JPH11310617A - エチレンの重合体及びその製造方法、並びにその使用方法 - Google Patents
エチレンの重合体及びその製造方法、並びにその使用方法Info
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Abstract
12−α−オレフィン単位からなり、3を超える分子量分
布Mw /Mn を有し、なおかつコモノマーの分布が狭い
エチレン共重合体を提供する。 【解決手段】 エチレン単位及び少なくとも1種のC3
〜C12−α−オレフィン単位からなり、且つ3を超える
分子量分布Mw /Mn を有し、更にTREF法により決
定される平均加重溶離温度Ta の標準偏差σが、下記
式: σ>k4 −k1 (Ta −k0 )−k2 k3 (Ta −k
0 )/(1+k3 (Ta −k0 ))[℃] [但し、k0 が338.5℃であり、k1 が0.053
であり、k2 が1.1318℃であり、k3 が0.00
483℃-1であり、k4 が0.55℃であり、Ta が<
98℃である。]に従うことにより規定されるコモノマ
ーの分布を有するエチレン共重合体。
Description
狭いエチレン共重合体の製造方法、フィルム、中空体又
は繊維の製造にこれらのエチレン共重合体を使用する方
法、及びこれらのエチレン共重合体から製造されたフィ
ルム、中空体又は繊維に関する。
合を実施する際には、エチレン共重合体中にこれらのコ
モノマーを高濃度で含有するものを得ることが望まし
い。コモノマー含有の効果は、メタロセン触媒を使用
し、このような触媒を使用した時にこれらの金属錯体の
リガンド構造を規則的にすることにより制御できる場合
に、特に高い。
ル環の間の開口角度が、内包する特性に顕著な影響を与
えると考えられる。大きな開口角度は、例えば、SiM
e2、C2 H4 ブリッジにより環を橋かけすることによ
り得られる。このようなメタロセン触媒は、例えば、E
P336128に記載されている。
に最も重要な重合方法は、気相重合法及び懸濁重合法で
ある。このような共重合を行うためには、触媒を適当な
担体(例、シリカゲル)に処理することが必要である。
ば、WO95/07939、WO87/03889、W
O94/28034、EP206794及びEP250
600に記載されている。これらの場合、MAO(メチ
ルアルミノオキサン)又は他のアルミノオキサンの幾つ
かは、助触媒として使用される。更に、活性剤として硼
素化合物が使用されるメタロセンを担持する方法が、既
に記載されている(参照、例えばWO91/0988
2、WO94/03506、WO95/14044、E
P628574、WO95/15815)。
体は、ほとんど極めて均一にコモノマーを包含すると共
に、著しく狭い分子量分布を示し、このため、これらの
材料から得られるフィルムは優れた強度及び光沢性能等
の幾つかの望ましい特性を示す。しかしながら、狭い分
子量分布のために、ポリマー工業で通常使用される機械
での加工は、極めて広範囲で妨害される。例えば、クロ
ム或いはチタン触媒を用いて得られるであろう広い分子
量分布の重合体は、遙かに容易に加工できるが、コモノ
マー(ブテン、ヘキセン、オクテン)が重合体分子上に
不均一に分布するとの欠点を有する。従って、低分子量
部分におけるコモノマーの濃度が、高分子量部分より顕
著に大きく、その結果、これらの加工容易な重合体は機
械特性が不満足なものである。
を有する共重合体を製造する従来の試みでは、全て不満
足な生成物しか得られていない。EP−A613908
には、分子量分布Mw /Mn が32までの共重合体の製
造が記載されているが、これらの共重合体もコモノマー
の分布が広い。
広い共重合体が記載されているが、この分子量分布の広
がりは、コモノマーの広い分布及び低分子の高含有量
(4.1〜13.3%の高いヘキサン抽出含有量)の犠
牲の上に得られるものである。
分布が狭く、分子量分布が狭い重合体を製造することが
できる担持触媒組成物が記載されている。これらの触媒
組成物は、橋かけ又は非橋かけメタロセンリガンドを有
するメタロセン錯体含んでいる。この刊行物では、共重
合又はその生成物について何ら記載がない。
レン単位及び少なくとも1種のC3 〜C12−α−オレフ
ィン単位からなり、3を超える分子量分布Mw /Mn を
有し、なおかつコモノマーの分布が狭いエチレン共重合
体を提供することにある。
は、エチレン単位及び少なくとも1種のC3 〜C12−α
−オレフィン単位からなり、且つ3を超える分子量分布
Mw /Mn を有し、更に温度上昇溶離留分(画分)(Te
mperature Rising Elution Fraction ;TREF)法に
より測定される平均加重溶離温度Ta の標準偏差σが、
下記式GI: σ<k4 -k1 (Ta -k0 )-k2 k3 (Ta -k0 )/(1+k3 (Ta -k0 )) [℃] ・・・・・ GI [但し、k0 が338.5℃であり、k1 が0.053
であり、k2 が1.1318℃であり、k3 が0.00
483℃-1であり、k4 が0.55℃であり、T a が<
98℃である。]に従うことにより規定されるコモノマ
ーの分布を有するエチレン共重合体、により達成される
ことを見出した。
体の製造方法、フィルム、中空体又は繊維の製造にこれ
らの共重合体を使用する方法、及びこれらの共重合体か
ら製造されたフィルム、中空体又は繊維も見出した。
は、TREF法により決定することができる平均加重溶
離温度(average-weighted elution temperature)Ta
の標準偏差に換算して記載することができる。このTR
EF法は、例えば、Wild, Advances inPolymer Scienc
e, 98, 1-47 頁, 1990, Springer-Verlag and Wild, Bl
atz, Polymer Mater. Sci. Eng. 67, 153 頁, 1992に記
載されている。平均加重溶離温度Ta とその標準偏差σ
は、下記のように使用される(参照、Bevington, McGra
w-Hill, Data Reduction & Error Analysis for the Ph
ysical Sciences, 1969 )。
i ))1/2 従って、Ti は点iにおける温度を表し、そしてc(T
i )は温度Ti における重合体濃度を表す。
k3 、及びk4 として上記値を用いる式GIに定義する
ことができる標準偏差σが異常に小さい。
が496.5℃で、k1 が0.0467、k2 が1.1
318℃、k3 が0.00483℃-1、k4 が0.55
℃、Ta が<98℃である。]に従う充分に小さい場合
の共重合体が好ましい。
モノマーの狭い分布と比較的広い分子量分布との組合せ
により実質的にもたらされる。この分子量分布Mw /M
n は、一般に3を超え、3を超え、且つ8未満が好まし
く、更に3.5〜7.0の範囲が好ましい。
らず、少なくとも1種のC3 〜C12−α−オレフィン単
位を含んでいる。好適なα−オレフィンとしては、プロ
ペン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテ
ン、ノネン、デセン、ウンデセン、及びドデセンを挙げ
ることができる。ブテン及びヘキセンから誘導されるコ
モノマー単位が好ましい。
要求される質量密度により支配される。本発明の共重合
体は、通常、質量密度が0.87〜0.96g/cm
3 、好ましくは0.90〜0.94g/cm3 、更に好
ましくは0.910〜0.935g/cm3 となるよう
なコモノマー含有量を有する。
布を示し得る。この場合の、分子量を所望の値への調整
は、当該の技術者にとって慣用の方法、即ち、例えば重
合温度の変更、又は水素等の試薬を用いることにより、
行うことができる。共重合体の分子量Mw は、通常10
0000を超えるものであり、好ましくは150000
を超える。
が好ましい。この部分は、ヘプタン抽出含有量となる得
る部分で、例えば、共重合体の感覚試験に否定的な影響
を与える。本発明の共重合体のヘプタン抽出含有量は、
共重合体全重量に対して、好ましくは4重量%未満、更
に好ましくは1重量%未満、最も好ましくは0.1重量
%未満である。
々の方法で製造することができる。このような製造の1
例としては、共重合を担持触媒組成物を用いて行うこと
に特徴を有する方法である。
応: M1 (R1 )r (R2 )s (R3 )t (R4 )u I [但し、M1 がアルカリ金属、アルカリ土類金属又は第
IIIA族若しくは第IVA 族の金属を表し、R1 が水素、C
1 〜C10アルキル、C6 〜C15アリール、又はアルキル
基の炭素原子数が1〜10で、アリール基の炭素原子数
が6〜20であるアルキルアリール又はアリールアルキ
ルを表し、R2 〜R4 が水素、ハロゲン、C1 〜C10ア
ルキル、C6 〜C15アリール、又はアルキル基の炭素原
子数が1〜10で、アリール基の炭素原子数が6〜20
であるアルキルアリール、アリールアルキル、アルコキ
シ若しくはジアルキルアミノを表し、rが1〜4の整数
を表し、そしてs、t及びuが、0〜3の整数で、r、
s、t及びuの合計hがM1 の原子価と等しい。] B)上記A)で得られた材料と、金属ジハライド体の橋
かけメタロセン錯体及びメタロセニウムイオン形成化合
物との反応、次いで C)下記の式IIの金属化合物との反応: M2 (R5 )o (R6 )p (R7 )q II [但し、M2 がアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛
又は第IIIA族の金属を表し、R5 が水素、C1 〜C10ア
ルキル、C6 〜C15アリール、又はアルキル基の炭素原
子数が1〜10で、アリール基の炭素原子数が6〜20
であるアルキルアリール若しくはアリールアルキルを表
し、R6 及びR7 が水素、ハロゲン、C1 〜C10アルキ
ル、C6 〜C15アリール、又はアルキル基の炭素原子数
が1〜10で、アリール基の炭素原子数が6〜20であ
るアルキルアリール、アリールアルキル若しくはアルコ
キシを表し、oが1〜3の整数を表し、そしてp及びq
が、0〜2の整数で、o、p及びqの合計がM2 の原子
価と等しい。]による得ることができる。
その粒径が好ましくは1〜200μm、特に30〜70
μmの範囲である。
ましくは式SiO2 ・a Al2 O3(aは0〜2の範囲
の数字、好ましくは0〜0.5を表す)表されるもの;
即ち、アルミノ珪酸塩又は二酸化珪素を挙げることがで
きる。このような製品は市販品、例えばシリカゲル33
2(Grace 社製)又はES70x(Grosfield 社製)と
して入手可能である。
料を、加熱処理するか、或いは所望により、焼成する。
上記処理は、好ましくは80〜200℃、更に好ましく
は100〜150℃の範囲で行われる。
化合物を含む混合物などの他の無機材料を、同様に担持
材料として使用することができる。
IA族金属、特にアルミニウムを表し、R1 がC1 〜C10
アルキルを表し、R2 〜R4 がC1 〜C10アルキルを表
す場合の化合物が好ましい。M1 がアルミニウムを表
し、uが0、R1 〜R3 が好ましくは同一で、好ましく
はメチル、エチル、イソブチル又はヘキシル、更に好ま
しくはイソブチルを表す場合の化合物が、特に好まし
い。
液に溶液として添加されるのが好ましい。特に好適な溶
剤又は懸濁試薬は、ヘプタン等の炭化水素である。金属
化合物Iの量は、広い範囲で変更可能である。最低量
は、担持材料のヒドロキシル基の数により支配される。
温度、反応時間及び圧力は、臨界的ではない。温度は0
〜80℃、反応時間は0.1〜48時間が好ましい。
ン、ヘキサン等の炭化水素を用いて水簸(磨砕)するこ
とにより過剰の金属化合物Iを除去し、次いで担持材料
を乾燥することが、有利であることを見出した。
6ヶ月の期間貯蔵でき、自燃性ではない。
ン錯体及びメタロセニウムイオン形成化合物と、次の工
程B)で反応させる。
材料の処理を、単一工程で行っても良い。この場合、前
処理した担持材料は単離されないが、代わりに得られた
懸濁液を、金属ジハライド体のメタロセン錯体及びメタ
ロセニウムイオン形成化合物と直接反応させる。
の一般式III で表される化合物を挙げることができる:
キルを表すか、R8 〜R15の隣接する2個の基が炭素原
子数4〜12の環式基を形成し;R16が
−S−、=SO、=SO2 、=NR18、=CO、=PR
18、又は=P(O)R18を表し;そしてR17、R18及び
R19が同じでも、異なっていて良く、水素、ハロゲン、
C1 〜C10アルキル、C1 〜C10フルオロアルキル、C
6 〜C10フルオロアリール、C6 〜C10アリール、C1
〜C10アルコキシ、C2 〜C10アルケニル、C7 〜C40
アリールアルキル、C8 〜C40アリールアルケニル又は
C7 〜C40アルキルアリールを表し、或いは、隣接する
2個の基が、それらが結合する原子と共に環を形成し;
そしてM3 が珪素、ゲルマニウム又は錫を表す。
かけシクロペンタジエニルリガンドが、インデニル、テ
トラヒドロインデニル又はベンズインデニル環系から由
来するものであることが好ましい。更に、このような化
合物III は、置換又は無置換シクロペンタジエニルリガ
ンドがエチレン基又は置換エチレン基又はジメチルシリ
ル基により架橋されているものが好ましい。
チルシランジイル−ビス(シクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロリド、ジメチルシランジイル−ビス(イ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシランジ
イル−ビス(テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジ
クロリド、エチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロリド、エチレンル−ビス(インデニ
ル)ジルコニウムジクロリド、エチレン−ビス(テトラ
ヒドロインデニル)ジルコニウムジクロリド、テトラメ
チレン−9−フルオレニルシクロペンタジエニルジルコ
ニウムジクロリド、ジメチルシランジイル−ビス(3−
t−ブチル−5−メチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリド、ジメチルシランジイル−ビス(3−
t−ブチル−5−エチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリド、ジメチルシランジイル−ビス(2−
メチルインデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチル
シランジイル−ビス(2−イソプロピルインデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシランジイル−ビス
(2−t−ブチルインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ジエチルシランジイル−ビス(2−メチルインデニ
ル)ジルコニウムジブロミド、ジメチルシランジイル−
ビス(3−メチル−5−メチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシランジイル−ビス
(3−エチル−5−イソプロピルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシランジイル−
ビス(2−メチルインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシランジイル−ビス(2−メチルベンズイ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド、及びジメチルシラ
ンジイル−ビス(2−メチルインデニル)ハフニウムジ
クロリドを挙げることができる。
造することができ、適宜置換された環式炭化水素アニオ
ンとジルコニウムのハロゲン化物との反応が好ましい。
rganometallic Chemistry, 369, (1989), 359-370 に記
載されている。
使用することができる。
しては、特に、強中性ルイス酸、ルイス酸カチオンを有
するイオン性化合物、及びブレンステッド酸カチオンを
有するイオン性化合物を挙げることができる。
IVで表される化合物である: M4 X1 X2 X3 IV 式中、M4 が第IIIA族、好ましくはB、Al又はGa、
特にBを表し、X1 、X2 及びX3 が水素、ハロゲン、
C1 〜C10アルキル、C6 〜C15アリール、又はアルキ
ル基の炭素原子数が1〜10で、アリール基の炭素原子
数が6〜20であるアルキルアリール、アリールアルキ
ル、ハロアルキル若しくはハロアリール、又は弗素、塩
素、臭素又は沃素を表し、好ましくはハロアリール、特
にペンタフルオロフェニルを表す。
ましくはトリス(ペンタフルオロフェニル)ボランであ
る場合の一般式IVで表される化合物が好ましい。
化合物は、下記の一般式Vで表される化合物である: [(Ya+)Q1 Q2 ・・・Qz ]d+ V 式中、Yが第IA族〜第VIA 族の元素、又は第IB族〜第VI
IIB 族の元素を表し、Q1 〜Qz が、単一の負荷電され
た基、例えばC1 〜C28アルキル;C6 〜C15アリー
ル;アリール基の炭素原子数が6〜20で、アルキル基
の炭素原子数が1〜28であるアルキルアリール、アリ
ールアルキル、ハロアルキル若しくはハロアリールを表
し;所望によりC1 〜C10アルキルで置換されたC1 〜
C10シクロアルキル;ハロゲン;C1 〜C28アルコキ
シ;C6 〜C15アリールオキシ;シリル;又はメルカプ
チルを表し、aが1〜6の整数を表し、zが0〜5の整
数を表し、そしてdが(マイナスのZ)及び1を超える
から1と等しい。
オン及びスルホニウムカチオン、更にカチオン性遷移金
属錯体が特に適当である。トリフェニルメチルカチオ
ン、銀カチオン、及び1,1−ジメチルフェロセニルカ
チオンが、特に注目すべき例である。これらは、非配位
対イオンを有し、特に、例えばWO91/09882に
明記されているような硼素化合物、好ましくはテトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)硼酸塩である。
は非配位対イオンを有するイオン性化合物がWO91/
09882に明記されており、好ましいカチオンとして
はN,N−ジメチルアニリニウムを挙げることができ
る。
メタロセン錯体III に対して0.1〜10当量が好まし
い。
成化合物との反応に用いられる条件は、臨界的ではない
が、溶液で行うのが好ましい。適当な溶剤としては、好
ましくは炭化水素、特に好ましくはトルエン等の芳香族
である。
料が加えられる。メタロセン錯体の濃度は、無機担持材
料に対して0.1〜10重量%が特に好適である。この
転化に用いる条件は、臨界的ではないが、20〜100
℃の温度、0.1〜20時間の反応時間が特に適当であ
る。
き、また少なくとも6時間貯蔵することが可能である。
られた材料を一般式IIの金属化合物と反応させる。この
活性化はいつでも起こる;即ち、B)で得られた材料を
反応器に計量する前、計量中、計量後に起こる。活性化
は、B)で得られた材料を反応器に計量した後に起こる
ことが好ましい。
ム、マグネシウム又はアルミニウムを表し、そしてR5
〜R7 がC1 〜C10アルキルを表す場合が好ましい。
は、臨界的でない。温度、反応時間及び圧力は、転化、
即ち活性化が起こる時期により変わる。
で行うことができ、気相共重合が好ましい。
好な加工性のために、フィルム製造に極めて適してい
る。従って、これらの共重合体のほとんどは、フィル
ム、中空体及び繊維に、慣用装置で加工することができ
る。慣用装置とは、チーグラー又はフィリップス触媒、
或いは高圧ラジカル重合で製造される重合体に使用され
るようなものである。得られるフィルムは優れた強度特
性、及び極めて良好な光学特性を有する。
ml/分; 加熱速度:1℃/分; 重合体の量:5〜10mg; 担体(support) :珪藻土。
従い、下記の条件でGPC−試験により決定した。
束(flux):1ml/分; 温度:140℃; 検量線の作成:ポリスチレンの標準
に対して。
スターラを装備した250mlの容量のフラスコに、1
00mlの無水トルエンを導入した。これに対して、4
00mg(0.5ミリモル)のテトラキス(ペンタフル
オロフェニル)硼酸N,N−ジメチルアニリニウム、
0.5ミリモルのメタロセンジクロリド及び10gのト
リイソブチルアルミニウムで不活性化されたシリカゲル
(ES70X、Crosfield 社製)を加えた。得られた混
合物を80℃で1時間加熱した。溶剤を次いで真空下除
去した。収率:11gの担持触媒。
ジクロリド 2:ジメチルシリル−ビス(テトラヒドロインデニル)
ジルコニウムジクロリド 3:1,2−エチレン−ビス(テトラヒドロインデニ
ル)ジルコニウムジクロリド 4:1,2−エチレン−ビス(インデニル)ジルコニウ
ムジクロリド
のスチール製攪拌オートクレーブに、注意深く窒素置換
した後、4.5Lのイソブタン、400mlのブテン−
1及び300mgのブチルオクチルマグネシウム(0.
3Mのヘプタン溶液で)を導入し、70℃の重合温度に
自動調節するようにした。その後、担持触媒を別の0.
5Lのイソブタンで流し入れ、そしてエチレンを全圧力
が38バールとなるように圧入した。オートクレーブ中
の圧力は、エチレンを補充することにより一定に保っ
た。90分間経過後、重合をオートクレーブの圧力を低
下させることにより停止した。さらさらした粗粉末の重
合体を得た。
1に列挙する。
量のスチール製攪拌オートクレーブに、注意深く窒素置
換した後、4.5Lのイソブタン、400mlの1−ヘ
キセン及び300mgのブチルオクチルマグネシウム
(0.3Mのヘプタン溶液で)を導入し、70℃の重合
温度に自動調節するようにした。その後、担持触媒を別
の0.5Lのイソブタンで流し入れ、そしてエチレンを
全圧力が38バールとなるように圧入した。オートクレ
ーブ中の圧力は、エチレンを補充することにより一定に
保った。90分間経過後、重合をオートクレーブの圧力
を低下させることにより停止した。さらさらした粗粉末
の重合体を得た。
性を表2に列挙する。
TREF分析を行った。
Claims (12)
- 【請求項1】 エチレン単位及び少なくとも1種のC3
〜C12−α−オレフィン単位からなり、且つ3を超える
分子量分布Mw /Mn を有し、更に温度上昇溶離留分
(TREF)法により測定される平均加重溶離温度Ta
の標準偏差σが、下記式GI: σ<k4 -k1 (Ta -k0 )-k2 k3 (Ta -k0 )/(1+k3 (Ta -k0 )) [℃] ・・・・・ GI [但し、k0 が338.5℃であり、k1 が0.053
であり、k2 が1.1318℃であり、k3 が0.00
483℃-1であり、k4 が0.55℃であり、Ta が<
98℃である。]に従うことにより規定されるコモノマ
ーの分布を有するエチレン共重合体。 - 【請求項2】 平均加重溶離温度Ta の標準偏差σが、
式GI[但し、k0が496.6℃であり、k1 が0.
0467であり、k2 が1.1318℃であり、k3 が
0.00483℃-1であり、k4 が0.55℃であり、
Ta が<98℃である。]に従うことにより規定される
コモノマー分布を有する請求項1に記載のエチレン共重
合体。 - 【請求項3】 分子量分布Mw /Mn が3を超え、且つ
8未満である請求項1又は2に記載のエチレン共重合
体。 - 【請求項4】 分子量分布Mw /Mn が3.5〜7.0
の範囲にある請求項1〜3のいずれかに記載のエチレン
共重合体。 - 【請求項5】 分子量Mw が150000を超える請求
項1〜4のいずれかに記載のエチレン共重合体。 - 【請求項6】 C3 〜C12−α−オレフィン単位がブテ
ン単位である請求項1〜5のいずれかに記載のエチレン
共重合体。 - 【請求項7】 C3 〜C12−α−オレフィン単位がヘキ
セン単位である請求項1〜5のいずれかに記載のエチレ
ン共重合体。 - 【請求項8】 共重合を、担持触媒組成物を用いて実施
し、該担持触媒組成物として、 A)無機担持材料と下記の一般式Iの金属化合物との反
応: M1 (R1 )r (R2 )s (R3 )t (R4 )u I [但し、M1 がアルカリ金属、アルカリ土類金属又は第
IIIA族若しくは第IVA 族の金属を表し、 R1 が水素、C1 〜C10アルキル、C6 〜C15アリー
ル、又はアルキル基の炭素原子数が1〜10で、アリー
ル基の炭素原子数が6〜20であるアルキルアリール又
はアリールアルキルを表し、 R2 〜R4 が水素、ハロゲン、C1 〜C10アルキル、C
6 〜C15アリール、又はアルキル基の炭素原子数が1〜
10で、アリール基の炭素原子数が6〜20であるアル
キルアリール、アリールアルキル、アルコキシ若しくは
ジアルキルアミノを表し、 rが1〜4の整数を表し、 そしてs、t及びuが、0〜3の整数で、r、s、t及
びuの合計がM1 の原子価と等しい。] B)上記A)で得られた材料と、金属ジハライド体の橋
かけメタロセン錯体及びメタロセニウムイオン形成化合
物との反応、 次いで C)下記の式IIの化合物との反応: M2 (R5 )o (R6 )p (R7 )q II[但
し、M2 がアルカリ金属、アルカリ土類金属、亜鉛又は
第IIIA族の金属を表し、 R5 が水素、C1 〜C10アルキル、C6 〜C15アリー
ル、又はアルキル基の炭素原子数が1〜10で、アリー
ル基の炭素原子数が6〜20であるアルキルアリール若
しくはアリールアルキルを表し、 R6 及びR7 が水素、ハロゲン、C1 〜C10アルキル、
C6 〜C15アリール、又はアルキル基の炭素原子数が1
〜10で、アリール基の炭素原子数が6〜20であるア
ルキルアリール、アリールアルキル若しくはアルコキシ
を表し、 oが1〜3の整数を表し、 そしてp及びqが、0〜2の整数で、o、p及びqの合
計がM2 の原子価と等しい。]による得ることができる
ものを使用する請求項1〜7のいずれかに記載のエチレ
ン共重合体の製造方法。 - 【請求項9】 重合を気相で行う請求項8に記載のエチ
レン共重合体の製造方法。 - 【請求項10】 重合を懸濁状態で行う請求項8に記載
のエチレン共重合体の製造方法。 - 【請求項11】 フィルム、中空体又は繊維の製造に請
求項1〜7のいずれかに記載のエチレン共重合体を使用
する方法。 - 【請求項12】 請求項1〜7のいずれかに記載のエチ
レン共重合体から製造されたフィルム、中空体又は繊
維。
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