JPH11311510A - 微小凹凸の検査方法および検査装置 - Google Patents

微小凹凸の検査方法および検査装置

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JPH11311510A JP13264398A JP13264398A JPH11311510A JP H11311510 A JPH11311510 A JP H11311510A JP 13264398 A JP13264398 A JP 13264398A JP 13264398 A JP13264398 A JP 13264398A JP H11311510 A JPH11311510 A JP H11311510A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 微小凹凸をほこり等と区別して検査する。 【解決手段】 主光源1から被検物2に照射された光
は、被検物2の表面で正反射され撮像素子4に入力す
る。補助光源3は、被検物2における正反射光が撮像素
子4に入射しないように設置される。演算装置5は、撮
像素子4によって得られた画像における暗点を微小凹凸
と判定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス等の鏡面性
または透過性を有する物体の表面の微小凹凸等の欠点の
検査や評価に用いられる微小凹凸の検査方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ガラス等の鏡面性を有する製品表面にお
ける微小凹凸等の欠点を検査する一般的な方法として、
検査員の目視による方法があるが、目視による方法で
は、検査員の熟練が必要になるとともに、見落としや見
誤りをなくすことが困難である。また、要求される品質
が高くなると、目視検査で対応することが難しくなる。
そこで、種々の自動検査装置が提案されている。
【0003】例えば、特開昭63−293448号公報
には、被検物からの透過光、透過散乱光、反射光および
反射散乱光のうちの複数の光を用いて欠点を検出する方
法が開示されている。また、特開平1−107103号
公報には、被検物からの正反射光と乱反射光とを用いて
欠点を検出する方法が開示されている。さらに、特開平
4−238207号公報や特開平5−215697号公
報には、複数のセンサを設け各センサの出力にもとづい
て欠点を検出する方法が開示されている。そして、特開
平8−152416号公報や特開平9−49806号公
報には、光源または光源と受光部とを被検物に対して所
定の角度に設定して被検物からの透過光または反射光に
もとづいて欠点を検出する方法が開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、複数の光を用
いる方法または1種類の光を用いるものの複数センサを
用いる方法では、検出対象が小さくなって必要な解像度
が高くなるにつれて、センサ間の位置合わせが難しくな
る。同様に、光源または光源と受光部とを被検物に対し
て所定の角度に設定する必要がある方法でも、光源や受
光部の位置合わせが難しくなる。従って、位置ずれによ
る誤動作や検出感度の低下を招いたり、検査装置の調整
や保守に多大の労力がかかるという課題がある。
【0005】そこで、本発明は、被検物の欠点を検出す
る際に複数のセンサを用いる必要がなく、また、センサ
等の位置合わせをする必要もなく、かつ、被検物におけ
る微小凹凸をほこり等の散乱性欠点と区別して検査およ
び評価することができる微小凹凸の検査方法および検査
装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による微小凹凸の
検査方法は、光源から照射された光の被検物表面での反
射光または被検物での透過光を受光し、受光して得られ
た画像を用いて被検物表面の微小凹凸を検査する方法で
あって、光源からの光を被検物に照射するとともに、被
検物における正反射光または透過光が受光部に入射しな
いよう設置された補助光源からの光を被検物に照射する
ことを特徴とする。そして、特に、受光して得られた画
像中の暗点を微小凹凸と判定する。また、主光源として
ストライプパターンを有する光源を使用してもよい。
【0007】本発明による微小凹凸の検査装置は、光源
部から照射された光が被検物表面で反射された反射光ま
たは被検物を透過した透過光を受光し、受光して得られ
た画像を用いて被検物表面の微小凹凸を検査する装置で
あって、被検物における正反射光または透過光が受光部
に入射しないよう設置された補助光源を備え、演算装置
が、光源部からの光と補助光源からの光が同時に被検物
に照射されている状態で得られた画像中の各画素の信号
レベルを判定し、暗点を微小凹凸とするように構成され
る。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図1は、本発明による微小凹凸の
検査方法を実行するための検査装置を示す構成図であ
る。図に示すように、面状の拡散光源である主光源1か
らガラス等の被検物2に照射された光は、被検物2の表
面で正反射され、CCDエリアカメラ等の撮像素子4に
入力する。また、補助光源3が、補助光源3による被検
物2における正反射光が撮像素子4に入射しないよう
に、すなわち被検物2に対して浅い角度で光が入射する
ような位置に設置される。この実施の形態では、補助光
源3は、被検物2に対して撮像素子4と同じ側に、ま
た、被検物2の法線に対して撮像素子4と同じ側に設置
されている。
【0009】次に、演算装置5に取り込まれる画像につ
いて図2を参照して説明する。図2(A)において、
(a)は主光源1からの光のみが被検物2に照射された
場合の画像の例を示し、(b)は補助光源3からの光の
みが被検物2に照射された場合の画像の例を示し、
(c)は双方の光が被検物2に照射された場合の画像の
例を示す模式図である。ここで、被検物2の表面に微小
凹凸6とほこり7がある場合を考える。図2(B)の
(a),(b),(c)は、それぞれ図2(A)の
(a),(b),(c)に示された各画像におけるI−
I断面の光量の例を示す説明図である。図2(B)に
は、微小凹凸6による信号61,62,63と、ほこり
7による信号71,72,73が示されている。
【0010】主光源1からの光のみが被検物2に照射さ
れた場合には、被検物2の全面での正反射光が撮像素子
4に入射され明視野となる。微小凹凸6の部分では反射
角が微妙にずれる。そのために、微小凹凸6の部分で
は、反射光が曲げられて暗点となる。ほこり7は散乱要
素であるから、光が散乱される分だけ正反射光が減り、
ほこり7の部分では暗点となる。よって、図2(B)の
(a)に示すように、微小凹凸6およびほこり7の部分
で光量が小さくなった信号が現れる。
【0011】補助光源3からの光のみが被検物2に照射
された場合には、正反射光が撮像素子4に入射されず暗
視野になる。ほこり7の部分では光が散乱されて撮像素
子4に入り、ほこり7の部分は明点となる。しかし、微
小凹凸6の部分では、多少反射光が曲げられるものの、
反射光は撮像素子4に入射されず明点とはならない。よ
って、図2(B)の(b)に示すように、ほこり7の部
分で光量が大きくなった信号が現れる。
【0012】主光源1からの光と補助光源3からの光が
被検物2に同時に照射された場合には、主光源1による
正反射光が撮像素子4に入射されるので明視野となる。
そして、微小凹凸6の部分では、反射光が曲げられて暗
点となる。一方、ほこり7の部分では、主光源1からの
光の散乱による光量の減少と補助光源3からの光の散乱
による光量の増加とが同時に起こる。しかし、補助光源
3からの光の散乱による光量の増加量が主光源1からの
光の散乱による光量の減少量よりも大きくなるように、
補助光源3による被検物2の面の照度を主光源1による
被検物2の面の照度に対して強くしておけば、ほこり7
の部分では明点となる。よって、図2(B)の(c)に
示すように、ほこり7の部分で光量が大きくなり、微小
凹凸6の部分で光量が小さくなった信号が現れる。
【0013】以上のことから、主光源1からの光と補助
光源3からの光とを被検物2に同時に照射すれば、被検
物2における微小凹凸6とほこり7とを区別して検出で
きることがわかる。具体的には、図1に示す主光源1と
補助光源3とを点灯した状態で撮像素子4が被検物2の
反射像を撮像し、画像を演算装置5に出力する。演算装
置5は、入力した画像のうちの光量が小さい画素に対応
した部分を微小凹凸6であると判定する。また、光量が
大きい画素に対応した部分にほこり7が存在すると判定
する。
【0014】次に、図2(A)の(a)に示すような明
視野で暗点にならないような微弱な微小凹凸も検出でき
るように感度を上げる方法について説明する。図3
(A)は、主光源1をストライプパターンとして、主光
源1からの光と補助光源3からの光とを被検物2に同時
に照射した場合の画像を示す模式図である。また、図3
(B)は、図3(A)に示された各画像におけるI−I
断面の光量の例を示す説明図である。図3(B)に示す
ように、ほこり7の部分で光量が大きくなった信号74
が現れ、微小凹凸6の部分で光量が小さくなった信号6
4が現れる。また、黒ストライプの部分で光量が小さく
なった信号8が現れる。
【0015】ここで、撮像素子4の焦点は被検物2の表
面(被検面)に合っているので、黒ストライプの部分で
はエッジがぼけた小さな信号8が現れる。よって、画像
に対してハイパスフィルタ処理を施すことによって、そ
れらの信号8を除去することができる。
【0016】上述したように、微小凹凸は、反射角が微
妙にずれることによって、撮像された画像における光量
が変わり、光量変化にもとづいて検出される。ストライ
プがない場合の明視野では主光源1の外の像が撮像され
るほどに反射角度を変える凹凸の斜面が急な部分のみが
検出される。すなわち、検出の感度は比較的低い。しか
しストライプがある場合には、近傍の黒部分の反射像が
撮像される程度の小さな反射角度の変化を引き起こす緩
やかな傾斜の部分も検出される。すなわち、主光源1を
ストライプパターンにすると、検出の感度を上げること
ができる。また、ストライプパターンのピッチや白黒の
比を変えることによって、どの程度の角度の凹凸まで検
出するか調整することができる。すなわち、ストライプ
パターンのピッチや白黒の比を変えることによって、感
度を変えることができる。
【0017】次に、図4のフローチャートを参照して具
体的な動作について説明する。まず、図1に示す主光源
1と補助光源3とを点灯した状態で撮像素子4が被検物
2の反射像を撮像し画像を演算装置5に出力する。演算
装置5は画像を取り込む(ステップS1)。そして、演
算装置5は、スムージング等のローパスフィルタ処理を
施す(ステップS21)。この結果、黒ストライプの像
を含み、微小凹凸6とほこり7による信号が除去された
画像が得られる。次いで、入力した原画像とローパスフ
ィルタ処理が施された画像との差を算出する(ステップ
S22)。この結果、黒ストライプの部分が除去され、
微小凹凸6とほこり7による信号が現れた画像が得られ
る。なお、ステップS21とステップS22の処理が、
ハイパスフィルタ処理(ステップS2)となっている。
【0018】演算装置5は、ステップS2で得られた画
像を構成する各画素を、正のしきい値および負のしきい
値と比較する。ここで、0は明視野の光量に相当する値
である。図2(B)の(c)に示されたように、微小凹
凸6の部分では光量が負の値として現れ、ほこり7は正
の値として現れる。よって、正負のしきい値を適切に設
定すれば、正のしきい値を越えた画素に相当する部分を
ほこり7、負のしきい値よりも小さい画素に相当する部
分を微小凹凸6と判定することができる。
【0019】以上のように、主光源1をストライプパタ
ーンとし、主光源1と補助光源3とを同時に点灯し、得
られた画像についてハイパスフィルタ処理を施すことに
よって、微小凹凸6およびほこり7を、あるしきい値以
下、以上として検出できる。そして、主光源1をストラ
イプパターンにした場合には検出感度が上がっている。
なお、微小凹凸6が黒ストライプ上に存在する場合で
も、それを問題なく検出することができる。図5〜図7
は、そのことを説明するための説明図である。
【0020】図5は、被検面に凹凸がない場合を示して
いる。撮像素子4の焦点は被検面上にあるので、主光源
1の面はぼけた状態になっている。つまり、撮像素子4
の1画素が見る領域は光路10のように広がり、その画
素には、黒ストライプ9より広い領域の平均的光量が入
力される。図6は、被検面に微小凹部11がある場合を
示している。微小凹部11は、焦点を結んだ直後に凹面
鏡を入れた状態と同じ効果を示すので、主光源1の面に
おいて焦点ずれの影響を弱める。従って、撮像素子4の
1画素が見る領域は光路12のように狭まり、撮像され
た画像において、その画素の信号は、図5に示された場
合に比べて小さくなる。
【0021】図7は、被検面に微小凸部13がある場合
を示している。微小凸部13は焦点を結ぶ前に凸面鏡を
入れた状態と同じ効果を示すので、焦点を結ぶ位置が遠
くなって、やはり主光源1の面において焦点ずれの影響
を弱める。従って、撮像素子4の1画素が見る領域は、
やはり光路14のように狭まり、撮像された画像におい
て、その画素の信号は、図5に示された場合に比べて小
さくなる。以上のように、黒ストライプの照射位置に微
小凹凸があっても、微小凹凸がない場合に比べて画像に
おける信号レベルが小さくなるので、微小凹凸は問題な
く検出される。
【0022】以上、被検物2の表面の微小凹凸をほこり
等の散乱性欠点と区別して検出する場合について説明し
た。しかし、ほこり等の影響を除去して被検物2の表面
の微小凹凸欠点を検出するのに本発明を適用できるだけ
でなく、ほこりのない状況では、主光源1と補助光源3
とを同時に用いて、微小凹凸欠点を暗点、きずなどの散
乱性欠点を明点として、それらを同時に区別して検出す
るために本発明を適用することもできる。また、本発明
によれば、微小凹凸の位置と大きさとを検出できるの
で、表面に凹凸が施された被検物2の凹凸むらを、ほこ
り等の影響をうけずに評価することもできる。さらに、
被検物2の凹凸むらの評価と、きずなどの欠点の検出と
を同時に行うこともできる。
【0023】上記の実施の形態では、図1に示されたよ
うに、補助光源3が、被検物2に対して撮像素子4と同
じ側に、また、被検物2の法線に対して撮像素子4と同
じ側に設置されていた。しかし、図1に示された場合と
同様に照射の光軸が被検面に近い角度に設定されていれ
ば、図8に示すように、補助光源3が被検物2の法線に
対して撮像素子4と反対側に設置されていても、上記の
実施の形態の場合と同様の効果を得ることができる。さ
らに、図9に示すように、被検物2に対して撮像素子4
とは反対側であって、補助光源3による被検物2の透過
光が撮像素子4に入らないような位置に補助光源3を設
置してもよい。この場合には、補助光源3による被検物
2の透過光による散乱が微小凹凸と散乱性欠点とを識別
する作用を果たす。
【0024】また、図10および図11に示すように、
被検物2に対して主光源1を撮像素子4と反対側に設置
し、被検物2の透過光による明視野を形成するようにし
ても、上記の実施の形態の場合と同様の効果を得ること
ができる。その場合、図10に示すように、補助光源3
を被検物2に対して撮像素子4と同じ側に設置してもよ
いし、図11に示すように、補助光源3を被検物2に対
して撮像素子4と反対側に設置してもよい。なお、被検
物2の透過光による明視野を形成する場合には、微小凹
凸において透過光が微妙に屈折するために、撮像された
画像において微小凹凸に部分が暗点になる。
【0025】検査装置を、主光源1、補助光源3および
撮像素子4がひとまとまりになった構成にすることもで
きる。そして、主光源1、補助光源3および撮像素子3
と被検面との角度を一定に保ちつつ被検物2の形状に沿
って検査装置を移動させることによって、撮像素子4の
視野を越える広い範囲の検査を容易に行うことができ
る。
【0026】以下、本発明の具体的適用例を説明する。
ブラウン管用ガラスの外面の微小な凹み群を検査対象と
し、図1に示された反射光学系を用い、被検面の法線と
撮像素子4の光軸とを15°傾けた。そして、ガラス面
上で1画素が0.033mm×0.033mmとなるよ
うに、また、F16となる光学条件を設定した。主光源
1として高周波の拡散光源にストライプフィルムを重ね
たものを用い、ストライプパターンを、白と黒の幅が
2:1の比でピッチ1.9mmとし、画像上で1ピッチ
が37画素に相当するように設定した。補助光源3とし
てファイバ光源を用い、被検面に対して25°の角度で
光が照射されるようにファイバ光源を設置した。
【0027】また、得られた画像に対して3×3のスム
ージング処理を2回行ってローパスフィルタ処理を行
い、得られた原画像とローパスフィルタ処理が施された
画像との差の画像において、しきい値以下の領域を欠点
とした。
【0028】そして、約10mm角の領域に対して被検
面上の微小凹みの数を数える検査を用いたところ、目視
で詳細に確認した数に対して検出率は86%であり、微
小凹凸以外を検出した誤検出率は総検出数に対して9%
であった。
【0029】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、微小凹
凸の検査方法を、光源からの光を被検物に照射するとと
もに被検物における正反射光または透過光が受光部に入
射しないよう設置された補助光源からの光を被検物に照
射するように構成にしたので、ほこり等の散乱要因を選
択的に光らせることができ、その結果、被検物表面の微
小凹凸欠点を、ほこり等の他の欠点や誤検出要因と区別
して検査することができ、精度のよい確実な検査を行う
ことができる。
【0030】また、微小凹凸の検査装置を、被検物にお
ける正反射光または透過光が受光部に入射しないよう設
置された補助光源を備え、演算装置が、光源部からの光
と補助光源からの光が同時に被検物に照射されている状
態で得られた画像中の各画素の信号レベルを判定する構
成にしたので、ほこり等の散乱要因を選択的に光らせた
画像を解析することによって微小凹凸を散乱要因と区別
して検査することができるようになり、また、複数セン
サや光源および受光部の位置合わせを行う必要はなく、
検査装置の調整や保守が容易化される効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による微小凹凸の検査装置を示す構成
図である。
【図2】 (A)は撮像される画像の例を示す模式図、
(B)は、(A)に示された各画像におけるI−I断面
の光量の例を示す説明図である。
【図3】 ストライプパターンの主光源からの光と補助
光源からの光とを被検物に同時に照射した場合に得られ
る画像を示す模式図である。
【図4】 演算装置の信号処理の一例を示すフローチャ
ートである。
【図5】 被検面に凹凸がない場合の光路を示す説明図
である。
【図6】 被検面に微小凹部がある場合の光路を示す説
明図である。
【図7】 被検面に微小凸部がある場合の光路を示す説
明図である。
【図8】 本発明による微小凹凸の検査装置の他の実施
の形態を示す構成図である。
【図9】 本発明による微小凹凸の検査装置のさらに他
の実施の形態を示す構成図である。
【図10】 本発明による微小凹凸の検査装置のさらに
他の実施の形態を示す構成図である。
【図11】 本発明による微小凹凸の検査装置のさらに
他の実施の形態を示す構成図である。
【符号の説明】
1 主光源 2 被検物 3 補助光源 4 撮像素子 5 演算装置

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源から照射された光の被検物表面での
    反射光または被検物での透過光を受光し、受光して得ら
    れた画像を用いて被検物表面の微小凹凸を検査する微小
    凹凸の検査方法であって、 前記光源からの光を前記被検物に照射するとともに、前
    記被検物における正反射光または透過光が受光部に入射
    しないよう設置された補助光源からの光を前記被検物に
    照射することを特徴とする微小凹凸の検査方法。
  2. 【請求項2】 受光して得られた画像中の暗点を微小凹
    凸と判定する請求項1記載の微小凹凸の検査方法。
  3. 【請求項3】 主光源としてストライプパターンを有す
    る光源を使用する請求項1または請求項2記載の微小凹
    凸の検査方法。
  4. 【請求項4】 光源部から照射された光が被検物表面で
    反射された反射光または被検物を透過した透過光を受光
    し、受光して得られた画像を用いて被検物表面の微小凹
    凸を検査する微小凹凸の検査装置であって、 前記被検物における正反射光または透過光が受光部に入
    射しないよう設置された補助光源と、 前記光源部からの光と前記補助光源からの光が同時に前
    記被検物に照射されている状態で得られた画像中の各画
    素の信号レベルを判定し、暗点を微小凹凸とする演算装
    置とを備えたことを特徴とする微小凹凸の検査装置。
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Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002090952A1 (de) * 2001-05-08 2002-11-14 Wolfgang Weinhold Verfahren und vorrichtung zur berührungsfreien untersuchung eines gegenstandes, insbesondere hinsichtlich dessen oberflächengestalt
JP2006266933A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透明板状体の欠点検査方法及び欠点検査装置
JP2007271510A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Tsubakimoto Chain Co 外観検査方法及び外観検査装置
JP2009537022A (ja) * 2006-05-12 2009-10-22 コーニング インコーポレイテッド 透明基板の欠陥の特性評価のための装置及び方法
EP1914539A3 (en) * 2006-10-11 2010-01-20 Nitto Denko Corporation Test data processing apparatus and test data processing method
JP2011203223A (ja) * 2010-03-26 2011-10-13 Panasonic Electric Works Co Ltd 欠陥検出装置および欠陥検出方法
DE102010055220A1 (de) 2009-12-18 2014-05-08 Posco Verfahren und System zur Erfassung von Normabweichungen in der Qualität beim Kaltwalzen
JP2014145656A (ja) * 2013-01-29 2014-08-14 Nikka Kk 微粒子付着状態可視化方法、および微粒子付着状態可視化装置
WO2018139237A1 (ja) * 2017-01-25 2018-08-02 国立研究開発法人産業技術総合研究所 画像処理方法
JP2019020416A (ja) * 2017-07-20 2019-02-07 日立金属株式会社 金属薄板検査装置および金属薄板の検査方法
JP2019082333A (ja) * 2017-10-27 2019-05-30 株式会社ニコン 検査装置、検査システム、および検査方法
CN110672621A (zh) * 2019-10-10 2020-01-10 清华大学 基于光照亮度调整的汽车涂装表面缺陷图像质量优化方法
CN111351795A (zh) * 2020-02-27 2020-06-30 杨孝兰 一种基于特殊结构光的镜面物体及透明物体检测方法
CN111443040A (zh) * 2020-05-14 2020-07-24 成都德图福思科技有限公司 反光透光复合材料表面激光打码蚀痕的成像系统及方法
WO2022130843A1 (ja) * 2020-12-16 2022-06-23 株式会社日立ハイテクファインシステムズ 外観検査方法、外観検査装置、構造体に対する加工方法および装置

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002090952A1 (de) * 2001-05-08 2002-11-14 Wolfgang Weinhold Verfahren und vorrichtung zur berührungsfreien untersuchung eines gegenstandes, insbesondere hinsichtlich dessen oberflächengestalt
JP2006266933A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透明板状体の欠点検査方法及び欠点検査装置
JP4575202B2 (ja) * 2005-03-24 2010-11-04 日本板硝子株式会社 透明板状体の欠点検査方法及び欠点検査装置
JP2007271510A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Tsubakimoto Chain Co 外観検査方法及び外観検査装置
JP2009537022A (ja) * 2006-05-12 2009-10-22 コーニング インコーポレイテッド 透明基板の欠陥の特性評価のための装置及び方法
EP1914539A3 (en) * 2006-10-11 2010-01-20 Nitto Denko Corporation Test data processing apparatus and test data processing method
US8149376B2 (en) 2006-10-11 2012-04-03 Nitto Denko Corporation Test data processing apparatus and test data processing method
DE102010055220A1 (de) 2009-12-18 2014-05-08 Posco Verfahren und System zur Erfassung von Normabweichungen in der Qualität beim Kaltwalzen
JP2011203223A (ja) * 2010-03-26 2011-10-13 Panasonic Electric Works Co Ltd 欠陥検出装置および欠陥検出方法
JP2014145656A (ja) * 2013-01-29 2014-08-14 Nikka Kk 微粒子付着状態可視化方法、および微粒子付着状態可視化装置
WO2018139237A1 (ja) * 2017-01-25 2018-08-02 国立研究開発法人産業技術総合研究所 画像処理方法
JPWO2018139237A1 (ja) * 2017-01-25 2019-07-04 国立研究開発法人産業技術総合研究所 画像処理方法
CN110214262A (zh) * 2017-01-25 2019-09-06 国立研究开发法人产业技术综合研究所 图像处理方法
US11076093B2 (en) 2017-01-25 2021-07-27 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Image processing method
JP2019020416A (ja) * 2017-07-20 2019-02-07 日立金属株式会社 金属薄板検査装置および金属薄板の検査方法
JP2019082333A (ja) * 2017-10-27 2019-05-30 株式会社ニコン 検査装置、検査システム、および検査方法
CN110672621A (zh) * 2019-10-10 2020-01-10 清华大学 基于光照亮度调整的汽车涂装表面缺陷图像质量优化方法
CN111351795A (zh) * 2020-02-27 2020-06-30 杨孝兰 一种基于特殊结构光的镜面物体及透明物体检测方法
CN111443040A (zh) * 2020-05-14 2020-07-24 成都德图福思科技有限公司 反光透光复合材料表面激光打码蚀痕的成像系统及方法
WO2022130843A1 (ja) * 2020-12-16 2022-06-23 株式会社日立ハイテクファインシステムズ 外観検査方法、外観検査装置、構造体に対する加工方法および装置

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