JPH11305385A - 熱現像写真感光材料、画像記録方法及び画像形成方法 - Google Patents

熱現像写真感光材料、画像記録方法及び画像形成方法

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JPH11305385A
JPH11305385A JP11505698A JP11505698A JPH11305385A JP H11305385 A JPH11305385 A JP H11305385A JP 11505698 A JP11505698 A JP 11505698A JP 11505698 A JP11505698 A JP 11505698A JP H11305385 A JPH11305385 A JP H11305385A
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JP
Japan
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group
atom
silver halide
ring
atoms
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Application number
JP11505698A
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English (en)
Inventor
Kanji Kashiwagi
寛司 柏木
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱現像写真感光材料のカブリを抑え、感度を
向上させて、しかも現像前後での長期保存における保存
性を良好に維持すること。 【解決手段】 支持体上に有機銀塩、バインダー、感光
性ハロゲン化銀含有乳剤、及び下記一般式(1)乃至
(3)で表される化合物から選択される少なくとも1種
を含有する熱現像写真感光材料であって、前記感光性ハ
ロゲン化銀が下記一般式(4)乃至(6)で表される化
合物から選択される少なくとも1種の存在下において化
学増感を施されたことを特徴とする熱現像写真感光材
料。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像写真感光材料
に関し、カブリ低減、高感度化及び保存性を改良する技
術に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、印刷製版や医療の分野では、画像
形成材料の湿式処理に伴う廃液が作業性の上で問題とな
っており、近年では、環境保全、省スペースの観点から
も処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザ
ー・イメージャー、レーザー・イメージセッターにより
効率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形
成することができる写真技術用用途の光熱写真材料に関
する技術が必要とされている。かかる技術として、例え
ば米国特許第3,152,904号、同3,457,0
75号、及びD.モーガン(Morgan)とB.シェ
リー(Shely)による「熱によって処理される銀シ
ステム(Thermally Processed S
ilver Systems)」(イメージング・プロ
セッシーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging
Processes and Materials)
Neblette 第8版、スタージ(Sturg
e)、V.ウォールワース(Walworth)、A.
シェップ(Shepp)編集、第2頁、1969年)に
記載されているように、支持体上に有機銀塩、感光性ハ
ロゲン化銀粒子及び還元剤を含有する熱現像写真感光材
料が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この熱現像
写真感光材料においては、高感度化が強く望まれてい
る。しかし、従来の湿式の現像処理をする感光材料にお
いて一般的に使用されている増感技術を単に応用しただ
けでは、熱現像時のカブリ及び熱現像後の保存カブリが
生じやすいばかりでなく、熱現像処理前の保存期間にも
カブリが生じやすい問題を有している。又これらの感光
材料では、露光後、通常80℃〜250℃で熱現像する
だけで定着を行わないため、未露光部に残ったハロゲン
化銀や有機銀塩は除去されずにそのまま感光材料中に残
ってしまう。これら残留ハロゲン化銀や残留有機銀塩
は、長期間保存した場合、未露光部のカブリ濃度が上昇
したり、着色したり、現像銀の色調が温黒調に変色した
りすることの要因の1つであり、問題となっていた。
【0004】そこで、本発明は上記の事情に鑑みてなさ
れたものであり、本発明の課題は、低カブリ、高感度で
かつ熱現像の前と後における長期保存した際での保存性
に優れた熱現像写真感光材料を提供することにある。又
このような熱現像写真感光材料を得る画像記録方法と画
像形成方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題は以下の構成に
より達成された。
【0006】(1)支持体上に有機銀塩、バインダー、
感光性ハロゲン化銀含有乳剤、及び下記一般式(1)乃
至(3)で表される化合物から選択される少なくとも1
種を含有する熱現像写真感光材料であって、前記感光性
ハロゲン化銀が下記一般式(4)乃至(6)で表される
化合物から選択される少なくとも1種の存在下において
化学増感を施されたことを特徴とする熱現像写真感光材
料。
【0007】
【化7】
【0008】(式中X1及びX2はハロゲン原子を表す。
Yは2価の連結基を表す。Aは水素原子、ハロゲン原
子、及びその他の電子吸引性基を表す。mは3以上4以
下の整数を表す。Qはヘテロ環基、アリール基、脂肪族
基を表す。nは0以上3以下の整数を表す。Qが脂肪族
基の場合は分子全体のハロゲン原子の個数が6以上10
未満である。)
【0009】
【化8】
【0010】(式中、X1、X2、及びAは一般式(1)
と同義である。Qは酸素原子を1つ、窒素原子を2以上
3以下有する芳香族ヘテロ5員環、フラン環、チオフェ
ン環、及びピロール環の各基を表す。但し、Qがチオフ
ェン環の場合、X1は臭素原子を表す。)
【0011】
【化9】
【0012】(式中、X1、X2、及びAは一般式(1)
と同義である。Yは−SO−,−CO−,−N(R11
−SO2−,−N(R11)−CO−,−N(R11)−C
OO−,−COCO−,−COO−,−OCO−,−O
COO−,−SCO−,−SCOO−,−C(Z1
(Z2)−,アルキレン,アリーレン,2価のヘテロ環
及びこれらの任意の組み合わせで形成される2価の置換
基を表す。R11は水素原子又はアルキル基を表す。Z1
及びZ2は水素原子もしくは電子吸引性基を表す。Z1
びZ2は同時に水素原子であることはない。Qは脂肪族
基、芳香族基、ヘテロ環基を表す。但しYが−SO−の
時、QはN以外のヘテロ原子を少なくとも1つ有する芳
香族ヘテロ5員環基及びピリジン環基を表す。)
【0013】
【化10】
【0014】(式中、A1はハロゲン化銀に吸着可能な
基を含む原子群を表し、L1は2価の連結基を表し、Z1
は不安定カルコゲン原子部位を含む原子群を表し、
1、W2及びW3はカルボン酸基、スルホン酸基、スル
フィン酸基、リン酸基、亜リン酸基及びホウ酸基を表
す。m1は0又は1を表し、n1は1〜3の整数を表
し、l1、l2及びl3は各々0〜2の整数を表す。但
し、l1、l2及びl3が同時に0とはならない。)
【0015】
【化11】
【0016】(式中、A1はメソイオン化合物を含む置
換基を表す。L1、Z1、W1〜W3、m1、n1は一般式
(4)と同義である。又r1〜r3は一般式(4)のl
1〜l3と同義である。)
【0017】
【化12】
【0018】(式中、Aはハロゲン化銀に吸着可能な基
を含む原子群を表し、Lは炭素原子、水素原子、酸素原
子、窒素原子、硫黄原子から構成される基であり、具体
的には脂肪族基、芳香族基又は複素環基を表す。L1
2、L3は2価の連結基を表し、Zは不安定カルコゲン
原子部位を含む原子群を表し、R1、R4、R7は各々、
水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基を表し、
2、R3、R5、R6、R8、R9は各々、脂肪族基、芳香
族基、複素環基を表す。又、R1〜R3及びL1、R4〜R
6及びL2、R7〜R9及びL3の間で各々、結合して含窒
素複素環を形成することもできる。X1〜X3はアンモニ
ウムイオン電荷を相殺するアニオンを表す。k1〜k3
びmは0又は1の整数を表し、nは1から3の整数を表
し、p1、p2及びp3は各々0から2の整数を表す。
但し、p1、p2及びp3が同時に0とはならない。) (2)上記熱現像写真感光材料への書き込み手段がレー
ザー露光であり、かつ10-2秒以下の時間で書き込むこ
とを特徴とする画像記録方法。
【0019】(3)上記熱現像写真感光材料に対しレー
ザー露光にて書き込みを行った後、前記熱現像写真感光
材料を80℃以上250℃以下の温度で加熱して画像を
形成することを特徴とする画像形成方法。
【0020】以下に本発明を詳述する。
【0021】〔熱現像写真感光材料〕本発明の熱現像写
真感光材料は、支持体上にa)有機銀塩、b)バインダ
ー、c)感光性ハロゲン化銀含有乳剤、及びd)一般式
(1)乃至(3)で表される化合物から選択される少な
くとも1種を含有する熱現像写真感光材料であって、前
記感光性ハロゲン化銀がe)一般式(4)乃至(6)で
表される化合物から選択される少なくとも1種の存在下
において化学増感を施されたことを特徴とする。
【0022】最初に、一般式(1)で表される化合物に
ついて説明する。
【0023】
【化13】
【0024】式中X1及びX2はハロゲン原子を表す。Y
は2価の連結基を表す。Aは水素原子、ハロゲン原子、
及びその他の電子吸引性基を表す。mは3以上4以下の
整数を表す。Qはヘテロ環基、アリール基、脂肪族基を
表す。nは0以上3以下の整数を表す。Qが脂肪族基の
場合は分子全体のハロゲン原子の個数が6以上10未満
である。
【0025】X1、X2で表されるハロゲン原子は、同一
又は互いに異なってもよくフッ素原子、塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子であり、より好ましくは塩素原子、臭素
原子であり、特に好ましくは臭素原子である。Yは2価
の連結基を表すが具体的には−SO2−,−SO−,−
CO−,−N(R11)−SO2−,−N(R11)−CO
−,−N(R11)−COO−,−COCO−,−COO
−,−OCO−,−OCOO−,−SCO−,−SCO
O−,−C(Z1)(Z2)−,アルキレン,アリーレ
ン,2価のヘテロ環及びこれらの任意の組み合わせで形
成される2価の置換基を表す。R11は水素原子又はアル
キル基を表すが好ましくは水素原子である。Z1及びZ2
は水素原子もしくは電子吸引性基を表すが同時に水素原
子であることはない。電子吸引性基として好ましくは、
ハメットの置換基定数σp値が0.01以上の置換基で
あり、より好ましくは0.1以上の置換基である。ハメ
ットの置換基定数に関しては、Journal of
Medicinal Chemistry,1973,
Vol.16,No.11,1207−1216等を参
考にすることができる。
【0026】電子吸引性基としては、例えばハロゲン原
子(フッ素原子(σp値:0.06)、塩素原子(σp
値:0.23)、臭素原子(σp値:0.23)、ヨウ
素原子(σp値:0.18))、トリハロメチル基(ト
リブロモメチル(σp値:0.29)、トリクロロメチ
ル(σp値:0.33)、トリフルオロメチル(σp
値:0.54))、シアノ基(σp値:0.66)、ニ
トロ基(σp値:0.78)、脂肪族・アリールもしく
は複素環スルホニル基(例えば、メタンスルホニル(σ
p値:0.72))、脂肪族・アリールもしくは複素環
アシル基(例えば、アセチル(σp値:0.50)、ベ
ンゾイル(σp値:0.43))、アルキニル基(例え
ば、C33(σp値:0.09))、脂肪族・アリール
もしくは複素環オキシカルボニル基(例えば、メトキシ
カルボニル(σp値:0.45)、フェノキシカルボニ
ル(σp値:0.45))、カルバモイル基(σp値:
0.36)、スルファモイル基(σp値:0.57)な
どが挙げられる。
【0027】Z1及びZ2として好ましくはハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基である。ハロゲン原子の中で
も、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であ
り、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好
ましくは、臭素原子である。Yとして好ましくは−SO
2−,−SO−,−CO−を表し、より好ましくは−S
2−を表す。nは好ましくは1である。Aで表される
電子吸引性基として好ましくは、ハメットの置換基定数
σp値が0.01以上の置換基であり、より好ましくは
0.1以上の置換基である。
【0028】Aは、好ましくは電子吸引性基であり、よ
り好ましくはハロゲン原子、脂肪族・アリールもしくは
複素環スルホニル基、脂肪族・アリールもしくは複素環
アシル基、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカル
ボニル基であり、特に好ましくはハロゲン原子である。
ハロゲン原子の中でも、好ましくは塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは塩素原子、臭素
原子であり、特に好ましくは、臭素原子である。
【0029】Qで表される脂肪族基は、直鎖、分岐又は
環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜30、より好
ましくは1〜20、更に好ましくは1〜12であり、例
えばメチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブ
チル、n−オクチル、n−デシル、シクロプロピル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられる。)、ア
ルケニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましく
は2〜20、更に好ましくは2〜12であり、例えばビ
ニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニル等が挙げ
られる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜3
0、より好ましくは2〜20、更に好ましくは2〜12
であり、例えばプロパルギル、3−ペンテニル等が挙げ
られる。)であり、置換基を有していてもよい。置換基
としては例えばカルボキシ基、アシル基、アシルアミノ
基、スルホニルアミノ基、カルバモイル基、スルファモ
イル基、オキシカルボニルアミノ基又はウレイド基など
がある。脂肪族炭化水素基として好ましくはアルキル基
であり、より好ましくは鎖状アルキル基である。Qで表
されるアリール基としては、好ましくは炭素数6〜30
の単環又は二環のアリール基(例えばフェニル、ナフチ
ル等)であり、より好ましくは炭素数6〜20のフェニ
ル基、更に好ましくは6〜12のフェニル基である。ア
リール基は置換基を有してもよく、置換基としては、例
えばカルボキシ基、アシル基、アシルアミノ基、スルホ
ニルアミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、オ
キシカルボニルアミノ基又はウレイド基などがある。Q
で表されるヘテロ環基は、N、O又はS原子の少なくと
も一つを含む3乃至10員の飽和もしくは不飽和のヘテ
ロ環であり、これらは単環であってもよいし、更に他の
環と縮合環を形成してもよい。ヘテロ環基として好まし
くは、5乃至6員の芳香族ヘテロ環基であり、より好ま
しくは窒素原子を含む5乃至6員の芳香族ヘテロ環基で
あり、更に好ましくは窒素原子を1乃至2原子含む5乃
至6員の芳香族ヘテロ環基である。ヘテロ環の具体例と
しては、例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、
モルフォリン、チオフェン、フラン、ピロール、イミダ
ゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジ
ン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾ
ール、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キ
ノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キ
ナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェ
ナントロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾー
ル、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサ
ゾール、ベンズチアゾールなどが挙げられる。ヘテロ環
として好ましくは、チオフェン、フラン、ピロール、イ
ミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダ
ジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダ
ゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリ
ン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾ
リン、シンノリン、プテリジン、テトラゾール、チアゾ
ール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキ
サゾール、ベンズチアゾール、インドレニンであり、よ
り好ましくはトリアジン、キノリン、チアジアゾール、
ベンズチアゾール、オキサジアゾールであり、特に好ま
しくは、ピリジン、キノリン、チアジアゾール、オキサ
ジアゾールである。Qとして好ましくは芳香族含窒素ヘ
テロ環基である。mは3以上4以下の整数を表すが好ま
しくは3である。Qが脂肪族基の場合は分子全体のハロ
ゲン原子の個数が6以上10未満であるが好ましくは6
である。
【0030】次に一般式(2)で表される化合物につい
て詳述する。
【0031】
【化14】
【0032】式中、X1、X2、及びAは一般式(1)と
同義である。Qは酸素原子を1つ、窒素原子を2以上3
以下有する芳香族ヘテロ5員環、フラン環、チオフェン
環、及びピロール環の各基を表す。但し、Qがチオフェ
ン環の場合、X1は臭素原子を表す。Qは、酸素原子を
1つ、窒素原子を2以上3以下有する芳香族ヘテロ5員
環として具体的にはオキサジアゾール、オキサトリアゾ
ールを表す。好ましくはオキサジアゾールである。Qで
表される環のうち好ましいものはオキサジアゾールであ
る。
【0033】次に一般式(3)で表される化合物につい
て詳述する。
【0034】
【化15】
【0035】式中、X1、X2、及びAは一般式(1)に
記載のものと同義である。Yは−SO−,−CO−,−
N(R11)−SO2−,−N(R11)−CO−,−N
(R11)−COO−,−COCO−,−COO−,−O
CO−,−OCOO−,−SCO−,−SCOO−,−
C(Z1)(Z2)−,アルキレン,アリーレン,2価の
ヘテロ環及びこれらの任意の組み合わせで形成される2
価の置換基を表す。R11は水素原子又はアルキル基を表
すが好ましくは水素原子である。Z1及びZ2は水素原子
もしくは電子吸引性基を表すが同時に水素原子であるこ
とはない。Qは脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基を表
す。但しYが−SO−の時、QはN以外のヘテロ原子を
少なくとも1つ有する芳香族ヘテロ5員環基及びピリジ
ン環基を表す。
【0036】電子吸引性基として好ましくは、ハメット
の置換基定数σp値が0.01以上の置換基であり、よ
り好ましくは0.1以上の置換基である。
【0037】Z1及びZ2として好ましくはハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基である。ハロゲン原子の中で
も、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であ
り、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好
ましくは、臭素原子である。Yとして好ましくは−SO
−,−CO−,−N(R11)−SO2−,−N(R11
−CO−,−C(Z1)(Z2)−を表し、より好ましく
は−SO−,−C(Z1)(Z2)−を表す。Qは脂肪族
基、芳香族基、ヘテロ環基を表す。但しYが−SO−の
時、QはN以外のヘテロ原子を少なくとも1つ有する芳
香族ヘテロ5員環基及びピリジン環を表す。これらの環
は更に他の環と縮合していてもよい。N以外のヘテロ原
子を少なくとも1つ有する芳香族ヘテロ5員環基として
具体的には、チアゾール、オキサゾール、チオフェン、
フラン、ピロール、チアジアゾール、オキサジアゾー
ル、チアトリアゾール、オキサトリアゾールを表すがQ
として好ましくはチアジアゾール環、ピリジン環、キノ
リン環である。
【0038】以下に一般式(1)乃至(3)で表される
化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
【0039】
【化16】
【0040】
【化17】
【0041】
【化18】
【0042】
【化19】
【0043】
【化20】
【0044】
【化21】
【0045】本発明の一般式(1)乃至(3)で表され
る化合物は、例えば特開昭54−165号、特開平6−
340611号、同7−2781号、同7−5621
号、米国特許第5,369,000号、同5,374,
514号、同5,460,938号、同5,464,7
37号、欧州特許第605,981号、同631,17
6号等に記載の方法に準じて合成できる。以下に一般式
(1)乃至(3)で表される化合物の合成について具体
例を示す。
【0046】合成例1.例示化合物1−1の合成(2,
4,6−トリス−トリブロモスルホニル−トリアジン) 2,4,6−トリメルカプト−1,3,4−トリアジン
23.0g(0.13モル)、クロロ酢酸54.0g
(0.44モル)及びエタノール300mlを室温で撹
拌しているところへ、水酸化ナトリウム17.66g
(0.44モル)/水30mlの水溶液を滴下した。2
0分撹拌後、50℃に加熱し、更に水酸化ナトリウム1
7.6g(0.44モル)/水30mlの水溶液をゆっ
くり滴下した。50℃で3時間撹拌した後、室温まで冷
却し、反応液が均一になるまで水を加え、更に塩酸を加
え中和した。得られた結晶を濾取し、メタノールで再結
晶することにより、2,4,6−トリス−カルボキシメ
チルチオ−1,3,4−トリアジンを35.4g(0.
10モル)得た。収率76%。
【0047】水酸化ナトリウム49.1g(1.23モ
ル)/水1リットルを0〜5℃で撹拌しているところ
へ、臭素31.1ミリリットルをゆっくり滴下した。更
に、上記反応で得られた2,4,6−トリス−カルボキ
シメチルチオ−1,3,4−トリアジン8.2g(0.
023モル)、炭酸水素ナトリウム7.2g(0.08
57モル)及び水150ミリリットルの水溶液を内温が
10℃を越えないようにゆっくり滴下した。滴下終了
後、室温に上げ一夜放置した。析出固体を濾取し、水で
洗浄した後、エタノールで再結晶することにより白色固
体の例示化合物1−1を11.3g(0.011モル)
得た。収率48%。
【0048】合成例2.例示化合物2−7の合成(2−
トリブロモメチルスルホニルフラン) 2−メルカプトフラン20.0g(0.20モル)、ク
ロロ酢酸27.0g(0.22モル)及びエタノール3
00mlを室温で撹拌しているところへ、水酸化ナトリ
ウム8.8g(0.22モル)/水15mlの水溶液を
滴下した。20分撹拌後、50℃に加熱し、更に水酸化
ナトリウム8.8g(0.22モル)/水15mlの水
溶液をゆっくり滴下した。50℃で3時間撹拌した後、
室温まで冷却し、反応液が均一になるまで水を加え、更
に塩酸を加え中和した。得られた結晶を濾取し、メタノ
ールで再結晶することにより、2−カルボキシメチルチ
オフランを23.5g(0.148モル)得た。収率7
4%。
【0049】次に、水酸化ナトリウム49.1g(1.
23モル)/水1リットルを0〜5℃で撹拌していると
ころへ、臭素31.1ミリリットルをゆっくり滴下し
た。更に、上記反応で得られた2−カルボキシメチルチ
オフラン11.2g(0.0706モル)、炭酸水素ナ
トリウム7.2g(0.0857モル)及び水150ミ
リリットルの水溶液を内温が10℃を越えないようにゆ
っくり滴下した。滴下終了後、室温に上げ一夜放置し
た。析出固体を濾取し、水で洗浄した後、エタノールで
再結晶することにより白色固体の例示化合物2−7を1
1.5g(0.0312モル)得た。収率44%。
【0050】合成例3.例示化合物3−1の合成(2−
トリブロモメチルスルホ−5−メチル−1,3,4−チ
アジアゾール) 最初に2−カルボキシメチルチオ−5−メチル−1,
3,4−チアジアゾールの合成を行う。
【0051】2−メルカプト−5−メチル−1,3,4
−チアジアゾール26.4g(0.20モル)、クロロ
酢酸27.0g(0.22モル)及びエタノール300
mlを室温で撹拌しているところへ、水酸化ナトリウム
8.8g(0.22モル)/水15mlの水溶液を滴下
した。20分撹拌後、50℃に加熱し、更に水酸化ナト
リウム8.8g(0.22モル)/水15mlの水溶液
をゆっくり滴下した。50℃で3時間撹拌した後、室温
まで冷却し、反応液が均一になるまで水を加え、更に塩
酸を加え中和した。得られた結晶を濾取し、メタノール
で再結晶することにより、2−カルボキシメチルチオ−
5−メチル−1,3,4−チアジアゾールを28.7g
(0.150モル)得た。収率75%。
【0052】次に水酸化ナトリウム49.1g(1.2
3モル)/水1リットルを0〜5℃で撹拌しているとこ
ろへ、臭素31.1ミリリットルをゆっくり滴下した。
更に、上記反応で得られた2−カルボキシメチルチオ−
5−メチル−1,3,4−チアジアゾール13.5g
(0.0706モル)、炭酸水素ナトリウム7.2g
(0.0857モル)及び水150ミリリットルの水溶
液を内温が5℃を越えないようにゆっくり滴下した。滴
下終了後、室温に上げ一夜放置した。析出固体を濾取
し、水で洗浄した後、エタノールで再結晶することによ
り白色固体の例示化合物3−1を13.2g(0.03
32モル)得た。収率47%。
【0053】一般式(1)乃至(3)で表わされる化合
物は感光層でも非感光層でも添加することができるが、
好ましくは感光層である。又所望の目的により異なるが
10-4モル〜1モル/Agモル、好ましくは10-3モル
〜0.3モル/Agモル添加すると良い。又、有機溶剤
に溶かして添加することが好ましい。これら化合物群の
異なる構造式の化合物を複数、或いは同じ構造式の化合
物を複数添加しても良い。
【0054】又、カブリ防止剤と併用しても構わない。
もっとも有効なカブリ防止剤として知られているものは
水銀イオンである。感光材料中に水銀化合物を使用する
ことについては、例えば米国特許第3,589,903
号に開示されている。しかし、水銀化合物は環境的に好
ましくない。非水銀カブリ防止剤としては例えば米国特
許4,546,075号及び同第4,452,885号
及び特開昭59−57234号に開示されているような
カブリ防止剤が好ましい。特に好ましい非水銀カブリ防
止剤は、米国特許第3,874,946号及び同第4,
756,999号に開示されているような化合物、−C
(X1)(X2)(X3)(ここでX1及びX2はハロゲン
原子であり、X3は水素又はハロゲン原子である)で表
される1以上の置換基を備えたヘテロ環状化合物であ
る。好適なカブリ防止剤の例としては、特開平9−90
550号段落番号〔0062〕〜〔0063〕に記載さ
れている化合物が好ましい。更により好適なカブリ防止
剤は米国特許第5,028,523号及び英国特許出願
第92221383.4号、同第9300147.7
号、同第9311790.1号に開示されている。
【0055】次に一般式(4)で表される化合物につい
て詳述する。
【0056】
【化22】
【0057】式中、A1はハロゲン化銀に吸着可能な基
を含む原子群を表し、L1は2価の連結基を表し、Z1
不安定カルコゲン原子部位を含む原子群を表し、W1
2及びW3はカルボン酸基、スルホン酸基、スルフィン
酸基、リン酸基、亜リン酸基及びホウ酸基を表す。m1
は0又は1を表し、n1は1〜3の整数を表し、l1、
l2及びl3は各々0〜2の整数を表す。但し、l1、
l2及びl3が同時に0とはならない。
【0058】A1で表されるハロゲン化銀に吸着可能な
基を含む原子群としては、メルカプト基を有する原子群
(例えば、メルカプトオキサジアゾール、メルカプトテ
トラゾール、メルカプトトリアゾール、メルカプトジア
ゾール、メルカプトチアゾール、メルカプトチアジアゾ
ール、メルカプトオキサゾール、メルカプトイミダゾー
ル、メルカプトベンゾチアゾール、メルカプトベンゾオ
キサゾール、メルカプトベンズイミダゾール、メルカプ
トテトラザインデン、メルカプトピリジル、メルカプト
キノリル、2−メルカプトピリジル、メルカプトフェニ
ル、メルカプトナフチル等の各基)、チオン基を有する
原子群(例えば、チアゾリン−2−チオン、オキサゾリ
ン−2−チオン、イミダゾリン−2−チオン、ベンゾチ
アゾリン−2−チオン、ベンゾイミダゾリン−2−チオ
ン、チアゾリジン−2−チオン等の各基)、イミノ銀を
形成する原子群(例えば、トリアゾール、テトラゾー
ル、ベンゾトリアゾール、ヒドロキシアザインデン、ベ
ンズイミダゾール、インダゾール等の各基)、アセチレ
ン基を有する原子群(例えば、2−〔N−(2−プロピ
ニル)アミノ〕ベンゾチアゾール、N−(2−プロピニ
ル)カルバゾール等の各基)等が挙げられる。
【0059】L1で表される2価の連結基は、炭素原
子、水素原子、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子等から
構成される基であり、具体的には、炭素数1〜20のア
ルキレン基(例えば、メチレン、エチレン、プロピレ
ン、ヘキシレン等の各基)、アリーレン基(例えば、フ
ェニレン、ナフチレン等の各基)、−CONR1−、−
SO2NR2−、−O−、−S−、−NR3−、−NR4
O−、−NR5SO2−、−NR6CONR7−、−CO−
O−、−O−CO−、−CO−等及びこれらの複数個連
結した基が挙げられる。
【0060】R1〜R7は各々水素原子、脂肪族基、脂環
式基、芳香族基又は複素環基を表す。R1〜R7で表され
る脂肪族基としては炭素数1〜20の直鎖又は分岐のア
ルキル基(例えば、メチル、エチル、イソプロピル、2
−エチル−ヘキシル等の各基)、アルケニル基(例え
ば、プロペニル、3−ペンテニル、2−ブテニル、シク
ロヘキセニル等の各基)、アルキニル基(例えば、プロ
パルギル、3−ペンチニル等の各基)、アラルキル基
(例えば、ベンジル、フェネチル等の各基)が挙げられ
る。脂環式基としては、炭素数5〜8の脂環式基(例え
ば、シクロペンチル、シクロヘキシル等の各基)、芳香
族基としては、炭素数6〜10の単環又は縮合環の基で
あり、具体的には、フェニル基又はナフチル基が挙げら
れ、複素環基としては酸素原子、硫黄原子又は窒素原子
を含む5員〜7員の単環又は更に他の環が縮合した縮合
環の基であり、具体的には、フリル、チエニル、ベンゾ
フリル、ピロリル、インドリル、チアゾリル、イミダゾ
リル、モルホリル、ピペラジル、ピラジル等の各基が挙
げられる。R1〜R7で表される各基は任意の位置に任意
の原子、基が置換でき、置換原子、置換基の例として
は、例えば、ヒドロキシ基、ハロゲン原子(例えば、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子)、シアノ
基、アミノ基(例えば、メチルアミノ、アニリノ、ジエ
チルアミノ、2−ヒドロキシエチルアミノ等の各基)、
アシル基(例えば、アセチル、ベンゾイル、プロパノイ
ル等の各基)、カルバモイル基(例えば、カルバモイ
ル、N−メチルカルバモイル、N,N−テトラメチレン
カルバモイル、N−メタンスルホニルカルバモイル、N
−アセチルカルバモイル等の各基)、アルコキシ基(例
えば、メトキシ、エトキシ、2−ヒドロキシエトキシ、
2−メトキシエトキシ等の各基)、アルコキシカルボニ
ル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、2−メトキシエトキシカルボニル等の各基)、スル
ホニル基(例えば、メタンスルホニル、トリフルオロメ
タンスルホニル、ベンゼンスルホニル、p−トルエンス
ルホニル等の各基)、スルファモイル基(例えば、スル
ファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、モルホ
リノスルホニル、N−エチルスルファモイル等の各
基)、アシルアミノ基(例えば、アセトアミド、トリフ
ルオロアセトアミド、ベンズアミド、チエノカルボニル
アミノ、ベンゼンスルフォンアミド等の各基)、アルコ
キシカルボニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニル
アミノ、N−メチル−エトキシカルボニルアミノ等の各
基)等の基が挙げられる。
【0061】Z1で表される不安定カルコゲン原子部位
を含む原子群において、カルコゲン原子は硫黄原子、セ
レン原子、テルル原子を意味する。不安定硫黄部位を含
む原子群の具体例としては、チオ尿素基を有する原子群
(N,N′−ジエチルチオ尿素、N−エチル−N′−
(2−チアゾリル)チオ尿素、N,N−ジメチルチオ尿
素、N−フェニルチオ尿素等)、チオアミド基を有する
原子群(チオベンズアミド、チオアセトアミド等)、ポ
リスルフィド、ホスフィンスルフィド基を有する原子群
(ビス(ペンタフルオロフェニル)フェニルホスフィン
スルフィド、ジエチルホスフィンスルフィド、ジメチル
フェニルホスフィンスルフィド等)、チオキソアゾリジ
ノン基を有する原子群(エチルローダニン、5−ベンジ
リデン−3−エチルローダニン、1,3−ジフェニル−
2−チオヒダントイン、3−エチル−4−オキソオキサ
ゾリジン−2−チオン等)等の各原子群が挙げられる。
【0062】不安定セレン部位を含む原子群の具体例と
しては、セレノ尿素基を有する原子群(N,N−ジメチ
ルセレノ尿素、セレノ尿素、N−アセチル−N,N′−
ジエチルセレノ尿素、N−トリフルオロアセチル−
N′、N′−ジメチルセレノ尿素、N−エチル−N′−
(2−チアゾリル)セレノ尿素、N,N′−ジフェニル
セレノ尿素等)、セレノアミド基を有する原子群(N−
メチル−セレノベンズアミド、N−フェニル−セレノベ
ンズアミド、N−エチル−セレノベンズアミド等)、ホ
スフィンセレニド基を有する原子群(トリフェニルホス
フィンセレニド、ジフェニル・(ペンタフルオロフェニ
ル)ホスフィンセレニド、トリス(m−クロロフェニ
ル)ホスフィンセレニド等)、セレノホスフェート基を
有する原子群(トリス(p−トリル)セレノホスフェー
ト等)、セレノエステル基を有する原子群(p−メトキ
シセレノベンゾイックアシッド=O−i−プロピルエス
テル、セレノベンゾイックアシッド=Se−(3′−オ
キソブチル)エステル、p−メトキシセレノベンゾイッ
クアシッド=Se−(3′−オキソシクロヘキシル)エ
ステル等)、セレニド基を有する原子群(ビス(2,6
−ジメトキシベンゾイル)セレニド、ビス(ブトキシカ
ルボニル)セレニド、ビス(ベンジルオキシカルボニ
ル)セレニド、ビス(N,N−ジメチルカルバモイル)
セレニド等)、トリセレナン基を有する原子群(2,
4,6−トリス(p−メトキシフェニル)トリセレナン
等)、セレノケトン基を有する原子群(4−メトキシセ
レノアセトフェノン、4,4−ジメトキシセレノベンゾ
フェノン等)等の原子群が挙げられる。
【0063】不安定テルル部位を含む原子群の具体例と
しては、ホスフィンテルリド基を有する原子群(ブチル
−ジ−i−プロピルホスフィンテルリド、トリスシクロ
ヘキシルホスフィンテルリド等)、テルロ尿素基を有す
る原子群(N,N′−ジエチル−N,N′−ジエチレン
テルロ尿素、N,N′−ジメチレン−N,N′−ジメチ
ルテルロ尿素等)、テルロアミド基を有する原子群
(N,N−ジメチル−テルロベンズアミド、N,N−テ
トラメチレン−(p−トリル)テルロベンズアミド
等)、テルロホスフェート基を有する原子群(トリス
(p−トリル)テルロホスフェート、トリスブチルテル
ロホスフェート等)、テルロホスホリックアミド基を有
する原子群(ヘキサメチルテルロホスフォリックアミド
等)等の原子群が挙げられる。
【0064】不安定セレン及びテルル部位を有する原子
群としては、その他に特開平4−25832号、同4−
33043号、同4−109240号、同4−1472
50号、同5−24332号、同5−24333号、同
5−40324号、同5−303157号、同5−30
6268号、同5−306269号、同6−17528
号、同6−17529号、同6−27573号、同6−
43576号、同6−75328号、同6−18047
8号、同6−208184号、同6−208186号、
同6−317867号、同7−92599号、同7−9
8483号、同7−104415号、同7−14057
9号、同7−301880号等に開示された化合物群か
ら選択することができる。
【0065】これらの原子群は、置換基の任意の部分か
ら連結基L1を介して、又は直接に上記A1との間に共有
結合を形成している。
【0066】W1,W2,W3で表されるカルボン酸基、
スルホン酸基、スルフィン酸基、リン酸基、亜リン酸基
及びホウ酸基はフリーの形態でもアルカリ金属、アルカ
リ土類金属、アンモニウム、有機アミンと対塩を形成し
ていても良い。
【0067】次に一般式(5)で表される化合物につい
て詳述する。
【0068】
【化23】
【0069】式中、A1はメソイオン化合物を含む置換
基を表す。L1、Z1、W1〜W3、m1、n1は一般式
(4)と同義である。又r1〜r3は一般式(4)のl
1〜l3と同義である。
【0070】A1で表されるメソイオン化合物を含む置
換基とは、W.BakerとW.D.Ollisがクォ
ータリィ・レビュー(Quart.Rev.)11,1
5(1957)、アドバンシィズ・イン・ヘテロサイク
リック・ケミストリィ(Adv.Heterocyc
l.Chem.)19,1(1976)で定義している
化合物群の残基であり、「5又は6員の複素環状化合物
で、一つの共有結合構造式又は極性構造式では満足に表
示することができず、又、環を構成する全ての原子に関
連したπ電子の六偶子を有する化合物で、環は部分的正
電荷を帯び、環外原子又は原子団上の等しい負電荷と釣
合いを保っている」ものの残基を指す。
【0071】メソイオン化合物のメソイオン環として
は、イミダゾリウム環、ピラゾリウム環、オキサゾリウ
ム環、チアゾリウム環、トリアゾリウム環、テトラゾリ
ウム環、チアジアゾリウム環、オキサジアゾリウム環、
チアトリアゾリウム環、オキサトリアゾリウム環などが
挙げられる。
【0072】本発明の一般式(6)で表される化合物に
ついて説明する。
【0073】
【化24】
【0074】式中、Aはハロゲン化銀に吸着可能な基を
含む原子群を表し、Lは炭素原子、水素原子、酸素原
子、窒素原子、硫黄原子から構成される基であり、具体
的には脂肪族基、芳香族基又は複素環基を表す。L1
2、L3は2価の連結基を表し、Zは不安定カルコゲン
原子部位を含む原子群を表し、R1、R4、R7は各々、
水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基を表し、
2、R3、R5、R6、R8、R9は各々、脂肪族基、芳香
族基、複素環基を表す。又、R1〜R3及びL1、R4〜R
6及びL2、R7〜R9及びL3の間で各々、結合して含窒
素複素環を形成することもできる。X1〜X3はアンモニ
ウムイオン電荷を相殺するアニオンを表す。k1〜k3
びmは0又は1の整数を表し、nは1から3の整数を表
し、p1、p2及びp3は各々0から2の整数を表す。
但し、p1、p2及びp3が同時に0とはならない。
【0075】Zで表される不安定カルコゲン原子部位を
含む原子群は一般式(4)、(5)のZ1と同義であ
る。
【0076】一般式(6)において、Lは炭素原子、水
素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子から構成される
基であり、具体的には脂肪族基、芳香族基又は複素環基
を表す。L1、L2及びL3で表される2価の連結基とし
ては、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄
原子から構成される基であり、具体的には、前記一般式
(4)、(5)と同様のものが挙げられる。
【0077】R1〜R9で表される脂肪族基としては炭素
数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基(例え
ば、メチル、エチル、イソプロピル、2−エチル−ヘキ
シル、シクロペンチル、シクロヘキシル等の各基)、ア
ルケニル基(例えば、プロペニル、3−ペンテニル、2
−ブテニル、シクロヘキセニル等の各基)、アルキニル
基(例えば、プロパルギル、3−ペンチニル等の各
基)、アラルキル(例えば、ベンジル、フェネチル等の
各基)が挙げられる。芳香族基としては、炭素数6〜1
0の単環又は縮合環の基であり、具体的には、フェニル
基又はナフチル基が挙げられ、複素環基としては酸素原
子、硫黄原子、窒素原子を含む5員〜7員の単環又は縮
合環の基であり、具体的には、フリル、チエニル、ベン
ゾフリル、ピロリル、インドリル、チアゾリル、イミダ
ゾリル、モルフォリル、ピペラジル、ピラジル等の各基
が挙げられる。
【0078】R1〜R3及びL1、R4〜R6及びL2、R7
〜R9及びL3の間で相互に結合して形成される含窒素複
素環は芳香族性、非芳香族性、単環、縮合環を問わず、
カチオン部分を有する構造のものから選ばれる。
【0079】単環構造の具体的なものとしては3員環
(例えば、アジリジニウム環)、5員環(例えば、ピロ
リウム、ピロリジニウム、イミダゾリジニウム、イミダ
ゾリニウム、イミダゾリウム、ピラゾリウム、ピラゾリ
ジニウム、チアゾリジニウム、チアジアゾリウム等の
環)、6員環(ピリジニウム、ピペリジニウム、ピペラ
ジニウム、ピラジニウム、ピリミジニウム、モルフォリ
ニウム、テトラヒドロピリジニウム、テトラヒドロピリ
ミジニウム等の環)、縮合環(例えば、インドリジニウ
ム、ベンズイミダゾリウム、キノリニウム、シンノリウ
ム、プテリジニウム、キノキサゾリウムフタラジニウム
等の環)等が挙げられる。
【0080】これらR1〜R9で表される基と窒素原子で
形成される三級アンモニウムイオン及び四級アンモニウ
ムイオンとしては、例えば、ジメチルアンモニウム、ジ
エチルアンモニウム、トリメチルアンモニウム、エチル
−ジメチルアンモニウム等の低級アルキル基置換アンモ
ニウムイオンが好ましく選択され、R1〜R3及びL1
4〜R6及びL2、R7〜R9及びL3の間で相互に結合し
て形成される含窒素複素環イオンとしては、例えば、ア
ジリジニウム、ピロリジニウム、イミダゾリジニウム、
イミダゾリニウム、イミダゾリウム、ピラゾリウム、ピ
ラゾリジニウム、チアゾリジニウム、チアジアゾリウ
ム、ピリジニウム、ピペリジニウム、ピペラジニウム、
ピリミジニウム、モルフォリニウム、テトラヒドロピリ
ジニウム、テトラヒドロピリミジニウム等の単環の複素
環が好ましく選択される。
【0081】R1〜R9で表される各基並びにR1〜R3
びL1、R4〜R6及びL2、R7〜R9及びL3の間で相互
に結合して形成される。含窒素複素環は各々、任意の位
置に任意の基が置換でき、置換基の例としては、ヒドロ
キシ基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、沃素原子)、シアノ基、アミノ基(例え
ば、メチルアミノ、アニリノ、ジエチルアミノ、2−ヒ
ドロキシエチルアミノ等の各基)、アシル基(例えば、
アセチル、ベンゾイル、プロパノイル等の各基)、カル
バモイル基(例えば、カルバモイル、N−メチルカルバ
モイル、N,N−テトラメチレンカルバモイル、N−メ
タンスルホニルカルバモイル、N−アセチルカルバモイ
ル等の各基)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エト
キシ、2−ヒドロキシエトキシ、2−メトキシエトキシ
等の各基)、アルコキシカルボニル(例えば、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、2−メトキシエトキ
シカルボニル等の各基)、スルホニル基(例えば、メタ
ンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、ベンゼ
ンスルホニル、p−トルエンスルホニル等の各基)、ス
ルファモイル基(例えば、スルファモイル、N,N−ジ
メチルスルファモイル、モルフォリノスルホニル、N−
エチルスルファモイル等の各基)、アシルアミノ基(例
えば、アセトアミド、トリフルオロアセトアミド、ベン
ズアミド、チエノカルボニルアミノ、メタンスルホンア
ミド、ベンゼンスルホンアミド等の各基)、アルコキシ
カルボニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニルアミ
ノ、N−メチル−エトキシカルボニルアミノ等の各基)
等の基が挙げられる。
【0082】X1〜X3で表されるアニオンとしては水酸
イオン、ハロゲンイオン(例えば、クロル、ブロム、沃
素等のイオン)、過塩素酸イオン、テトラフルオロほう
酸イオン、パラトルエンスルホン酸イオン、硫酸イオ
ン、硝酸イオン、メチル硫酸イオン、トリフルオロメタ
ンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロ燐酸イオン等が挙
げられる。
【0083】以下に本発明の一般式(4)乃至(6)で
表される化合物の具体例を示すが、本発明の化合物はこ
れらに限定されるものではない。
【0084】
【化25】
【0085】
【化26】
【0086】
【化27】
【0087】
【化28】
【0088】
【化29】
【0089】
【化30】
【0090】
【化31】
【0091】
【化32】
【0092】
【化33】
【0093】
【化34】
【0094】
【化35】
【0095】
【化36】
【0096】
【化37】
【0097】
【化38】
【0098】
【化39】
【0099】
【化40】
【0100】
【化41】
【0101】
【化42】
【0102】
【化43】
【0103】
【化44】
【0104】
【化45】
【0105】
【化46】
【0106】
【化47】
【0107】
【化48】
【0108】
【化49】
【0109】次に一般式(4)乃至(6)で表される化
合物の合成を以下に説明する。
【0110】一般式(4)乃至(6)で表される化合物
は公知の置換反応を利用して合成することが出来る。例
えば以下の式に示す方法が用いられる。
【0111】 式5、6、7、8においてXは反応後脱離する基であ
り、例えばハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、沃素原子)、スルホン酸エステル基(例
えば、p−トルエンスルホナート、トリフルオロメタン
スルホナート、m−クロロベンゼンスルホナート等の各
基)が挙げられる。
【0112】 式1、式2における縮合剤としては、例えば、1,3−
ジシクロヘキシルカルボジイミド、2−クロロ−1,3
−ジメチルイミダゾリウムクロライド等を挙げることが
でき、又、式3〜10における塩基としては、無機塩基
(例えば、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム等)、
有機塩基(例えば、トリエチルアミン、ピリジン等)等
が好ましい。
【0113】式1〜10において、W、A及びZは一般
式(5)におけるW1,W2,W3,A1,Z1と同義であ
る。更に、式5,6のRは水素原子、ハロゲン原子、一
価の置換基を表し、前述したR1〜R7と同義である。
【0114】以下に合成の1例を挙げるが、本発明の他
の一般式で表される化合物も同様に合成することができ
る。
【0115】(一般式(4)で表される化合物の合成
例) 例示化合物4−2の合成 3−アミノ−5−(5−メルカプト−1−テトラゾリ
ル)安息香酸2.4gをテトラヒドロフランとメタノー
ルの混合溶液(1:1)50mlに加熱懸濁攪拌させ
た。これにエチルイソチオシアナート1.0gを滴下し
てそのまま30分間加熱環流攪拌した。反応液を濾過
し、濾液を濃縮乾固して残った固体をメタノールより再
結晶して淡黄色の結晶を1.6g得た。NMR及び、マ
ススペクトルより構造を確認した。
【0116】例示化合物4−61の合成 3−[3−カルボキシ−5−(5−メルカプト−1−テ
トラゾリル)アニリノスルホニル]フェニル−ジフェニ
ルホスフィン5.6gと金属セレン4gをクロロホルム
40ml中に懸濁して24時間加熱環流した。未反応物
を濾過して除き、濾液を減圧下で濃縮乾固して粗結晶を
6.0g得た。粗結晶をメタノールとクロロホルムの混
合溶媒(1:3)に溶かしてシリカゲルに吸着させ、メ
タノールとクロロホルムの混合溶媒(1:4)を流して
溶出分離した。目的成分のフラクションを集めて溶媒を
溜去し、精製品を4.1g得た。NMR及び、マススペ
クトルより構造を確認した。
【0117】一般式(4)乃至(6)で表される化合物
の使用量は、使用するカルコゲン化合物の構造、ハロゲ
ン化銀粒子、化学増感環境などにより変わるが、ハロゲ
ン化銀1モル当たり、10-8〜10-2モルが好ましく、
より好ましくは10-7〜10-3モルを用いる。本発明に
おける化学増感環境として特に制限はないが、pAgと
しては6〜11が好ましく、より好ましくは7〜10で
あり、pHは4〜10が好ましく、より好ましくは5〜
8、温度としては40℃〜90℃が好ましく、より好ま
しくは45℃〜80℃である。
【0118】本発明においては、一般式(4)乃至
(6)で表される化合物と化学増感剤として従来公知の
化合物とを併用して化学増感を行うことができ、化学増
感の工程の条件、例えばpAg、温度、時間等について
は当業界で一般に行われている条件で行うことができ
る。化学増感のために銀イオンと反応しうる、硫黄を含
む化合物や活性ゼラチンを用いる硫黄増感法、セレン化
合物を用いるセレン増感法、テルル化合物を用いるテル
ル増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金その他、
貴金属を用いる貴金属増感法等を単独又は組み合わせて
用いることができるが、中でもセレン増感法、テルル増
感法、還元増感法等が好ましく用いられ、特に硫黄増感
法、金増感法、セレン増感法が好ましく用いられる。化
学増感を施す時期は、ハロゲン化銀粒子の物理熟成開始
時から、有機銀塩と混合する直前の任意の時期に施すこ
とができる。
【0119】本発明に使用されるハロゲン化銀含有乳剤
(単にハロゲン化銀乳剤ともいう)はいかなる方法で画
像形成層に添加されてもよく、還元可能な銀源に近接す
るように配置する。又、化学増感を施された本発明のハ
ロゲン化銀乳剤は、有機銀塩を調製するための溶液に添
加する。一般にハロゲン化銀乳剤は有機銀塩に対して
0.75〜30重量%の量で含有することが好ましい。
【0120】ハロゲン化銀粒子に関する説明をする。
【0121】本発明におけるハロゲン化銀粒子は光セン
サーとして機能するものであり、画像形成後の白濁を低
く抑えるため、及び良好な画質を得るために平均粒子サ
イズが小さい方が好ましく、0.20μm以下、より好
ましくは0.03μm〜0.15μm、特に0.03μ
m〜0.11μmが好ましい。ここでいう「粒子サイ
ズ」とは、ハロゲン化銀粒子が立方体或いは八面体のい
わゆる正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の
長さをいう。又、正常晶でない場合、例えば球状、棒
状、或いは平板状の粒子の場合には、ハロゲン化銀粒子
の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。
【0122】ハロゲン化銀粒子の形状については、特に
制限はないが、ミラー指数〔100〕面の占める割合が
高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には7
0%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラ
ー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における
〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用した
T.Tani,J.Imaging Sci.,29,
165(1985)により求めることができる。
【0123】ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。本発明に用いられるハロゲ
ン化銀粒子は、P.Glafkides著Chimie
et PhysiquePhotographiqu
e(Paul Montel社刊、1967年)、G.
F.Duffin著 Photographic Em
ulsion Chemistry(The Foca
l Press刊、1966年)、V.L.Zelik
man et al著Making and Coat
ing Photographic Emulsion
(The Focal Press刊、1964年)等
に記載された方法を用いて調製することができる。即
ち、酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよ
く、又可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる形成
としては、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等
のいずれを用いてもよい。
【0124】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に
は、元素周期律表の6族から10族に属する金属のイオ
ン又は錯体イオンを含有することが好ましい。上記の金
属としては、W、Fe、Co、Ni、Cu、Ru、R
h、Pd、Re、Os、Ir、Pt、Auが好ましく、
中でも印刷製版用感光材料に使用される場合はRh、R
e、Ru、Ir、Osから選ばれることが好ましい。こ
れらの金属は錯体の形でハロゲン化銀に導入できる。本
発明においては、遷移金属錯体は、下記一般式で表され
る6配位錯体が好ましい。
【0125】〔ML6〕m式中、Mは元素周期表の6〜
10族の元素から選ばれる遷移金属、Lは架橋配位子、
mは0、−1、−2又は−3を表す。Lで表される配位
子の具体例としては、ハロゲン化物(弗化物、塩化物、
臭化物及び沃化物)、シアン化物、シアナート、チオシ
アナート、セレノシアナート、テルロシアナート、アジ
ド及びアコの各配位子、ニトロシル、チオニトロシル等
が挙げられ、好ましくはアコ、ニトロシル及びチオニト
ロシル等である。アコ配位子が存在する場合には、配位
子の一つ又は二つを占めることが好ましい。Lは同一で
もよく、又異なっていてもよい。Mとして特に好ましい
具体例は、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、レ
ニウム(Re)及びオスミウム(Os)である。
【0126】以下に遷移金属配位錯体の具体例を示す。
【0127】1:〔RhCl63-、2:〔RuCl6
3-、3:〔ReCl63-、4:〔RuBr63-、5:
〔OsCl63-、6:〔CrCl64-、7:〔Ru
(NO)Cl52-、8:〔RuBr4(H2O)〕2-
9:〔Ru(NO)(H2O)Cl4-、10:〔Rh
Cl5(H2O)〕2-、11:〔Re(NO)C
52-、12:〔Re(NO)CN52-、13:〔R
e(NO)ClCN42-、14:〔Rh(NO)2Cl
4-、15:〔Rh(NO)(H2O)Cl4-、1
6:〔Ru(NO)CN52-、17:〔Fe(C
N)63-、18:〔Rh(NS)Cl52-、19:
〔Os(NO)Cl52-、20:〔Cr(NO)C
52-、21:〔Re(NO)Cl5-、22:〔O
s(NS)Cl4(TeCN)〕2-、23:〔Ru(N
S)Cl52-、24:〔Re(NS)Cl4(SeC
N)〕2-、25:〔Os(NS)Cl(SC
N)42-、26:〔Ir(NO)Cl52- これらの金属のイオン又は錯体イオンは一種類でもよい
し、同種の金属及び異種の金属を二種以上併用してもよ
い。これらの金属のイオン又は錯体イオンの含有量とし
ては、一般的にはハロゲン化銀1モル当たり1×10-9
〜1×10-2モルが適当であり、好ましくは1×10-8
〜1×10-4モルである。これらの金属のイオン又は錯
体イオンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時
に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好
ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成
長、物理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加しても
よいが、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加する
のが好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するの
が好ましく、最も好ましくは核形成の段階である。添加
に際しては、数回に渡って分割して添加してもよく、ハ
ロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、
特開昭63−29603号、特開平2−306236
号、同3−167545号、同4−76534号、同6
−110146号、同5−273683号等に記載され
ている様に粒子内に分布を持たせて含有させることもで
きる。好ましくは粒子内部に分布をもたせることができ
る。これらの金属化合物は、水或いは適当な有機溶媒
(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、
ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添加する
ことができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶液もし
くは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した
水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶性ハラ
イド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液とハラ
イド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液として添
加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製す
る方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反
応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製時に予
め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある別のハ
ロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特
に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とN
aCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を水溶性ハラ
イド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に添加す
る時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中もしくは終
了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反
応容器に投入することもできる。
【0128】次に増感色素に関する説明を行う。
【0129】本発明の熱現像写真感光材料には例えば特
開昭63−159841号、同60−140335号、
同63−231437号、同63−259651号、同
63−304242号、同63−15245号、米国特
許4,639,414号、同4,740,455号、同
4,741,966号、同4,751,175号、同
4,835,096号に記載された増感色素が使用でき
る。本発明に使用される有用な増感色素は例えばRES
EARCH DISCLOSURE(以下、RD) I
tem 17643IV−A項(1978年12月
p.23)、同 Item 1831X項(1978年
8月p.437)に記載もしくは引用された文献に記載
されている。特に各種スキャナー光源の分光特性に適し
た分光感度を有する増感色素を有利に選択することがで
きる。例えばA)アルゴンレーザー光源に対しては、特
開昭60−162247号、特開平2−48653号、
米国特許2,161,331号、西独特許936,07
1号、特願平3−189532号記載のシンプルメロシ
アニン類、B)ヘリウム−ネオンレーザー光源に対して
は、特開昭50−62425号、同54−18726
号、同59−102229号に示された三核シアニン色
素類、特願平6−103272号に示されたメロシアニ
ン類、C)LED光源及び赤色半導体レーザーに対して
は特公昭48−42172号、同51−9609号、同
55−39818号、特開昭62−284343号、特
開平2−105135号に記載されたチアカルボシアニ
ン類、D)赤外半導体レーザー光源に対しては特開昭5
9−191032号、特開昭60−80841号に記載
されたトリカルボシアニン類、特開昭59−19224
2号、特開平3−67242号の一般式(IIIa)、一般
式(IIIb)に記載された4−キノリン核を含有するジ
カルボシアニン類などが有利に選択される。更に赤外レ
ーザー光源の波長が750nm以上、更に好ましくは8
00nm以上である場合このような波長域のレーザーに
対応されるためには、特開平4−182639、同5−
341432、特公平6−52387号、同3−109
31号、US5,441,866号、特開平7−132
95号等に記載されている増感色素が好ましく用いられ
る。これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それら
の組合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強
色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素ととも
に、それ自身分光増感作用をもたない色素或いは可視光
を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を示す物
質を乳剤中に含んでもよい。
【0130】次に有機銀塩に関する説明を行う。
【0131】本発明において有機銀塩は還元可能な銀源
であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸及びヘ
テロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10〜30、好ましくは
15〜25の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸及び含窒
素複素環が好ましい。配位子が、4.0〜10.0の銀
イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀塩
錯体も有用である。好適な銀塩の例は、RD第1702
9及び29963に記載されており、次のものがある。
【0132】有機酸の塩(例えば、没食子酸、シュウ
酸、ベヘン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン
酸等の塩);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩(例え
ば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−
(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチオ尿
素等);アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸
とのポリマー反応生成物の銀錯体(例えば、アルデヒド
類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアル
デヒド等)、ヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチル
酸、安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5
−チオジサリチル酸)、チオエン類の銀塩又は錯体(例
えば、3−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシ
メチル−4−(チアゾリン−2−チオエン、及び3−カ
ルボキシメチル−4−チアゾリン−2−チオエン)、イ
ミダゾール、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−チ
アゾール及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベ
ンジルチオ−1,2,4−トリアゾール及びベンゾトリ
アゾールから選択される窒素酸と銀との錯体又塩;サッ
カリン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩;及
びメルカプチド類の銀塩。好ましい銀源はベヘン酸銀で
ある。有機銀塩は好ましくは銀量として3g/m2以下
で含有せしめる。更に好ましくは2g/m2以下であ
る。
【0133】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。
【0134】次に還元剤に関する説明を行う。
【0135】本発明の熱現像写真感光材料には還元剤を
内蔵させることが好ましい。好適な還元剤の例は、米国
特許第3,770,448号、同第3,773,512
号、同第3,593,863号、及びRD第17029
及び29963に記載されており、次のものがある。
【0136】アミノヒドロキシシクロアルケノン化合物
(例えば、2−ヒドロキシピペリジノ−2−シクロヘキ
セノン);還元剤の前駆体としてアミノリダクトン類
(reductones)エステル(例えば、ピペリジ
ノヘキソースリダクトンモノアセテート);N−ヒドロ
キシ尿素誘導体(例えば、N−p−メチルフェニル−N
−ヒドロキシ尿素);アルデヒド又はケトンのヒドラゾ
ン類(例えば、アントラセンアルデヒドフェニルヒドラ
ゾン);ホスファーアミドフェノール類;ホスファーア
ミドアニリン類;ポリヒドロキシベンゼン類(例えば、
ヒドロキノン、t−ブチル−ヒドロキノン、イソプロピ
ルヒドロキノン及び(2,5−ジヒドロキシ−フェニ
ル)メチルスルホン);スルホンアミドアニリン類(例
えば、4−(N−メタンスルホンアミド)アニリン);
2−テトラゾリルチオヒドロキノン類(例えば、2−メ
チル−5−(1−フェニル−5−テトラゾリルチオ)ヒ
ドロキノン);テトラヒドロキノキサリン類(例えば、
1,2,3,4−テトラヒドロキノキサリン);アミド
オキシン類;アジン類(例えば、脂肪族カルボン酸アリ
ールヒドラザイド類とアスコルビン酸の組み合わせ);
ポリヒドロキシベンゼンとヒドロキシルアミンの組み合
わせ、リダクトン及び/又はヒドラジン;ヒドロキサン
酸類;アジン類とスルホンアミドフェノール類の組み合
わせ;α−シアノフェニル酢酸誘導体;ビス−β−ナフ
トールと1,3−ジヒドロキシベンゼン誘導体の組み合
わせ;5−ピラゾロン類;スルホンアミドフェノール還
元剤;2−フェニルインダン−1,3−ジオン等;クロ
マン;1,4−ジヒドロピリジン類(例えば、2,6−
ジメトキシ−3,5−ジカルボエトキシ−1,4−ジヒ
ドロピリジン);ビスフェノール類(例えば、ビス(2
−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)
メタン、ビス(6−ヒドロキシ−m−トリ)メシトール
(mesitol)、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−
3−メチルフェニル)プロパン、4,5−エチリデン−
ビス(2−t−ブチル−6−メチル)フェノール)、紫
外線感応性アスコルビン酸誘導体及び3−ピラゾリドン
類。中でも特に好ましい還元剤はヒンダードフェノール
類である。ヒンダードフェノール類としては下記一般式
(A)で表される化合物が挙げられる。
【0137】
【化50】
【0138】式中、Rは水素原子、又は炭素原子数1〜
10のアルキル基(例えば、−C49、2,4,4−ト
リメチルペンチル)を表し、R′及びR″は炭素原子数
1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、t−ブ
チル)を表す。
【0139】一般式(A)で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は、以下の化合物に限定さ
れるものではない。
【0140】
【化51】
【0141】
【化52】
【0142】前記一般式(A)で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は好ましくは銀1モル当り1×1
-2〜10モル、特に1×10-2〜1.5モルである。
【0143】本発明の熱現像写真感光材料が特に600
〜800nmに発振波長を有する印刷用イメージセッタ
ーの出力用の熱現像感光材料である場合、ヒドラジン化
合物が感光材料中に含有されることが好ましい。ヒドラ
ジン化合物の添加量としては銀1モル当たり1×10-6
モル乃至1×10-1モル含有されるのが好ましく、特に
1×10-5モル乃至5×10-2モルの範囲が好ましい添
加量である。
【0144】ヒドラジン化合物は、適当な有機溶媒、例
えばアルコール類(メタノール、エタノール、プロパノ
ール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、メ
チルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いる
ことができる。又、既に良く知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテート或いはジエチルフタレ
ートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなど
の補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製
して用いることができる。或いは固体分散法として知ら
れている方法によって、ヒドラジン化合物の粉末を水の
中にボールミル、コロイドミル、或いは超音波によって
分散して用いることもできる。本発明ではヒドラジン化
合物と併用して、カブリ防止剤としてインダゾール類
(例えばニトロインダゾール)を使用することが好まし
い。又、本発明の感光材料には、ヒドラジン化合物と併
用して、アミン誘導体、オニウム塩化合物、ジスルフィ
ド誘導体、及びヒドロキシアミン誘導体などの造核促進
剤を添加することができる。
【0145】本発明の熱現像写真感光材料には、色調剤
を添加することが好ましい。好適な色調剤の例はRD第
17029号に開示されており、次のものが挙げられ
る。
【0146】イミド類(例えば、フタルイミド);環状
イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリノン
(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピラゾ
リン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイミド
類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミ
ド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミント
リフルオロアセテート)、メルカプタン類(例えば、3
−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N−(ア
ミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例えば、
N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);ブロッ
クされたピラゾール類、イソチウロニウム(isoth
iuronium)誘導体及びある種の光漂白剤の組み
合わせ(例えば、N,N′−ヘキサメチレン(1−カル
バモイル−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−
(3,6−ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウム
トリフルオロアセテート)、及び2−(トリブロモメチ
ルスルホニル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロ
シアニン染料(例えば、3−エチル−5−((3−エチ
ル−2−ベンゾチアゾリニリデン(ベンゾチアゾリニリ
デン))−1−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4
−オキサゾリジンジオン);フタラジノン、フタラジノ
ン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、4−
(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノ
ン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3
−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノ
ンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、6−ク
ロロフタラジノン+ベンゼンスルフィン酸ナトリウム又
は8−メチルフタラジノン+p−トリスルホン酸ナトリ
ウム);フタラジン+フタル酸の組み合わせ;フタラジ
ン(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無水物、
及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸又はo
−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、フタル
酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテト
ラクロロフタル酸無水物)から選択される少なくとも1
つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン類、ベン
ズオキサジン、ナルトキサジン誘導体;ベンズオキサジ
ン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベンズオキサ
ジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不斉−トリ
アジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリミジ
ン)、及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、3,
6−ジメルカプト−1,4−ジフェニル−1H,4H−
2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン)。好まし
い色調剤としてはフタラゾン又はフタラジンである。
【0147】本発明においては、感光性層側にマット剤
を含有することが好ましく、寸法の繰り返し精度を高め
るには、ポリマーマット剤又は無機マット剤を乳剤層側
の全バインダーに対し、重量比で0.5〜10%含有す
ることが好ましい。
【0148】本発明において用いられるマット剤の材質
は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機
物としては、スイス特許第330,158号等に記載の
シリカ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガ
ラス粉、英国特許第1,173,181号等に記載のア
ルカリ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩、等を
マット剤として用いることができる。有機物としては、
米国特許第2,322,037号等に記載の澱粉、ベル
ギー特許第625,451号や英国特許第981,19
8号等に記載された澱粉誘導体、特公昭44−3643
号等に記載のポリビニルアルコール、スイス特許第33
0,158号等に記載のポリスチレン或いはポリメタア
クリレート、米国特許第3,079,257号等に記載
のポリアクリロニトリル、米国特許第3,022,16
9号等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット
剤を用いることができる。マット剤の形状は、定形、不
定形どちらでも良いが、好ましくは定形で、球形が好ま
しく用いられる。マット剤の大きさはマット剤の体積を
球形に換算したときの直径で表される。本発明において
マット剤の粒径とはこの球形換算した直径のことを示す
ものとする。
【0149】本発明に用いられるマット剤は、平均粒径
が0.5μm〜10μmであることが好ましく、更に好
ましくは1.0μm〜8.0μmである。又、粒子サイ
ズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好
ましく、更に好ましくは40%以下であり、特に好まし
くは30%以下となるマット剤である。
【0150】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。
【0151】 (粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100 本発明に係るマット剤は任意の構成層中に含むことがで
きるが、本発明の目的を達成するためには好ましくは感
光性層以外の構成層に含有することであり、更に好まし
くは支持体から見て最も外側の層への含有である。
【0152】本発明に係るマット剤の添加方法は、予め
塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、
塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマット剤を
噴霧する方法を用いてもよい。又複数の種類のマット剤
を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
【0153】本発明の熱現像写真感光材料に使用できる
好適なバインダーは透明又は半透明で、一般に無色であ
り、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、
その他フィルムを形成する媒体、例えば:ゼラチン、ア
ラビアゴム、ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエ
チルセルロース、セルロースアセテート、セルロースア
セテートブチレート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼ
イン、デンプン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメ
タクリル酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル
酸)、コポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ
(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−
ブタジエン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、
ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラー
ル))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フ
ェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキ
シド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセ
テート)、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類が
挙げられる。尚、これらバインダーは親水性でも非親水
性でもよい。
【0154】本発明においては、感光性層のバインダー
量が1.5〜6g/m2であることが好ましい。更に好
ましくは1.7〜5g/m2である。1.5g/m2未満
では未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場
合がある。
【0155】本発明の熱現像写真感光材料は、支持体上
に少なくとも一層の感光性層を有している。支持体上に
感光性層のみ形成しても良いが、感光性層の上に少なく
とも一層の非感光性層を形成することが好ましい。感光
性層を通過する光量又は波長分布を制御するために感光
性層と同じ側又は反対側にフィルター層を形成しても良
いし、感光性層に染料又は顔料を含ませても良い。染料
としては特開平8−201959号に記載の化合物が好
ましい。感光性層は複数にしても良く、又階調調整のた
めに支持体側から見て、高感度層/低感度層又は低感度
層/高感度層にしても良い。各種の添加剤は感光性層、
非感光性層、又はその他の形成層のいずれに添加しても
良い。本発明の熱現像写真感光材料には、例えば界面活
性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、
被覆助剤等を用いても良い。
【0156】〔熱現像写真感光材料の画像記録方法〕本
発明の熱現像写真感光材料への画像記録には書き込み手
段(露光手段)として、Arレーザー(488nm)、
He−Neレーザー(633nm)、赤色半導体レーザ
ー(670nm)、赤外半導体レーザー(780nm、
830nm)などを使用するのが好ましい。本発明で
は、10-2秒以下の露光時間で書き込むことが感度の改
善の点で著しい効果が得られる。好ましくは10-9秒以
上10-5秒以下である。
【0157】〔熱現像写真感光材料の画像形成方法〕本
発明の熱現像写真感光材料への画像形成は、レーザー露
光にて書き込みを行った後、前記熱現像写真感光材料を
80℃以上250℃以下の温度で加熱することにより達
成される。熱現像写真感光材料は常温で安定であるが、
露光後高温(例えば、80℃〜250℃)に加熱するこ
とで容易に現像される。加熱することで有機銀塩(酸化
剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応を通
じて銀が生成する。この酸化還元反応は露光でハロゲン
化銀に発生した潜像の触媒作用によって促進される。露
光領域中の有機銀塩の反応によって生成した銀は黒色画
像を提供し、これは非露光領域と対照をなし、画像の形
成がなされる。この反応過程は、外部から水等の処理液
を供給することなしで進行する。
【0158】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【0159】実施例1 〔熱現像写真感光材料の作製〕 〈下引済み支持体の作製〉市販の2軸延伸熱固定済みの
厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PE
T)フィルムの両面に8w/m2・分のコロナ放電処理
を施し、一方の面に下記下引塗布液1を乾燥膜厚0.8
μmになるように塗設・乾燥させ下引層aを形成した。
又反対側の面に下記下引塗布液2を乾燥膜厚0.8μm
になるように塗設・乾燥させて下引層bを形成した。
【0160】 (下引塗布液1) ブチルアクリレート(30重量%)t−ブチルアクリレート(20重量%)、 スチレン(25重量%)、2−ヒドロキシエチルアクリレート (25重量%)の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1lに仕上げる (下引塗布液2) ブチルアクリレート(40重量%)、スチレン(20重量%)、 グリシジルアクリレート(40重量%)の共重合体ラテックス液 (固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1lに仕上げる。
【0161】引き続き、それぞれの下引層表面に8w/
2・分のコロナ放電を施し、下引層aの上には、下記
下引上層塗布液1を乾燥膜厚0.1μmになる様に塗設
し、下引上層cを形成した。下引層bの上には下記下引
上層塗布液2を乾燥膜厚0.8μmになる様に塗設し、
下引上層dを形成した。尚、下引上層dは帯電防止機能
を有する。
【0162】 (下引上層塗布液1) ゼラチン 0.4g/m2になる重量 (C−1) 0.2g (C−2) 0.2g (C−3) 0.1g シリカ粒子(平均粒径3μm) 0.1g 水で1lに仕上げる。
【0163】 (下引上層塗布液2) (C−4) 60g (C−5)を成分とするラテックス液(固形分20%) 80g 硫酸アンモニウム 0.5g (C−6) 12g ポリエチレングリコール(重量平均分子量600) 6g 水で1lに仕上げる。
【0164】
【化53】
【0165】
【化54】
【0166】(支持体の熱処理)下引乾燥工程では、得
られた下引済支持体を140℃の温度で加熱した。その
後徐々に冷却した。
【0167】(感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製)水9
00ml中にイナートゼラチン7.5g及び臭化カリウ
ム10mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に合わ
せた後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと(98
/2)のモル比の臭化カリウムと沃化カリウムを含む水
溶液及び塩化ロジウムを銀1モル当たり1×10-4モル
を、pAg7.7に保ちながらコントロールドダブルジ
ェット法で10分間かけて添加した。その後4−ヒドロ
キシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデ
ン0.3gを添加しNaOHでpHを5に調整して平均
粒子サイズ0.06μm、投影直径面積の変動係数8
%、〔100〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒子を得
た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱
塩処理後フェノキシエタノール0.1gを加え、pH
5.9、pAg7.5に調整して、ハロゲン化銀乳剤を
得た。
【0168】次にこのハロゲン化銀乳剤に増感剤として
以下の表1に示す化合物を加え、55℃にて60分間反
応させて化学増感を施した。その後、ハロゲン化銀乳剤
の温度を室温に降温させてから後記するカブリ防止剤等
を加えることにより感光性ハロゲン化銀乳剤Aを調製し
た。
【0169】(ベヘン酸銀の調製)特開平9−1276
43号の実施例1の方法に従い下記のような方法でベヘ
ン酸銀を作製した。
【0170】先ず、ベヘン酸ナトリウム溶液を作製す
る。340mlのイソプロパノールにベヘン酸34gを
65℃で溶解した。次に撹拌しながら0.25Nの水酸
化ナトリウム水溶液をpH8.7になる様に添加した。
この際水酸化ナトリウム水溶液は約400ml必要とし
た。次にこのベヘン酸ナトリウム水溶液を減圧濃縮を行
いベヘン酸ナトリウム溶液を得た。このベヘン酸ナトリ
ウムの濃度は重量%で8.9%である。
【0171】次に、750mlの蒸留水中に30gのオ
セインゼラチンを溶解した溶液に2.94Mの硝酸銀溶
液を加え銀電位を400mVとした。この中にコントロ
ールドダブルジェット法を用いて78℃の温度下で前記
ベヘン酸ナトリウム溶液374mlを44.6ml/分
のスピードで添加し同時に2.94Mの硝酸銀水溶液を
銀電位が400mVになる様に添加した。添加時のベヘ
ン酸ナトリウム及び硝酸銀の使用量はそれぞれ0.09
2モル、0.101モルであった。添加終了後更に30
分撹拌し限外濾過により水溶性塩類を除去し、ベヘン酸
銀を得た。
【0172】(感光性ハロゲン化銀の調製)このベヘン
酸銀分散物に前記ハロゲン化銀乳剤Aをそれぞれ0.0
1モル加え、更に撹拌しながらポリ酢酸ビニルの酢酸n
−ブチル溶液(1.2wt%)100gを徐々に添加し
て分散物のフロックを形成後、水を取り除き、更に2回
の水洗と水の除去を行った後、バインダーとしてポリビ
ニルブチラール(平均分子量3000)の2.5wt%
の酢酸ブチルとイソプロピルアルコールの1:2混合溶
液60gを撹拌しながら加えた。その後、こうして得ら
れたゲル状のベヘン酸及びハロゲン化銀の混合物にバイ
ンダーとしてポリビニルブチラール(平均分子量400
0)及びイソプロピルアルコールを加え分散した。
【0173】PET支持体のバック面側及び感光層面側
に以下の各層を順次形成し、試料を作製した。尚、乾燥
は各々75℃,5分間で行った。
【0174】(バック面側塗布液)以下の組成の塗布液
を湿潤厚さ80ミクロンになるように塗布した。
【0175】 ポリビニルブチラール(10%イソプロパノール溶液) 150ml 染料−B 70mg 染料−C 70mg
【0176】
【化55】
【0177】以下の組成の感光層面側塗布液を塗布銀量
が2.0g/m2、バインダーとしてのポリビニルブチ
ラールが3.2g/m2になる様に塗布した。
【0178】 (感光層面側塗布液) 前記得られた感光性ハロゲン化銀 銀量として3g/m2になる量 増感色素−1(0.1%DMF溶液) 2mg 一般式(1)〜(3)の化合物(2%アセトン溶液)(表1参照) 3ml カブリ防止剤1(0.01%メタノール溶液) 3ml カブリ防止剤2(1.5%メタノール溶液) 8ml カブリ防止剤3(2.4%DMF溶液) 5ml フタラゾン(4.5%DMF溶液) 8ml 現像剤−1(10%アセトン溶液) 13ml 硬調化剤H(1%メタノール/DMF=4:1溶液) 2ml
【0179】
【化56】
【0180】
【化57】
【0181】以下の組成の表面保護層塗布液を湿潤厚さ
100μmになる様に感光層上に塗布した。
【0182】 (表面保護層塗布液) アセトン 175ml 2−プロパノール 40ml メタノール 15ml セルロースアセテート 8.0g フタラジン 1.0g 4−メチルフタル酸 0.72g テトラクロロフタル酸 0.22g テトラクロロフタル酸無水物 0.5g 平均粒径4μmの単分散シリカ バインダーに対して1%(W/W) 以上の様にして熱現像写真感光材料1が得られた。又一
般式(1)〜(3)で表される化合物を表1,2に示し
たように変化させた以外は同様にして熱現像写真感光材
料2〜43を作製した。これらを試料1〜43とする。
試料を以下の表1,2に示す。
【0183】
【表1】
【0184】
【表2】
【0185】
【化58】
【0186】得られた試料1〜43を以下の様にして評
価を行った。
【0187】(写真性能の評価)760nmの半導体レ
ーザーを備えたレーザー感光計で、得られた試料1〜4
3を露光(10-7秒間)した後、各試料を120℃で1
5秒間処理(現像)し、得られた画像の評価を濃度計に
より測定を行った。測定の結果はDmin(カブリ)、
感度(Dminより1.0高い濃度を与える露光計の比
の逆数)で評価し、試料1の感度を100として相対感
度で表3に示した。
【0188】尚、保存経時による性能変化の程度を評価
するため、現像前の試料については暗室(温度23℃、
湿度40%)にて1日及び10日放置した試料の性能を
比較した(カブリ増加1)。又現像後の試料について
は、現像直後のDminと現像後明室(蛍光灯下、温度
23℃、湿度40%)にて10日放置した試料のDmi
nを比較した(カブリ増加2)。
【0189】得られた結果を表3に示す。
【0190】
【表3】
【0191】表3から明らかな様に、本発明の一般式
(1)〜(3)で表される化合物を用いた場合ではカブ
リ、カブリ増加1及びカブリ増加2に改良傾向が認めら
れ、又本発明の一般式(4)で表される化合物を用いて
ハロゲン化銀に化学増感を行った場合では相対感度とカ
ブリ増加1に改良傾向が認められたが、一般式(1)〜
(3)で表される化合物と一般式(4)で表される化合
物とを併用するとカブリ、相対感度、カブリ増感1及び
カブリ増感2の全てにおいて著しい改良効果が認められ
る。これほどの著しい改良効果は当初予想できないレベ
ルである。更に一般式(1)〜(3)で表される化合物
のそれぞれを併用すると更に高い効果が得られた。
【0192】実施例2 実施例1にて使用した一般式(4)で表される化合物を
表4に示したように一般式(5)で表される化合物に変
更した以外は全く同様にして熱現像写真感光材料を作製
し、試料44〜74として同様に評価を行った。
【0193】
【表4】
【0194】得られた結果を以下の表5に示す。
【0195】
【表5】
【0196】表5から明らかな様に、本発明の一般式
(5)で表される化合物も一般式(4)で表される化合
物を使用した場合と同様な効果が得られた。
【0197】実施例3 実施例2にて使用した一般式(5)で表される化合物を
表6に示したように一般式(6)で表される化合物に変
更した以外は全く同様にして熱現像写真感光材料を作製
し、試料75〜107として同様に評価を行った。
【0198】
【表6】
【0199】得られた結果を以下の表7に示す。
【0200】
【表7】
【0201】表7から明らかな様に、本発明の一般式
(6)で表される化合物も一般式(4)及び(5)で表
される化合物を使用した場合と同様な効果が得られた。
【0202】実施例4 (感光性ハロゲン化銀乳剤Bの調製)特願平9−252
077号の実施例を参考にしながら平均粒径0.05μ
mの平板状沃臭化銀乳剤を調製した。尚、アスペクト比
は6.0、投影直径面積の変動係数10%、粒子全体の
平均沃度含有量は0.4モル%、粒子最表面の平均沃度
含有量は2.8モル%であった。
【0203】感光性ハロゲン化銀乳剤Aの代替として得
られた感光性ハロゲン化銀乳剤Bを用いて実施例1〜3
と同様にして試料を作製し評価したところ、実施例1〜
3で認められた本発明の効果が同程度に得られた。
【0204】
【発明の効果】本発明によれば、低カブリ、高感度でか
つ熱現像の前と後における長期保存した際での保存性に
優れた熱現像写真感光材料を提供することができるとい
う顕著に優れた効果を奏する。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上に有機銀塩、バインダー、感光
    性ハロゲン化銀含有乳剤、及び下記一般式(1)乃至
    (3)で表される化合物から選択される少なくとも1種
    を含有する熱現像写真感光材料であって、前記感光性ハ
    ロゲン化銀が下記一般式(4)乃至(6)で表される化
    合物から選択される少なくとも1種の存在下において化
    学増感を施されたことを特徴とする熱現像写真感光材
    料。 【化1】 (式中X1及びX2はハロゲン原子を表す。Yは2価の連
    結基を表す。Aは水素原子、ハロゲン原子、及びその他
    の電子吸引性基を表す。mは3以上4以下の整数を表
    す。Qはヘテロ環基、アリール基、脂肪族基を表す。n
    は0以上3以下の整数を表す。Qが脂肪族基の場合は分
    子全体のハロゲン原子の個数が6以上10未満であ
    る。) 【化2】 (式中、X1、X2、及びAは一般式(1)と同義であ
    る。Qは酸素原子を1つ、窒素原子を2以上3以下有す
    る芳香族ヘテロ5員環、フラン環、チオフェン環、及び
    ピロール環の各基を表す。但し、Qがチオフェン環の場
    合、X1は臭素原子を表す。) 【化3】 (式中、X1、X2、及びAは一般式(1)と同義であ
    る。Yは−SO−,−CO−,−N(R11)−SO
    2−,−N(R11)−CO−,−N(R11)−COO
    −,−COCO−,−COO−,−OCO−,−OCO
    O−,−SCO−,−SCOO−,−C(Z1)(Z2
    −,アルキレン,アリーレン,2価のヘテロ環及びこれ
    らの任意の組み合わせで形成される2価の置換基を表
    す。R11は水素原子又はアルキル基を表す。Z1及びZ2
    は水素原子もしくは電子吸引性基を表す。Z1及びZ2
    同時に水素原子であることはない。Qは脂肪族基、芳香
    族基、ヘテロ環基を表す。但しYが−SO−の時、Qは
    N以外のヘテロ原子を少なくとも1つ有する芳香族ヘテ
    ロ5員環基及びピリジン環基を表す。) 【化4】 (式中、A1はハロゲン化銀に吸着可能な基を含む原子
    群を表し、L1は2価の連結基を表し、Z1は不安定カル
    コゲン原子部位を含む原子群を表し、W1、W2及びW3
    はカルボン酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基、リン
    酸基、亜リン酸基及びホウ酸基を表す。m1は0又は1
    を表し、n1は1〜3の整数を表し、l1、l2及びl
    3は各々0〜2の整数を表す。但し、l1、l2及びl
    3が同時に0とはならない。) 【化5】 (式中、A1はメソイオン化合物を含む置換基を表す。
    1、Z1、W1〜W3、m1、n1は一般式(4)と同義
    である。又r1〜r3は一般式(4)のl1〜l3と同
    義である。) 【化6】 (式中、Aはハロゲン化銀に吸着可能な基を含む原子群
    を表し、Lは炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原
    子、硫黄原子から構成される基であり、具体的には脂肪
    族基、芳香族基又は複素環基を表す。L1、L2、L3
    2価の連結基を表し、Zは不安定カルコゲン原子部位を
    含む原子群を表し、R1、R4、R7は各々、水素原子、
    脂肪族基、芳香族基、複素環基を表し、R2、R3
    5、R6、R8、R9は各々、脂肪族基、芳香族基、複素
    環基を表す。又、R1〜R3及びL1、R4〜R6及びL2
    7〜R9及びL3の間で各々、結合して含窒素複素環を
    形成することもできる。X1〜X3はアンモニウムイオン
    電荷を相殺するアニオンを表す。k1〜k3及びmは0又
    は1の整数を表し、nは1から3の整数を表し、p1、
    p2及びp3は各々0から2の整数を表す。但し、p
    1、p2及びp3が同時に0とはならない。)
  2. 【請求項2】 上記熱現像写真感光材料への書き込み手
    段がレーザー露光であり、かつ10-2秒以下の時間で書
    き込むことを特徴とする画像記録方法。
  3. 【請求項3】 上記熱現像写真感光材料に対しレーザー
    露光にて書き込みを行った後、前記熱現像写真感光材料
    を80℃以上250℃以下の温度で加熱して画像を形成
    することを特徴とする画像形成方法。
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