JPH11302213A - 臭素化合物の製造方法 - Google Patents

臭素化合物の製造方法

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JPH11302213A
JPH11302213A JP10113557A JP11355798A JPH11302213A JP H11302213 A JPH11302213 A JP H11302213A JP 10113557 A JP10113557 A JP 10113557A JP 11355798 A JP11355798 A JP 11355798A JP H11302213 A JPH11302213 A JP H11302213A
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守 中谷
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恭子 玉井
Koichi Sato
貢一 佐藤
Kiyoshi Mishima
清志 三島
Yoshiaki Mishima
美▲あき▼ 三島
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 臭素化反応を有機溶媒を使用しない系で行
い、ビス〔(3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロ
モプロピルオキシ)フェニル〕誘導体を製造する。 【解決手段】 ビス(4−アリルオキシ−3,5−ジブ
ロモフェニル)誘導体を、四級アンモニウム塩又は四級
ホスホニウム塩の存在下に、水中で臭素と反応させて、
一般式2のビス〔3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジ
ブロモプロピルオキシ)フェニル〕誘導体を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、難燃剤として有用
な下記一般式(2)で表される臭素化されたビスフェノ
ール類誘導体の改良された製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、一般式(2)の臭素化合物は、原
料化合物であるビス(4−アリルオキシ−3,5−ジブ
ロモフェニル)誘導体(1)を、臭素に不活性な有機溶
媒、例えば塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジク
ロロエタンなどに溶解し、常温又は加温下に臭素化反応
させることにより製造されてきた(特公昭50−236
93号、特公昭50−35103号、特公昭57−28
9号、特開平8−3090号など参照)。
【0003】しかしながら、この臭素化反応に用いられ
てきた、臭素に不活性な有機溶媒は、いずれも人体への
毒性が懸念される化合物であるほか、環境への悪影響が
心配されるため、その使用の削減が望まれていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の臭素
化反応に際して、人体への毒性や、環境への悪影響が心
配される臭素に不活性な有機溶媒を使用することなく、
水中で反応させて下記の化合物(2)を得る方法を提供
することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために鋭意検討を行った結果、ビス(4−
アリルオキシ−3,5−ジブロモフェニル)誘導体
(1)を、水中で臭素化するという簡単な方法により、
容易に、高品質の一般式(2)で表される含臭素化合物
を製造できる方法を見出し、本発明に至った。
【0006】すなわち、本発明は、一般式(1):
【0007】
【化4】
【0008】(式中、Xは
【0009】
【化5】
【0010】を示す)で表される化合物を、臭素と反応
させて、一般式(2):
【0011】
【化6】
【0012】(式中、Xは前記と同じである)で表され
る化合物を製造する方法において、四級アンモニウム塩
又は四級ホスホニウム塩の存在下に、水中で反応させる
ことを特徴とする方法である。
【0013】一般式(2)で表される化合物としては、
2,2−ビス〔3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブ
ロモプロピルオキシ)フェニル〕プロパン、ビス〔3,
5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピルオキ
シ)フェニル〕スルホン、ビス〔3,5−ジブロモ−4
−(2,3−ジブロモプロピルオキシ)フェニル〕チオ
エーテル及びビス〔3,5−ジブロモ−4−(2,3−
ジブロモプロピルオキシ)フェニル〕エーテルを挙げる
ことができる。
【0014】本発明に使用される四級アンモニウム塩又
は四級ホスホニウム塩としては、一般式(3):
【0015】
【化7】
【0016】(式中、R1 〜R4 は、同一でも異なって
いてもよく、それぞれアルキル基、アラルキル基、アリ
ール基及び複素環式基より選ばれる1価基、またはR1
〜R4の2つ以上の基が一緒になって、Y+ と共に環状
構造を形成することができる基である。YはN又はPを
示す。Zはアニオンを示すが、R1 〜R4 の基がアニオ
ンを含む置換基を有する場合は不存在とする)で表すこ
とができる。
【0017】一般式(3)の化合物において、R1 〜R
4 のアルキル基としては、置換又は非置換の直鎖状又は
分岐状アルキル基であり、例えばメチル、エチル、n−
プロピル、3−スルホプロピル、n−ブチル、iso −ブ
チル、3−カルボキシプロピル、2−エトキシエチル、
n−ヘキシル、n−オクチル、2−エチルヘキシル、is
o −デシル、ミリスチル、ステアリルなどが挙げられ
る。
【0018】また、R1 〜R4 のアラルキル基として
は、置換又は非置換のアラルキル基であり、例えばベン
ジル、p−クロロベンジル、p−ニトロベンジル、p−
カルボキシベンジル、p−スルホベンジル、β−フェネ
チル、2−(4−クロロフェニル)エチルなどが挙げら
れる。
【0019】R1 〜R4 のアリール基としては、置換又
は非置換のアリール基であり、例えばフェニル、p−ク
ロロフェニル、p−トリル、p−メトキシフェニル、ナ
フチルなどが挙げられる。
【0020】R1 〜R4 の複素環式基としては、置換又
は非置換の複素環式基であり、例えば1−エチルピリジ
ニウム−4−イルなどが挙げられる。
【0021】Zは、1価又は多価のアニオンであり、Z
が多価アニオンである場合は、一般式(3)のカチオン
部分Y+ が、多価アニオンZ- と等価になるように存在
する。Z- の具体例としては、クロライド、ブロマイ
ド、ヨウダイド、ナイトレート、メトサルフェート、エ
トサルフェート、メタンスルホネート、ベンゼンスルホ
ネート、サルフェート、ナフタレンジスルホネート、フ
ェニルホスホネートなどのアニオンが挙げられる。
【0022】一般式(3)で示される化合物の具体例と
しては、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラ
エチルアンモニウムブロマイド、テトラ(n−ブチル)
アンモニウムブロマイド、n−オクチルトリメチルアン
モニウムブロマイド、メチルトリ(n−ブチル)アンモ
ニウムメトサルフェート、p−ブロモベンジルトリエチ
ルアンモニウムブロマイド、メチルトリベンジルアンモ
ニウム−p−トルエンスルホネート、フェニルトリメチ
ルアンモニウムブロマイド、1−ドデシルピリジニウム
クロライド、1,2,4−トリメチルピリジニウムメト
サルフェート、アンヒドロ−1−(4−スルホブチル)
ピリジニウムハイドロオキサイド、1,1′−ジメチル
−4,4′−ビピリジニウムジクロライド、1−エチル
−3−カルボキシピリジニウム−p−トルエンスルホネ
ート、ヘキサメチレンビス(トリメチルアンモニウム)
ジブロマイド、1−ドデシル−1−メチル−ピペリジニ
ウムブロマイド、テトラ(n−ブチル)ホスホニウムブ
ロマイド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、ベ
ンジルトリフェニルホスホニウムクロライドなどが挙げ
られる。
【0023】本発明に使用される四級アンモニウム塩又
は四級ホスホニウム塩は、単独で使用することができる
が、2種類以上の化合物を混合使用してもよい。これら
化合物の使用量は、原料のジアリルエーテル化合物
(1)1モルに対して、0.5〜等モルの範囲であり、
等モル以上の使用は可能であるが、特に利点が認められ
ない。
【0024】本発明の臭素化方法における反応時の温度
は、0〜100℃までであり、好ましくは常温〜80℃
の範囲で実施される。また、その際の水の使用量は、特
に限定されないが、反応時の撹拌が円滑に行われる範囲
内で使用することが望ましい。
【0025】本発明で使用される原料ビスアリルエーテ
ル化合物(1)は、粉体の形状であることが望ましい
が、板状など粉体以外の形状であっても、臭素化される
際に効率的な撹拌が実現できれば使用可能である。
【0026】本発明の臭素化方法において使用される臭
素の量は、従来の有機溶剤中での臭素化の場合と大差な
く、原料中のアリル基1モルに対して、等モル〜小過剰
程度までの範囲で実施が可能である。具体的には、原料
中のアリル基1モルに対して、0.95〜1.3モルの
範囲内で選択できる。
【0027】本発明で使用される反応溶媒は、水である
が、有機溶媒以外の化合物を水に添加することも可能で
ある。例えば、反応の均一化を促進するために、少量の
臭化水素酸を使用することや、液のpHをコントロールす
る目的で、水酸化マグネシウム、酢酸ナトリウムなどの
適当量を用いることもできる。また、反応に実質的な影
響を与えない範囲で、水可溶性有機溶媒の使用を妨げる
ものではない。
【0028】本発明の臭素化反応後の工程は、水に不溶
な生成物をろ取し、水洗して乾燥すればよく、有機溶剤
を全く使用していないので、液相互の分離や加温濃縮の
工程は不要であり、従来の方法のように、製造された製
品の中に有害な溶剤が残留することはない。
【0029】また、有機溶媒中で、ビスアリルエーテル
化合物(1)を臭素化する従来の方法では、後処理後に
得られる臭素化物の融点が低いため、商品としての取扱
に困難を伴う場合があるが、本法により得られる臭素化
物(2)は、後述の実施例で示すとおり、高い融点を示
す生成物を得ることができるので、通常の取扱により、
製品の固結が発生することがない。
【0030】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
【0031】実施例1 ビス(4−アリルオキシ−3,5−ジブロモフェニル)
スルホン25.8g、テトラブチルアンモニウムブロマ
イド0.3g及び水100mlを55℃に加温し、撹拌下
臭素14.1gを約3時間で滴下した後、50〜60℃
で3時間撹拌放置し、室温で一夜撹拌を続けた。亜硫酸
ナトリウムを加え1時間撹拌した後、不溶物をろ別、水
洗、乾燥して、融け始め温度112.5℃の淡黄色粉末
38.5gを得た。赤外吸収スペクトルと高速液体クロ
マトグラフィーの保持時間を標品と比較して、生成物の
構造がビス〔3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロ
モプロピルオキシ)フェニル〕スルホンであることを確
認した。また、高速液状クロマトグラフィーによる原料
残存率は2%であった。上記の系からテトラブチルアン
モニウムブロマイドを除いた系で、同様に実験を行った
が、臭素約半量を滴下した頃から、粉体相互の融着が始
まって撹拌が困難となり、反応を完結することができな
かった。
【0032】実施例2 ビス(4−アリルオキシ−3,5−ジブロモフェニル)
スルホン25.8g及び水100mlに、下記表中の四級
塩類を、原料スルホンに対して10モル%になるように
添加した液を、撹拌しながら、内温50〜60℃で臭素
12.8gを2時間かけて滴下した。滴下終了後、同温
下に1時間撹拌放置の後、亜硫酸ナトリウム2.5gを
加えて一夜室温下に撹拌を続けた。水不溶物を吸引ろ取
し、ロート上で3回水洗し、乾燥して得られたビス
〔3,5−ジブロモ−4−(2,3−ジブロモプロピル
オキシ)フェニル〕スルホンの収量、融点(融け始め温
度)と、高速液体クロマトグラフィーによる原料残存率
を測定し、表1に示す結果を得た。No. 1〜5の実験で
得られた化合物は、高速液体クロマトグラフィーによ
り、主生成物が、実施例1で得られた化合物と同一であ
ることを確認した。また、すべての実験において、粉体
相互の融着は認められなかった。
【0033】
【表1】
【0034】 LPC :ラウリルピリジニウムクロライド TBAB :テトラブチルアンモニウムブロマイド TPPB :テトラフェニルホスホニウムブロマイド BTEAC:ベンジルトリエチルアンモニウムクロライ
ド TBPB :テトラブチルホスホニウムブロマイド
【0035】以上の結果より、本実施例に使用された四
級塩類は、いずれも、本臭素化方法に有効であることが
わかる。
【0036】実施例3 2,2−ビス(4−アリルオキシ−3,5−ジブロモフ
ェニル)プロパン12.5g、ラウリルピリジニウムク
ロライド5.7g及び水50mlを、撹拌下、内温15〜
25℃で臭素7.7gを2時間かけて滴下し、そのまま
一夜撹拌を続けた。その後、80℃までゆっくり昇温し
た後、室温付近まで冷却して、亜硫酸ナトリウム2.0
gを加え撹拌し、水不溶物をろ過、水洗、乾燥して、融
け始め温度104.5℃の淡黄色粉末17.4gを得
た。ここで得られた化合物の赤外吸収スペクトルと高速
液体クロマトグラフィーの保持時間を、標品と比較し、
主生成物が2,2−ビス〔3,5−ジブロモ−4−
(2,3−ジブロモプロピルオキシ)フェニル〕プロパ
ンであることを確認した。また、高速液体クロマトグラ
フィーによる原料残存率は、0.5%であった。上記の
系からラウリルピリジニウムクロライドを除いた系で、
同様の実験を行ったが、臭素滴下時に内容物が固着して
撹拌不能となり、反応を中止した。
【0037】
【発明の効果】本発明の方法によれば、人体及び環境へ
の悪影響が心配される有機溶媒を全く用いることなく、
難燃剤として広く使用されている一般式(2)の化合物
を簡単かつ高品質に製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 315/04 C07C 315/04 317/22 317/22 319/20 319/20 323/20 323/20 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72)発明者 三島 清志 広島県福山市箕沖町92番地 マナック株式 会社箕沖工場内 (72)発明者 三島 美▲あき▼ 広島県福山市箕沖町92番地 マナック株式 会社箕沖工場内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1): 【化1】 (式中、Xは 【化2】 を示す)で表される化合物を、臭素と反応させて、一般
    式(2): 【化3】 (式中、Xは上記と同じである)で表される化合物を製
    造する方法において、該反応を四級アンモニウム塩又は
    四級ホスホニウム塩の存在下に、水中で反応させること
    を特徴とする方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100734496B1 (ko) 2000-07-25 2007-07-03 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 경화성 조성물 및 그 용도
CN102898337A (zh) * 2012-09-14 2013-01-30 三峡大学 一种颗粒状阻燃剂八溴s醚的生产方法
CN105622362A (zh) * 2016-03-25 2016-06-01 江苏凯腾医药原料有限公司 甲基八溴醚类阻燃剂的制备方法
CN112830869A (zh) * 2021-02-02 2021-05-25 山东迈特新材料科技有限公司 一种高纯度八溴醚的制备方法
CN113185387A (zh) * 2021-05-10 2021-07-30 江苏欣舟化工科技有限公司 一种高纯度八溴醚的制备方法

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