JPH11302348A - 放射線硬化性シリコーンゴム組成物 - Google Patents
放射線硬化性シリコーンゴム組成物Info
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- JPH11302348A JPH11302348A JP35201098A JP35201098A JPH11302348A JP H11302348 A JPH11302348 A JP H11302348A JP 35201098 A JP35201098 A JP 35201098A JP 35201098 A JP35201098 A JP 35201098A JP H11302348 A JPH11302348 A JP H11302348A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】短時間の放射線照射で硬化し速やかに各種基材
に対し良好な接着性を示す放射線硬化性組成物を提供す
る。 【解決手段】（Ａ）分子鎖の両末端に放射線官能性の
（メタ）アクリロイル基を有する特定のオルガノポリシ
ロキサン、（Ｂ）光増感剤、並びに、（Ｃ）テトラアル
コキシシラン又はその部分加水分解縮合物、及び、場合
により、（Ｄ）特定の有機チタン化合物を含有してなる
放射線硬化性シリコーンゴム組成物。
に対し良好な接着性を示す放射線硬化性組成物を提供す
る。 【解決手段】（Ａ）分子鎖の両末端に放射線官能性の
（メタ）アクリロイル基を有する特定のオルガノポリシ
ロキサン、（Ｂ）光増感剤、並びに、（Ｃ）テトラアル
コキシシラン又はその部分加水分解縮合物、及び、場合
により、（Ｄ）特定の有機チタン化合物を含有してなる
放射線硬化性シリコーンゴム組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、接着性に優れた硬
化物を形成できる放射線硬化性シリコーンゴム組成物に
関する。
化物を形成できる放射線硬化性シリコーンゴム組成物に
関する。
【０００２】
【従来の技術】特公平４−２５２３１（対応米国特許第
４，７３３，９４２号及び米国再発行特許第３３７３７
号）には、オプティカルファイバーのコーティング剤と
して優れた特性を有しているゴム組成物が開示されてい
る。該組成物は、ビニル官能性基含有オルガノポリシロ
キサンと光重合開始剤からなるものであるが、耐熱性、
耐湿性、電気特性、硬化性において、それまでの有機系
樹脂やシリコーン変性系樹脂をベースとする組成物に比
べ、良好であるものの、基材に対する接着性が低く、一
般の接着剤や、電気、電子関連のコーティング剤、接着
剤、ポッティング剤として使用できなかった。
４，７３３，９４２号及び米国再発行特許第３３７３７
号）には、オプティカルファイバーのコーティング剤と
して優れた特性を有しているゴム組成物が開示されてい
る。該組成物は、ビニル官能性基含有オルガノポリシロ
キサンと光重合開始剤からなるものであるが、耐熱性、
耐湿性、電気特性、硬化性において、それまでの有機系
樹脂やシリコーン変性系樹脂をベースとする組成物に比
べ、良好であるものの、基材に対する接着性が低く、一
般の接着剤や、電気、電子関連のコーティング剤、接着
剤、ポッティング剤として使用できなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の課題
は、短時間の放射線照射で硬化し速やかに各種基材に対
し良好な接着性を示す放射線硬化性組成物を提供するこ
とにある。
は、短時間の放射線照射で硬化し速やかに各種基材に対
し良好な接着性を示す放射線硬化性組成物を提供するこ
とにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明はかかる課題を解
決するものとして、 （Ａ）一般式（1）：
決するものとして、 （Ａ）一般式（1）：
【０００５】
【化４】 〔ここで、Ｒ1は、独立に、置換又は非置換の炭素原子
数１〜９の１価炭化水素基であり、Ｘは式（２）：
数１〜９の１価炭化水素基であり、Ｘは式（２）：
【０００６】
【化５】 ｛ここで、 Ｒ2は炭素原子数２〜４の２価炭化水素基又
は酸素原子、Ｒ3は一般式：
は酸素原子、Ｒ3は一般式：
【０００７】
【化６】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基である）で表される
(メタ）アクリロイル基を１〜３個有する炭素原子数４
〜25の１価の有機基、 Ｒ4は炭素原子数１〜９の非置換
又は置換の１価炭化水素基、Ｒ5は炭素原子数１〜18の
１価炭化水素基であり、ｎは１〜３の整数、ｍは０〜２
の整数で、１≦ｎ＋ｍ≦３である。ただしｎ＝１のとき
Ｒ3は複数個の(メタ）アクリロイル基を有し、 Ｒ3、
Ｒ4及びＲ5の各々は複数存在する場合は同一でも異なっ
てもよい｝で示される有機けい素基であり、Ｌは８〜1
0,000の整数である〕で表されるオルガノポリシロキサ
ン、 （B）光増感剤、並びに （Ｃ）一般式：Ｓｉ（ＯＲ6）4 （式中、Ｒ6は、炭素原子数１〜４の非置換又はアルコ
キシ置換のアルキル基である）で表されるアルコキシシ
ラン及びその部分加水分解縮合物から選ばれる少なくと
も一種の有機けい素化合物、を含有してなる放射線硬化
性シリコーンゴム組成物を提供する。
(メタ）アクリロイル基を１〜３個有する炭素原子数４
〜25の１価の有機基、 Ｒ4は炭素原子数１〜９の非置換
又は置換の１価炭化水素基、Ｒ5は炭素原子数１〜18の
１価炭化水素基であり、ｎは１〜３の整数、ｍは０〜２
の整数で、１≦ｎ＋ｍ≦３である。ただしｎ＝１のとき
Ｒ3は複数個の(メタ）アクリロイル基を有し、 Ｒ3、
Ｒ4及びＲ5の各々は複数存在する場合は同一でも異なっ
てもよい｝で示される有機けい素基であり、Ｌは８〜1
0,000の整数である〕で表されるオルガノポリシロキサ
ン、 （B）光増感剤、並びに （Ｃ）一般式：Ｓｉ（ＯＲ6）4 （式中、Ｒ6は、炭素原子数１〜４の非置換又はアルコ
キシ置換のアルキル基である）で表されるアルコキシシ
ラン及びその部分加水分解縮合物から選ばれる少なくと
も一種の有機けい素化合物、を含有してなる放射線硬化
性シリコーンゴム組成物を提供する。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の組成物を詳細に説
明する。なお、(メタ)アクリロイル((meth)acryloyl)、
（メタ）アクリル、（メタ）アクリレートなどは、それ
ぞれ、アクリロイル(acryloyl)及びメタクリロイル(met
hacryloyl)、アクリル及びメタクリル、並びにアクリレ
ート及びメタクリレートなどを包含する用語であり、Me
はメチル基、Etはエチル基、Prはプロピル基を、iPrは
イソプロピル基を意味する。
明する。なお、(メタ)アクリロイル((meth)acryloyl)、
（メタ）アクリル、（メタ）アクリレートなどは、それ
ぞれ、アクリロイル(acryloyl)及びメタクリロイル(met
hacryloyl)、アクリル及びメタクリル、並びにアクリレ
ート及びメタクリレートなどを包含する用語であり、Me
はメチル基、Etはエチル基、Prはプロピル基を、iPrは
イソプロピル基を意味する。
【０００９】（Ａ）オルガノポリシロキサン 一般式(1)において、Ｒ1は同一でも異なってもよく、炭
素原子数１〜９、好ましくは炭素原子数１〜６の非置換
又は置換の１価炭化水素基である。この１価炭化水素基
の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、２−
エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基等のアルキル
基；シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロア
ルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプ
ロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル
基；フェニル基、トリル基等のアリール基；ベンジル
基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラル
キル基；又はこれらの基の炭素原子に結合した水素原子
の少なくとも一部をハロゲン原子、シアノ基等の置換基
で置換した、クロロメチル基、シアノエチル基、トリフ
ルオロプロピル基などの基等が挙げられるが、Ｒ1の５
０モル％以上がメチル基で、且つ２５モル％以下がフェ
ニル基であるものが好ましい。
素原子数１〜９、好ましくは炭素原子数１〜６の非置換
又は置換の１価炭化水素基である。この１価炭化水素基
の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、２−
エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基等のアルキル
基；シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロア
ルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプ
ロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル
基；フェニル基、トリル基等のアリール基；ベンジル
基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラル
キル基；又はこれらの基の炭素原子に結合した水素原子
の少なくとも一部をハロゲン原子、シアノ基等の置換基
で置換した、クロロメチル基、シアノエチル基、トリフ
ルオロプロピル基などの基等が挙げられるが、Ｒ1の５
０モル％以上がメチル基で、且つ２５モル％以下がフェ
ニル基であるものが好ましい。
【００１０】一般式(1)において、Ｘは独立に上記一般
式(2)で表される基である。一般式(2)におけるＲ2は炭
素原子数２〜４の２価炭化水素基又は酸素原子である
が、耐水性の点から好ましくは２価炭化水素基である。
この２価炭化水素基の具体例としては、エチレン基、プ
ロピレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基等の
アルキレン基が挙げられるが、好ましくはエチレン基で
ある。
式(2)で表される基である。一般式(2)におけるＲ2は炭
素原子数２〜４の２価炭化水素基又は酸素原子である
が、耐水性の点から好ましくは２価炭化水素基である。
この２価炭化水素基の具体例としては、エチレン基、プ
ロピレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基等の
アルキレン基が挙げられるが、好ましくはエチレン基で
ある。
【００１１】一般式(2)におけるＲ3は１〜３個、好まし
くは２〜３個、更に好ましくは３個の（メタ）アクリロ
イル基を、例えば（メタ）アクリロイルオキシ((meth)a
cyloyloxy)基として有する炭素原子数４〜２５の１価有
機基である。(メタ)アクリロイル基には、CH2=CHCO-及
びCH2=C(CH3)CO-が含まれる。この(メタ)アクリロイル
基を含む１価有機基の具体例としては、CH2=CHCOOCH2CH
2-、[CH2=C(CH3)COOCH2]3C-CH2-、(CH2=CHCOOCH2)3C-CH
2-、(CH2=CHCOOCH2)2C(C2H5)CH2-、
くは２〜３個、更に好ましくは３個の（メタ）アクリロ
イル基を、例えば（メタ）アクリロイルオキシ((meth)a
cyloyloxy)基として有する炭素原子数４〜２５の１価有
機基である。(メタ)アクリロイル基には、CH2=CHCO-及
びCH2=C(CH3)CO-が含まれる。この(メタ)アクリロイル
基を含む１価有機基の具体例としては、CH2=CHCOOCH2CH
2-、[CH2=C(CH3)COOCH2]3C-CH2-、(CH2=CHCOOCH2)3C-CH
2-、(CH2=CHCOOCH2)2C(C2H5)CH2-、
【００１２】
【化７】 等の、１〜３個のアクリロイロキシ基又はメタクリロイ
ロキシ基で置換された炭素原子数１〜１０、好ましくは
２〜６、のアルキル基などが挙げられる。好ましくは[C
H2=C(CH3)COOCH2]3C-CH2-、(CH2=CHCOOCH2)3C-CH2-、(C
H2=CHCOOCH2)2C(C2H5)CH2-及び
ロキシ基で置換された炭素原子数１〜１０、好ましくは
２〜６、のアルキル基などが挙げられる。好ましくは[C
H2=C(CH3)COOCH2]3C-CH2-、(CH2=CHCOOCH2)3C-CH2-、(C
H2=CHCOOCH2)2C(C2H5)CH2-及び
【００１３】
【化８】 更に好ましくは[CH2=C(CH3)COOCH2]3C-CH2-、(CH2=CHCO
OCH2)3C-CH2-及び
OCH2)3C-CH2-及び
【００１４】
【化９】 である。一般式(2)におけるＲ4は同一でも異なってもよ
く、炭素原子数１〜９、好ましくは炭素原子数１〜６の
非置換又は置換の１価炭化水素基である。Ｒ4の１価炭
化水素基の具体例としては、一般式(1)におけるＲ1につ
いて例示したものが挙げられる。 Ｒ1の場合と同様に、
Ｒ4の５０モル％以上がメチル基で、且つ２５モル％以
下がフェニル基であるものが好ましい。一般式(2)にお
けるＲ5は炭素原子数１〜１８、好ましくは炭素原子数
１〜８の１価炭化水素基である。Ｒ5の１価炭化水素基
の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル
基；シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル
基等のアリール基；アリル基、プロペニル基、ブテニル
基等のアルケニル基等が挙げられるが、好ましくはアル
ケニル基等の脂肪族不飽和基を除くものが使用される。
また一般式(2)において、ｎは１〜３の整数、ｍは０〜
２の整数で、且つｎ及びｍは１≦ｎ＋ｍ≦３を満足する
が、ｎ＝１の時Ｒ3は複数個の、具体的には２又は３個
の(メタ)アクリロイル基を有する。また、一般式(1)に
おいて、Ｌは８〜１０，０００、好ましくは４８〜１，
０００の整数である。一般式(1)で表されるオルガノポ
リシロキサンの好ましい具体例としては以下の式で表さ
れるものが挙げられる。
く、炭素原子数１〜９、好ましくは炭素原子数１〜６の
非置換又は置換の１価炭化水素基である。Ｒ4の１価炭
化水素基の具体例としては、一般式(1)におけるＲ1につ
いて例示したものが挙げられる。 Ｒ1の場合と同様に、
Ｒ4の５０モル％以上がメチル基で、且つ２５モル％以
下がフェニル基であるものが好ましい。一般式(2)にお
けるＲ5は炭素原子数１〜１８、好ましくは炭素原子数
１〜８の１価炭化水素基である。Ｒ5の１価炭化水素基
の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル
基；シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル
基等のアリール基；アリル基、プロペニル基、ブテニル
基等のアルケニル基等が挙げられるが、好ましくはアル
ケニル基等の脂肪族不飽和基を除くものが使用される。
また一般式(2)において、ｎは１〜３の整数、ｍは０〜
２の整数で、且つｎ及びｍは１≦ｎ＋ｍ≦３を満足する
が、ｎ＝１の時Ｒ3は複数個の、具体的には２又は３個
の(メタ)アクリロイル基を有する。また、一般式(1)に
おいて、Ｌは８〜１０，０００、好ましくは４８〜１，
０００の整数である。一般式(1)で表されるオルガノポ
リシロキサンの好ましい具体例としては以下の式で表さ
れるものが挙げられる。
【００１５】
【化１０】
【００１６】
【化１１】
【００１７】
【化１２】
【００１８】
【化１３】
【００１９】
【化１４】
【００２０】
【化１５】
【００２１】
【化１６】
【００２２】
【化１７】
【００２３】
【化１８】
【００２４】
【化１９】
【００２５】
【化２０】
【００２６】
【化２１】
【００２７】
【化２２】
【００２８】
【化２３】
【００２９】
【化２４】
【００３０】
【化２５】
【００３１】
【化２６】
【００３２】
【化２７】
【００３３】
【化２８】
【００３４】
【化２９】
【００３５】
【化３０】
【００３６】
【化３１】 及び
【００３７】
【化３２】 〔上記（１−１）〜（１−２３）において、Ｒ’はメチ
ル基、フェニル基又は３，３，３−トリフルオロプロピ
ル基を示し、Ｌは８〜１０，０００、好ましくは４８〜
１，０００の整数を示す。〕 これらのオルガノポリシロキサンは一種単独でも二種以
上組合わせても使用することができる。
ル基、フェニル基又は３，３，３−トリフルオロプロピ
ル基を示し、Ｌは８〜１０，０００、好ましくは４８〜
１，０００の整数を示す。〕 これらのオルガノポリシロキサンは一種単独でも二種以
上組合わせても使用することができる。
【００３８】この成分（Ａ）のオルガノポリシロキサン
は感放射線性基として、（ＯＲ3）基を有している（即
ち、分子鎖両末端にそれぞれ複数個の、具体的には２〜
９個の（メタ）アクリロイル基を有している）ので、こ
のものは紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線、γ線などの
放射線照射に容易に感応して本発明の組成物を硬化に至
らしめる。
は感放射線性基として、（ＯＲ3）基を有している（即
ち、分子鎖両末端にそれぞれ複数個の、具体的には２〜
９個の（メタ）アクリロイル基を有している）ので、こ
のものは紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線、γ線などの
放射線照射に容易に感応して本発明の組成物を硬化に至
らしめる。
【００３９】成分（Ａ）のオルガノポリシロキサンは、
例えば対応するクロロシロキサンと活性水酸基を有する
（メタ）アクリル官能性化合物との脱塩化水素反応など
によって得ることができる。このクロロシロキサンとし
ては、例えば、次式：
例えば対応するクロロシロキサンと活性水酸基を有する
（メタ）アクリル官能性化合物との脱塩化水素反応など
によって得ることができる。このクロロシロキサンとし
ては、例えば、次式：
【００４０】
【化３３】
【００４１】
【化３４】 で示されものが挙げられる。また、活性水酸基を有する
(メタ）アクリル系官能性化合物としては、例えば、２
−ヒドロキシルエチル（メタ）アクリレート、メチロー
ルプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−１−
アクリロイルオキシ−３−メタクリロイルオキシプロパ
ンなどが挙げられる。
(メタ）アクリル系官能性化合物としては、例えば、２
−ヒドロキシルエチル（メタ）アクリレート、メチロー
ルプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−１−
アクリロイルオキシ−３−メタクリロイルオキシプロパ
ンなどが挙げられる。
【００４２】成分（Ａ）のオルガノポリシロキサンは１
つのケイ素原子に複数個の(メタ）アクリロイル基を有
することが好ましいので、かかる観点からメチロールプ
ロパンジ（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトー
ルトリ（メタ）アクリレートが好ましく、ペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレートが更に好ましい。
つのケイ素原子に複数個の(メタ）アクリロイル基を有
することが好ましいので、かかる観点からメチロールプ
ロパンジ（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトー
ルトリ（メタ）アクリレートが好ましく、ペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレートが更に好ましい。
【００４３】（Ｂ）光増感剤 光増感剤は特に限定されないが、望ましくは、ベンゾフ
ェノン、フェニル・１−ヒドロキシフェニル・ケトン、
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−
１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒ
ドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンなどのベンゾ
イル化合物（又はフェニルケトン化合物）、好ましくは
α−位の炭素原子上にヒドロキシ基を有するベンゾイル
化合物（又はフェニルケトン化合物）；２，４，６−ト
リメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイ
ド、ビスアシルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，
６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル
ベンチルフォスフィンオキサイドなどのオルガノホスフ
ィンオキサイド化合物；イソブチルベンゾインエーテル
等のベンゾインエーテル化合物；アセトフェノンジエチ
ルケタール等のケタール化合物；チオキサントン系化合
物；アセトフェノン系化合物などが例示される。これら
は１種単独でもしくは二種以上組合わせて添加すること
ができる。成分（B）の配合量は、成分（Ａ）100重量部
に対して、通常、0.5〜10重量部でよく、好ましくは1.0
〜5.0重量部である。
ェノン、フェニル・１−ヒドロキシフェニル・ケトン、
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−
１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒ
ドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンなどのベンゾ
イル化合物（又はフェニルケトン化合物）、好ましくは
α−位の炭素原子上にヒドロキシ基を有するベンゾイル
化合物（又はフェニルケトン化合物）；２，４，６−ト
リメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイ
ド、ビスアシルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，
６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル
ベンチルフォスフィンオキサイドなどのオルガノホスフ
ィンオキサイド化合物；イソブチルベンゾインエーテル
等のベンゾインエーテル化合物；アセトフェノンジエチ
ルケタール等のケタール化合物；チオキサントン系化合
物；アセトフェノン系化合物などが例示される。これら
は１種単独でもしくは二種以上組合わせて添加すること
ができる。成分（B）の配合量は、成分（Ａ）100重量部
に対して、通常、0.5〜10重量部でよく、好ましくは1.0
〜5.0重量部である。
【００４４】（Ｃ）アルコキシシラン及び／又はその部
分加水分解縮合物 成分（Ｃ）のアルコキシシラン及び／又はその部分加水
分解縮合物は一般式：Ｓｉ（ＯＲ6）4で表されるテトラ
アルコキシシラン及び／又はその部分加水分解縮合物で
あり、接着助剤として各種基材に対して良好な接着性を
付与する成分である。
分加水分解縮合物 成分（Ｃ）のアルコキシシラン及び／又はその部分加水
分解縮合物は一般式：Ｓｉ（ＯＲ6）4で表されるテトラ
アルコキシシラン及び／又はその部分加水分解縮合物で
あり、接着助剤として各種基材に対して良好な接着性を
付与する成分である。
【００４５】式：Ｓｉ（ＯＲ6）4において、Ｒ6は炭素
原子数１〜４程度の、低級アルキル基又はアルコキシ置
換低級アルキル基である。この低級アルキル基の具体例
としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等
が挙げられ、またアルコキシ置換低級アルキル基として
は、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメ
チル基、エトキシエチル基等が挙げられる。好ましく
は、メチル基、エチル基である。尚、アルコキシシラン
の部分加水分解縮合物とは、該アルコキシ基の加水分解
縮合反応によって生成する、分子中に少なくとも１個、
好ましくは２個以上のアルコキシ基が残存するシロキサ
ン化合物（ケイ素原子数が２〜１００個、好ましくは２
〜３０個程度のシロキサンオリゴマー）を意味する。成
分（Ｃ）は一種単独でも二種以上組合わせても使用する
ことができる。成分（Ｃ）の配合量は、成分（Ａ）100
重量部に対して、通常、0.5〜10重量部でよく、好まし
くは1.0〜5.0重量部である。
原子数１〜４程度の、低級アルキル基又はアルコキシ置
換低級アルキル基である。この低級アルキル基の具体例
としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等
が挙げられ、またアルコキシ置換低級アルキル基として
は、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメ
チル基、エトキシエチル基等が挙げられる。好ましく
は、メチル基、エチル基である。尚、アルコキシシラン
の部分加水分解縮合物とは、該アルコキシ基の加水分解
縮合反応によって生成する、分子中に少なくとも１個、
好ましくは２個以上のアルコキシ基が残存するシロキサ
ン化合物（ケイ素原子数が２〜１００個、好ましくは２
〜３０個程度のシロキサンオリゴマー）を意味する。成
分（Ｃ）は一種単独でも二種以上組合わせても使用する
ことができる。成分（Ｃ）の配合量は、成分（Ａ）100
重量部に対して、通常、0.5〜10重量部でよく、好まし
くは1.0〜5.0重量部である。
【００４６】（Ｄ）有機チタン化合物 本発明の組成物には必要に応じて、さらに、成分（Ｄ）
として、チタネート化合物及びチタンキレート化合物か
ら選ばれる少なくとも一種の有機チタン化合物を配合す
ることができる。
として、チタネート化合物及びチタンキレート化合物か
ら選ばれる少なくとも一種の有機チタン化合物を配合す
ることができる。
【００４７】有機チタン化合物は、成分（Ｃ）の接着助
剤と併用することによって、放射線照射で硬化した際
に、各種基材に対する接着性を速やかに発現させる成分
である。チタネート化合物としては、テトラメチルチタ
ネート、テトラエチルチタネート、テトラプロピルチタ
ネート、テトライソプロピルチタネート、テトラブチル
チタネート、テトライソブチルチタネート、テトラヘキ
シルチタネート、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネ
ート等の炭素原子数１〜８、好ましくは炭素原子数２〜
４のアルコキシ基を有するチタン酸エステル等の他に、
（ｎ−Ｃ3Ｈ7Ｏ）3ＴｉＯＳｉ（ＣＨ3）（ＯＣ
3Ｈ7）2、（ｎ−Ｃ3Ｈ7Ｏ）3ＴｉＯＳｉ（ＣＨ3）2（Ｏ
Ｃ3Ｈ7）、[（ＣＨ3）3ＳｉＯ]3ＴｉＯＳｉ（ＣＨ3）2
（ＯＣ3Ｈ7）2、[（ＣＨ3）3ＳｉＯ]4Ｔｉなどのトリア
ルキルシロキシ基、アルコキシジアルキルシロキシ基、
トリアルコキシシロキシ基、アルキルジアルコキシシロ
キシ基等のトリオルガノシロキシ基を有するチタン酸エ
ステルなどが例示される。
剤と併用することによって、放射線照射で硬化した際
に、各種基材に対する接着性を速やかに発現させる成分
である。チタネート化合物としては、テトラメチルチタ
ネート、テトラエチルチタネート、テトラプロピルチタ
ネート、テトライソプロピルチタネート、テトラブチル
チタネート、テトライソブチルチタネート、テトラヘキ
シルチタネート、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネ
ート等の炭素原子数１〜８、好ましくは炭素原子数２〜
４のアルコキシ基を有するチタン酸エステル等の他に、
（ｎ−Ｃ3Ｈ7Ｏ）3ＴｉＯＳｉ（ＣＨ3）（ＯＣ
3Ｈ7）2、（ｎ−Ｃ3Ｈ7Ｏ）3ＴｉＯＳｉ（ＣＨ3）2（Ｏ
Ｃ3Ｈ7）、[（ＣＨ3）3ＳｉＯ]3ＴｉＯＳｉ（ＣＨ3）2
（ＯＣ3Ｈ7）2、[（ＣＨ3）3ＳｉＯ]4Ｔｉなどのトリア
ルキルシロキシ基、アルコキシジアルキルシロキシ基、
トリアルコキシシロキシ基、アルキルジアルコキシシロ
キシ基等のトリオルガノシロキシ基を有するチタン酸エ
ステルなどが例示される。
【００４８】チタンキレート化合物としては配位子とし
てアセチルアセトナート基や、好ましくは配位子中にア
ルコキシ基を有するアセト酢酸メチル基、アセト酢酸エ
チル基等を有する錯体や、これらのオルガノシロキサン
との塩などが挙げられ、具体的には以下のものが例示さ
れる。
てアセチルアセトナート基や、好ましくは配位子中にア
ルコキシ基を有するアセト酢酸メチル基、アセト酢酸エ
チル基等を有する錯体や、これらのオルガノシロキサン
との塩などが挙げられ、具体的には以下のものが例示さ
れる。
【００４９】
【化３５】
【００５０】
【化３６】 （式中、ｎは２〜100の整数である）成分(Ｄ)は一種単
独でも二種以上組合わせても使用することができる。成
分（Ｄ）の添加量は成分(Ａ)１００重量部に対して０〜
20重量部、通常0.001〜20重量部、特に0.01〜10重量
部、とりわけ0.1〜５重量部が好ましい。
独でも二種以上組合わせても使用することができる。成
分（Ｄ）の添加量は成分(Ａ)１００重量部に対して０〜
20重量部、通常0.001〜20重量部、特に0.01〜10重量
部、とりわけ0.1〜５重量部が好ましい。
【００５１】本発明の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）成分を含
有する組成物は、放射線照射による硬化直後には基材に
対する接着性が比較的弱く、硬化物を基材から剥離する
ことが可能であるため、リペア性が必要な用途にも好適
であるが、硬化直後から基材に対する強固な接着性が必
要な用途においては、更に（Ｄ）成分を配合することに
よって、硬化直後から強固な接着性を発現する硬化物を
得ることができる。
有する組成物は、放射線照射による硬化直後には基材に
対する接着性が比較的弱く、硬化物を基材から剥離する
ことが可能であるため、リペア性が必要な用途にも好適
であるが、硬化直後から基材に対する強固な接着性が必
要な用途においては、更に（Ｄ）成分を配合することに
よって、硬化直後から強固な接着性を発現する硬化物を
得ることができる。
【００５２】その他の成分 本組成物には、上述した成分の他に、必要に応じて、本
発明の目的効果を損なわない限度において他の成分を配
合することができる。例えば、硬化時における収縮率、
並びに得られる硬化物の熱膨張係数、機械的強度、耐熱
性、耐薬品性、難燃性、燃膨張係数、ガス透過率などを
適宜調整するための各種添加剤が挙げられる。具体的に
は、例えば、煙霧質シリカ、シリカエアロゲル、石英粉
末、ガラス繊維、酸化鉄、酸化チタン、炭酸カルシウ
ム、炭酸マグネシウムなどの無機質充填剤；ヒドロキノ
ン、メトキシヒドロキノンなどの重合禁止剤（ポットラ
イフ延長剤）などが挙げられる。
発明の目的効果を損なわない限度において他の成分を配
合することができる。例えば、硬化時における収縮率、
並びに得られる硬化物の熱膨張係数、機械的強度、耐熱
性、耐薬品性、難燃性、燃膨張係数、ガス透過率などを
適宜調整するための各種添加剤が挙げられる。具体的に
は、例えば、煙霧質シリカ、シリカエアロゲル、石英粉
末、ガラス繊維、酸化鉄、酸化チタン、炭酸カルシウ
ム、炭酸マグネシウムなどの無機質充填剤；ヒドロキノ
ン、メトキシヒドロキノンなどの重合禁止剤（ポットラ
イフ延長剤）などが挙げられる。
【００５３】組成物の調製及び硬化 本発明の組成物は、上記成分（Ａ）〜成分（Ｄ）及び必
要に応じてその他の添加剤を混合することにより得られ
る。得られた組成物は、放射線を照射することにより速
やかに硬化してゴム状弾性体を与える。放射線として
は、紫外線、遠赤外線、電子線、Ｘ線、γ線などが挙げ
られるが、装置の手軽さ、扱いの容易性などから、紫外
線を使用することが好ましい。紫外線を発する光源とし
ては、例えば高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライ
ドランプ、カーボンアークランプ及びキセノンランプ等
が挙げられる。放射線の照射量は、例えば厚み２mmに対
してＵＶ（ピーク：320〜390nm）を200〜2,400mＪ/c
m2、好ましくは400〜1,600mＪ/cm2である。放射線の照
射により短時間で硬化する。
要に応じてその他の添加剤を混合することにより得られ
る。得られた組成物は、放射線を照射することにより速
やかに硬化してゴム状弾性体を与える。放射線として
は、紫外線、遠赤外線、電子線、Ｘ線、γ線などが挙げ
られるが、装置の手軽さ、扱いの容易性などから、紫外
線を使用することが好ましい。紫外線を発する光源とし
ては、例えば高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライ
ドランプ、カーボンアークランプ及びキセノンランプ等
が挙げられる。放射線の照射量は、例えば厚み２mmに対
してＵＶ（ピーク：320〜390nm）を200〜2,400mＪ/c
m2、好ましくは400〜1,600mＪ/cm2である。放射線の照
射により短時間で硬化する。
【００５４】用途 本発明の組成物により得られる硬化物は、シリコン、シ
リコン酸化膜、ガラス、アルミニウム、ポリイミド（例
えば、カプトン（商品名、デュポン社製ポリイミドフィ
ルム）、ポリカーボネート、ガラスエポキシなどの基材
に対する接着性に優れる。このため、電子部品（例えば
液晶デバイス）の封止剤、ハイブリッドＩＣなどの高温
加熱硬化が不可能な電子部品実装回路をはじめとする各
種電子部品のコーティング材として有用である。硬化工
程の短縮による生産性の向上を期待することができる。
リコン酸化膜、ガラス、アルミニウム、ポリイミド（例
えば、カプトン（商品名、デュポン社製ポリイミドフィ
ルム）、ポリカーボネート、ガラスエポキシなどの基材
に対する接着性に優れる。このため、電子部品（例えば
液晶デバイス）の封止剤、ハイブリッドＩＣなどの高温
加熱硬化が不可能な電子部品実装回路をはじめとする各
種電子部品のコーティング材として有用である。硬化工
程の短縮による生産性の向上を期待することができる。
【００５５】
【実施例】以下に本発明を実施例によって説明する。
尚、例中、部は重量部を示す。実施例１ 攪拌装置、還流冷却器、滴下ロート、乾燥空気導入器を
備えた1,000mLの反応装置に、平均式が次式：
尚、例中、部は重量部を示す。実施例１ 攪拌装置、還流冷却器、滴下ロート、乾燥空気導入器を
備えた1,000mLの反応装置に、平均式が次式：
【００５６】
【化３７】 で示されるオルガノポリシロキサン571gと、２−ヒドロ
キシ−１−アクリロイルオキシ-３−メタクリロイルオ
キシプロパン（商品名 ＮＫエステル701−A 新中村化
学工業（株）製）47gと、トルエン200mLと、トリエチル
アミン26gと、重合禁止剤としてジブチルヒドロキシト
ルエン2,000ppmとを仕込み、これらを攪拌しながら、70
℃に昇温して７時間加熱した。その後、放冷し、濾過
し、得られたろ液にプロピレンオキサイド4g添加し室温
にて１時間攪拌した。その後、100℃/30mmHgでストリッ
プを行って次式で示される透明なオイル状のオルガノポ
リシロキサンが得られた。
キシ−１−アクリロイルオキシ-３−メタクリロイルオ
キシプロパン（商品名 ＮＫエステル701−A 新中村化
学工業（株）製）47gと、トルエン200mLと、トリエチル
アミン26gと、重合禁止剤としてジブチルヒドロキシト
ルエン2,000ppmとを仕込み、これらを攪拌しながら、70
℃に昇温して７時間加熱した。その後、放冷し、濾過
し、得られたろ液にプロピレンオキサイド4g添加し室温
にて１時間攪拌した。その後、100℃/30mmHgでストリッ
プを行って次式で示される透明なオイル状のオルガノポ
リシロキサンが得られた。
【００５７】
【化３８】 このオルガノポリシロキサン100部に２−ヒドロキシ−
２メチル−１−フェニルプロパン−１オン２部と、２，
４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン
オキサイド１部と、テトラメトキシシラン３部とを添加
混合し、放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物を
得た。
２メチル−１−フェニルプロパン−１オン２部と、２，
４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン
オキサイド１部と、テトラメトキシシラン３部とを添加
混合し、放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物を
得た。
【００５８】この組成物を深さ１mm、幅120mm、長さ170
mmの金型に流し込み、以下の紫外線照射条件１で紫外線
を照射し、光硬化させた。 ○照射条件１：80W／cm2のメタルハライド水銀灯２灯を
備えるコンベア炉内で２秒間照射（エネルギー量：800m
J） 得られた硬化物の物性を、JIS K6301に従い測定した。
なお、硬さはスプリング式A型試験機による。その結果
を表１に示す。
mmの金型に流し込み、以下の紫外線照射条件１で紫外線
を照射し、光硬化させた。 ○照射条件１：80W／cm2のメタルハライド水銀灯２灯を
備えるコンベア炉内で２秒間照射（エネルギー量：800m
J） 得られた硬化物の物性を、JIS K6301に従い測定した。
なお、硬さはスプリング式A型試験機による。その結果
を表１に示す。
【００５９】また、前記組成物を、シリコン、シリカ、
ガラス、アルミニウム、ポリイミド（カプトン）及びポ
リカーボネート製基板の上、４ｃm2の面積に厚さ２mmに
塗布した後、上記の照射条件１で照射し、硬化させた。
得られた硬化被膜の硬化後16時間経過後における各基板
に対する接着性を以下のようにして測定した。その結果
も表１に併せて示す。
ガラス、アルミニウム、ポリイミド（カプトン）及びポ
リカーボネート製基板の上、４ｃm2の面積に厚さ２mmに
塗布した後、上記の照射条件１で照射し、硬化させた。
得られた硬化被膜の硬化後16時間経過後における各基板
に対する接着性を以下のようにして測定した。その結果
も表１に併せて示す。
【００６０】○接着性評価方法：ピンセットで硬化皮膜
の一端をつかみ、被膜の引き剥がしを試みた。剥離の可
否及び剥離状態を以下の三段階にランクした。 ○：完全に接着して、剥離できない（凝集破壊率９０％
以上）。 △：一部は剥離する（凝集破壊率２０以上９０％未
満）。 ×：完全に剥離する（凝集破壊率２０％未満）。 更に、組成物の保存安定性を調べるため、組成物を５
℃、２５℃の各温度に放置し、粘度の経時変化を測定し
た。その結果を表２に示す。
の一端をつかみ、被膜の引き剥がしを試みた。剥離の可
否及び剥離状態を以下の三段階にランクした。 ○：完全に接着して、剥離できない（凝集破壊率９０％
以上）。 △：一部は剥離する（凝集破壊率２０以上９０％未
満）。 ×：完全に剥離する（凝集破壊率２０％未満）。 更に、組成物の保存安定性を調べるため、組成物を５
℃、２５℃の各温度に放置し、粘度の経時変化を測定し
た。その結果を表２に示す。
【００６１】実施例２ テトラメトキシシランの代わりに下記式で示されるテト
ラメトキシシランの部分加水分解縮合物（メトキシシロ
キサンオリゴマー）を用いた他は実施例１と同様にして
組成物を調製し、この組成物について実施例１と同様の
試験を行った。その結果を表１及び表２に示す。
ラメトキシシランの部分加水分解縮合物（メトキシシロ
キサンオリゴマー）を用いた他は実施例１と同様にして
組成物を調製し、この組成物について実施例１と同様の
試験を行った。その結果を表１及び表２に示す。
【００６２】
【化３９】 （但し、ｎは１〜７の整数）
【００６３】実施例３ テトラメトキシシランの代わりに下記式で示されるテト
ラエトキシシランの部分加水分解縮合物（エトキシシロ
キサンオリゴマー）を用いた他は実施例１と同様にして
組成物を調製し、この組成物について実施例１と同様の
試験を行った。その結果を表１及び表２に示す。
ラエトキシシランの部分加水分解縮合物（エトキシシロ
キサンオリゴマー）を用いた他は実施例１と同様にして
組成物を調製し、この組成物について実施例１と同様の
試験を行った。その結果を表１及び表２に示す。
【００６４】
【化４０】 （但し、ｎは１〜７の整数）
【００６５】比較例１ テトラメトキシシランの代わりにトリメトキシシランを
用いた他は実施例１と同様にして組成物を調製し、この
組成物について実施例１と同様の試験を行った。その結
果を表１及び表３に示す。
用いた他は実施例１と同様にして組成物を調製し、この
組成物について実施例１と同様の試験を行った。その結
果を表１及び表３に示す。
【００６６】比較例２ テトラメトキシシランの代わりにγ−アクリロイルオキ
シプロピルトリメトキシシランを用いた他は実施例１と
同様にして組成物を調製し、この組成物について実施例
１と同様の試験を行った。その結果を表１及び表３に示
す。
シプロピルトリメトキシシランを用いた他は実施例１と
同様にして組成物を調製し、この組成物について実施例
１と同様の試験を行った。その結果を表１及び表３に示
す。
【００６７】比較例３ テトラメトキシシランの代わりに下記式で示されるメチ
ルトリメトキシシランの加水分解縮合物（メチル基含有
メトキシシロキサンオリゴマー）を用いた他は実施例１
と同様にして組成物を調製し、この組成物について実施
例１と同様の試験を行った。その結果を表１及び表３に
示す。
ルトリメトキシシランの加水分解縮合物（メチル基含有
メトキシシロキサンオリゴマー）を用いた他は実施例１
と同様にして組成物を調製し、この組成物について実施
例１と同様の試験を行った。その結果を表１及び表３に
示す。
【００６８】
【化４１】 （但し、Ｌは１〜７の整数）
【００６９】
【表１】 ：硬化後、１６時間放置してから測定。
【００７０】
【表２】
【００７１】
【表３】
【００７２】実施例４ 組成物の成分としてさらに下記式：
【００７３】
【化４２】 で示されるアルコキシキレートを持つチタン化合物を0.
1部添加混合した以外は、実施例１と同様にして光硬化
性オルガノポリシロキサン組成物を得た。
1部添加混合した以外は、実施例１と同様にして光硬化
性オルガノポリシロキサン組成物を得た。
【００７４】この組成物を実施例１と同様にして硬化さ
せ、得られた硬化物の物性を実施例１と同様にして測定
した。その結果を表４、表５に示す。また、前記組成物
を、シリコン、シリカ、ガラス、アルミニウム、ポリイ
ミド（カプトン）及びポリカーボネート製基板の上、４
ｃm2の面積に厚さ２mmに塗布した後、塗膜を上記の照射
条件１で照射し、硬化させた。得られた硬化被膜の硬化
直後、硬化後４時間経過後及び硬化後16時間経過後にお
ける各基板に対する接着性を実施例１と同様にして評価
した。その結果を表４、表５に併せて示す。
せ、得られた硬化物の物性を実施例１と同様にして測定
した。その結果を表４、表５に示す。また、前記組成物
を、シリコン、シリカ、ガラス、アルミニウム、ポリイ
ミド（カプトン）及びポリカーボネート製基板の上、４
ｃm2の面積に厚さ２mmに塗布した後、塗膜を上記の照射
条件１で照射し、硬化させた。得られた硬化被膜の硬化
直後、硬化後４時間経過後及び硬化後16時間経過後にお
ける各基板に対する接着性を実施例１と同様にして評価
した。その結果を表４、表５に併せて示す。
【００７５】実施例５ 実施例４で使用したアルコキシキレートを持つチタン化
合物の代わりにテトライソプロピルチタネートを0.1部
添加した以外は、実施例４と同様にして調製し、同様に
試験を行った。
合物の代わりにテトライソプロピルチタネートを0.1部
添加した以外は、実施例４と同様にして調製し、同様に
試験を行った。
【００７６】実施例６ 実施例４で使用したアルコキシキレートを持つチタン化
合物の代わりに下記式：
合物の代わりに下記式：
【００７７】
【化４３】 に示すアルコキシキレートを持つチタン化合物を0.1部
添加した以外は、実施例４と同様にして調製し、同様に
試験を行った。
添加した以外は、実施例４と同様にして調製し、同様に
試験を行った。
【００７８】比較例４ 実施例４で使用したテトラメトキシシラン３部の代り
に、下記式で示されるメチルトリメトキシシランの部分
加水分解縮合物（メチル基含有メトキシシロキサンオリ
ゴマー）３部を添加した以外は、実施例４と同様にして
組成物を調製し、この組成物について実施例４と同様の
試験を行った。
に、下記式で示されるメチルトリメトキシシランの部分
加水分解縮合物（メチル基含有メトキシシロキサンオリ
ゴマー）３部を添加した以外は、実施例４と同様にして
組成物を調製し、この組成物について実施例４と同様の
試験を行った。
【００７９】
【化４４】 （但し、ｌは０〜７の整数）
【００８０】比較例５ 実施例４で使用したテトラメトキシシラン３部の代りに
γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３
部を添加した以外は、実施例４と同様にして組成物を調
製し、この組成物について実施例４と同様の試験を行っ
た。
γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３
部を添加した以外は、実施例４と同様にして組成物を調
製し、この組成物について実施例４と同様の試験を行っ
た。
【００８１】比較例６ 実施例４で使用したテトラメトキシシラン３部の代り
に、下記式で示されるトリメトキシシランの部分加水分
解縮合物（SiH基含有メトキシシロキサンオリゴマー）
３部を添加した以外は実施例４と同様にして組成物を調
製したが、常温で放置後数時間で組成物が増粘、白濁す
ると共に水素ガスによる発泡が発生したため、実施例４
と同様の試験を行うことはできなかった。
に、下記式で示されるトリメトキシシランの部分加水分
解縮合物（SiH基含有メトキシシロキサンオリゴマー）
３部を添加した以外は実施例４と同様にして組成物を調
製したが、常温で放置後数時間で組成物が増粘、白濁す
ると共に水素ガスによる発泡が発生したため、実施例４
と同様の試験を行うことはできなかった。
【００８２】
【化４５】 （但し、ｍは０〜７の整数）実施例５〜６及び比較例４
〜６の結果も表４及び表５に示す。
〜６の結果も表４及び表５に示す。
【００８３】
【表４】
【００８４】
【表５】
【００８５】
【発明の効果】本発明の組成物は、短時間の放射線、例
えば紫外線の照射で硬化し、しかも速やかに接着性が発
現する。そのため、各種基材の接着、コーティング、ポ
ッティング用として有用である。また、硬化速度が速い
ため、例えば電気・電子部品の製造における工程の短
縮、生産性の向上、省エネルギー等などの効果が得られ
る。更に、本発明の組成物は硬化直後は接着性が比較的
弱く、容易に基材から剥離するので、リペア性が必要な
用途にも好適である。但し、（Ｄ）成分を配合すること
によって、硬化直後から強固な接着性を発現する硬化物
を得ることができる。
えば紫外線の照射で硬化し、しかも速やかに接着性が発
現する。そのため、各種基材の接着、コーティング、ポ
ッティング用として有用である。また、硬化速度が速い
ため、例えば電気・電子部品の製造における工程の短
縮、生産性の向上、省エネルギー等などの効果が得られ
る。更に、本発明の組成物は硬化直後は接着性が比較的
弱く、容易に基材から剥離するので、リペア性が必要な
用途にも好適である。但し、（Ｄ）成分を配合すること
によって、硬化直後から強固な接着性を発現する硬化物
を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 83/06 Ｃ０８Ｌ 83/06 83/07 83/07 // Ｃ０８Ｇ 77/20 Ｃ０８Ｇ 77/20 (72)発明者 山口 伸介 群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内
Claims (6)
- 【請求項１】（Ａ）一般式（1）： 【化１】 〔ここで、Ｒ1は、独立に、置換又は非置換の炭素原子
数１〜９の１価炭化水素基であり、Ｘは式（２）： 【化２】 ｛ここで、 Ｒ2は炭素原子数２〜４の２価炭化水素基又
は酸素原子、Ｒ3は一般式： 【化３】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基である）で表される
(メタ）アクリロイル基を１〜３個有する炭素原子数４
〜25の１価の有機基、 Ｒ4は炭素原子数１〜９の非置換
又は置換の１価炭化水素基、Ｒ5は炭素原子数１〜18の
１価炭化水素基であり、ｎは１〜３の整数、ｍは０〜２
の整数で、１≦ｎ＋ｍ≦３である。ただしｎ＝１のとき
Ｒ3は複数個の(メタ）アクリロイル基を有し、 Ｒ3、
Ｒ4及びＲ5の各々は複数存在する場合は同一でも異なっ
てもよい｝で示される有機けい素基であり、Ｌは８〜1
0,000の整数である〕で表されるオルガノポリシロキサ
ン、 （B）光増感剤、並びに （Ｃ）一般式：Ｓｉ（ＯＲ6）4 （式中、Ｒ6は、炭素原子数１〜４の非置換又はアルコ
キシ置換のアルキル基である）で表されるアルコキシシ
ラン及びその部分加水分解縮合物から選ばれる少なくと
も一種の有機けい素化合物、を含有してなる放射線硬化
性シリコーンゴム組成物。 - 【請求項２】請求項１の組成物であって、一般式(２)に
おいてＲ3は２〜３個の（メタ）アクリロイルオキシ基
を有するアルキル基である組成物。 - 【請求項３】請求項１又は２の組成物であって、さら
に、（Ｄ）チタネート化合物及びチタンキレート化合物
から選ばれる少なくとも一種のチタン化合物を含有する
組成物。 - 【請求項４】請求項３の組成物であって、前記チタン化
合物が炭素原子数１〜８アルコキシ基を有するチタン酸
エステル及びトリオルガノシロキシ基を有するチタン酸
エステル、配位子としてアセチルアセトナート基を有す
る錯体、配位子中にアルコキシ基を有するアセト酢酸メ
チル基もしくはアセト酢酸エチル基を有する錯体、及び
これら錯体とオルガノシロキサンとの塩からなる群から
選ばれる化合物である組成物。 - 【請求項５】請求項１〜４の組成物であって、成分
（Ａ）100重量部に対して、成分（B）0.5〜10重量部、
成分（Ｃ）0.5〜10重量部、そして成分(Ｄ)が存在する
場合には成分（Ｄ）が0.001〜20重量部存在する組成
物。 - 【請求項６】請求項１〜５に記載の組成物を放射線で照
射して硬化させて得られた硬化物。
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