JPH0647619B2 - アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサン、その製造方法およびその用途 - Google Patents
アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサン、その製造方法およびその用途Info
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- JPH0647619B2 JPH0647619B2 JP61282908A JP28290886A JPH0647619B2 JP H0647619 B2 JPH0647619 B2 JP H0647619B2 JP 61282908 A JP61282908 A JP 61282908A JP 28290886 A JP28290886 A JP 28290886A JP H0647619 B2 JPH0647619 B2 JP H0647619B2
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- formula
- molecule
- alkyl group
- containing organopolysiloxane
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサ
ン、その製造方法およびその用途に関するものである。
ン、その製造方法およびその用途に関するものである。
［従来の技術］ 従来、分子中に（メタ）アクリル基を有するオルガノポ
リシロキサンは公知であり、それらを用いたエネルギー
線硬化性組成物も多数提案されている（尚、ここでいう
エネルギー線は波長１００〜４００nmの光線（紫外
線）、電子線、可視光線、赤外線、Ｘ線およびガンマ線
を意味する）。
リシロキサンは公知であり、それらを用いたエネルギー
線硬化性組成物も多数提案されている（尚、ここでいう
エネルギー線は波長１００〜４００nmの光線（紫外
線）、電子線、可視光線、赤外線、Ｘ線およびガンマ線
を意味する）。
例えば(イ)特開昭４８−４７９９７号公報、特開昭４８
−４７９９８号公報、特開昭４８−４７９９９号公報、
特開昭４８−４８０００号公報、特開昭５６−８６９２
２号公報には（メタ）アクリロキシ基含有オルガノポリ
シロキサン化合物の種々の製法が示されており、それら
が光重合性を有することが示されている。これらの（メ
タ）アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサンにおい
ては、１つのけい素原子には最大１つの（メタ）アクリ
ロキシ基を含有する有機基が結合している。
−４７９９８号公報、特開昭４８−４７９９９号公報、
特開昭４８−４８０００号公報、特開昭５６−８６９２
２号公報には（メタ）アクリロキシ基含有オルガノポリ
シロキサン化合物の種々の製法が示されており、それら
が光重合性を有することが示されている。これらの（メ
タ）アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサンにおい
ては、１つのけい素原子には最大１つの（メタ）アクリ
ロキシ基を含有する有機基が結合している。
また、(ロ)特開昭５３−８８０９８号公報には１つのけ
い素原子に２個以上の（メタ）アクリロキシ基を含有す
る有機基が結合しているオルガノポリシロキサンが示さ
れているが、これはSi−Ｏ−Ｃ結合により（メタ）アク
リロキシ基を有する有機基がけい素原子に結合されてい
る。
い素原子に２個以上の（メタ）アクリロキシ基を含有す
る有機基が結合しているオルガノポリシロキサンが示さ
れているが、これはSi−Ｏ−Ｃ結合により（メタ）アク
リロキシ基を有する有機基がけい素原子に結合されてい
る。
さらに(ハ)特開昭６０−１９０４２７号公報には１つの
けい素原子に２個以上の（メタ）アクリロキシ基を含有
する有機基が結合しているオルガノポリシロキサンの製
法が法示されているが、これはアミノ基含有オルガノポ
リシロキサンに（メタ）アクリル化合物をマイケル付加
反応させたものである。
けい素原子に２個以上の（メタ）アクリロキシ基を含有
する有機基が結合しているオルガノポリシロキサンの製
法が法示されているが、これはアミノ基含有オルガノポ
リシロキサンに（メタ）アクリル化合物をマイケル付加
反応させたものである。
［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、上記した従来技術には種々の問題点があ
った。すなわち、(イ)の１つのけい素原子に１個だけ
（メタ）アクリロキシ基を含有する有機基が結合してい
るオルガノポリシロキサンからなるエネルギー線硬化性
組成物は、酸素による硬化阻害を受けやすく、従って酸
素の存在下硬化を行わせると硬化が非常に遅くなるとい
う欠点があった。また、(ロ)のSi−Ｏ−Ｃ結合により
（メタ）アクリロキシ基を有する有機基がけい素原子に
結合したオルガノポリシロキサンは、Si−Ｏ−Ｃ結合が
徐々に加水分解する傾向があり、組成物の安定性に欠け
るという欠点があった。さらに、(ハ)のアミノ基と（メ
タ）アクリレート基によるマイケル付加反応生成物は保
存中に徐々にゲル化するという欠点があった。
った。すなわち、(イ)の１つのけい素原子に１個だけ
（メタ）アクリロキシ基を含有する有機基が結合してい
るオルガノポリシロキサンからなるエネルギー線硬化性
組成物は、酸素による硬化阻害を受けやすく、従って酸
素の存在下硬化を行わせると硬化が非常に遅くなるとい
う欠点があった。また、(ロ)のSi−Ｏ−Ｃ結合により
（メタ）アクリロキシ基を有する有機基がけい素原子に
結合したオルガノポリシロキサンは、Si−Ｏ−Ｃ結合が
徐々に加水分解する傾向があり、組成物の安定性に欠け
るという欠点があった。さらに、(ハ)のアミノ基と（メ
タ）アクリレート基によるマイケル付加反応生成物は保
存中に徐々にゲル化するという欠点があった。
そこで本発明者らはかかる従来技術の問題点を解決すべ
く鋭意検討を行った結果、本発明に至ったものである。
本発明は、上述した欠点を解消することを目的とし、酸
素による硬化阻害を受けにくく、室温に放置しても加水
分解したりゲル化したりすることのない新規なアクリロ
キシ基含有オルガノポリシロキサン、その製造方法およ
びアクリロキシ基含有オルガノポリシロキサンを主剤と
するエネルギー線硬化性オルガノポリシロキサン組成物
を提供するものである。
く鋭意検討を行った結果、本発明に至ったものである。
本発明は、上述した欠点を解消することを目的とし、酸
素による硬化阻害を受けにくく、室温に放置しても加水
分解したりゲル化したりすることのない新規なアクリロ
キシ基含有オルガノポリシロキサン、その製造方法およ
びアクリロキシ基含有オルガノポリシロキサンを主剤と
するエネルギー線硬化性オルガノポリシロキサン組成物
を提供するものである。
［問題点の解決手段とその作用］ 上記した目的は、 １ １分子中に少なくとも１つの式 R1 aR2SiO(3-a)/2 （式中、R1はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アル
キル基またはアルコキシ基、R2は式 または式 で示される基、R3は式 −OC(O)C(R4)＝CH2 で示される基、R4は水素原子もしくはメチル基、ａは１
または２である）で示される単位を有し、分子中のシロ
キサン単位の合計数が２〜２０００の範囲内であるアク
リロキシ基含有オルガノポリシロキサン。
キル基またはアルコキシ基、R2は式 または式 で示される基、R3は式 −OC(O)C(R4)＝CH2 で示される基、R4は水素原子もしくはメチル基、ａは１
または２である）で示される単位を有し、分子中のシロ
キサン単位の合計数が２〜２０００の範囲内であるアク
リロキシ基含有オルガノポリシロキサン。
２ １分子中に少なくとも１つの式 または式 （式中、R1はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アル
キル基またはアルコキシ基、ａは１または２である） で示される単位を有するエポキシ基含有オルガノポリシ
ロキサン（但し、分子中のシロキサン単位の合計数が２
〜２０００の範囲内である。）に、アクリル酸もしくは
メタアクリル酸を反応させ、しかる後に塩酸捕そく剤の
存在下、アクリル酸クロライドもしくはメタアクリル酸
クロライドと反応させることを特徴とする、１分子中に
少なくとも１つの式 R1 aR2SiO(3-a)/2 （式中、R1はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アル
キル基またはアルコキシ基、R2は式 または式 で示される基、R3は式 −OC(O)C(R4)＝CH2 で示される基、R4は水素原子もしくはメチル基、ａは１
または２である）で示される単位を有するアクリロキシ
基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。
キル基またはアルコキシ基、ａは１または２である） で示される単位を有するエポキシ基含有オルガノポリシ
ロキサン（但し、分子中のシロキサン単位の合計数が２
〜２０００の範囲内である。）に、アクリル酸もしくは
メタアクリル酸を反応させ、しかる後に塩酸捕そく剤の
存在下、アクリル酸クロライドもしくはメタアクリル酸
クロライドと反応させることを特徴とする、１分子中に
少なくとも１つの式 R1 aR2SiO(3-a)/2 （式中、R1はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アル
キル基またはアルコキシ基、R2は式 または式 で示される基、R3は式 −OC(O)C(R4)＝CH2 で示される基、R4は水素原子もしくはメチル基、ａは１
または２である）で示される単位を有するアクリロキシ
基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。
３ １分子中に少なくとも１つの式 R1 aR2SiO(3-a)/2 （式中、R1はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アル
キル基またはアルコキシ基、R2は式 または式 で示される基、R3は式 −OC(O)C(R4)＝CH2 で示される基、R4は水素原子もしくはメチル基、ａは１
または２である）で示される単位を有し、分子中のシロ
キサン単位の合計数が２〜２０００の範囲内であるアク
リロキシ基含有オルガノポリシロキサンを主剤とするエ
ネルギー線硬化性オルガノポリシロキサン組成物により
達成される。
キル基またはアルコキシ基、R2は式 または式 で示される基、R3は式 −OC(O)C(R4)＝CH2 で示される基、R4は水素原子もしくはメチル基、ａは１
または２である）で示される単位を有し、分子中のシロ
キサン単位の合計数が２〜２０００の範囲内であるアク
リロキシ基含有オルガノポリシロキサンを主剤とするエ
ネルギー線硬化性オルガノポリシロキサン組成物により
達成される。
これを説明するに、本発明の新規なアクリロキシ基含有
オルガノポリシロキサンは、１分子中に少なくとも１つ
の式 R1 aSiO(3-a)/2 （式中、R1はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アル
キル基またはアルコキシ基、R2は式 または式 で示される基、R3は式 −OC(O)C(R4)＝CH2 で示される基、R4は水素原子もしくはメチル基、ａは１
または２である）で示される単位を有するアクリロキシ
基含有オルガノポリシロキサンである。
オルガノポリシロキサンは、１分子中に少なくとも１つ
の式 R1 aSiO(3-a)/2 （式中、R1はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アル
キル基またはアルコキシ基、R2は式 または式 で示される基、R3は式 −OC(O)C(R4)＝CH2 で示される基、R4は水素原子もしくはメチル基、ａは１
または２である）で示される単位を有するアクリロキシ
基含有オルガノポリシロキサンである。
前記した式中、R1のアルキル基としては、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基が例示され、R1のアリー
ル基としては、フェニル基、トリル基、ナフチル基が例
示され、R1のハロゲン化アルキル基としては、クロロメ
チル基、トリフロロプロピル基が例示され、R1のアルコ
キシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基が例示されるが、合成のしやすさから好ましくはR1は
アルキル基である。ａは１または２である。
チル基、プロピル基、ブチル基が例示され、R1のアリー
ル基としては、フェニル基、トリル基、ナフチル基が例
示され、R1のハロゲン化アルキル基としては、クロロメ
チル基、トリフロロプロピル基が例示され、R1のアルコ
キシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基が例示されるが、合成のしやすさから好ましくはR1は
アルキル基である。ａは１または２である。
本オルガノポリシロキサンは、該シロキサン単位のみで
構成されてよく、また他のシロキサン単位を含んでよ
い。
構成されてよく、また他のシロキサン単位を含んでよ
い。
他のシロキサン単位は式 R5 bSiO(4-b)/2 で示されるものであり、式中、R5は一価有機基、水素原
子、または水酸基であり、ｂは０，１，２または３であ
る。R5の一価有機基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基のようなアルキル基、フェニル基、
トリル基、ナフチル基などのアリール基、ビニル基、ア
リル基のようなアルケニル基、クロロメチル基、トリフ
ロロプロピル基のようなハロゲン化アルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基のようなアルコキシ基
が例示されるが、合成のしやすさから好ましくはアルキ
ル基である。ｂは０，１，２または３である。
子、または水酸基であり、ｂは０，１，２または３であ
る。R5の一価有機基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基のようなアルキル基、フェニル基、
トリル基、ナフチル基などのアリール基、ビニル基、ア
リル基のようなアルケニル基、クロロメチル基、トリフ
ロロプロピル基のようなハロゲン化アルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基のようなアルコキシ基
が例示されるが、合成のしやすさから好ましくはアルキ
ル基である。ｂは０，１，２または３である。
本アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサンの構造
は、直鎖状、分岐を含む直鎖状、環状、網目状が例示さ
れるが、好ましくは直鎖状、わずかに分岐を含む直鎖
状、環状である。また、本発明のアクリロキシ基含有オ
ルガノポリシロキサンをエネルギー線硬化性オルガノポ
リシロキサン組成物に適用することができることから、
分子中のシロキサン単位の合計数が２〜２０００の範囲
内であることが必要であり、より好ましくは１０〜２０
００の範囲内である。
は、直鎖状、分岐を含む直鎖状、環状、網目状が例示さ
れるが、好ましくは直鎖状、わずかに分岐を含む直鎖
状、環状である。また、本発明のアクリロキシ基含有オ
ルガノポリシロキサンをエネルギー線硬化性オルガノポ
リシロキサン組成物に適用することができることから、
分子中のシロキサン単位の合計数が２〜２０００の範囲
内であることが必要であり、より好ましくは１０〜２０
００の範囲内である。
本アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサンの具体例
としては、以下にあげるものがある。
としては、以下にあげるものがある。
なお、上記した式中 を表わす。
本発明のアクリロキシ基含有オルガノポリシロキサン
は、１分子中に少なくとも１つの式 または （式中、R1はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アル
キル基またはアルコキシ基、ａは１または２である）で
示される単位を有するエポキシ基含有オルガノポリシロ
キサンに、アクリル酸もしくはメタアクリル酸を反応さ
せ、しかる後に塩酸捕そく剤の存在下、アクリル酸クロ
ライドもしくはメタアクリル酸クロライドと反応させる
ことにより得られる。
は、１分子中に少なくとも１つの式 または （式中、R1はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アル
キル基またはアルコキシ基、ａは１または２である）で
示される単位を有するエポキシ基含有オルガノポリシロ
キサンに、アクリル酸もしくはメタアクリル酸を反応さ
せ、しかる後に塩酸捕そく剤の存在下、アクリル酸クロ
ライドもしくはメタアクリル酸クロライドと反応させる
ことにより得られる。
前記した式中、R1としてはアクリロキシ基含有オルガノ
ポリシロキサンで例示したアルキル基、アリール基、ハ
ロゲン化アルキル基およびアルコキシ基があげられる。
原料となるエポキシ基含有オルガノポリシロキサンは該
エポキシ基含有シロキサン単位のみで構成されてもよく
また他のシロキサン単位を含んでよい。
ポリシロキサンで例示したアルキル基、アリール基、ハ
ロゲン化アルキル基およびアルコキシ基があげられる。
原料となるエポキシ基含有オルガノポリシロキサンは該
エポキシ基含有シロキサン単位のみで構成されてもよく
また他のシロキサン単位を含んでよい。
他のシロキサン単位は、アクリロキシ基含有オルガノポ
リシロキサンで例示した式 R5 bSiO(4-b)/2 で示される単位であり、前述通りである。
リシロキサンで例示した式 R5 bSiO(4-b)/2 で示される単位であり、前述通りである。
エポキシ基含有オルガノポリシロキサンの構造は、直鎖
状、分岐を含む直鎖状、環状、網目状が例示されるが、
好ましくは直鎖状、わずかに分岐を含む直鎖状、環状で
ある。また、分子中のシロキサン単位の合計数は、アク
リロキシ基含有オルガノポリシロキサン合成後のエネル
ギー線硬化性組成物の調製のしやすさから、２〜２００
０の範囲内であることが必要であり、より好ましくは１
０〜２０００の範囲内である。
状、分岐を含む直鎖状、環状、網目状が例示されるが、
好ましくは直鎖状、わずかに分岐を含む直鎖状、環状で
ある。また、分子中のシロキサン単位の合計数は、アク
リロキシ基含有オルガノポリシロキサン合成後のエネル
ギー線硬化性組成物の調製のしやすさから、２〜２００
０の範囲内であることが必要であり、より好ましくは１
０〜２０００の範囲内である。
エポキシ基含有オルガノポリシロキサンの具体例として
は、以下にあげるものがある。
は、以下にあげるものがある。
なお上記した式中、 ＧＥは ＣＥは を表わす。
上述したエポキシ基含有オルガノポリシロキサンとアク
リル酸もしくはメタアクリル酸を反応させるには、該オ
ルガノポリシロキサン中のエポキシ基１モルに対し、ア
クリル酸もしくはメタアクリル酸が１モル以上となる量
を使用すればよい。好ましくは、エポキシ基１モルに対
し、アクリル酸もしくはメタアクリル酸１〜１０モルと
なる量である。反応温度は２５℃〜２００℃、好ましく
は６０℃〜１５０℃である。反応時間は特に制限されな
いが好ましくは３０分間〜１００時間とされる。
リル酸もしくはメタアクリル酸を反応させるには、該オ
ルガノポリシロキサン中のエポキシ基１モルに対し、ア
クリル酸もしくはメタアクリル酸が１モル以上となる量
を使用すればよい。好ましくは、エポキシ基１モルに対
し、アクリル酸もしくはメタアクリル酸１〜１０モルと
なる量である。反応温度は２５℃〜２００℃、好ましく
は６０℃〜１５０℃である。反応時間は特に制限されな
いが好ましくは３０分間〜１００時間とされる。
該反応は、大気圧下、減圧下、加圧下で行なってよく、
また雰囲気として空気中、不活性気体中でよく、またベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのよ
うなケトン類、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロ
エタン、トリクロロエチレンのようなハロゲン化炭化水
素類、ジメチルホルムアミド、アセトニトリルのような
各種有機溶剤を併用してよい。また反応は触媒の併用な
しで進行するが、Ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスル
ホン酸、トリフルオロ酢酸、モルホリン、トリブチルア
ミン、ベンジルジメチルアミン、１，４−ジアザビシク
ロ〔2.2.2.2〕オクタン等の触媒を併用してよい。また
反応基のゲル化を防止するためにメトキシフェノール、
フェノチアジン、ハイドロキノン、ｔ−ブチルピロカテ
コールのような重合禁止剤を用いてよい。
また雰囲気として空気中、不活性気体中でよく、またベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのよ
うなケトン類、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロ
エタン、トリクロロエチレンのようなハロゲン化炭化水
素類、ジメチルホルムアミド、アセトニトリルのような
各種有機溶剤を併用してよい。また反応は触媒の併用な
しで進行するが、Ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスル
ホン酸、トリフルオロ酢酸、モルホリン、トリブチルア
ミン、ベンジルジメチルアミン、１，４−ジアザビシク
ロ〔2.2.2.2〕オクタン等の触媒を併用してよい。また
反応基のゲル化を防止するためにメトキシフェノール、
フェノチアジン、ハイドロキノン、ｔ−ブチルピロカテ
コールのような重合禁止剤を用いてよい。
かくして、第１段目のアクリロキシ化反応が行なわれ、
次に塩酸捕そく剤の存在下、アクリル酸クロライドもし
くはメタアクリル酸クロライドと反応させることにより
第２段目のアクリロキシ化反応が行なわれる。
次に塩酸捕そく剤の存在下、アクリル酸クロライドもし
くはメタアクリル酸クロライドと反応させることにより
第２段目のアクリロキシ化反応が行なわれる。
塩酸捕そく剤としては、トリメチルアミン、トルエチル
アミン、ピリジンのような３級アミン、ジメチルアミ
ン、ジエチルアミン、ピペラジンのような２級アミン、
ブチルアミン、アニリンのような１級アミン、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、アンモニアのような無機塩
基が例示されるが、好ましくは３級アミンである。
アミン、ピリジンのような３級アミン、ジメチルアミ
ン、ジエチルアミン、ピペラジンのような２級アミン、
ブチルアミン、アニリンのような１級アミン、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、アンモニアのような無機塩
基が例示されるが、好ましくは３級アミンである。
２段目のアクリロキシ化反応は本発明の特徴をなすもの
であり、１段目に導入されたアクリロキシ基もしくはメ
タアクリロキシ基の極めて近傍に第２のアクリロキシ基
またはメタアクリロキシ基を導入することにより、酸素
による硬化阻害を受けにくく、しかも室温においての保
存安定性を向上させる作用効果が発現する。
であり、１段目に導入されたアクリロキシ基もしくはメ
タアクリロキシ基の極めて近傍に第２のアクリロキシ基
またはメタアクリロキシ基を導入することにより、酸素
による硬化阻害を受けにくく、しかも室温においての保
存安定性を向上させる作用効果が発現する。
アクリル酸クロライドもしくはメタアクリル酸クロライ
ドの使用量は、第１段反応後のアクリロキシ化ポリシロ
キサンのアクリロキシ基１モルに対し、アクリル酸クロ
ライドもしくはメタアクリル酸クロライドが１モル以上
となる量を使用すればよい。好ましくはアクリロキシ基
１モルに対し、アクリル酸クロライドもしくはメタアク
リル酸クロライドが１〜１０モルとなる量である。反応
温度は０℃〜１５０℃、好ましくは０℃〜１２０℃であ
る。反応時間は特に制限されないが、好ましくは１０分
間〜１０時間とされる。該反応は大気圧下、減圧下、加
圧下で行なってよく、また雰囲気としては、空気中、不
活性気体中でよくまた有機溶媒を併用してよい。なお有
機溶媒は第１段目の反応の際に例示したものがあげられ
る。
ドの使用量は、第１段反応後のアクリロキシ化ポリシロ
キサンのアクリロキシ基１モルに対し、アクリル酸クロ
ライドもしくはメタアクリル酸クロライドが１モル以上
となる量を使用すればよい。好ましくはアクリロキシ基
１モルに対し、アクリル酸クロライドもしくはメタアク
リル酸クロライドが１〜１０モルとなる量である。反応
温度は０℃〜１５０℃、好ましくは０℃〜１２０℃であ
る。反応時間は特に制限されないが、好ましくは１０分
間〜１０時間とされる。該反応は大気圧下、減圧下、加
圧下で行なってよく、また雰囲気としては、空気中、不
活性気体中でよくまた有機溶媒を併用してよい。なお有
機溶媒は第１段目の反応の際に例示したものがあげられ
る。
かくして得られた本発明のアクリロキシ基含有オルガノ
ポリシロキサンは、そのままもしくは本願発明の特徴を
損なわない範囲で添加剤を加えることによりエネルギー
線硬化性オルガノポリシロキサン組成物となる。
ポリシロキサンは、そのままもしくは本願発明の特徴を
損なわない範囲で添加剤を加えることによりエネルギー
線硬化性オルガノポリシロキサン組成物となる。
他の添加剤としては、アセトフェノン、プロピオフェノ
ン、ミヒラーケトン、ベンゾフェノン、エチルベンゾフ
ェノン、ベンゾキノン、Ｐ−ジアセチルベンゼン、１，
３−ジフェニルアセトン、キサントーン、フルオレノ
ン、ベンズアセデヒド、アンスラキノン、カルバゾー
ル、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェ
ノン、４，４′ジメトキシベンゾフェノン、ベンズフラ
ンのような光増感剤；ベンゾイルパーオキサイド、ジク
ミルパーオキサイド、ブチルパーオキサイドのような重
合開始剤；ジエチルアミン、ジイロプロピルアミン、ジ
ブチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ピペリジン
のような酸素硬化阻害抑制剤；アルコキシフェノン類、
カテコール類、ヒドロキノン類、フェノチアジンのよう
な重合禁止剤；組成物の粘度を下げる目的でヘキサジオ
ールアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レートのような反応性希釈剤；有機溶剤；オルガノポリ
シロキサン；ヒュームドシリカ、沈降シリカのような充
填剤；着色剤が例示される。
ン、ミヒラーケトン、ベンゾフェノン、エチルベンゾフ
ェノン、ベンゾキノン、Ｐ−ジアセチルベンゼン、１，
３−ジフェニルアセトン、キサントーン、フルオレノ
ン、ベンズアセデヒド、アンスラキノン、カルバゾー
ル、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェ
ノン、４，４′ジメトキシベンゾフェノン、ベンズフラ
ンのような光増感剤；ベンゾイルパーオキサイド、ジク
ミルパーオキサイド、ブチルパーオキサイドのような重
合開始剤；ジエチルアミン、ジイロプロピルアミン、ジ
ブチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ピペリジン
のような酸素硬化阻害抑制剤；アルコキシフェノン類、
カテコール類、ヒドロキノン類、フェノチアジンのよう
な重合禁止剤；組成物の粘度を下げる目的でヘキサジオ
ールアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レートのような反応性希釈剤；有機溶剤；オルガノポリ
シロキサン；ヒュームドシリカ、沈降シリカのような充
填剤；着色剤が例示される。
本発明のエネルギー線硬化性オルガノポリシロキサン組
成物は紫外線、電子線、可視光線、赤外線、Ｘ線、ガン
マ線を照射することにより硬化する。
成物は紫外線、電子線、可視光線、赤外線、Ｘ線、ガン
マ線を照射することにより硬化する。
紫外線源としては、キセノンランプ；低圧、中圧または
高圧の水銀灯が例示され、電子線源としてはリニアフィ
ラメントから連続したカーテン状のビームを照射する装
置が例示される。
高圧の水銀灯が例示され、電子線源としてはリニアフィ
ラメントから連続したカーテン状のビームを照射する装
置が例示される。
本発明のエネルギー線硬化性オルガノポリシロキサン組
成物は、ガラス、セラミック、金属、樹脂、紙、繊維等
の各種基材に対する接着剤、塗料、被覆剤、離型剤とし
て使用できる。
成物は、ガラス、セラミック、金属、樹脂、紙、繊維等
の各種基材に対する接着剤、塗料、被覆剤、離型剤とし
て使用できる。
［実施例］ 以下に実施例をあげて本発明を説明する。例中「部」と
あるのは「重量部」を意味し、また「％」とあるのは
「重量パーセント」を意味する。また、ことわりのない
かぎり特性値は２５℃において測定した値である。
あるのは「重量部」を意味し、また「％」とあるのは
「重量パーセント」を意味する。また、ことわりのない
かぎり特性値は２５℃において測定した値である。
実施例１ 攪はん機、還流冷却器、滴下ロートおよび温度計を備え
た４つ口フラスコに平均式 （式中、EPは である。） で示されるエポキシ基含有ポリシロキサン１００部、ト
ルエン１００部、テトラメチル尿素１部、フェノチアジ
ン０．０２部を仕込み、攪はんしつつ１００℃まで昇温
した。滴下ロートよりアクリル酸５部を徐々に滴下し、
滴下終了後１００℃で１０時間反応させた。反応終了後
減圧蒸留によりトルエンおよび未反応のアクリル酸を除
去し、これをＡＰ−１とした。ＡＰ−１は核磁気共鳴分
析、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーおよび赤
外分光分析の結果、次の式で示されるポリシロキサンで
あることを確認した。
た４つ口フラスコに平均式 （式中、EPは である。） で示されるエポキシ基含有ポリシロキサン１００部、ト
ルエン１００部、テトラメチル尿素１部、フェノチアジ
ン０．０２部を仕込み、攪はんしつつ１００℃まで昇温
した。滴下ロートよりアクリル酸５部を徐々に滴下し、
滴下終了後１００℃で１０時間反応させた。反応終了後
減圧蒸留によりトルエンおよび未反応のアクリル酸を除
去し、これをＡＰ−１とした。ＡＰ−１は核磁気共鳴分
析、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーおよび赤
外分光分析の結果、次の式で示されるポリシロキサンで
あることを確認した。
（式中、ACは である。） 次に攪はん機、還流冷却器、滴下ロートおよび温度計を
備えた４つ口フラスコにＡＰ−１を１００部、トルエン
１００部、トリエチルアミン９部を仕込み攪はんした。
フラスコを水冷しながら滴下ロートよりアクリル酸クロ
ライド８部を温度が上昇しないようにゆっくりと滴下し
た。滴下終了後室温で１時間攪はんし、さらに４０℃で
１時間攪はんして反応を完結させた。反応終了後ろ過に
よりトリエチルアミンの塩酸塩を除去し、減圧蒸留によ
りトリエチルアミン、トルエンおよび未反応のアクリル
酸クロライドを除去した。かくして得られたポリシロキ
サンをＤＡＰ−１とし、ＡＰ−１と同様の分析により次
の式で示されるポリシロキサンであることを確認した。
備えた４つ口フラスコにＡＰ−１を１００部、トルエン
１００部、トリエチルアミン９部を仕込み攪はんした。
フラスコを水冷しながら滴下ロートよりアクリル酸クロ
ライド８部を温度が上昇しないようにゆっくりと滴下し
た。滴下終了後室温で１時間攪はんし、さらに４０℃で
１時間攪はんして反応を完結させた。反応終了後ろ過に
よりトリエチルアミンの塩酸塩を除去し、減圧蒸留によ
りトリエチルアミン、トルエンおよび未反応のアクリル
酸クロライドを除去した。かくして得られたポリシロキ
サンをＤＡＰ−１とし、ＡＰ−１と同様の分析により次
の式で示されるポリシロキサンであることを確認した。
（式中、DACは である。） 次にＤＡＰ−１および比較例としてのＡＰ−１をアルミ
板上に厚さ約１０ミクロンとなるように塗布し、紫外線
および電子線を照射して硬化性を試験した。ただし、紫
外線の場合は増感剤としてそれぞれ２−メチル２−ヒド
ロキシプロピオフェノンを２％添加したものを用いた。
紫外線照射の光源は１６０ｗ／cmの中圧水銀灯であり、
照射場所の雰囲気は大気であった。電子線照射装置の照
射方式はカーテンビーム方式であり、出力電圧１６５Ｋ
Ｖ、電流は２．５mA、照射場所の雰囲気は酸素濃度５０
０ppmであった。硬化性の試験方法は、手でこすって皮
膜が破壊されなくなるまでに要した照射量を測定した。
結果を第１表に示す。
板上に厚さ約１０ミクロンとなるように塗布し、紫外線
および電子線を照射して硬化性を試験した。ただし、紫
外線の場合は増感剤としてそれぞれ２−メチル２−ヒド
ロキシプロピオフェノンを２％添加したものを用いた。
紫外線照射の光源は１６０ｗ／cmの中圧水銀灯であり、
照射場所の雰囲気は大気であった。電子線照射装置の照
射方式はカーテンビーム方式であり、出力電圧１６５Ｋ
Ｖ、電流は２．５mA、照射場所の雰囲気は酸素濃度５０
０ppmであった。硬化性の試験方法は、手でこすって皮
膜が破壊されなくなるまでに要した照射量を測定した。
結果を第１表に示す。
実施例２ 攪はん機、還流冷却器、滴下ロートおよび温度計を備え
た４つ口フラスコに （式中、CEPは である。） で示されるエポキシ基含有ポリシロキサン１００部、キ
シレン１００部、テトラメチル尿素１．５部およびフェ
ノチアジン０．０２部を仕込み、攪はんしつつ１００℃
まで昇温した。滴下ロートよりアクリル酸７．５部を徐
々に滴下し、滴下終了後１００℃で１０時間反応させ
た。反応終了後減圧蒸留によりキシレンおよび未反応の
アクリル酸を除去し、これをＡＰ−２とした。ＡＰ−２
は核磁気共鳴分析、ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィーおよび赤外分光分析の結果次の式で示されるポリ
シロキサンであることを確認した。
た４つ口フラスコに （式中、CEPは である。） で示されるエポキシ基含有ポリシロキサン１００部、キ
シレン１００部、テトラメチル尿素１．５部およびフェ
ノチアジン０．０２部を仕込み、攪はんしつつ１００℃
まで昇温した。滴下ロートよりアクリル酸７．５部を徐
々に滴下し、滴下終了後１００℃で１０時間反応させ
た。反応終了後減圧蒸留によりキシレンおよび未反応の
アクリル酸を除去し、これをＡＰ−２とした。ＡＰ−２
は核磁気共鳴分析、ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィーおよび赤外分光分析の結果次の式で示されるポリ
シロキサンであることを確認した。
（式中、CACは である。） 次に攪はん機、還流冷却器、滴下ロートを備えたフラス
コにＡＰ−２を１００部、トルエン１００部、ピリジン
８．６部を仕込み攪はんした。フラスコを水冷しながら
滴下ロートよりアクリル酸クロライド１０部を温度が上
昇しないようにゆっくりと滴下した。滴下終了後室温で
１時間攪はんし、さらに４０℃で１時間攪はんして反応
を完結させた。反応終了後ろ過によりピリジンの塩酸塩
を除去し、減圧蒸留によりピリジン、トルエンおよび未
反応のアクリル酸クロライドを除去した。かくして得ら
れたポリシロキサンをＤＡＰ−２とし、ＡＰ−２と同様
の分析により次の式で示されるポリシロキサンであるこ
とを確認した。
コにＡＰ−２を１００部、トルエン１００部、ピリジン
８．６部を仕込み攪はんした。フラスコを水冷しながら
滴下ロートよりアクリル酸クロライド１０部を温度が上
昇しないようにゆっくりと滴下した。滴下終了後室温で
１時間攪はんし、さらに４０℃で１時間攪はんして反応
を完結させた。反応終了後ろ過によりピリジンの塩酸塩
を除去し、減圧蒸留によりピリジン、トルエンおよび未
反応のアクリル酸クロライドを除去した。かくして得ら
れたポリシロキサンをＤＡＰ−２とし、ＡＰ−２と同様
の分析により次の式で示されるポリシロキサンであるこ
とを確認した。
（式中、DCACは である。） 次にＤＡＰ−２と比較例としてのＡＰ−２を実施例１の
場合と同様にアルミ板上に塗布し、電子線照射による硬
化性を試験した。照射条件は実施例１と同じであるが、
雰囲気の酸素濃度を２００ppmと５００ppmの２通りにつ
いて試験した。結果を第２表に示した。
場合と同様にアルミ板上に塗布し、電子線照射による硬
化性を試験した。照射条件は実施例１と同じであるが、
雰囲気の酸素濃度を２００ppmと５００ppmの２通りにつ
いて試験した。結果を第２表に示した。
さらにＤＡＰ−２を暗所、温度３０℃、相対湿度７０％
の雰囲気に３箇月間放置したが、外観、粘度および硬化
性は全く変化はなかった。
の雰囲気に３箇月間放置したが、外観、粘度および硬化
性は全く変化はなかった。
比較例として 式 で示されるオルガノポリシロキサンを同様の条件に放置
したが、２箇月以内に白濁し、ついには不均一な液体に
なってしまった。さらに別の比較例として 式 で示されるオルガノポリシロキサンと、トリメチロール
プロパントリアクリレートとを１：２のモル比で８０℃
の温度下１時間反応させたものを同様の条件に放置した
が、３箇月以内にゲル化した。
したが、２箇月以内に白濁し、ついには不均一な液体に
なってしまった。さらに別の比較例として 式 で示されるオルガノポリシロキサンと、トリメチロール
プロパントリアクリレートとを１：２のモル比で８０℃
の温度下１時間反応させたものを同様の条件に放置した
が、３箇月以内にゲル化した。
実施例３ 攪はん機、還流冷却器、滴下ロートおよび温度計を備え
た４つ口フラスコに 式 （式中、EPは である。） で示されるエポキシ基含有ポリシロキサン１００部、キ
シレン１００部、テトラメチルグアニジン１部およびフ
ェノチアジン０．０２部を仕込み、攪はんしながら１１
０℃まで昇温した。滴下ロートよりメタアクリル酸６．
４部を徐々に滴下し、滴下終了後１１０℃で１５時間反
応させた。反応終了後減圧蒸留によりトルエンおよび未
反応のメタアクリル酸を除去し、これをＭＰ−１とし
た。ＭＰ−１は核磁気共鳴分析、ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーおよび赤外分光分析の結果、次の式
で示されるシロキサンであることを確認した。
た４つ口フラスコに 式 （式中、EPは である。） で示されるエポキシ基含有ポリシロキサン１００部、キ
シレン１００部、テトラメチルグアニジン１部およびフ
ェノチアジン０．０２部を仕込み、攪はんしながら１１
０℃まで昇温した。滴下ロートよりメタアクリル酸６．
４部を徐々に滴下し、滴下終了後１１０℃で１５時間反
応させた。反応終了後減圧蒸留によりトルエンおよび未
反応のメタアクリル酸を除去し、これをＭＰ−１とし
た。ＭＰ−１は核磁気共鳴分析、ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーおよび赤外分光分析の結果、次の式
で示されるシロキサンであることを確認した。
（式中、MCは である。） 次に攪はん機、還流冷却器、滴下ロート、および温度計
を備えた４つ口フラスコにＭＰ−１を１００部、キシレ
ン１５０部およびトリエチルアミン１０部を仕込み攪は
んした。フラスコを氷冷しながら滴下ロートよりメタア
クリル酸クロライド９部を温度が上昇しないようにゆっ
りと滴下した。滴下終了後５０℃で２時間攪はんして反
応を完結させた。反応終了後ろ過によりトリエチルアミ
ンの塩酸塩を除去し、減圧蒸留によりトリエチルアミ
ン、キシレン、および未反応のメタアクリル酸クロライ
ドを除去した。かくして得られたポリシロキサンをＤＭ
Ｐ−１とし、ＭＰ−１と同様の分析により次の式で示さ
れるポリシロキサンであることを確認した。
を備えた４つ口フラスコにＭＰ−１を１００部、キシレ
ン１５０部およびトリエチルアミン１０部を仕込み攪は
んした。フラスコを氷冷しながら滴下ロートよりメタア
クリル酸クロライド９部を温度が上昇しないようにゆっ
りと滴下した。滴下終了後５０℃で２時間攪はんして反
応を完結させた。反応終了後ろ過によりトリエチルアミ
ンの塩酸塩を除去し、減圧蒸留によりトリエチルアミ
ン、キシレン、および未反応のメタアクリル酸クロライ
ドを除去した。かくして得られたポリシロキサンをＤＭ
Ｐ−１とし、ＭＰ−１と同様の分析により次の式で示さ
れるポリシロキサンであることを確認した。
（式中、DMCは である。） 次にＤＭＰ−１と比較例としてのＭＰ−１にそれぞれ２
メチル２プロピオフェノンを３％添加したものを実施例
１と同様にアルミ板上に塗布し、紫外線を照射して硬化
性を試験した。なお、紫外線の光源および照射条件は実
施例１と全く同様に行なった。結果を第３表に示した。
メチル２プロピオフェノンを３％添加したものを実施例
１と同様にアルミ板上に塗布し、紫外線を照射して硬化
性を試験した。なお、紫外線の光源および照射条件は実
施例１と全く同様に行なった。結果を第３表に示した。
実施例４ 攪はん機、還流冷却器、滴下ロートおよび温度計を備え
た４つ口フラスコに 式 （式中、CEPは である。） で示されるエポキシ基含有ポリシロキサン１００部、キ
シレン１００部、テトラメチル尿素１．５部およびフェ
ノチアジン０．０２部を仕込み、攪はんしつつ１００℃
まで昇温した。滴下ロートよりメタアクリル酸８．５部
を徐々に滴下し、滴下終了後１００℃１０時間で反応さ
せた。反応終了後減圧蒸留によりキシレンおよび未反応
のメタアクリル酸を除去し、これをＭＰ−２とした。Ｍ
Ｐ−２は核磁気共鳴分析、ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーおよび赤外分光分析の結果次の式で示され
るポリシロキサンであることを確認した。
た４つ口フラスコに 式 （式中、CEPは である。） で示されるエポキシ基含有ポリシロキサン１００部、キ
シレン１００部、テトラメチル尿素１．５部およびフェ
ノチアジン０．０２部を仕込み、攪はんしつつ１００℃
まで昇温した。滴下ロートよりメタアクリル酸８．５部
を徐々に滴下し、滴下終了後１００℃１０時間で反応さ
せた。反応終了後減圧蒸留によりキシレンおよび未反応
のメタアクリル酸を除去し、これをＭＰ−２とした。Ｍ
Ｐ−２は核磁気共鳴分析、ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーおよび赤外分光分析の結果次の式で示され
るポリシロキサンであることを確認した。
（式中、CMCは である。） さらに攪はん機、還流冷却器、滴下ロートを備えたフラ
スコにＭＰ−２を１００部、トルエン１００部、ピリジ
ン９．８部を仕込み攪はんした。フラスコを水冷しなが
ら滴下ロートよりアクリル酸クロライド１２部を温度が
上昇しないようにゆっくりと滴下した。滴下終了後室温
で１時間攪はんし、さらに４０℃で１時間攪はんして反
応を完結させた。反応終了後ろ過によりピリジンの塩酸
塩を除去し、減圧蒸留によりピジン、トルエンおよび未
反応のアクリル酸クロライドを除去した。かくして得ら
れたポリシロキサンをＤＭＰ−２とし、ＭＰ−２と同様
の分析により次の式で示されるポリシロキサンであるこ
とを確認した。
スコにＭＰ−２を１００部、トルエン１００部、ピリジ
ン９．８部を仕込み攪はんした。フラスコを水冷しなが
ら滴下ロートよりアクリル酸クロライド１２部を温度が
上昇しないようにゆっくりと滴下した。滴下終了後室温
で１時間攪はんし、さらに４０℃で１時間攪はんして反
応を完結させた。反応終了後ろ過によりピリジンの塩酸
塩を除去し、減圧蒸留によりピジン、トルエンおよび未
反応のアクリル酸クロライドを除去した。かくして得ら
れたポリシロキサンをＤＭＰ−２とし、ＭＰ−２と同様
の分析により次の式で示されるポリシロキサンであるこ
とを確認した。
（式中、DCMCは である。） 次にＤＭＰ−２と比較例としてのＭＰ−２を実施例１の
場合と同様にアルミ板上に塗布し、電子線照射による硬
化性を試験した。照射条件は実施例１と同じであるが、
雰囲気の酸素濃度を２０ppmと５０ppmの２通りについて
試験した。結果を第４表に示した。
場合と同様にアルミ板上に塗布し、電子線照射による硬
化性を試験した。照射条件は実施例１と同じであるが、
雰囲気の酸素濃度を２０ppmと５０ppmの２通りについて
試験した。結果を第４表に示した。
［発明の効果］ 本発明のオルガノポリシロキサンは、２つのアクリロキ
シ基もしくはメタアクリロキシ基が極めて近傍に存在す
るオルガノポリシロキサン単位を少なくとも１つ有する
という特徴があり、本発明の製造方法は、目的とするア
クリロキシ基含有ポリシロキサンが効率良く得られると
いう特徴がある。またアクリロキシ基含有オルガノポリ
シロキサンを主剤とするエネルギー線硬化性オルガノポ
リシロキサン組成物は、酸素による硬化阻害を受けにく
く、しかも保存安定性が良好であるという特徴を有して
いる。
シ基もしくはメタアクリロキシ基が極めて近傍に存在す
るオルガノポリシロキサン単位を少なくとも１つ有する
という特徴があり、本発明の製造方法は、目的とするア
クリロキシ基含有ポリシロキサンが効率良く得られると
いう特徴がある。またアクリロキシ基含有オルガノポリ
シロキサンを主剤とするエネルギー線硬化性オルガノポ
リシロキサン組成物は、酸素による硬化阻害を受けにく
く、しかも保存安定性が良好であるという特徴を有して
いる。
Claims (3)
- 【請求項１】１分子中に少なくとも１つの式 R1 aR2SiO(3-a)/2 （式中、R1はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アル
キル基またはアルコキシ基、R2は式 または式 で示される基、R3は式 −OC(O)C(R4)＝CH2 で示される基、R4は水素原子もしくはメチル基、ａは１
または２である）で示される単位を有し、分子中のシロ
キサン単位の合計数が２〜２０００の範囲内であるアク
リロキシ基含有オルガノポリシロキサン。 - 【請求項２】１分子中に少なくとも１つの式 または式 （式中、R1はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アル
キル基またはアルコキシ基、ａは１または２である） で示される単位を有するエポキシ基含有オルガノポリシ
ロキサン（但し、分子中のシロキサン単位の合計数が２
〜２０００の範囲内である。）に、アクリル酸もしくは
メタアクリル酸を反応させ、しかる後に塩酸捕そく剤の
存在下、アクリル酸クロライドもしくはメタアクリル酸
クロライドと反応させることを特徴とする、１分子中に
少なくとも１つの式 R1 aR2SiO(3-a)/2 （式中、R1はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アル
キル基またはアルコキシ基、R2は式 または式 で示される基、R3は式 −OC(O)C(R4)＝CH2 で示される基、R4は水素原子もしくはメチル基、ａは１
または２である）で示される単位を有するアクリロキシ
基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。 - 【請求項３】１分子中に少なくとも１つの式 R1 aR2SiO(3-a)/2 （式中、R1はアルキル基、アリール基、ハロゲン化アル
キル基またはアルコキシ基、R2は式 または式 で示される基、R3は式 −OC(O)C(R4)＝CH2 で示される基、R4は水素原子もしくはメチル基、ａは１
または２である）で示される単位を有し、分子中のシロ
キサン単位の合計数が２〜２０００の範囲内であるアク
リロキシ基含有オルガノポリシロキサンを主剤とするエ
ネルギー線硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61282908A JPH0647619B2 (ja) | 1986-11-27 | 1986-11-27 | アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサン、その製造方法およびその用途 |
| US07/125,649 US4777233A (en) | 1986-11-27 | 1987-11-25 | Method for the production of acryloxy-containing organopolysiloxane and the acryloxy cyclohexyl organopolysiloxanes |
| CA000552834A CA1291842C (en) | 1986-11-27 | 1987-11-26 | Method for the production of acryloxy-containing organopolysiloxane and the acryloxy cyclohexyl organopolysiloxanes |
| EP19870117506 EP0269114A3 (en) | 1986-11-27 | 1987-11-26 | Method for the production of acryloxy-containing organopolysiloxane and the acryloxy cyclohexyl oganopolysiloxanes |
| AU81870/87A AU610535B2 (en) | 1986-11-27 | 1987-11-27 | Method for the production of acryloxy-containing organo- polysiloxane and the acryloxy cyclohexyl organopolysiloxanes |
| ES8703403A ES2007755A6 (es) | 1986-11-27 | 1987-11-27 | Un metodo para preparar un organopolisiloxano. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61282908A JPH0647619B2 (ja) | 1986-11-27 | 1986-11-27 | アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサン、その製造方法およびその用途 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63135426A JPS63135426A (ja) | 1988-06-07 |
| JPH0647619B2 true JPH0647619B2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=17658667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61282908A Expired - Lifetime JPH0647619B2 (ja) | 1986-11-27 | 1986-11-27 | アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサン、その製造方法およびその用途 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4777233A (ja) |
| EP (1) | EP0269114A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0647619B2 (ja) |
| AU (1) | AU610535B2 (ja) |
| CA (1) | CA1291842C (ja) |
| ES (1) | ES2007755A6 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2038158T3 (es) * | 1987-02-06 | 1993-07-16 | Th. Goldschmidt Ag | Polisiloxanos con grupos de esteres de acido (met)acrilico unidos a traves de grupos sic y su utilizacion como agentes de revestimiento abhesivos endurecibles por radiaciones, para soportes laminares. |
| DE3820294C1 (ja) * | 1988-06-15 | 1989-10-05 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De | |
| DE3841843C1 (ja) * | 1988-12-13 | 1990-02-15 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De | |
| JPH02255689A (ja) * | 1989-03-29 | 1990-10-16 | Toshiba Silicone Co Ltd | グリシドキシ基含有有機ケイ素化合物 |
| US5035970A (en) * | 1989-10-02 | 1991-07-30 | Xerox Corporation | Encapsulated toner compositions and processes thereof |
| US5178959A (en) * | 1991-03-27 | 1993-01-12 | General Electric Company | Epoxy-functional fluorosilicones |
| DE59307297D1 (de) * | 1992-03-23 | 1997-10-16 | Siemens Ag | Polysiloxane |
| JPH05309664A (ja) * | 1992-05-06 | 1993-11-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 剥離性シリコーン組成物 |
| JP2773547B2 (ja) * | 1992-05-08 | 1998-07-09 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
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