〔一般式（II）〕
で表される色素と化４〔一般式（II）〕
【化４】 〔ただし、一般式（II）中、Ｘ-は対アニオンを示す〕
で表される色素を混合してなるものである
で表される色素を混合してなるものである
【０００７】上記基板としては、塩化ビニル、アクリル
樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカ−ボネ−ト樹脂、ポ
リビニルアセタ−ル樹脂等の熱可塑性樹脂、エポキシ樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂等の
熱硬化性樹脂、ガラス等の材料からなるものが用いられ
る。
樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカ−ボネ−ト樹脂、ポ
リビニルアセタ−ル樹脂等の熱可塑性樹脂、エポキシ樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂等の
熱硬化性樹脂、ガラス等の材料からなるものが用いられ
る。
【０００８】前記一般式（Ｉ）及び一般式（II）におい
て、Ｘ-としてはＢＦ4 -、ＰＦ6 -、ＣｌＯ4 -、Ｃｌ-、Ｂ
ｒ-、Ｉ-等がある。一般式（Ｉ）で表される色素と一般
式（II）で表される色素の混合色素は、消衰係数を０．
１３以下になるように混合するのが好ましい。これによ
り、高反射率（反射率６５％以上）が可能となる。ま
た、反射率および記録感度の波長依存性を最小限におさ
えやすくなる。混合色素の屈折率は２．０以上であるの
が好ましい。屈折率が小さすぎると記録感度が小さくな
りやすい。一般式（Ｉ）で表される色素は、特に限定す
るものではないが、混合色素全体に対して０．１〜１０
重量％配合されるのが好ましい。また色素の耐光性を改
善するために、退色防止剤等を添加してもよい。
て、Ｘ-としてはＢＦ4 -、ＰＦ6 -、ＣｌＯ4 -、Ｃｌ-、Ｂ
ｒ-、Ｉ-等がある。一般式（Ｉ）で表される色素と一般
式（II）で表される色素の混合色素は、消衰係数を０．
１３以下になるように混合するのが好ましい。これによ
り、高反射率（反射率６５％以上）が可能となる。ま
た、反射率および記録感度の波長依存性を最小限におさ
えやすくなる。混合色素の屈折率は２．０以上であるの
が好ましい。屈折率が小さすぎると記録感度が小さくな
りやすい。一般式（Ｉ）で表される色素は、特に限定す
るものではないが、混合色素全体に対して０．１〜１０
重量％配合されるのが好ましい。また色素の耐光性を改
善するために、退色防止剤等を添加してもよい。
【０００９】混合色素の製膜は、適当量の混合色素を有
機溶媒に溶解し回転塗布することによって容易に製膜す
ることができる。
機溶媒に溶解し回転塗布することによって容易に製膜す
ることができる。
【００１０】反射層には、高反射率を示す金、銀、銅、
アルミニウム等を用いることができる。これらはスパッ
タリング法、蒸着法等により製膜することができる。
アルミニウム等を用いることができる。これらはスパッ
タリング法、蒸着法等により製膜することができる。
【００１１】本発明の光記録媒体は、高い反射率を示
し、従って、再生専用形光ディスクの再生装置により再
生することも可能である。
し、従って、再生専用形光ディスクの再生装置により再
生することも可能である。
【００１２】
実施例１ 記録再生レーザ波長付近に光吸収極大を有する有機色素
として化５）〕
として化５）〕
【化５】 の色素（Ａ）０．５重量％及び記録再生レーザ波長に長
波長側吸収端を有する有機色素として化６
波長側吸収端を有する有機色素として化６
【化６】 の色素（Ｂ）９９．５重量％からなる混合色素１２０ｍ
ｇを塗布溶媒１−プロパノール５ｍｌに溶解した。用い
た色素（Ａ）は、７８０ｎｍにおいて、屈折率が２．
２、消衰系数が１．６であり、吸収極大波長は７５０ｎ
ｍであった。色素（Ｂ）は、７８０ｎｍにおいて、屈折
率が２．５、消衰系数が０．０２５であり、吸収極大波
長は６６０ｎｍであった。
ｇを塗布溶媒１−プロパノール５ｍｌに溶解した。用い
た色素（Ａ）は、７８０ｎｍにおいて、屈折率が２．
２、消衰系数が１．６であり、吸収極大波長は７５０ｎ
ｍであった。色素（Ｂ）は、７８０ｎｍにおいて、屈折
率が２．５、消衰系数が０．０２５であり、吸収極大波
長は６６０ｎｍであった。
【００１３】この混合色素の溶液を用い回転塗布法によ
りポリカーボネート基板（外径：１２０ｍｍ、内径：１
５ｍｍ、トラックピッチ：１．６μｍ、出光石油化学株
式会社製）上に塗布し、乾燥して膜厚１２０ｎｍの記録
層形成した。この混合色素からなる記録層は、７８０ｎ
ｍにおいて、屈折率が２．５、消衰系数が０．０５であ
った。ついで、この上に反射層としてアルミニミウムを
スパッタリング法により１００ｎｍ製膜し、さらにこの
上に、保護層として光硬化製樹脂（ＳＤ−１７、大日本
インキ化学工業株式会社商品名）を１０μｍ製膜した。
レーザー光の波長を変化させて測定した光ディスクの反
射率を表１に示す。
りポリカーボネート基板（外径：１２０ｍｍ、内径：１
５ｍｍ、トラックピッチ：１．６μｍ、出光石油化学株
式会社製）上に塗布し、乾燥して膜厚１２０ｎｍの記録
層形成した。この混合色素からなる記録層は、７８０ｎ
ｍにおいて、屈折率が２．５、消衰系数が０．０５であ
った。ついで、この上に反射層としてアルミニミウムを
スパッタリング法により１００ｎｍ製膜し、さらにこの
上に、保護層として光硬化製樹脂（ＳＤ−１７、大日本
インキ化学工業株式会社商品名）を１０μｍ製膜した。
レーザー光の波長を変化させて測定した光ディスクの反
射率を表１に示す。
【００１４】また、この光ディスクに、基板側から波長
７８０ｎｍの半導体レーザーを用い、線速度１．４ｍ／
ｓｅｃでＥＦＭ信号に対する３Ｔ、７Ｔ及び１１Ｔ（デ
ューティ比５０％）の単一信号を７ｍＷで記録した。記
録した信号を波長７８０ｎｍの半導体レーザーを用い再
生したところ、いずれの周波数信号でもＣ／Ｎは４５ｄ
Ｂ以上を示した。
７８０ｎｍの半導体レーザーを用い、線速度１．４ｍ／
ｓｅｃでＥＦＭ信号に対する３Ｔ、７Ｔ及び１１Ｔ（デ
ューティ比５０％）の単一信号を７ｍＷで記録した。記
録した信号を波長７８０ｎｍの半導体レーザーを用い再
生したところ、いずれの周波数信号でもＣ／Ｎは４５ｄ
Ｂ以上を示した。
【００１５】比較例１ 記録再生レーザ波長に長波長側吸収端を有する有機色素
として化７
として化７
【化７】 の色素Ｃ１００ｍｇを塗布溶媒２，２，３，３−テトラ
フルオロ−１−プロパノール５ｍｌに溶解した。用いた
色素（Ａ）は、７８０ｎｍにおいて、屈折率が２．８、
消衰系数が０．１０であり、吸収極大波長は７５０ｎｍ
であった。得られた溶液を用い回転塗布法によりポリカ
ーボネート基板（外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、
トラックピッチ：１．６μｍ、出光石油化学株式会社
製）上に塗布し、乾燥して膜厚１２０ｎｍの記録層を形
成した。ついで、この上に反射層として金を真空蒸着法
により１００ｎｍ製膜し、さらにこの上に保護層として
光硬化製樹脂（ＳＤ−１７、大日本インキ化学工業株式
会社商品名）を１０μｍ製膜した。得られた光ディスク
の反射率をレーザー光の波長を変化させて測定した結果
を表１に示す。
フルオロ−１−プロパノール５ｍｌに溶解した。用いた
色素（Ａ）は、７８０ｎｍにおいて、屈折率が２．８、
消衰系数が０．１０であり、吸収極大波長は７５０ｎｍ
であった。得られた溶液を用い回転塗布法によりポリカ
ーボネート基板（外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、
トラックピッチ：１．６μｍ、出光石油化学株式会社
製）上に塗布し、乾燥して膜厚１２０ｎｍの記録層を形
成した。ついで、この上に反射層として金を真空蒸着法
により１００ｎｍ製膜し、さらにこの上に保護層として
光硬化製樹脂（ＳＤ−１７、大日本インキ化学工業株式
会社商品名）を１０μｍ製膜した。得られた光ディスク
の反射率をレーザー光の波長を変化させて測定した結果
を表１に示す。
【００１６】
【表１】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 表１ 再生波長に対する反射率 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 反 射 率（％） 波 長 実施例１ 比較例１ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ７７０ｎｍ ６９．５ ５８．８ ７７５ｎｍ ７０．０ ７０．４ ７８０ｎｍ ７１．０ ７４．３ ７９０ｎｍ ７０．８ ７５．６ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【００１７】以上から明らかであるように。実施例１の
光記録媒体は、高い反射率を示し、再生光波長７８０ｎ
ｍ±１０ｎｍにおいて、変動率が１．５％以下であり、
再生光波長付近での反射率の波長依存性が著しく小さ
い。また、記録感度もレーザーパワー７ｍＷと優れてい
る。
光記録媒体は、高い反射率を示し、再生光波長７８０ｎ
ｍ±１０ｎｍにおいて、変動率が１．５％以下であり、
再生光波長付近での反射率の波長依存性が著しく小さ
い。また、記録感度もレーザーパワー７ｍＷと優れてい
る。
【００１８】実施例２〜４ 実施例１における色素（Ａ）及び色素（Ｂ）の混合割合
を変えて下記の光学定数（７８０ｎｍにおいて測定）を
有する混合色素からなる記録層を厚さ１３０ｎｍに形成
すること、反射層をアルミニウムに代えて金としたこと
以外は実施例１と同様にして光ディスクを作製し、反射
率を測定した。この結果を表２に示す。
を変えて下記の光学定数（７８０ｎｍにおいて測定）を
有する混合色素からなる記録層を厚さ１３０ｎｍに形成
すること、反射層をアルミニウムに代えて金としたこと
以外は実施例１と同様にして光ディスクを作製し、反射
率を測定した。この結果を表２に示す。
【表２】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 表２ 光ディスクの反射率 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 光 学 定 数 反射率（％） 屈折率 消衰系数 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例２ ２．５ ０．０９ ７４ 実施例３ ２．５ ０．１ ７２ 実施例４ ２．５ ０．１５ ６２ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【００１９】
【発明の効果】請求項１における光記録媒体は、記録感
度が優れ、高い反射率を示し、再生光波長に対して、反
射率の波長依存性が少なく、従って再生装置の再生光の
波長の変動に対して特性の変動が少ない。
度が優れ、高い反射率を示し、再生光波長に対して、反
射率の波長依存性が少なく、従って再生装置の再生光の
波長の変動に対して特性の変動が少ない。
Claims (1)
- 【請求項１】基板上に順に有機色素からなる記録層及び
反射層を含む構造の光記録媒体において、記録層の有機
色素として化１〔一般式（Ｉ）〕 【化１】 〔ただし、一般式（Ｉ）中、Ｘ-は対アニオンを示す〕
で表される色素と化２〔一般式（II）〕 【化２】 〔ただし、一般式（II）中、Ｘ-は対アニオンを示す〕
で表される色素を混合してなるものである光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4058550A JPH05262041A (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4058550A JPH05262041A (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05262041A true JPH05262041A (ja) | 1993-10-12 |
Family
ID=13087569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4058550A Pending JPH05262041A (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05262041A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11321098A (ja) * | 1998-05-19 | 1999-11-24 | Mitsui Chem Inc | 光記録媒体 |
| US7914969B2 (en) | 2005-04-14 | 2011-03-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Storage medium, reproducing method, and recording method |
-
1992
- 1992-03-17 JP JP4058550A patent/JPH05262041A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11321098A (ja) * | 1998-05-19 | 1999-11-24 | Mitsui Chem Inc | 光記録媒体 |
| US7914969B2 (en) | 2005-04-14 | 2011-03-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Storage medium, reproducing method, and recording method |
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