JPH1130774A - プラズマアドレス情報表示素子及びその製造方法 - Google Patents

プラズマアドレス情報表示素子及びその製造方法

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JPH1130774A
JPH1130774A JP18700997A JP18700997A JPH1130774A JP H1130774 A JPH1130774 A JP H1130774A JP 18700997 A JP18700997 A JP 18700997A JP 18700997 A JP18700997 A JP 18700997A JP H1130774 A JPH1130774 A JP H1130774A
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electrode
transparent
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JP18700997A
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Inventor
Junichiro Nakayama
純一郎 中山
Kensuke Goto
謙輔 後藤
Tadashi Une
正 宇根
Satoshi Ariyoshi
智 有好
Yoshihiro Yamamoto
義宏 山本
Kunio Kojima
邦男 小嶋
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来と同じ駆動方法で駆動させても開口率の
向上を図れるようにする。 【解決手段】 カラーフイルター3、透明電極線4、プ
ラズマアドレス部13の位置関係は、プラズマアドレス
部13と透明電極線4とが「ねじれの位置」の関係であ
り、プラズマアドレス部13の2本と、透明電極線4の
1本とが空間的に重なった部分がカラーフィルター3の
各絵素に対応している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマアドレス
情報表示素子及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】フラットパネルディスプレイに代表され
る情報表示素子の開発は、小型化、単色化、2値表示化
の初期段階を既に脱し、大型化、カラー化、中間調表示
や動画表示などに進展して年毎に性能の向上が図られて
いる。
【0003】ここで、情報表示素子の一つとしてプラズ
マアドレス液晶素子の構造、製造方法及びその動作原理
について、図8〜図11に基づいて簡単に説明すると次
のようになる。
【0004】プラズマアドレス液晶素子は、図8に示す
ように、カラー部が形成された平面基板31と、プラズ
マアドレス部が形成された平面基板32との間に、液晶
材料26が注入され、さらに平面基板32側にバックラ
イト30が組み合わされた構造となっている。
【0005】カラー部が形成された平面基板31は、偏
光板21a、透明基板22a、カラーフィルター23、
透明電極線24、配向膜25aからなり、一方のプラズ
マアドレス部33が形成された平面基板32は、偏光板
21b、透明基板22b、隔壁28、電極線(アノード
29Aとカソード29C)、透明薄板基板27、配向膜
25bからなっている。
【0006】ここで、プラズマアドレス部33について
図9および図10を用いて説明する。
【0007】プラズマアドレス部33は、透明基板22
b、隔壁28および透明薄板基板27で囲まれた空間に
は、He、Ne、Ar、Xe等の不活性ガスが10〜1
4Pa、好ましくは102〜103Paのガス圧で封入
されている。
【0008】情報の書き込みおよび保持は、以下のよう
に行う。
【0009】まず、図9(a)に示すようにアノード2
9Aとカソード29Cとの間に100V〜500Vの電
圧を印加、即ちカソード29Cに電圧Ecを印加し放電
を起こす。図においては、マイナス帯電している粒子を
黒丸(●)、プラス帯電している粒子を白丸(○)で示
している。
【0010】次に、図9(b)に示すようにカラー部が
形成された平面基板31の透明電極線24に、+50V
〜+100Vの電圧Edを印加することにより情報を書
き込み、続いて図9(c)に示すように放電を止めるこ
とにより、透明薄板基板27界面をマイナスに帯電させ
ることにより情報の保持を行う。
【0011】逆に、プラスに帯電させたい場合には、図
10(d)、(e)および(f)に示すように行う。す
なわち、図10(d)に示すようにアノード29Aとカ
ソード29Cとの間に100V〜500Vの電圧を印
加、即ちカソード29Cに電圧Ecを印加し放電を起こ
す。次に、図10(e)に示すようにカラー部が形成さ
れた平面基板31の透明電極線24に、−50V〜−1
00Vの電圧Edを印加することにより情報を書き込
み、続いて図10(f)に示すように放電を止めること
により、透明薄板基板27界面をプラスに帯電させるこ
とにより情報の保持を行う。
【0012】図11(a)は上記電圧Ecの時間的変化
を、図11(b)は上記電圧Edの時間的変化を示して
いる。図11中の期間を示すa、b、cは各々図9
(a)、(b)、(c)に対応し、同じくd、e、fは
各々図10(d)、(e)、(f)に対応したものであ
る。
【0013】さらに、開口率を向上させるために、前記
不活性ガスを封入するための室に仕切る絶縁性の隔壁2
8を、アノードやカソードとして機能する各電極上に設
けたプラズマアドレス電極構体が提案されている(特開
平6−222346)。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この提
案の構造では、特開平6−222346公報の第7ペー
ジ[0059]〜[0062]にあるように、前記電極
に対して印加する電圧に工夫が必要である等の問題点を
有しており、図9および図10に示した従来と同じ駆動
方法を用いることができず、従来の駆動方法を適用しよ
うとすると開口率が小さくなるという問題点がある。
【0015】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、従来と同じ駆動方法で駆
動させても開口率の向上を図れるプラズマアドレス情報
表示素子及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明のプラズマアドレ
ス情報表示素子は、透明基板と透明薄板基板との間に、
電極線と絶縁体からなる隔壁とが、該電極線を該透明基
板側に配し、かつ、該電極線の上に該隔壁を配して、一
定間隔で設けられ、両基板間が電極線および隔壁にて隔
てられた空間にガスが封入されてプラズマアドレス部が
構成され、該透明基板上にカラーフィルターと透明電極
線とが、該透明電極線を該プラズマアドレス部に対して
ねじれの位置関係として設けられ、該プラズマアドレス
部2本と該透明電極線1本とが空間的に重なった部分が
カラーフィルターの各絵素に対応し、そのことにより上
記目的が達成される。
【0017】本発明のプラズマアドレス情報表示素子に
おいて、前記隔壁が、前記電極線との接合部付近の幅を
他の部分における幅よりも細くして形成されている構成
とすることができる。
【0018】本発明のプラズマアドレス情報表示素子に
おいて、前記隔壁と前記電極線との幅が、厚み方向にお
いてすべて同一である構成とすることができる。
【0019】本発明のプラズマアドレス情報表示素子の
製造方法は、透明基板上に、電極線用材料を印刷し、電
極線を形成する工程と、該電極線の上に、電極線の幅よ
り小さい幅で隔壁用絶縁材料を複数回印刷する工程と、
前記工程に続いて前記電極線の幅と同一の幅で隔壁用絶
縁材料を印刷する工程とを含み、そのことにより上記目
的が達成される。
【0020】本発明のプラズマアドレス情報表示素子の
製造方法は、透明基板上に、電極線用材料からなる膜及
び隔壁用絶縁材料からなる膜を基板側からこの順に積層
形成する工程と、該電極線用材料からなる膜及び隔壁用
絶縁材料からなる膜を、マスクまたはレジストを用いて
エッチングすることにより電極線および隔壁を形成する
工程と、該隔壁上に透明薄板基板を設け、両基板間の該
電極線及び該隔壁にて隔てられた空間に不活性ガスを封
入することによりプラズマアドレス部を形成する工程と
を含み、そのことにより上記目的が達成される。
【0021】以下に、本発明の作用について説明する。
【0022】本発明にあっては、プラズマアドレス部2
本と透明電極線1本とが空間的に重なった部分がカラー
フィルターの各絵素に対応しているので、例えば、各絵
素に含まれる3つの電極線の中央のものに所定の電位を
与え、両側の電極線を接地電位とする駆動方式を採用で
きることとなる。よって、図9および図10に示した従
来の駆動方法を用いても、開口率の向上を図ることが可
能となる。
【0023】また、隔壁の幅と電極線の幅とを同一にす
る場合は、電極線寄りの隔壁部分の幅を他の隔壁部分よ
りも小さくすると、電極線をプラズマアドレス部内に露
出させることができる。また、隔壁による遮光領域と電
極線による遮光領域とが同一となるため、開口率が更に
向上する。更に、電極線の露出面積を大きくとることが
でき、放電状態を安定させることができる。
【0024】このような構造のプラズマアドレス情報表
示素子は、請求項4のように、透明基板上に、電極線用
材料を印刷し、電極線を形成し、その電極線の上に、電
極線の幅より小さい幅で隔壁用絶縁材料を複数回印刷
し、これに続いて前記電極線の幅と同一の幅で隔壁用絶
縁材料を印刷することにより製造される。
【0025】また、前記隔壁と前記電極線との幅が、厚
み方向においてすべて同一である構成とした場合には、
隔壁による遮光領域と電極線による遮光領域とが同一と
なるため、開口率が更に向上する。また、電極線端部の
経時変化が少なく信頼性が向上する。この場合のプラズ
マアドレス情報表示素子は、従来の印刷法を用いても容
易に製造できる。
【0026】また、本発明の請求項5の製造方法による
場合には、隔壁の形成に印刷法を用いていないので、正
確な位置合せなどの高度な印刷技術が不要となり、電極
線が絶縁体からなる隔壁に埋め込まれた形状であるの
で、電極線端部の経時変化が少なく信頼性が向上すると
いう効果を奏する。さらに電極線の形成が容易になると
いう効果を奏する。
【0027】
【発明の実施の形態】
〔第1の実施形態〕本発明の第1の実施形態のプラズマ
アドレス情報表示素子について、図1、図2に基づいて
説明する。
【0028】図1は本発明の第1の実施形態のプラズマ
アドレス情報表示素子を示す断面図であり、図2は本発
明の第1の実施形態のプラズマアドレス部と透明電極線
との位置関係を示す分解斜視図である。
【0029】プラズマアドレス情報表示素子は、図1に
示すように、カラー部が形成された平面基板11と、プ
ラズマアドレス部13が形成された平面基板12との間
に、液晶材料6が注入され、さらに平面基板12側にバ
ックライト10が組み合わされた構造となっている。
【0030】カラー部が形成された平面基板11は、偏
光板1a、板厚0.5mm〜2.0mmのガラスからな
る透明基板2a、カラーフイルター3、ITO、SnO
2、ITO+SnO2等からなる透明電極線4、高分子膜
からなる配向膜5aから構成されている。一方、プラズ
マアドレス部が形成された平面基板12は、偏光板1
b、板厚0.5mm〜3.0mmのガラスからなる透明
基板2b、SiO2等からなる隔壁8、Ni、Al等の
金属からなる電極線(アノード9Aとカソード9C)、
板厚10μm〜100μmのガラスからなる透明薄板基
板7、高分子膜からなる配向膜5bから構成されてい
る。
【0031】図2は、カラーフイルター3、透明電極線
4、プラズマアドレス部13の位置関係を説明するため
の斜視図であるが、プラズマアドレス部13と上記透明
電極線4とが「ねじれの位置」の関係であり、プラズマ
アドレス部13の2本と、透明電極線4の1本とが空間
的に重なった部分がカラーフィルター3の各絵素に対応
している。
【0032】ここで、プラズマアドレス部13について
図3及び図4を用いて少し説明する。
【0033】プラズマアドレス部13は、透明基板2
b、隔壁8、透明薄板基板7とで囲まれた空間には、H
e、Ne、Ar、Xe等の希ガスが10Pa〜104
a、好ましくは102Pa〜5×103Paのガス圧で封
入されている。
【0034】情報の書き込みおよび保持は以下のように
行う。
【0035】まず、図3(a)に示すようにアノード9
Aとカソード9Cとの間に、100V〜500Vの電圧
を印加、即ちカソード9Cに例えば−300V〜−45
0Vの電圧Ecを印加し放電を起こす。図においては、
マイナス帯電している粒子を黒丸(●)、プラス帯電し
ている粒子を白丸(○)で示している。
【0036】次に、図3(b)に示すように、カラー部
が形成された平面基板11の透明電極線4に、+50V
〜+100Vの電圧Edを印加することにより情報を書
き込み、続いて、図3(c)に示すように放電を止め
る。これにより、透明薄板基板7界面をマイナスに帯電
させて情報の保持を行う。
【0037】逆に、プラスに帯電させたい場合には、図
4(d)、(e)、(f)に示すように行う。すなわ
ち、図4(d)に示すようにアノード9Aとカソード9
Cとの間に、100V〜500Vの電圧を印加、即ちカ
ソード9Cに例えば−300V〜−450Vの電圧Ec
を印加し放電を起こす。次に、図4(e)に示すよう
に、カラー部が形成された平面基板11の透明電極線4
に−50V〜−100Vの電圧Edを印加することによ
り情報を書き込み、続いて、図4(f)に示すように放
電を止める。これにより、透明薄板基板7界面をプラス
に帯電させて情報の保持を行う。
【0038】なお、以上の情報の書き込みおよび保持の
ために行った電位の調整は、1絵素を構成する3つの電
極線の中央のものに所定の電位を与え、両側の電極線を
接地電位とする。
【0039】ここで、図1に示すように、隔壁8の幅は
100μm程度、隔壁8間の距離は350μm程度、電
極線(アノード9Aとカソード9C)の太さが150μ
m程度であるので、開口率は[1−{(150/2)×
2}/350]×100=57%となる。これに対し、
図8に示す従来のプラズマアドレス情報表示素子は、隔
壁8の幅は100μm程度、隔壁8間の距離は700μ
m程度、電極線(アノード9Aとカソード9C)の太さ
が150μm程度であるので、開口率は[1−{(15
0+50)×2}/700]×100=43%である。
よって、本実施形態の場合は、従来に比べて開口率が約
14%向上する。
【0040】本実施形態は、板厚0.5mm〜3.0m
mのガラスからなる透明基板2bにNi等の金属からな
る電極線(アノード9Aとカソード9C)が直接形成さ
れているが、界面との接合性を向上させるために、例え
ばSiO2等からなる下地膜を形成してもよい。さら
に、隔壁8や電極線(アノード9Aとカソード9C)の
形成には、印刷法やサンドブラスト法等が用いられる
が、上述の機能を満たしていればこの限りではない。
【0041】このようなプラズマアドレス情報表示素子
とすることにより、駆動方式が従来と同じで、電極線
(アノード9Aとカソード9C)の特性を損なうことな
く、開口率が向上するという効果がある。
【0042】〔第2の実施形態〕本発明の第2の実施形
態のプラズマアドレス情報表示素子について、図5に基
づいて説明すれば、以下の通りである。
【0043】図5は本発明の第2の実施形態のプラズマ
アドレス情報表示素子を示す断面図である。なお、この
第2の実施形態のプラズマアドレス部と透明電極線との
位置関係は図2に示すようになっている。
【0044】このプラズマアドレス情報表示素子は、図
5に示すように、カラー部が形成された平面基板11
と、プラズマアドレス部13が形成された平面基板12
との間に、液晶材料6が注入され、さらに平面基板12
側にバックライト10が組み合わされた構造となってい
る。
【0045】カラー部が形成された平面基板11は、偏
光板1a、板厚0.5mm〜2.0mmのガラスからな
る透明基板2a、カラーフィルター3、ITO、SnO
2、ITO+SnO2等からなる透明電極線4、高分子膜
からなる配向膜5aからなる。一方、プラズマアドレス
部13が形成された平面基板12は、偏光板1b、板厚
0.5mm〜3.0mmのガラスからなる透明基板2
b、SiO2等からなる隔壁8、Ni等の金属からなる
電極線(アノード9Aとカソード9C)、板厚10μm
〜100μmのガラスからなる透明薄板基板7、高分子
膜からなる配向膜5bからなる。
【0046】透明基板2bと隔壁8との接合部付近にお
ける隔壁8の幅は50μm程度、他の部分における隔壁
8の幅は100μm程度、隔壁8間の距離は350μm
程度、電極線の太さが100μm程度であるので、開口
率は[1−{(100/2)×2}/350]×100
=71%となる。一方、図8に示す従来のプラズマアド
レス情報表示素子は、隔壁8の幅は100μm程度、隔
壁8間の距離は700μm程度、電極線(アノード9A
とカソード9C)の太さが150μm程度であるので、
開口率が[1−{(150+50)×2}/700]×
100=43%であったことに比べ、本実施形態の場合
には開口率が約28%向上する。
【0047】本実施形態は、板厚0.5mm〜3.0m
mのガラスからなる透明基板2bにNi等の金属からな
る電極線(アノード9Aとカソード9C)が直接形成さ
れているが、界面との接合性を向上させるために、例え
ばSiO2等からなる下地膜を形成してもよい。さら
に、隔壁8および電極線(アノード9Aとカソード9
C)の形成には、印刷法やサンドブラスト法等が用いら
れるが、上述の機能を満たしていればこの限りではな
い。
【0048】プラズマアドレス部の動作原理は、第1の
実施形態と同じである。
【0049】このようなプラズマアドレス情報表示素子
とすることにより、電極線(アノード9Aとカソード9
C)の特性を損なうことなく、開口率が向上するという
効果がある。
【0050】図5のプラズマアドレス情報表示素子にお
ける隔壁は、以下のようにして作製することができる。
透明基板2b上に、電極線用材料を印刷して電極線(ア
ノード9Aとカソード9C)を形成し、その電極線(ア
ノード9Aとカソード9C)の上に、電極線の幅より小
さい幅で隔壁用絶縁材料を複数回印刷する。例えば、1
回目の印刷で50μmの幅を印刷し、2回目に60μ
m、3回目に70μm、…、6回目の印刷で100μm
の幅を印刷し、これに続いて前記電極線の幅と同一の1
00μmの幅で隔壁用絶縁材料を印刷することにより製
造される。この場合、6回目以降の印刷により、電極線
の幅と同一の100μmの幅の隔壁が形成される。
【0051】〔第3の実施形態〕本発明の第3の実施形
態のプラズマアドレス情報表示素子について、図6に基
づいて説明すれば、以下の通りである。
【0052】図6は本発明の第3の実施形態のプラズマ
アドレス情報表示素子を示す断面図である。この第3の
実施形態のプラズマアドレス部と透明電極線との位置関
係は図2に示すようになっている。
【0053】このプラズマアドレス情報表示素子は、図
6に示すように、カラー部が形成された平面基板11
と、プラズマアドレス部13が形成された平面基板12
との間に、液晶材料6が注入され、さらに平面基板12
側にバックライト10が組み合わされた構造となってい
る。
【0054】カラー部が形成された平面基板11は、偏
光板1a、板厚0.5mm〜2.0mmのガラスからな
る透明基板2a、カラーフィルター3、ITO、SnO
2、ITO+SnO2等からなる透明電極線4、高分子膜
からなる配向膜5aからなる。一方、プラズマアドレス
部13が形成された平面基板12は、偏光板1b、板厚
0.5mm〜3.0mmのガラスからなる透明基板2
b、SiO2等からなる隔壁8、Ni等の金属からなる
電極線(アノード9Aとカソード9C)、板厚10μm
〜100μmのガラスからなる透明薄板基板7、高分子
膜からなる配向膜5bからなる。
【0055】本実施形態における隔壁8の幅は100μ
m程度、隔壁8間の距離は350μm程度、電極線の幅
が100μm程度である。この場合の開口率は、[1−
{(100/2)×2}/350]×100=71%と
なる。
【0056】次に、本実施形態にかかるプラズマアドレ
ス情報表示素子のプラズマアドレス部の製造方法につい
て図7を用いて説明する。
【0057】まず、図7(a)に示すように、透明基板
2b上に電極材料9を、印刷法等により形成する。
【0058】次に、図7(b)に示すように、印刷法等
により絶縁体8aを形成する。
【0059】次に、図7(c)に示すように、マスクも
しくはレジスト14を形成し、続いて、図7(d)に示
すように、物理的エッチングにより隔壁8、電極線(ア
ノード9Aとカソード9C)を形成する。
【0060】最後に、図7(e)に示すように、透明薄
板基板7を積層し、プラズマアドレス部13の内部に不
活性ガスを封入する。
【0061】この第3の実施形態では、隔壁8、電極線
(アノード9Aとカソード9C)の形成に高度な印刷技
術が不要となる。さらに、電極線(アノード9Aとカソ
ード9C)が絶縁体からなる隔壁8に埋め込まれている
ので、電極線(アノード9Aとカソード9C)の端部の
経時変化が少なく、信頼性が向上する。
【0062】上記物理的エッチングとしては、サンドブ
ラスト法や、化学エッチングには弗化水素や臭素水素を
用いたドライエッチング、弗化水素水を用いたウェット
エッチング等があるが、この限りではない。
【0063】本実施形態のプラズマアドレス情報表示素
子の動作原理は、第1の実施形態と同じである。このよ
うなプラズマアドレス情報表示素子の構造及びその製造
方法とすることにより、隔壁形成のために高精度の印刷
技術が必要なく、さらに開口率が向上するという効果が
ある。
【0064】
【発明の効果】以上のように、本発明による場合には、
プラズマアドレス部2本と透明電極線1本とが空間的に
重なった部分がカラーフィルターの各絵素に対応してい
るので、例えば、各絵素に含まれる3つの電極線の中央
のものに所定の電位を与え、両側の電極線を接地電位と
する駆動方式を採用できることとなる。よって、図9お
よび図10に示した従来の駆動方法を用いても、開口率
の向上を図ることが可能となる。
【0065】また、隔壁の幅と電極線の幅とを同一にす
る場合は、電極線寄りの隔壁部分の幅を他の隔壁部分よ
りも小さくすると、電極線をプラズマアドレス部内に露
出させることができる。また、隔壁による遮光領域と電
極線による遮光領域とが同一となるため、開口率が更に
向上する。更に、電極線の露出面積を大きくとることが
でき、放電状態を安定させることができる。
【0066】このような構造のプラズマアドレス情報表
示素子は、請求項4のように、透明基板上に、電極線用
材料を印刷し、電極線を形成し、その電極線の上に、電
極線の幅より小さい幅で隔壁用絶縁材料を複数回印刷
し、これに続いて前記電極線の幅と同一の幅で隔壁用絶
縁材料を印刷することにより製造される。
【0067】また、前記隔壁と前記電極線との幅が、厚
み方向においてすべて同一である構成とした場合には、
隔壁による遮光領域と電極線による遮光領域とが同一と
なるため、開口率が更に向上する。また、電極線端部の
経時変化が少なく信頼性が向上する。この場合のプラズ
マアドレス情報表示素子は、従来の印刷法を用いても容
易に製造できる。
【0068】また、本発明の請求項5の製造方法による
場合には、隔壁の形成に印刷法を用いていないので、正
確な位置合せなどの高度な印刷技術が不要となり、電極
線が絶縁体からなる隔壁に埋め込まれた形状であるの
で、電極線端部の経時変化が少なく信頼性が向上すると
いう効果を奏する。さらに電極線の形成が容易になると
いう効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態のプラズマアドレス情
報表示素子を示す断面図である。
【図2】本発明の第1の実施形態〜第3の実施形態のプ
ラズマアドレス部と透明電極線との関係を示す分解斜視
図である。
【図3】本発明の第1の実施形態〜第3の実施形態のプ
ラズマアドレス部の動作原理を示す説明図(断面図)で
ある。
【図4】本発明の第1の実施形態〜第3の実施形態のプ
ラズマアドレス部の動作原理を示す説明図(断面図)で
ある。
【図5】本発明の第2の実施形態のプラズマアドレス情
報表示素子を示す断面図である。
【図6】本発明の第3の実施形態のプラズマアドレス情
報表示素子を示す断面図である。
【図7】本発明の第3の実施形態のプラズマアドレス情
報表示素子の製造方法を示す工程断面図である。
【図8】従来のプラズマアドレス情報表示素子を示す断
面図である。
【図9】従来のプラズマアドレス情報表示素子のプラズ
マアドレス部の動作を示す説明図(断面図)である。
【図10】従来のプラズマアドレス情報表示素子のプラ
ズマアドレス部の動作を示す説明図(断面図)である。
【図11】従来のプラズマアドレス情報表示素子のプラ
ズマアドレス部の印加電圧を示す説明図である。
【符号の説明】
1a、1b、21a、21b 偏光板 2a、2b、22a、22b 透明基板 3、23 カラーフィルター 4、24 透明電極線 5a、5b、25a、25b 配向膜 6、26 液晶材料 7、27 透明薄板基板 8、28 隔壁 9 電極材料 9A、29A アノード 9C、29C カソード 10、30 バックライト 14 マスクもしくはレジスト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 有好 智 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 山本 義宏 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 小嶋 邦男 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明基板と透明薄板基板との間に、電極
    線と絶縁体からなる隔壁とが、該電極線を該透明基板側
    に配し、かつ、該電極線の上に該隔壁を配して、一定間
    隔で設けられ、両基板間が電極線および隔壁にて隔てら
    れた空間にガスが封入されてプラズマアドレス部が構成
    され、 該透明基板上にカラーフィルターと透明電極線とが、該
    透明電極線を該プラズマアドレス部に対してねじれの位
    置関係として設けられ、該プラズマアドレス部2本と該
    透明電極線1本とが空間的に重なった部分がカラーフィ
    ルターの各絵素に対応しているプラズマアドレス情報表
    示素子。
  2. 【請求項2】 前記隔壁が、前記電極線との接合部付近
    の幅を他の部分における幅よりも細くして形成されてい
    る請求項1に記載のプラズマアドレス情報表示素子。
  3. 【請求項3】 前記隔壁と前記電極線との幅が、厚み方
    向においてすべて同一である請求項1に記載のプラズマ
    アドレス情報表示素子。
  4. 【請求項4】 透明基板上に、電極線用材料を印刷し、
    電極線を形成する工程と、 該電極線の上に、電極線の幅より小さい幅で隔壁用絶縁
    材料を複数回印刷する工程と、 前記工程に続いて前記電極線の幅と同一の幅で隔壁用絶
    縁材料を印刷する工程とを含むプラズマアドレス情報表
    示素子の製造方法。
  5. 【請求項5】 透明基板上に、電極線用材料からなる膜
    及び隔壁用絶縁材料からなる膜を基板側からこの順に積
    層形成する工程と、 該電極線用材料からなる膜及び隔壁用絶縁材料からなる
    膜を、マスクまたはレジストを用いてエッチングするこ
    とにより電極線および隔壁を形成する工程と、 該隔壁上に透明薄板基板を設け、両基板間の該電極線及
    び該隔壁にて隔てられた空間に不活性ガスを封入するこ
    とによりプラズマアドレス部を形成する工程とを含むプ
    ラズマアドレス情報表示素子の製造方法。
JP18700997A 1997-07-11 1997-07-11 プラズマアドレス情報表示素子及びその製造方法 Pending JPH1130774A (ja)

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US09/113,282 US6130504A (en) 1997-07-11 1998-07-10 Plasma addressing display device and method for producing the same
KR1019980028015A KR19990013789A (ko) 1997-07-11 1998-07-11 플라즈마 어드레스형 표시장치 및 그의 제조방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100637064B1 (ko) 2004-08-19 2006-10-20 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널

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