JPH11315059A - １，３―ビス（１―イソシアナト―１―メチルエチル）ベンゼンのウレタンジ（メタ）アクリレ―ト誘導体 - Google Patents
１，３―ビス（１―イソシアナト―１―メチルエチル）ベンゼンのウレタンジ（メタ）アクリレ―ト誘導体Info
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- JPH11315059A JPH11315059A JP11017645A JP1764599A JPH11315059A JP H11315059 A JPH11315059 A JP H11315059A JP 11017645 A JP11017645 A JP 11017645A JP 1764599 A JP1764599 A JP 1764599A JP H11315059 A JPH11315059 A JP H11315059A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 流動可能かつ重合可能であり、その屈折率が
慣習的な歯科用充填材料と互換性があり、着色する傾向
が無く、そして歯科用材料の機械的特性を損なうことな
く歯科用材料中のビス−ＧＭＡの代替となり得る、ウレ
タンジ（メタ）アクリレート誘導体を提供すること。 【解決手段】 式（Ｉ） 具体的には、例えば で示される１，３−ビス（１−イソシアナト−１−メチ
ルエチル）ベンゼンのウレタンジ（メタ）アクリレート
誘導体：
慣習的な歯科用充填材料と互換性があり、着色する傾向
が無く、そして歯科用材料の機械的特性を損なうことな
く歯科用材料中のビス−ＧＭＡの代替となり得る、ウレ
タンジ（メタ）アクリレート誘導体を提供すること。 【解決手段】 式（Ｉ） 具体的には、例えば で示される１，３−ビス（１−イソシアナト−１−メチ
ルエチル）ベンゼンのウレタンジ（メタ）アクリレート
誘導体：
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、１，３−ビス（１
−イソシアナト−１−メチルエチル）ベンゼンのウレタ
ンジ（メタ）アクリレート誘導体、ならびにこれらの物
質に基づく歯科用材料に関する。
−イソシアナト−１−メチルエチル）ベンゼンのウレタ
ンジ（メタ）アクリレート誘導体、ならびにこれらの物
質に基づく歯科用材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】ウレタン（メタ）アクリレートは、とり
わけ接着剤、コーティングおよび歯科用材料の構成要素
としての実用的用途が見いだされている（Ｒ．Ｈｏｌｍ
ａｎ（出版）、Ｕ．Ｖ．ａｎｄ ＥＢ．Ｃｕｒｉｎｇ
Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ
Ｉｎｋｓ， Ｃｏａｔｉｎｇｓ ａｎｄ Ｐａｉｎｔ
ｓ， ＳＩＴＡ−Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ， Ｌｏｎｄｏ
ｎ １９８４，２７；Ｊ．Ｐ．Ｆｏｕｓｓｉｅｒ，
Ｊ．Ｆ．Ｒａｂｅｋ（出版），ＲａｄｉａｔｉｏｎＣｕ
ｒｉｎｇ ｉｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａ
ｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ， 第ＩＶ巻， Ｅｌｓｅ
ｖｉｅｒ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｓｃｉｅｎｃｅ， Ｌｏｎ
ｄｏｎ ａｎｄ Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９９３，３８
７）。歯科分野で特にしばしば用いられるモノマーは、
７，７，９−トリメチル−４，１３−ジオキソ−３，１
４−ジオキサ−５，１２−ジアザヘキサデカン−１，１
６−ジイルジメタクリレート（ＵＤＭＡ）であり、これ
は１モルの２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアネートと２モルの２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート（ＨＥＭＡ）との反応によって入手し得る（例え
ばＤＥ １９５ ４４ ６７１参照）。
わけ接着剤、コーティングおよび歯科用材料の構成要素
としての実用的用途が見いだされている（Ｒ．Ｈｏｌｍ
ａｎ（出版）、Ｕ．Ｖ．ａｎｄ ＥＢ．Ｃｕｒｉｎｇ
Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ
Ｉｎｋｓ， Ｃｏａｔｉｎｇｓ ａｎｄ Ｐａｉｎｔ
ｓ， ＳＩＴＡ−Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ， Ｌｏｎｄｏ
ｎ １９８４，２７；Ｊ．Ｐ．Ｆｏｕｓｓｉｅｒ，
Ｊ．Ｆ．Ｒａｂｅｋ（出版），ＲａｄｉａｔｉｏｎＣｕ
ｒｉｎｇ ｉｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａ
ｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ， 第ＩＶ巻， Ｅｌｓｅ
ｖｉｅｒ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｓｃｉｅｎｃｅ， Ｌｏｎ
ｄｏｎ ａｎｄ Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９９３，３８
７）。歯科分野で特にしばしば用いられるモノマーは、
７，７，９−トリメチル−４，１３−ジオキソ−３，１
４−ジオキサ−５，１２−ジアザヘキサデカン−１，１
６−ジイルジメタクリレート（ＵＤＭＡ）であり、これ
は１モルの２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアネートと２モルの２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート（ＨＥＭＡ）との反応によって入手し得る（例え
ばＤＥ １９５ ４４ ６７１参照）。
【０００３】しかし、ＵＤＭＡの屈折率ｎD＝１．４８
３は慣習的な歯科用充填材料の屈折率（約１．５２から
１．５５）とは明らかに異なるため、ＵＤＭＡおよび他
の脂肪族ウレタンジメタクリレートはしばしば、充填剤
の屈折率と適合させるために、メタクリル酸とビスフェ
ノール−Ａ−ジグリシジルエーテルとの付加生成物（屈
折率ｎD＝１．５４９）であるビス−ＧＭＡと組み合わ
される（例えばＤＥＯＳ２４ １１ ７６０参照）。こ
の材料の機械的特性はまた、ビス−ＢＭＡを添加するこ
とによって改良され得る。
３は慣習的な歯科用充填材料の屈折率（約１．５２から
１．５５）とは明らかに異なるため、ＵＤＭＡおよび他
の脂肪族ウレタンジメタクリレートはしばしば、充填剤
の屈折率と適合させるために、メタクリル酸とビスフェ
ノール−Ａ−ジグリシジルエーテルとの付加生成物（屈
折率ｎD＝１．５４９）であるビス−ＧＭＡと組み合わ
される（例えばＤＥＯＳ２４ １１ ７６０参照）。こ
の材料の機械的特性はまた、ビス−ＢＭＡを添加するこ
とによって改良され得る。
【０００４】屈折率を適合させることによって、この歯
科用材料の光重合の際により深いスルーキュア（ｔｈｒ
ｏｕｇｈ−ｃｕｒｅ）深度が達成されるが、水酸基が存
在するため、ビス−ＧＭＡは材料の水吸収性を高め、そ
の結果、湿潤条件下での耐久性が低下する。さらに、ビ
ス−ＧＭＡはしばしば、明白なエストロゲン作用を有す
る除去しがたいビスフェノール−Ａの不純物を含む。
科用材料の光重合の際により深いスルーキュア（ｔｈｒ
ｏｕｇｈ−ｃｕｒｅ）深度が達成されるが、水酸基が存
在するため、ビス−ＧＭＡは材料の水吸収性を高め、そ
の結果、湿潤条件下での耐久性が低下する。さらに、ビ
ス−ＧＭＡはしばしば、明白なエストロゲン作用を有す
る除去しがたいビスフェノール−Ａの不純物を含む。
【０００５】ＵＤＭＡに加えて、他のジ（メタ）アクリ
レートウレタンの使用が記載されている。Ｍ．Ｇ．Ｂｕ
ｏｎｏｃｏｒｅおよびＣ．Ａ．Ｃａｓｃｉａｎｉ、Ｎｅ
ｗＹｏｒｋ Ｓｔａｔｅ Ｄｅｎｔａｌ Ｊｏｕｒｎａ
ｌ ３５（１９６９）１３５は、例えば、２モルのＨＥ
ＭＡと１モルの２，４−トルイレンジイソシアネート、
水素化ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレン
ジイソシアネートまたはヘキサメチレンジイソシアネー
トの各々との付加生成物を記載する。これらはすべて結
晶性化合物であり、液体モノマーと共に用いた場合の
み、歯科用材料に加工され得る。
レートウレタンの使用が記載されている。Ｍ．Ｇ．Ｂｕ
ｏｎｏｃｏｒｅおよびＣ．Ａ．Ｃａｓｃｉａｎｉ、Ｎｅ
ｗＹｏｒｋ Ｓｔａｔｅ Ｄｅｎｔａｌ Ｊｏｕｒｎａ
ｌ ３５（１９６９）１３５は、例えば、２モルのＨＥ
ＭＡと１モルの２，４−トルイレンジイソシアネート、
水素化ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレン
ジイソシアネートまたはヘキサメチレンジイソシアネー
トの各々との付加生成物を記載する。これらはすべて結
晶性化合物であり、液体モノマーと共に用いた場合の
み、歯科用材料に加工され得る。
【０００６】ＵＳ−Ａ−４，４００，１５９は、脂肪族
および芳香族ジイソシアネートと３−メタクリロール−
２−ヒドロキシプロピルエステルとの反応によって得ら
れるウレタンジアクリレートを開示する。しかし、この
物質は変色しやすく、そしてこの芳香族誘導体は結晶性
化合物である。これらのモノマーは、好ましくはビス−
ＧＭＡと組み合わされる。
および芳香族ジイソシアネートと３−メタクリロール−
２−ヒドロキシプロピルエステルとの反応によって得ら
れるウレタンジアクリレートを開示する。しかし、この
物質は変色しやすく、そしてこの芳香族誘導体は結晶性
化合物である。これらのモノマーは、好ましくはビス−
ＧＭＡと組み合わされる。
【０００７】ＤＥ １９５ ４４ ６７１ Ａ１は、環
状カーボネート基を有するウレタン（メタ）アクリレー
トを開示し、これは高い重合速度と、酸素による重合阻
害に対する低い感度を示すといわれる。
状カーボネート基を有するウレタン（メタ）アクリレー
トを開示し、これは高い重合速度と、酸素による重合阻
害に対する低い感度を示すといわれる。
【０００８】ＵＳ−Ａ−４，９５２，２４１、ＥＰ ０
２５４ １８５ Ｂ１、ＵＳ−Ａ−４，９０４，７５
０およびＥＰ ０ ６５８ ５８２ Ａ１は、ビス−Ｇ
ＭＡと組み合わせて可撓化（ｆｌｅｘｉｂｉｌｉｚｉｎ
ｇ）モノマーまたは希釈モノマーとしてとりわけ使用さ
れ得るプレポリマー性（メタ）アクリルウレタン誘導体
を開示する。
２５４ １８５ Ｂ１、ＵＳ−Ａ−４，９０４，７５
０およびＥＰ ０ ６５８ ５８２ Ａ１は、ビス−Ｇ
ＭＡと組み合わせて可撓化（ｆｌｅｘｉｂｉｌｉｚｉｎ
ｇ）モノマーまたは希釈モノマーとしてとりわけ使用さ
れ得るプレポリマー性（メタ）アクリルウレタン誘導体
を開示する。
【０００９】ＵＳ−Ａ−４，３８６，９１２は四官能性
ウレタンアクリレートモノマーに基づく歯科用充填材料
に関し、これはグリセロールジメタクリレートと芳香族
または脂肪族ジイソシアネートとの反応によって調製さ
れ得る。硬化生成物の着色を考慮すると脂肪族ジイソシ
アネートが好ましい。
ウレタンアクリレートモノマーに基づく歯科用充填材料
に関し、これはグリセロールジメタクリレートと芳香族
または脂肪族ジイソシアネートとの反応によって調製さ
れ得る。硬化生成物の着色を考慮すると脂肪族ジイソシ
アネートが好ましい。
【００１０】Ｂ．Ｎａｂｅｔｈ、Ｊ．Ｆ．Ｇｅｒａｒ
ｄ、Ｊ．Ｐ．Ｐａｓｃａｕｌｔ、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌ
ｙｍ．Ｓｃｉ．６０（１９９６）２１１３は、１，３−
ビス（１−イソシアナト−１−メチルエチル）ベンゼン
（ＴＭＸＤＩ）を用いるポリカプロラクトンマクロジオ
ールに基づくポリウレタン（メタ）アクリレートの合成
を記載する。ＴＭＸＤＩに基づく低分子量ウレタンジ
（メタクリレート）誘導体は現時点では知られていな
い。
ｄ、Ｊ．Ｐ．Ｐａｓｃａｕｌｔ、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌ
ｙｍ．Ｓｃｉ．６０（１９９６）２１１３は、１，３−
ビス（１−イソシアナト−１−メチルエチル）ベンゼン
（ＴＭＸＤＩ）を用いるポリカプロラクトンマクロジオ
ールに基づくポリウレタン（メタ）アクリレートの合成
を記載する。ＴＭＸＤＩに基づく低分子量ウレタンジ
（メタクリレート）誘導体は現時点では知られていな
い。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、流動
可能かつ重合可能であり、その屈折率が慣習的な歯科用
充填材料と互換性があり、着色する傾向が無く、そして
歯科用材料の機械的特性を損なうことなく歯科用材料中
のビス−ＧＭＡの代替となり得る、ウレタンジ（メタ）
アクリレート誘導体を調製することにある。
可能かつ重合可能であり、その屈折率が慣習的な歯科用
充填材料と互換性があり、着色する傾向が無く、そして
歯科用材料の機械的特性を損なうことなく歯科用材料中
のビス−ＧＭＡの代替となり得る、ウレタンジ（メタ）
アクリレート誘導体を調製することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、式（Ｉ）の
１，３−ビス（１−イソシアナト−１−メチルエチル）
ベンゼンのウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体であ
って、
１，３−ビス（１−イソシアナト−１−メチルエチル）
ベンゼンのウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体であ
って、
【００１３】
【化４】
【００１４】ここで、Ｒは水素または直鎖Ｃ1−Ｃ8アル
キル基、ＸおよびＹは各々独立して
キル基、ＸおよびＹは各々独立して
【００１５】
【化５】
【００１６】を表し、ここでＲ1が、置換または非置換
のＣ6−からＣ12−のアリール、Ｃ7−からＣ16−のアル
キルアリールまたはＣ7−からＣ12−のアリールアルキ
ル基、Ｒ2が、水素、Ｃ1−からＣ5−のアルキルあるい
は置換または非置換のＣ6−からＣ12−のアリール基、
Ｒ3が、水素またはメチル基、Ｒ4が、酸素原子で中断さ
れていてもよいＣ1−からＣ8−のアルキレン基、あるい
はフェニレン基、Ｒ5が、水素またはメチル基、Ｒ6が、
置換または非置換のＣ6−からＣ12−のアリール、Ｃ7−
からＣ16−のアルキルアリールまたはＣ7−からＣ12−
のアリールアルキル基、Ｚが、−ＣＯ−または化学結
合、そしてＷが、酸素、硫黄またはＮＲ7を表し、ここ
でＲ7が、水素または直鎖Ｃ1−Ｃ6アルキル基であり、
ただし、Ｒが水素で、かつＲ4がジメチレンである場
合、Ｒ3はメチルではない。
のＣ6−からＣ12−のアリール、Ｃ7−からＣ16−のアル
キルアリールまたはＣ7−からＣ12−のアリールアルキ
ル基、Ｒ2が、水素、Ｃ1−からＣ5−のアルキルあるい
は置換または非置換のＣ6−からＣ12−のアリール基、
Ｒ3が、水素またはメチル基、Ｒ4が、酸素原子で中断さ
れていてもよいＣ1−からＣ8−のアルキレン基、あるい
はフェニレン基、Ｒ5が、水素またはメチル基、Ｒ6が、
置換または非置換のＣ6−からＣ12−のアリール、Ｃ7−
からＣ16−のアルキルアリールまたはＣ7−からＣ12−
のアリールアルキル基、Ｚが、−ＣＯ−または化学結
合、そしてＷが、酸素、硫黄またはＮＲ7を表し、ここ
でＲ7が、水素または直鎖Ｃ1−Ｃ6アルキル基であり、
ただし、Ｒが水素で、かつＲ4がジメチレンである場
合、Ｒ3はメチルではない。
【００１７】好ましくは、本発明は、式（Ｉ）の１，３
−ビス（１−イソシアナト−１−メチルエチル）ベンゼ
ンのウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体であって、
−ビス（１−イソシアナト−１−メチルエチル）ベンゼ
ンのウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体であって、
【００１８】
【化６】
【００１９】ここで、Ｒは水素または直鎖Ｃ1−Ｃ8アル
キル基、ＸおよびＹは各々独立して
キル基、ＸおよびＹは各々独立して
【００２０】
【化７】
【００２１】を表し、ここでＲ1が、置換または非置換
のＣ6−からＣ12−のアリール、Ｃ7−からＣ16−のアル
キルアリールまたはＣ7−からＣ12−のアリールアルキ
ル基、Ｒ2が、水素、Ｃ1−からＣ5−のアルキルあるい
は置換または非置換のＣ6−からＣ12−のアリール基、
Ｒ3が、水素またはメチル基、Ｒ4が、酸素原子で中断さ
れていてもよいＣ1−からＣ8−のアルキレン基、あるい
はフェニレン基、Ｒ5が、水素またはメチル基、Ｒ6が、
置換または非置換のＣ6−からＣ12−のアリール、Ｃ7−
からＣ16−のアルキルアリールまたはＣ7−からＣ12−
のアリールアルキル基、Ｚが、−ＣＯ−または化学結
合、そしてＷが、酸素、硫黄またはＮＲ7を表し、ここ
でＲ7が、水素または直鎖Ｃ1−Ｃ6アルキル基であり、
ただし、Ｒが水素で、かつＲ4がジメチレンである場
合、Ｒ3は水素である。
のＣ6−からＣ12−のアリール、Ｃ7−からＣ16−のアル
キルアリールまたはＣ7−からＣ12−のアリールアルキ
ル基、Ｒ2が、水素、Ｃ1−からＣ5−のアルキルあるい
は置換または非置換のＣ6−からＣ12−のアリール基、
Ｒ3が、水素またはメチル基、Ｒ4が、酸素原子で中断さ
れていてもよいＣ1−からＣ8−のアルキレン基、あるい
はフェニレン基、Ｒ5が、水素またはメチル基、Ｒ6が、
置換または非置換のＣ6−からＣ12−のアリール、Ｃ7−
からＣ16−のアルキルアリールまたはＣ7−からＣ12−
のアリールアルキル基、Ｚが、−ＣＯ−または化学結
合、そしてＷが、酸素、硫黄またはＮＲ7を表し、ここ
でＲ7が、水素または直鎖Ｃ1−Ｃ6アルキル基であり、
ただし、Ｒが水素で、かつＲ4がジメチレンである場
合、Ｒ3は水素である。
【００２２】１つの実施態様において、ＸおよびＹは各
々独立して
々独立して
【００２３】
【化８】
【００２４】を表す。
【００２５】１つの実施態様において、前記アリール基
は、ハロゲン、−ＯＣＨ3、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＣＨ3、
−Ｃ2Ｈ5、−ＮＯ2、−ＣＯＯＨおよび／または−ＣＯ
ＯＣＨ3で１回または複数回置換されている。
は、ハロゲン、−ＯＣＨ3、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＣＨ3、
−Ｃ2Ｈ5、−ＮＯ2、−ＣＯＯＨおよび／または−ＣＯ
ＯＣＨ3で１回または複数回置換されている。
【００２６】１つの実施態様において、ＸおよびＹは同
一である。
一である。
【００２７】１つの実施態様において、Ｒが水素、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチルまたはヘキシル、Ｒ
1が、水素または−ＣＨ3、Ｒ2が、−ＣＨ3、−Ｃ2Ｈ5、
ベンジルまたはフェニル基、Ｒ3が、水素またはメチル
基、Ｒ4が、エチレン、プロピレン、トリエチレン、ブ
チレンまたはフェニレン基、Ｒ5が、メチル基、Ｒ6が、
ベンジル、フェニルまたは置換フェニル基、Ｗが、酸
素、硫黄またはＮＨ、Ｚが、−ＣＯ−または化学結合、
および／またはＲ7が、水素である。
ル、エチル、プロピル、ブチルまたはヘキシル、Ｒ
1が、水素または−ＣＨ3、Ｒ2が、−ＣＨ3、−Ｃ2Ｈ5、
ベンジルまたはフェニル基、Ｒ3が、水素またはメチル
基、Ｒ4が、エチレン、プロピレン、トリエチレン、ブ
チレンまたはフェニレン基、Ｒ5が、メチル基、Ｒ6が、
ベンジル、フェニルまたは置換フェニル基、Ｗが、酸
素、硫黄またはＮＨ、Ｚが、−ＣＯ−または化学結合、
および／またはＲ7が、水素である。
【００２８】１つの実施態様において、Ｒ1が、水素、
Ｒ2が、水素、ベンジルまたはフェニル基、Ｒ3が、メチ
ル基、Ｒ4が、エチレン、プロピレンまたはトリエチレ
ン基、Ｒ5が、メチル基、Ｒ6が、ベンジル基、Ｗが、酸
素、Ｚが、−ＣＯ−、および／またはＲ7が、水素であ
る。
Ｒ2が、水素、ベンジルまたはフェニル基、Ｒ3が、メチ
ル基、Ｒ4が、エチレン、プロピレンまたはトリエチレ
ン基、Ｒ5が、メチル基、Ｒ6が、ベンジル基、Ｗが、酸
素、Ｚが、−ＣＯ−、および／またはＲ7が、水素であ
る。
【００２９】本発明のウレタンジ（メタ）アクリレート
の製造方法は、１，３−ビス（１−イソシアナト−１−
メチルエチル）ベンゼンを式Ｘ−ＯＨまたはＹ−ＯＨの
ヒドロキシ（メタ）アクリレートと反応させる工程を包
含し、ここでＸおよびＹが前記の定義の通りであり、そ
して次に反応生成物が任意にアルキル化される。
の製造方法は、１，３−ビス（１−イソシアナト−１−
メチルエチル）ベンゼンを式Ｘ−ＯＨまたはＹ−ＯＨの
ヒドロキシ（メタ）アクリレートと反応させる工程を包
含し、ここでＸおよびＹが前記の定義の通りであり、そ
して次に反応生成物が任意にアルキル化される。
【００３０】本発明の組成物は、上記のいずれかに記載
のウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体を含む。
のウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体を含む。
【００３１】１つの実施態様において、上記の組成物
は、１％から９９％の上記のいずれかに記載のウレタン
ジ（メタ）アクリレート誘導体の１種以上；０％から８
０％のラジカル重合性モノマーの１種以上；０％から９
０％の充填剤；および０．０１％から５％のラジカル重
合開始剤ならびに必要な場合他の助剤を含む。
は、１％から９９％の上記のいずれかに記載のウレタン
ジ（メタ）アクリレート誘導体の１種以上；０％から８
０％のラジカル重合性モノマーの１種以上；０％から９
０％の充填剤；および０．０１％から５％のラジカル重
合開始剤ならびに必要な場合他の助剤を含む。
【００３２】１つの実施態様において、上記の組成物
は、２０％から７０％の請求項１から６のいずれか一項
に記載のウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体の１種
以上；０％から８０％のラジカル重合性モノマーの１種
以上；０％から８５％の充填剤；および／または０．０
１％から２％のラジカル重合開始剤ならびに必要な場合
他の助剤を含む。
は、２０％から７０％の請求項１から６のいずれか一項
に記載のウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体の１種
以上；０％から８０％のラジカル重合性モノマーの１種
以上；０％から８５％の充填剤；および／または０．０
１％から２％のラジカル重合開始剤ならびに必要な場合
他の助剤を含む。
【００３３】１つの実施態様において、上記の組成物
は、ラジカル重合性モノマーとして１種以上の二官能性
または多官能性のアクリレートおよび／またはメタクリ
レートを含む。
は、ラジカル重合性モノマーとして１種以上の二官能性
または多官能性のアクリレートおよび／またはメタクリ
レートを含む。
【００３４】１つの実施態様において、上記の組成物
は、７，７，９−トリメチル−４，１３−ジオキソ−
３，１４−ジオキサ−５，１２−ジアザ−ヘキサデカン
−１，１６−ジイルジメタクリレート、ジ−またはトリ
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＴＥＧＤ
ＭＡ）、デカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、１，１０
−デカンジオールジ（メタ）アクリレートおよび／また
は１，１２−ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート
を含む。
は、７，７，９−トリメチル−４，１３−ジオキソ−
３，１４−ジオキサ−５，１２−ジアザ−ヘキサデカン
−１，１６−ジイルジメタクリレート、ジ−またはトリ
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＴＥＧＤ
ＭＡ）、デカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、１，１０
−デカンジオールジ（メタ）アクリレートおよび／また
は１，１２−ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート
を含む。
【００３５】１つの実施態様において、上記の組成物
は、充填剤として、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2および／またはＴ
ｉＯ2由来の混合酸化物、焼成シリカ、沈降シリカ、石
英、ガラスセラミックまたはガラス粉末および／または
フッ化イッテルビウムに基づく不定形球状物質を含む。
は、充填剤として、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2および／またはＴ
ｉＯ2由来の混合酸化物、焼成シリカ、沈降シリカ、石
英、ガラスセラミックまたはガラス粉末および／または
フッ化イッテルビウムに基づく不定形球状物質を含む。
【００３６】１つの実施態様において、上記の組成物
は、開始剤として、アゾビス（イソブチロニトリル）、
アゾビス（４−シアノ吉草酸）、過酸化ジベンゾイル、
過酸化ジラウロイル、過オクタン酸ｔｅｒｔ−ブチル、
過安息香酸ｔｅｒｔ−ブチル、過酸化ジ（ｔｅｒｔ−ブ
チル）、ベンズピナコール、２，２’−ジ（Ｃ1−Ｃ8−
アルキル）ベンズピナコール、ベンゾインエーテル、ジ
アルキルベンジルケタール、ジアルコキシアセトフェノ
ン、アシルホスフィンオキシド、９，１０−フェナント
レンキノン、ジアセチル、フリル、アニシル、４，４’
−ジクロロベンジル、４，４’−ジアルコキシベンジル
および／またはカンファーキノンを含む。
は、開始剤として、アゾビス（イソブチロニトリル）、
アゾビス（４−シアノ吉草酸）、過酸化ジベンゾイル、
過酸化ジラウロイル、過オクタン酸ｔｅｒｔ−ブチル、
過安息香酸ｔｅｒｔ−ブチル、過酸化ジ（ｔｅｒｔ−ブ
チル）、ベンズピナコール、２，２’−ジ（Ｃ1−Ｃ8−
アルキル）ベンズピナコール、ベンゾインエーテル、ジ
アルキルベンジルケタール、ジアルコキシアセトフェノ
ン、アシルホスフィンオキシド、９，１０−フェナント
レンキノン、ジアセチル、フリル、アニシル、４，４’
−ジクロロベンジル、４，４’−ジアルコキシベンジル
および／またはカンファーキノンを含む。
【００３７】１つの実施態様において、上記の組成物
は、歯科用材料として使用される。
は、歯科用材料として使用される。
【００３８】本発明の上記のいずれかに記載のウレタン
ジ（メタ）アクリレート誘導体は、ラジカル硬化性接着
剤、セメントまたはコンポジットの製造のために使用さ
れる。
ジ（メタ）アクリレート誘導体は、ラジカル硬化性接着
剤、セメントまたはコンポジットの製造のために使用さ
れる。
【００３９】本発明の上記のウレタンジ（メタ）アクリ
レート誘導体は、歯科用材料の製造のために使用され
る。
レート誘導体は、歯科用材料の製造のために使用され
る。
【００４０】本発明の上記のウレタンジ（メタ）アクリ
レート誘導体は、外科用骨セメント、コンタクトレン
ズ、光学部材用接着剤、ＵＶ硬化性ラッカー、コーティ
ングおよび被覆材料、マトリクス樹脂および複合材料の
製造のために使用される。
レート誘導体は、外科用骨セメント、コンタクトレン
ズ、光学部材用接着剤、ＵＶ硬化性ラッカー、コーティ
ングおよび被覆材料、マトリクス樹脂および複合材料の
製造のために使用される。
【００４１】
【発明の実施の形態】上記目的は、式（Ｉ）の１，３−
ビス（１−イソシアナト−１−メチルエチル）ベンゼン
のウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体
ビス（１−イソシアナト−１−メチルエチル）ベンゼン
のウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体
【００４２】
【化９】
【００４３】によって達成され、ここでＲは水素または
直鎖Ｃ1−Ｃ8アルキル基、好ましくは水素、メチル、エ
チル、プロピル、ブチルまたはヘキシル、特に好ましく
は、水素またはメチルであり、そしてＸおよびＹは各々
独立して
直鎖Ｃ1−Ｃ8アルキル基、好ましくは水素、メチル、エ
チル、プロピル、ブチルまたはヘキシル、特に好ましく
は、水素またはメチルであり、そしてＸおよびＹは各々
独立して
【００４４】
【化１０】
【００４５】を表し、好ましくは
【００４６】
【化１１】
【００４７】であり、ここでＲ1は、置換または非置換
のＣ6−からＣ12−のアリール、またはＣ7−からＣ16−
のアルキルアリールまたはＣ7−からＣ12−のアリール
アルキル基であり、そしてＲ2は、水素、Ｃ1−からＣ5
−のアルキルあるいは置換または非置換のＣ6−からＣ
12−のアリール基であり；Ｒ3は、水素またはメチル基
であり、そしてＲ4は、酸素原子で中断されていてもよ
いＣ1−からＣ8−のアルキレン基、あるいはフェニレン
基であり；Ｒ5は、水素またはメチル基であり、Ｒ6は、
置換または非置換のＣ6−からＣ12−のアリール、Ｃ7−
からＣ16−のアルキルアリールまたはＣ7−からＣ12−
のアリールアルキル基であり、Ｚは、−ＣＯ−または化
学結合であり、そしてＷは、酸素、硫黄またはＮＲ7を
表し、ここでＲ7は、水素または直鎖Ｃ1−Ｃ6アルキル
基である。ＲおよびＲ7は好ましくは同じ意味を有す
る。
のＣ6−からＣ12−のアリール、またはＣ7−からＣ16−
のアルキルアリールまたはＣ7−からＣ12−のアリール
アルキル基であり、そしてＲ2は、水素、Ｃ1−からＣ5
−のアルキルあるいは置換または非置換のＣ6−からＣ
12−のアリール基であり；Ｒ3は、水素またはメチル基
であり、そしてＲ4は、酸素原子で中断されていてもよ
いＣ1−からＣ8−のアルキレン基、あるいはフェニレン
基であり；Ｒ5は、水素またはメチル基であり、Ｒ6は、
置換または非置換のＣ6−からＣ12−のアリール、Ｃ7−
からＣ16−のアルキルアリールまたはＣ7−からＣ12−
のアリールアルキル基であり、Ｚは、−ＣＯ−または化
学結合であり、そしてＷは、酸素、硫黄またはＮＲ7を
表し、ここでＲ7は、水素または直鎖Ｃ1−Ｃ6アルキル
基である。ＲおよびＲ7は好ましくは同じ意味を有す
る。
【００４８】アリール基およびアルキルアリール基の両
方の芳香族基は、１回または複数回置換され得、好まし
くは１回置換されている。好ましい置換基は、ハロゲン
（特に臭素）、−ＯＣＨ3、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＣＨ3、
−Ｃ2Ｈ5、−ＮＯ2、−ＣＯＯＨおよび−ＣＯＯＣＨ3で
ある。
方の芳香族基は、１回または複数回置換され得、好まし
くは１回置換されている。好ましい置換基は、ハロゲン
（特に臭素）、−ＯＣＨ3、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＣＨ3、
−Ｃ2Ｈ5、−ＮＯ2、−ＣＯＯＨおよび−ＣＯＯＣＨ3で
ある。
【００４９】好ましくは、Ｃ7−からＣ12−のアリール
アルキル基は、ベンジル、αメチルベンジル、α，α−
ジメチルベンジルおよびα，α−ジエチルベンジルであ
り、特にベンジルである。
アルキル基は、ベンジル、αメチルベンジル、α，α−
ジメチルベンジルおよびα，α−ジエチルベンジルであ
り、特にベンジルである。
【００５０】好ましい定義（これらは互いに独立して選
択され得る）は：Ｒ1が、水素または−ＣＨ3、Ｒ2が、
−ＣＨ3、−Ｃ2Ｈ5、ベンジルまたはフェニル基、Ｒ
3が、水素またはメチル基、Ｒ4が、エチレン、プロピレ
ン、トリエチレン、ブチレンまたはフェニレン基、Ｒ5
が、メチル基Ｒ6が、ベンジル、フェニルまたは置換フ
ェニル基、Ｗが、酸素、硫黄またはＮＨ、Ｚが、−ＣＯ
−または化学結合、および／またはＲ7が、水素であ
る。
択され得る）は：Ｒ1が、水素または−ＣＨ3、Ｒ2が、
−ＣＨ3、−Ｃ2Ｈ5、ベンジルまたはフェニル基、Ｒ
3が、水素またはメチル基、Ｒ4が、エチレン、プロピレ
ン、トリエチレン、ブチレンまたはフェニレン基、Ｒ5
が、メチル基Ｒ6が、ベンジル、フェニルまたは置換フ
ェニル基、Ｗが、酸素、硫黄またはＮＨ、Ｚが、−ＣＯ
−または化学結合、および／またはＲ7が、水素であ
る。
【００５１】特に好ましい定義（これらは互いに独立し
て選択され得る）は：Ｒ1が、水素、Ｒ2が、水素、ベン
ジルまたはフェニル基、Ｒ3が、メチル基、Ｒ4が、エチ
レン、トリエチレンまたはプロピレン基、Ｒ5が、メチ
ル基Ｒ6が、ベンジル基、Ｗが、酸素、Ｚが、−ＣＯ
−、および／またはＲ7が、水素である。
て選択され得る）は：Ｒ1が、水素、Ｒ2が、水素、ベン
ジルまたはフェニル基、Ｒ3が、メチル基、Ｒ4が、エチ
レン、トリエチレンまたはプロピレン基、Ｒ5が、メチ
ル基Ｒ6が、ベンジル基、Ｗが、酸素、Ｚが、−ＣＯ
−、および／またはＲ7が、水素である。
【００５２】さらに、ＸおよびＹが同一の意味を有する
ウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体が好ましい。
ウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体が好ましい。
【００５３】特に好ましいウレタンジ（メタ）アクリレ
ート誘導体は：
ート誘導体は：
【００５４】
【化１２】
【００５５】
【化１３】
【００５６】
【化１４】
【００５７】
【化１５】
【００５８】である。
【００５９】さらに、ＲおよびＲ3が各々独立して水素
またはメチルであり、そしてＲ4がエチレンまたはプロ
ピレンである式Ｉの化合物が特に好ましい。
またはメチルであり、そしてＲ4がエチレンまたはプロ
ピレンである式Ｉの化合物が特に好ましい。
【００６０】本発明の式（Ｉ）のウレタンジ（メタ）ア
クリレート誘導体は、市販の１，３−ビス（１−イソシ
アナト−１−メチルエチル）ベンゼン（ＴＭＸＤＩ）を
対応のヒドロキシ（メタ）アクリレートＸ−ＯＨまたは
Ｙ−ＯＨと反応させ、そして形成された付加物を、任意
に、次いで例えば硫酸ジアルキルでアルキル化すること
によって調製され得る。
クリレート誘導体は、市販の１，３−ビス（１−イソシ
アナト−１−メチルエチル）ベンゼン（ＴＭＸＤＩ）を
対応のヒドロキシ（メタ）アクリレートＸ−ＯＨまたは
Ｙ−ＯＨと反応させ、そして形成された付加物を、任意
に、次いで例えば硫酸ジアルキルでアルキル化すること
によって調製され得る。
【００６１】
【化１６】
【００６２】ヒドロキシ（メタ）アクリレートＸ−ＯＨ
およびＹ−ＯＨの調製は、それ自体公知の方法で行われ
得る（例えばＣ．Ｆｅｒｒｉ，Ｒｅａｋｔｉｏｎｅｎ
ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｓｙｎｔｈｅｓｅ
［有機合成反応］，Ｇ．Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，
Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ １９７８参照）。下記反応式によ
る、第三級アミンで触媒されるアクリレートとアルデヒ
ドとのＢａｙｌｉｓ−Ｈｉｌｌｍａｎ反応
およびＹ−ＯＨの調製は、それ自体公知の方法で行われ
得る（例えばＣ．Ｆｅｒｒｉ，Ｒｅａｋｔｉｏｎｅｎ
ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｓｙｎｔｈｅｓｅ
［有機合成反応］，Ｇ．Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，
Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ １９７８参照）。下記反応式によ
る、第三級アミンで触媒されるアクリレートとアルデヒ
ドとのＢａｙｌｉｓ−Ｈｉｌｌｍａｎ反応
【００６３】
【化１７】
【００６４】（ここでＲ1およびＲ2は上記の意味を有す
る）が好ましい。例えば、２−ヒドロキシメチルアクリ
ル酸ベンジルエステルは、アクリル酸ベンジルエステル
とホルムアルデヒドとの反応によって調製され得る：
る）が好ましい。例えば、２−ヒドロキシメチルアクリ
ル酸ベンジルエステルは、アクリル酸ベンジルエステル
とホルムアルデヒドとの反応によって調製され得る：
【００６５】
【化１８】
【００６６】さらに好ましいのは下記反応式による、ジ
ヒドロキシ化合物と（メタ）アクリル酸または（メタ）
アクリル酸塩化物との非化学量論的エステル化である。
ヒドロキシ化合物と（メタ）アクリル酸または（メタ）
アクリル酸塩化物との非化学量論的エステル化である。
【００６７】
【化１９】
【００６８】ここでＲ3およびＲ4は上記の意味を有し、
そしてＵ＝ＣｌまたはＯＨである。例えば４−ヒドロキ
シフェニルメタクリレートは、ヒドロキノンとメタクリ
ル酸塩化物との反応によって入手され得る：
そしてＵ＝ＣｌまたはＯＨである。例えば４−ヒドロキ
シフェニルメタクリレートは、ヒドロキノンとメタクリ
ル酸塩化物との反応によって入手され得る：
【００６９】
【化２０】
【００７０】さらに、適切なヒドロキシ（メタ）アクリ
レートの合成は、グリシジル（メタ）アクリレートとＯ
−求核試薬、例えば、アルコール、フェノールまたはカ
ルボン酸との反応により、下記反応式によって行われ得
る。
レートの合成は、グリシジル（メタ）アクリレートとＯ
−求核試薬、例えば、アルコール、フェノールまたはカ
ルボン酸との反応により、下記反応式によって行われ得
る。
【００７１】
【化２１】
【００７２】ここでＲ5およびＲ6は上記の意味を有す
る。例えば、１−ベンジルカルボニルオキシ−２−ヒド
ロキシプロピルメタクリレートは、フェニル酢酸とグリ
シジルメタクリレートとの反応によって得られ得る：
る。例えば、１−ベンジルカルボニルオキシ−２−ヒド
ロキシプロピルメタクリレートは、フェニル酢酸とグリ
シジルメタクリレートとの反応によって得られ得る：
【００７３】
【化２２】
【００７４】本発明のウレタンジ（メタ）アクリレート
誘導体は、特に、架橋剤として作用するウレタンジ（メ
タ）アクリレートを用いる、ポリマー、接着剤および歯
科用材料、例えば、充填コンポジット、歯科用接着剤お
よび固定セメントの製造に適する。
誘導体は、特に、架橋剤として作用するウレタンジ（メ
タ）アクリレートを用いる、ポリマー、接着剤および歯
科用材料、例えば、充填コンポジット、歯科用接着剤お
よび固定セメントの製造に適する。
【００７５】歯科用材料の製造のためには、屈折率がｎ
D＝１．５０から１．６０、特に１．５０から１．５５
の誘導体が好ましい。
D＝１．５０から１．６０、特に１．５０から１．５５
の誘導体が好ましい。
【００７６】重合のためには、本発明の化合物とラジカ
ル重合のための開始剤と、任意に追加のラジカル重合性
モノマーおよび充填剤および他の助剤とを混合する。
ル重合のための開始剤と、任意に追加のラジカル重合性
モノマーおよび充填剤および他の助剤とを混合する。
【００７７】適切な開始剤は例えばＥｎｃｙｃｌｏｐｅ
ｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎ
ｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，１３巻、Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎ
ｔｅｒｓｃｉ．出版、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ ｅｔｃ．１９
８８、７５４頁以下に記載される。低温重合のための好
ましい開始剤は、アゾビス（イソブチロニトリル）（Ａ
ＩＢＮ）またはアゾビス（４−シアノ吉草酸）のような
アゾ化合物、あるいは過酸化ジベンゾイル、過酸化ジラ
ウロイル、過オクタン酸ｔｅｒｔ−ブチル（ｔｅｒｔ．
−ｂｕｔｙｌ ｐｅｒｏｃｔｏａｔｅ）、過安息香酸ｔ
ｅｒｔ−ブチルまたは過酸化ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）の
ような過酸化物である。
ｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎ
ｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，１３巻、Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎ
ｔｅｒｓｃｉ．出版、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ ｅｔｃ．１９
８８、７５４頁以下に記載される。低温重合のための好
ましい開始剤は、アゾビス（イソブチロニトリル）（Ａ
ＩＢＮ）またはアゾビス（４−シアノ吉草酸）のような
アゾ化合物、あるいは過酸化ジベンゾイル、過酸化ジラ
ウロイル、過オクタン酸ｔｅｒｔ−ブチル（ｔｅｒｔ．
−ｂｕｔｙｌ ｐｅｒｏｃｔｏａｔｅ）、過安息香酸ｔ
ｅｒｔ−ブチルまたは過酸化ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）の
ような過酸化物である。
【００７８】ベンズピナコールおよび２，２’−ジ（Ｃ
1−Ｃ8−アルキル）ベンズピナコールが、熱加硫のため
に特に適した開始剤である。
1−Ｃ8−アルキル）ベンズピナコールが、熱加硫のため
に特に適した開始剤である。
【００７９】ＵＶまたは可視範囲のために適した光開始
剤は、Ｊ．Ｐ．Ｆｏｕｓｓｉｅｒ，Ｊ．Ｆ．Ｒａｂｅｋ
（出版），Ｒａｄｉａｔｉｏｎ Ｃｕｒｉｎｇ ｉｎ
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎ
ｏｌｏｇｙ，第ＩＩ巻、Ｅｌｓｅｖｉｅｒ Ａｐｐｌｉ
ｅｄ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｌｏｎｄｏｎ ａｎｄ Ｎｅｗ
Ｙｏｒｋ １９９３，１５５頁から２３７頁に記載さ
れる。好ましい光開始剤は、ベンゾインエーテル、ジア
ルキルベンジルケタール、ジアルコキシアセトフェノ
ン、アシルホスフィンオキシド、α−ジケトン（例え
ば、１０−フェナントレンキノン、ジアセチル、フリ
ル、アニシル、４，４’−ジクロロベンジルおよび４，
４’−ジアルコキシベンジル）およびカンファーキノン
である。
剤は、Ｊ．Ｐ．Ｆｏｕｓｓｉｅｒ，Ｊ．Ｆ．Ｒａｂｅｋ
（出版），Ｒａｄｉａｔｉｏｎ Ｃｕｒｉｎｇ ｉｎ
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎ
ｏｌｏｇｙ，第ＩＩ巻、Ｅｌｓｅｖｉｅｒ Ａｐｐｌｉ
ｅｄ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｌｏｎｄｏｎ ａｎｄ Ｎｅｗ
Ｙｏｒｋ １９９３，１５５頁から２３７頁に記載さ
れる。好ましい光開始剤は、ベンゾインエーテル、ジア
ルキルベンジルケタール、ジアルコキシアセトフェノ
ン、アシルホスフィンオキシド、α−ジケトン（例え
ば、１０−フェナントレンキノン、ジアセチル、フリ
ル、アニシル、４，４’−ジクロロベンジルおよび４，
４’−ジアルコキシベンジル）およびカンファーキノン
である。
【００８０】過酸化ジベンゾイル、カンファーキノンま
たはアシルホスフィンオキシドが歯科用材料の製造に特
に適する。
たはアシルホスフィンオキシドが歯科用材料の製造に特
に適する。
【００８１】二官能性架橋モノマーが、二官能性または
多官能性のアクリレートおよびメタクリレートで架橋さ
れる追加のラジカル重合性モノマーとして好ましく、例
えば、ＵＤＭＡ、ジ−またはトリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート（ＴＥＧＤＭＡ）、デカンジオー
ルジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ブタンジオール（ジ）−メタア
クリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アク
リレートおよび１，１２−ドデカンジオールジ（メタ）
アクリレートであり、これら上記の全ては接着剤または
歯科用材料の製造に適している。これらのモノマーは
（メタ）アクリル酸を適切なジオールでエステル化する
ことによって入手され得る。
多官能性のアクリレートおよびメタクリレートで架橋さ
れる追加のラジカル重合性モノマーとして好ましく、例
えば、ＵＤＭＡ、ジ−またはトリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート（ＴＥＧＤＭＡ）、デカンジオー
ルジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ブタンジオール（ジ）−メタア
クリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アク
リレートおよび１，１２−ドデカンジオールジ（メタ）
アクリレートであり、これら上記の全ては接着剤または
歯科用材料の製造に適している。これらのモノマーは
（メタ）アクリル酸を適切なジオールでエステル化する
ことによって入手され得る。
【００８２】有機ならびに無機の粒子および繊維が充填
剤に好適である。歯科用材料の製造のために好ましい無
機充填剤は、例えばＤＥ−ＰＳ ３２ ４７ ８００に
開示されるような平均粒子サイズが０．００５から２．
０μｍ、好ましくは０．１から１μｍのＳｉＯ2、Ｚｒ
Ｏ2および／またはＴｉＯ2由来の混合酸化物に基づく不
定形球状物質、焼成シリカまたは沈降シリカのような微
細充填剤、ならびに平均粒子サイズ０．５から２０μｍ
の石英、ガラスセラミックスまたはガラス粉末のような
マクロまたはミニ充填剤、ならびに三フッ化イッテルビ
ウムのようなＸ線不透過性充填剤である。
剤に好適である。歯科用材料の製造のために好ましい無
機充填剤は、例えばＤＥ−ＰＳ ３２ ４７ ８００に
開示されるような平均粒子サイズが０．００５から２．
０μｍ、好ましくは０．１から１μｍのＳｉＯ2、Ｚｒ
Ｏ2および／またはＴｉＯ2由来の混合酸化物に基づく不
定形球状物質、焼成シリカまたは沈降シリカのような微
細充填剤、ならびに平均粒子サイズ０．５から２０μｍ
の石英、ガラスセラミックスまたはガラス粉末のような
マクロまたはミニ充填剤、ならびに三フッ化イッテルビ
ウムのようなＸ線不透過性充填剤である。
【００８３】ガラス、ポリアミドまたは炭素繊維もまた
充填剤として使用され得る。適切な強化繊維は、例えば
「Ｔａｓｃｈｅｎｂｕｃｈ ｄｅｒ Ｋｕｎｓｔｓｔｏ
ｆｆ−Ａｄｄｉｔｉｖｅ」、Ｒ．Ｇａｃｈｔｅｒ，Ｈ．
Ｍｕｌｌｅｒ，Ｃａｒｌ Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａ
ｇ，Ｍｕｎｉｃｈ ａｎｄ Ｖｉｅｎｎａ １９９０，
６１７頁から６６２頁に記載される。
充填剤として使用され得る。適切な強化繊維は、例えば
「Ｔａｓｃｈｅｎｂｕｃｈ ｄｅｒ Ｋｕｎｓｔｓｔｏ
ｆｆ−Ａｄｄｉｔｉｖｅ」、Ｒ．Ｇａｃｈｔｅｒ，Ｈ．
Ｍｕｌｌｅｒ，Ｃａｒｌ Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａ
ｇ，Ｍｕｎｉｃｈ ａｎｄ Ｖｉｅｎｎａ １９９０，
６１７頁から６６２頁に記載される。
【００８４】本発明による組成物は、必要ならば他の助
剤、例えば、溶媒（特に水、酢酸エチルまたはエタノー
ル）、安定剤、ＵＶ吸収剤、色素、顔料および／または
滑剤を含み得る。用語「安定剤」は早すぎる重合を防ぐ
物質を意味するために用いられ、従って、とりわけモノ
マー混合物およびコンポジットの貯蔵安定性を高める
が、硬化材料の特性を損なわないものである。好ましい
安定剤は、ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＥＨ
Ｑ）および２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル
フェノール（ＢＨＴ）である。
剤、例えば、溶媒（特に水、酢酸エチルまたはエタノー
ル）、安定剤、ＵＶ吸収剤、色素、顔料および／または
滑剤を含み得る。用語「安定剤」は早すぎる重合を防ぐ
物質を意味するために用いられ、従って、とりわけモノ
マー混合物およびコンポジットの貯蔵安定性を高める
が、硬化材料の特性を損なわないものである。好ましい
安定剤は、ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＥＨ
Ｑ）および２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル
フェノール（ＢＨＴ）である。
【００８５】歯科用材料は好ましくは以下の組成を有す
る：１〜９９ｗｔ％、好ましくは１０〜８０ｗｔ％、そ
して特に好ましくは２０〜７０ｗｔ％の１種以上のウレ
タンジ（メタ）アクリレート；０〜８０ｗｔ％、好まし
くは０〜６０ｗｔ％、そして特に好ましくは０〜５０ｗ
ｔ％の１種以上の他のラジカル重合性モノマー；０〜９
０ｗｔ％の充填剤；および０．０１〜５ｗｔ％、好まし
くは０．０１〜２ｗｔ％のラジカル重合開始剤。
る：１〜９９ｗｔ％、好ましくは１０〜８０ｗｔ％、そ
して特に好ましくは２０〜７０ｗｔ％の１種以上のウレ
タンジ（メタ）アクリレート；０〜８０ｗｔ％、好まし
くは０〜６０ｗｔ％、そして特に好ましくは０〜５０ｗ
ｔ％の１種以上の他のラジカル重合性モノマー；０〜９
０ｗｔ％の充填剤；および０．０１〜５ｗｔ％、好まし
くは０．０１〜２ｗｔ％のラジカル重合開始剤。
【００８６】充填剤の含有量は意図する用途によって最
終的に決定され、そして接着剤の場合、好ましくは０〜
２０ｗｔ％であり、セメントの場合、好ましくは２０〜
６０ｗｔ％であり、そして充填コンポジットの場合、５
０〜８５ｗｔ％である。
終的に決定され、そして接着剤の場合、好ましくは０〜
２０ｗｔ％であり、セメントの場合、好ましくは２０〜
６０ｗｔ％であり、そして充填コンポジットの場合、５
０〜８５ｗｔ％である。
【００８７】他の助剤の割合は、通常、各場合において
１００ｐｐｍから１．０ｗｔ％の範囲にあり、そして色
素および顔料の場合はまた、着色能力に応じて１０ｐｐ
ｍから１．０ｗｔ％までの範囲である。
１００ｐｐｍから１．０ｗｔ％の範囲にあり、そして色
素および顔料の場合はまた、着色能力に応じて１０ｐｐ
ｍから１．０ｗｔ％までの範囲である。
【００８８】本発明による歯科用材料は好ましくはビス
−ＧＭＡを含まないが、あらゆる点でビス−ＧＭＡを含
む材料の特性に匹敵する機械的特性を有する。湿潤条件
下で、本発明の材料はビス−ＧＭＡを含む材料より明ら
かに優れた機械的特性を示す。
−ＧＭＡを含まないが、あらゆる点でビス−ＧＭＡを含
む材料の特性に匹敵する機械的特性を有する。湿潤条件
下で、本発明の材料はビス−ＧＭＡを含む材料より明ら
かに優れた機械的特性を示す。
【００８９】本発明によるウレタンジ（メタ）アクリレ
ート誘導体はさらにまた、他の医学的または工学的な、
ラジカル硬化接着剤、セメントおよびコンポジット、例
えば外科用骨セメント、コンタクトレンズ、光学部材用
接着剤、ＵＶ硬化性ラッカー、コーティングおよび被覆
材料、ならびに複合材料のためのマトリクス樹脂の製造
にも適する。
ート誘導体はさらにまた、他の医学的または工学的な、
ラジカル硬化接着剤、セメントおよびコンポジット、例
えば外科用骨セメント、コンタクトレンズ、光学部材用
接着剤、ＵＶ硬化性ラッカー、コーティングおよび被覆
材料、ならびに複合材料のためのマトリクス樹脂の製造
にも適する。
【００９０】本発明を以下、実施態様を参照してさらに
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００９１】
【実施例】実施例１ ＴＭＸＵＤＥＭＡの合成 １，３−ビス−（２−アザ−１，１，９−トリメチル−
３，８−ジオキソ−４，７−ジオキサ−９−デセン−１
−イル）ベンゼン
３，８−ジオキソ−４，７−ジオキサ−９−デセン−１
−イル）ベンゼン
【００９２】
【化２３】
【００９３】９０．７ｇ（３７１ｍｍｏｌ）のＴＭＸＤ
Ｉを、１０１．１ｇ（７４２ｍｍｏｌ）のＨＥＭＡおよ
び０．１９ｇのジブチル錫ジラウレート（Ｍｅｔａｔｉ
ｎ８１２、Ａｃｉｍａ）に３０分以内で滴下した。７０
℃で３６時間攪拌した後、イソシアネートは完全に反応
して消失した（反応はＩＲ分分光法によってモニタ
ー）。３００ｍｌの塩化メチレンを加え、そして反応混
合物を各回２００ｍｌのＮａＯＨで２回洗浄し、そして
各回１００ｍｌの水で３回洗浄した。塩化メチレン相を
硫酸ナトリウムで乾燥し、そして８０ｍｇのヒドロキノ
ンモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ）を加えた後、約２５
０ｍｂａｒのロータリーエバポレータで溶媒を留去し
た。１６９ｇ（収率８８％）の、剪断粘度（２３℃）が
８６０Ｐａ・ｓの、無色で粘性の高い液体（ｎD 25＝
１．５１２０）が得られた。
Ｉを、１０１．１ｇ（７４２ｍｍｏｌ）のＨＥＭＡおよ
び０．１９ｇのジブチル錫ジラウレート（Ｍｅｔａｔｉ
ｎ８１２、Ａｃｉｍａ）に３０分以内で滴下した。７０
℃で３６時間攪拌した後、イソシアネートは完全に反応
して消失した（反応はＩＲ分分光法によってモニタ
ー）。３００ｍｌの塩化メチレンを加え、そして反応混
合物を各回２００ｍｌのＮａＯＨで２回洗浄し、そして
各回１００ｍｌの水で３回洗浄した。塩化メチレン相を
硫酸ナトリウムで乾燥し、そして８０ｍｇのヒドロキノ
ンモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ）を加えた後、約２５
０ｍｂａｒのロータリーエバポレータで溶媒を留去し
た。１６９ｇ（収率８８％）の、剪断粘度（２３℃）が
８６０Ｐａ・ｓの、無色で粘性の高い液体（ｎD 25＝
１．５１２０）が得られた。
【００９４】
【数１】
【００９５】実施例２ ＴＭＸＵＤＰＭＡの合成 １，３−ビス−（２−アザ−１，１，５，９−テトラメ
チル−３，８−ジオキソ−４，７−ジオキサ−９−デセ
ン−１−イル）ベンゼン
チル−３，８−ジオキソ−４，７−ジオキサ−９−デセ
ン−１−イル）ベンゼン
【００９６】
【化２４】
【００９７】５５．０ｇ（２２５ｍｍｏｌ）のＴＭＸＤ
Ｉを、６８．３ｇ（４５０ｍｍｏｌ）の９５％ヒドロキ
シプロピルメタクリレートおよび０．１ｇのＭｅｔａｔ
ｉｎ８１２に１０分以内で滴下した。６０℃で３日間攪
拌した後、イソシアネートは完全に反応して消失した
（反応はＩＲ分分光法によってモニター）。反応混合物
を２００ｍｌの塩化メチレンと反応させ、そして各回１
００ｍｌのＮａＯＨで２回洗浄し、そして各回１００ｍ
ｌの水で３回洗浄した。塩化メチレン相を硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、そして８０ｍｇのＭＥＨＱを加えた後、約
２５０ｍｂａｒのロータリーエバポレータで溶媒を留去
した。１０６ｇ（収率８８％）の、剪断粘度（２３℃）
が１６６５Ｐａ・ｓの、無色で粘性の高い液体（ｎD 25
＝１．５０１８）が得られた。
Ｉを、６８．３ｇ（４５０ｍｍｏｌ）の９５％ヒドロキ
シプロピルメタクリレートおよび０．１ｇのＭｅｔａｔ
ｉｎ８１２に１０分以内で滴下した。６０℃で３日間攪
拌した後、イソシアネートは完全に反応して消失した
（反応はＩＲ分分光法によってモニター）。反応混合物
を２００ｍｌの塩化メチレンと反応させ、そして各回１
００ｍｌのＮａＯＨで２回洗浄し、そして各回１００ｍ
ｌの水で３回洗浄した。塩化メチレン相を硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、そして８０ｍｇのＭＥＨＱを加えた後、約
２５０ｍｂａｒのロータリーエバポレータで溶媒を留去
した。１０６ｇ（収率８８％）の、剪断粘度（２３℃）
が１６６５Ｐａ・ｓの、無色で粘性の高い液体（ｎD 25
＝１．５０１８）が得られた。
【００９８】
【数２】
【００９９】実施例３ ＴＭＸＵＤＥＭＡおよびＴＭＸＵＤＰＭＡに基づくコン
ポジット 表１に示す組成の３種のコンポジットペーストＫ−１〜
Ｋ−３（すべての数字はｗｔ％）を遊星ニーダー（ｐｌ
ａｎｅｔａｒｙ ｋｎｅａｄｅｒ）（ＬＰＭ２２ＳＰ
型、Ｌｉｎｄｅ）中で調製し、２００ｍｂａｒで１０分
間脱気した。
ポジット 表１に示す組成の３種のコンポジットペーストＫ−１〜
Ｋ−３（すべての数字はｗｔ％）を遊星ニーダー（ｐｌ
ａｎｅｔａｒｙ ｋｎｅａｄｅｒ）（ＬＰＭ２２ＳＰ
型、Ｌｉｎｄｅ）中で調製し、２００ｍｂａｒで１０分
間脱気した。
【０１００】組成物Ｋ−３は本発明のウレタンジ（メ
タ）アクリレート誘導体誘導体の代わりにビス−ＧＭＡ
を含み、比較例として役立つ。
タ）アクリレート誘導体誘導体の代わりにビス−ＧＭＡ
を含み、比較例として役立つ。
【０１０１】機械的特性を決定するために、試験片（２
ｍｍ×２ｍｍ×２０ｍｍ）をこれらのペーストから形成
し、そして歯科用放射源（Ｓｐｅｋｔｒａｍａｔ、Ｖｉ
ｖａｄｅｎｔ、λ＝４００〜５００ｎｍ）の光に６分間
暴露して硬化させた。重合収縮（ΔＶ）を、ペーストと
コンポジットの密度の差からガス比重測定によって決定
し、そして曲げ強度（ＢＳ）、曲げＥモジュール（ＢＥ
Ｍ）をＩＳＯスタンダード４０４９（１９８８）に従っ
て決定した。このために、試験片を３７℃で２４時間乾
燥状態で貯蔵するか、水中（ＷＳ）で２４時間または７
時間貯蔵するか、あるいは脱イオン水中で２４時間沸騰
させた（Ｂ）。この研究の結果を表２に列記する。
ｍｍ×２ｍｍ×２０ｍｍ）をこれらのペーストから形成
し、そして歯科用放射源（Ｓｐｅｋｔｒａｍａｔ、Ｖｉ
ｖａｄｅｎｔ、λ＝４００〜５００ｎｍ）の光に６分間
暴露して硬化させた。重合収縮（ΔＶ）を、ペーストと
コンポジットの密度の差からガス比重測定によって決定
し、そして曲げ強度（ＢＳ）、曲げＥモジュール（ＢＥ
Ｍ）をＩＳＯスタンダード４０４９（１９８８）に従っ
て決定した。このために、試験片を３７℃で２４時間乾
燥状態で貯蔵するか、水中（ＷＳ）で２４時間または７
時間貯蔵するか、あるいは脱イオン水中で２４時間沸騰
させた（Ｂ）。この研究の結果を表２に列記する。
【０１０２】
【表１】
【０１０３】ａ）比較例 ｂ）シラン化ケイ酸アルミニウムバリウムガラス粉末
（Ｓｃｈｏｔｔ）、粒子サイズ＜７μｍの割合：９９％ ｃ）ＳｉＯ2−ＺｒＯ2混合酸化物（ＴｏｋｏｙａｍａＳ
ｏｄａ）、二次粒子サイズ＜７μｍ ｄ）シラン化熱分解シリカ（Ｄｅｇｕｓｓａ）
（Ｓｃｈｏｔｔ）、粒子サイズ＜７μｍの割合：９９％ ｃ）ＳｉＯ2−ＺｒＯ2混合酸化物（ＴｏｋｏｙａｍａＳ
ｏｄａ）、二次粒子サイズ＜７μｍ ｄ）シラン化熱分解シリカ（Ｄｅｇｕｓｓａ）
【０１０４】
【表２】
【０１０５】ａ）比較例 本発明は、式（Ｉ）の１，３−ビス（１−イソシアナト
−１−メチルエチル）ベンゼンのウレタンジ（メタ）ア
クリレート誘導体に関し：
−１−メチルエチル）ベンゼンのウレタンジ（メタ）ア
クリレート誘導体に関し：
【０１０６】
【化２５】
【０１０７】ここでＲは水素または直鎖Ｃ1−Ｃ8アルキ
ル基、ＸおよびＹは各々独立して
ル基、ＸおよびＹは各々独立して
【０１０８】
【化２６】
【０１０９】を表し、ここでＲ1が、置換または非置換
のＣ6−からＣ12−のアリール、Ｃ7−からＣ16−のアル
キルアリール基；Ｒ2が、水素、Ｃ1−からＣ5−のアル
キルあるいは置換または非置換のＣ6−からＣ12−のア
リール基；Ｒ3が、水素またはメチル基；Ｒ4が、酸素原
子で中断されていてもよいＣ1−からＣ8−のアルキレン
基、あるいはフェニレン基；Ｒ5が、水素またはメチル
基；Ｒ6が、置換または非置換のＣ6−からＣ12−のアリ
ール、またはＣ7−からＣ16−のアルキルアリール基；
Ｚが、−ＣＯ−または化学結合であり、そしてＷが、酸
素、硫黄またはＮＲ 7を表し、ここでＲ7が、水素または
直鎖Ｃ1−からＣ6アルキル基である。この物質は、歯科
用材料の製造に特に適している。
のＣ6−からＣ12−のアリール、Ｃ7−からＣ16−のアル
キルアリール基；Ｒ2が、水素、Ｃ1−からＣ5−のアル
キルあるいは置換または非置換のＣ6−からＣ12−のア
リール基；Ｒ3が、水素またはメチル基；Ｒ4が、酸素原
子で中断されていてもよいＣ1−からＣ8−のアルキレン
基、あるいはフェニレン基；Ｒ5が、水素またはメチル
基；Ｒ6が、置換または非置換のＣ6−からＣ12−のアリ
ール、またはＣ7−からＣ16−のアルキルアリール基；
Ｚが、−ＣＯ−または化学結合であり、そしてＷが、酸
素、硫黄またはＮＲ 7を表し、ここでＲ7が、水素または
直鎖Ｃ1−からＣ6アルキル基である。この物質は、歯科
用材料の製造に特に適している。
【０１１０】
【発明の効果】本発明によれば、流動可能かつ重合可能
であり、その屈折率が慣習的な歯科用充填材料と互換性
があり、着色する傾向が無く、そして歯科用材料の機械
的特性を損なうことなく歯科用材料中のビス−ＧＭＡの
代替となり得る、ウレタンジ（メタ）アクリレート誘導
体が調製される。
であり、その屈折率が慣習的な歯科用充填材料と互換性
があり、着色する傾向が無く、そして歯科用材料の機械
的特性を損なうことなく歯科用材料中のビス−ＧＭＡの
代替となり得る、ウレタンジ（メタ）アクリレート誘導
体が調製される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｊ 4/00 Ｃ０９Ｊ 4/00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｃ 7/04 Ｇ０２Ｃ 7/04 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者 フォルカー ラインベルガー リヒティンシュタイン公国 エフエル− 9490 ヴァドゥッツ， マリーシュトラー セ 34 (72)発明者 トーマス フェルケル ドイツ国 88131 リンダウ， プライシ ンガーヴェーク 25 (72)発明者 ウルス カール フィッシャー スイス国 シーエイチ−9320 アルボン, ベルクリシュトラーセ 23
Claims (18)
- 【請求項１】 式（Ｉ）の１，３−ビス（１−イソシア
ナト−１−メチルエチル）ベンゼンのウレタンジ（メ
タ）アクリレート誘導体であって、 【化１】 ここで、Ｒは水素または直鎖Ｃ1−Ｃ8アルキル基、Ｘお
よびＹは各々独立して 【化２】 を表し、ここでＲ1が、置換または非置換のＣ6−からＣ
12−のアリール、Ｃ7−からＣ16−のアルキルアリール
またはＣ7−からＣ12−のアリールアルキル基、Ｒ2が、
水素、Ｃ1−からＣ5−のアルキルあるいは置換または非
置換のＣ6−からＣ12−のアリール基、Ｒ3が、水素また
はメチル基、Ｒ4が、酸素原子で中断されていてもよい
Ｃ1−からＣ8−のアルキレン基、あるいはフェニレン
基、Ｒ5が、水素またはメチル基、Ｒ6が、置換または非
置換のＣ6−からＣ12−のアリール、Ｃ7−からＣ16−の
アルキルアリールまたはＣ7−からＣ12−のアリールア
ルキル基、Ｚが、−ＣＯ−または化学結合、そしてＷ
が、酸素、硫黄またはＮＲ7を表し、ここでＲ7が、水素
または直鎖Ｃ1−Ｃ6アルキル基であり、ただし、Ｒが水
素で、かつＲ4がジメチレンである場合、Ｒ3はメチルで
はない、ウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体。 - 【請求項２】 ＸおよびＹが各々独立して 【化３】 を表す、請求項１に記載のウレタンジ（メタ）アクリレ
ート誘導体。 - 【請求項３】 前記アリール基が、ハロゲン、−ＯＣＨ
3、−ＯＨ、−ＣＮ、−ＣＨ3、−Ｃ2Ｈ5、−ＮＯ2、−
ＣＯＯＨおよび／または−ＣＯＯＣＨ3で１回または複
数回置換されている、請求項１または２に記載のウレタ
ンジ（メタ）アクリレート誘導体。 - 【請求項４】 ＸおよびＹが同一である、請求項１から
３のいずれか一項に記載のウレタンジ（メタ）アクリレ
ート誘導体。 - 【請求項５】 Ｒが水素、メチル、エチル、プロピル、
ブチルまたはヘキシル、Ｒ1が、水素または−ＣＨ3、Ｒ
2が、−ＣＨ3、−Ｃ2Ｈ5、ベンジルまたはフェニル基、
Ｒ3が、水素またはメチル基、Ｒ4が、エチレン、プロピ
レン、トリエチレン、ブチレンまたはフェニレン基、Ｒ
5が、メチル基、Ｒ6が、ベンジル、フェニルまたは置換
フェニル基、Ｗが、酸素、硫黄またはＮＨ、Ｚが、−Ｃ
Ｏ−または化学結合、および／またはＲ7が、水素であ
る、請求項１から４のいずれか一項に記載のウレタンジ
（メタ）アクリレート誘導体。 - 【請求項６】 Ｒ1が、水素、Ｒ2が、水素、ベンジルま
たはフェニル基、Ｒ3が、メチル基、Ｒ4が、エチレン、
プロピレンまたはトリエチレン基、Ｒ5が、メチル基、
Ｒ6が、ベンジル基、Ｗが、酸素、Ｚが、−ＣＯ−、お
よび／またはＲ7が、水素である、請求項５に記載のウ
レタンジ（メタ）アクリレート誘導体。 - 【請求項７】 １，３−ビス（１−イソシアナト−１−
メチルエチル）ベンゼンを式Ｘ−ＯＨまたはＹ−ＯＨの
ヒドロキシ（メタ）アクリレートと反応させる工程を包
含し、ここでＸおよびＹが前記の定義の通りであり、そ
して次に反応生成物が任意にアルキル化される、請求項
１から６のいずれか一項に記載のウレタンジ（メタ）ア
クリレート誘導体の製造方法。 - 【請求項８】 請求項１から６のいずれか一項に記載の
ウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体を含む、組成
物。 - 【請求項９】 １％から９９％の請求項１から６のいず
れか一項に記載のウレタンジ（メタ）アクリレート誘導
体の１種以上；０％から８０％のラジカル重合性モノマ
ーの１種以上；０％から９０％の充填剤；および０．０
１％から５％のラジカル重合開始剤ならびに必要な場合
他の助剤を含む、請求項７に記載の組成物。 - 【請求項１０】 ２０％から７０％の請求項１から６の
いずれか一項に記載のウレタンジ（メタ）アクリレート
誘導体の１種以上；０％から８０％のラジカル重合性モ
ノマーの１種以上；０％から８５％の充填剤；および／
または０．０１％から２％のラジカル重合開始剤ならび
に必要な場合他の助剤を含む、請求項９に記載の組成
物。 - 【請求項１１】 ラジカル重合性モノマーとして１種以
上の二官能性または多官能性のアクリレートおよび／ま
たはメタクリレートを含む、請求項９または１０に記載
の組成物。 - 【請求項１２】 ７，７，９−トリメチル−４，１３−
ジオキソ−３，１４−ジオキサ−５，１２−ジアザ−ヘ
キサデカン−１，１６−ジイルジメタクリレート、ジ−
またはトリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート
（ＴＥＧＤＭＡ）、デカンジオールジ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート
および／または１，１２−ドデカンジオールジ（メタ）
アクリレートを含む、請求項１１に記載の組成物。 - 【請求項１３】 充填剤として、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2およ
び／またはＴｉＯ2由来の混合酸化物、焼成シリカ、沈
降シリカ、石英、ガラスセラミックまたはガラス粉末お
よび／またはフッ化イッテルビウムに基づく不定形球状
物質を含む、請求項９から１２のいずれか一項に記載の
組成物。 - 【請求項１４】 開始剤として、アゾビス（イソブチロ
ニトリル）、アゾビス（４−シアノ吉草酸）、過酸化ジ
ベンゾイル、過酸化ジラウロイル、過オクタン酸ｔｅｒ
ｔ−ブチル、過安息香酸ｔｅｒｔ−ブチル、過酸化ジ
（ｔｅｒｔ−ブチル）、ベンズピナコール、２，２’−
ジ（Ｃ1−Ｃ8−アルキル）ベンズピナコール、ベンゾイ
ンエーテル、ジアルキルベンジルケタール、ジアルコキ
シアセトフェノン、アシルホスフィンオキシド、９，１
０−フェナントレンキノン、ジアセチル、フリル、アニ
シル、４，４’−ジクロロベンジル、４，４’−ジアル
コキシベンジルおよび／またはカンファーキノンを含
む、請求項９から１３のいずれか一項に記載の組成物。 - 【請求項１５】 歯科用材料として使用するための請求
項９から１４のいずれか一項に記載の組成物。 - 【請求項１６】 ラジカル硬化性接着剤、セメントまた
はコンポジットの製造のための、請求項１から６のいず
れか一項に記載のウレタンジ（メタ）アクリレート誘導
体の使用。 - 【請求項１７】 歯科用材料の製造のための、請求項１
６に記載の使用。 - 【請求項１８】 外科用骨セメント、コンタクトレン
ズ、光学部材用接着剤、ＵＶ硬化性ラッカー、コーティ
ングおよび被覆材料、マトリクス樹脂および複合材料の
製造のための、請求項１６に記載の使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19803979A DE19803979C2 (de) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | Zusammensetzungen enthaltend Urethandi(meth)acrylat-Derivate von 1,3-Bis (1-isocyanato-1-methylethyl)benzol |
| DE19803979.4 | 1998-01-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11315059A true JPH11315059A (ja) | 1999-11-16 |
| JP3182738B2 JP3182738B2 (ja) | 2001-07-03 |
Family
ID=7856371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01764599A Expired - Fee Related JP3182738B2 (ja) | 1998-01-28 | 1999-01-26 | １，３−ビス（１−イソシアナト−１−メチルエチル）ベンゼンのウレタンジ（メタ）アクリレート誘導体 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0934926B1 (ja) |
| JP (1) | JP3182738B2 (ja) |
| AT (1) | ATE292113T1 (ja) |
| CA (1) | CA2256191A1 (ja) |
| DE (2) | DE19803979C2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7495037B2 (en) | 2003-08-29 | 2009-02-24 | Ivoclar Vivadent Ag | Dental coating materials |
| JP2010506931A (ja) * | 2006-10-18 | 2010-03-04 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 改善された歯科用複合材料につながる材料およびそれから製造された歯科用複合材料 |
| WO2015152221A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | 三井化学株式会社 | 歯科材料用重合性モノマー |
| JP2016523249A (ja) * | 2013-06-17 | 2016-08-08 | ウニベルシダ ナシオナル アウトノマ デ メキシコ | ＢｉｓＧＭＡ非含有の歯列矯正用接着剤 |
| JP2017509637A (ja) * | 2014-03-20 | 2017-04-06 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトＩｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧ | 歯科用材料を調製するためのモノマー混合物 |
| JP2017509627A (ja) * | 2014-03-10 | 2017-04-06 | デンツプライ デトレイ ゲー．エム．ベー．ハー． | 歯科用組成物 |
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