JPH11296843A

JPH11296843A - 磁気記録媒体及びその製造方法

Info

Publication number: JPH11296843A
Application number: JP15297198A
Authority: JP
Inventors: Shinichi Matsumura; 伸一松村; Naoto Maeda; 直人前田
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1998-02-13
Filing date: 1998-06-02
Publication date: 1999-10-29
Also published as: US6203892B1

Abstract

(57)【要約】【課題】変形が極力抑制されて、磁気ヘッドとの良好
な接触状態が確保され、耐久性に優れるとともに、良好
な記録再生特性が得られて高い線記録密度化が実現され
る磁気記録媒体を提供する。【解決手段】磁気記録媒体１は、二軸配向ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムからなる非磁性支持体２と、
この非磁性支持体２上に形成されて強磁性粉末と高分子
材料とを含有する磁性層３，４とを備える。非磁性支持
体２は、第１の主面２ａと第２の主面２ｂとの屈折率の
差Δｎ₁が１×１０^-3以下である。非磁性支持体２は、
厚さが３０μｍ以上であることが好ましく、８０℃にお
ける熱収縮率が０．１％以下であることが好ましく、各
主面内における屈折率の最大値と最小値との差Δｎ₂が
それぞれ１５×１０^-3以下であることが好ましい。磁性
層３，４中に熱硬化性のポリイソシアネートが含有され
ていることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体及び
その製造方法に関し、特に、カール等の変形が抑制され
て、磁気ヘッドとの接触変動が回避され、多数回での使
用が可能となる磁気記録媒体に関する。詳しくは、本発
明は、高いトラック密度で高い線記録密度が可能とされ
たディスク状の磁気記録媒体、特にフレキシブルディス
クの原反用として用いられる磁気記録媒体及びその製造
方法に係る。

【０００２】

【従来の技術】従来、ディスク状の磁気記録媒体（以
下、磁気ディスクと称する。）は、例えば、ポリエチレ
ンテレフタレートからなる非磁性支持体の両主面上に、
高分子材料と強磁性粉末との混合物からなる磁性層が形
成されてなる。このような磁気ディスクにおいては、線
記録密度を高めるべく、トラック幅をできる限り狭くす
るようになされている。

【０００３】また、磁気ディスク装置においては、同様
に磁気ディスクにおける線記録密度を高めるべく、磁気
ヘッドと磁気ディスクとの間隔を小さくするようになさ
れている。

【０００４】しかしながら、従来の磁気ディスク装置に
おいては、上述したように、線記録密度を高めるための
開発を進める上で、磁気ディスクの変形が大きな問題と
なっていた。すなわち、従来の磁気ディスク装置では、
磁気ディスクが変形すると、トラッキングエラーが起こ
りやすくなりエラーレートが増大してしまい、磁気ディ
スクにおける線記録密度を高めることが困難となる。

【０００５】そこで、従来より、磁気ディスクの保存に
よる寸法変形の問題の改善のために、磁気ディスクの製
造方法として、以下に示すような製造方法が特開昭６２
−１２４６３０号公報にて開示されている。

【０００６】この製造方法は、非磁性支持体の両主面上
に磁性層を形成した磁気記録媒体原反をロール状に巻き
取った後に、このロール状の磁気記録媒体原反に対して
磁性層中の結合剤及び架橋剤の反応を促進させるための
熱処理を施し、その後にこのロール状の磁気記録媒体原
反をシート状に解いてデイスク状に打ち抜くものであ
る。

【０００７】つまり、この方法は、ロール状に巻き取っ
た磁気記録媒体に対して磁性層中の結合剤及び架橋剤を
活性化させる熱処理を施して磁性層の強度を増強させた
後に、この磁気記録媒体原反をディスク状に打ち抜く方
法である。そのため、この磁気ディスクは、打ち抜かれ
たときには既に強度が補強されているので、保存による
寸法変形が極力抑えられたものとなる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では、磁気記録媒体原反をロール状に巻き取った状態
で熱処理を施すため、この磁気記録媒体原反が巻き取ら
れたときの巻きぐせによってシート状に解いた際の磁気
記録媒体原反に幅方向の湾曲化、いわゆるカールが生じ
てしまったり、磁気記録媒体原反がロール状に巻き取ら
れたときの巻き締まり部分がシート状に解いた際の磁気
記録媒体原反に変形として生じたり、磁性層の表面性が
劣化するといった問題がある。

【０００９】そして、このように、カール等の変形が生
じた磁気記録媒体原反をディスク状に打ち抜いて製造し
た磁気ディスクは、変形が生じたものとなってしまい、
磁気ヘッドとの接触が不均一になって、多数回使用した
場合に、磁性層の摩耗が著しく大きくなって、記録再生
時に円滑に回転しなくなり、結果的に耐久性や記録再生
特性が劣化してしまうといった問題が生じる。

【００１０】そこで、以上のような問題に対処するた
め、非磁性支持体の熱収縮率を制御することによって磁
気記録媒体原反の熱による変形を極力抑えて、結果的
に、磁気ディスクの変形防止を図ることが提案されてい
る。

【００１１】しかしながら、このような従来の変形防止
のための試みでは、十分な効果が得られず、保存後及び
熱処理後において磁気ディスクの変形を完全に防止する
ことが不可能である。

【００１２】そこで、本発明は、従来の実情に鑑みて提
案されたものであり、変形が極力抑制されて、磁気ヘッ
ドとの良好な接触状態が確保され、耐久性に優れるとと
もに、良好な記録再生特性が得られて高い線記録密度化
が実現される磁気記録媒体及びその製造方法を提供する
ことを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために完成された本発明に係る磁気記録媒体は、二軸配
向ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる非磁性
支持体と、この非磁性支持体の少なくとも一方の主面上
に形成され少なくとも強磁性粉末と高分子材料とを含有
する磁性層とを備えるものである。特に、本発明に係る
磁気記録媒体は、上記非磁性支持体において、両主面の
屈折率の差Δｎ₁が１×１０^-3以下であることを特徴と
するものである。なお、上記非磁性支持体の厚さは、３
０μｍ以上であることが好ましい。

【００１４】さらに、本発明の磁気記録媒体において
は、上記非磁性支持体の８０℃における熱収縮率が０．
１％以下であることが好ましい。

【００１５】さらにまた、本発明の磁気記録媒体におい
ては、上記磁性層中に熱硬化性のポリイソシアネートが
含有されていることが好ましい。

【００１６】また、本発明に係る磁気記録媒体は、非磁
性支持体の各主面内における屈折率の最大値と最小値と
の差Δｎ₂がそれぞれ１５×１０^-3以下であることが好
ましい。

【００１７】なお、本発明に係る磁気記録媒体は、磁性
層を上記非磁性支持体の両主面上に形成して、磁気ディ
スク用の原反として適用することがより好ましい。

【００１８】以上のように構成された本発明に係る磁気
記録媒体は、非磁性支持体の両主面における屈折率の差
Δｎ₁を１×１０^-3以下に規定することにより、非磁性
支持体の両主面側の物性差を小さく抑えることができて
非磁性支持体の物性が極力均一化される。よって、本発
明に係る磁気記録媒体は、保存後や熱処理後においても
非磁性支持体のカール等の特定方向に対する変形が極力
抑えられ、その結果、変形の少ない磁気記録媒体とな
る。

【００１９】また、そのため、本発明に係る磁気記録媒
体は、磁気ヘッドとの当たりが均一で且つ良好なものと
なり、磁気ヘッドとの接触変動が極力小さくなされるの
で、多数回使用可能で且つ記録再生時にトラックずれ等
のエラーが少ない、走行性、耐久性及び記録再生特性に
優れたものとなる。

【００２０】さらに、本発明に係る磁気記録媒体では、
非磁性支持体の厚さが３０μｍ以上であることにより、
磁気記録媒体の全体の厚さに占める非磁性支持体の厚さ
の割合が大きくなるため、磁気記録媒体の形状が非磁性
支持体の形状に支配されるようになる。そのため、本発
明に係る磁気記録媒体は、より効果的に変形が抑えられ
たものとなる。

【００２１】さらにまた、本発明に係わる磁気記録媒体
では、非磁性支持体の８０℃における熱収縮率が０．１
％以下であることにより、熱処理を行った際の非磁性支
持体の特定方向に対する変形を小さく抑えている。この
ことからも、本発明に係わる磁気記録媒体は、変形の少
ない磁気記録媒体となる。この結果、磁気ヘッドとの接
触変動が極力小さくなされるので、多数回使用可能で且
つ記録再生時にトラックずれ等のエラーが少ない、走行
性、耐久性及び記録再生特性に優れたものとなる。

【００２２】また、本発明に係る磁気記録媒体では、非
磁性支持体の各主面内における屈折率の最大値と最小値
との差Δｎ₂が上述したように限定されることにより、
非磁性支持体の各主面の面内がほぼ均一な表面性の好ま
しいものとなされる。その結果、本発明に係る磁気記録
媒体は、非磁性支持体に対して熱処理が施された後や保
存後においても、非磁性支持体の各主面内の局所的な変
形が極力抑えられて、結果的に、表面性の良好な磁気記
録媒体となる。そのため、本発明に係る磁気記録媒体
は、磁気ヘッドとの接触状態がより良好となされて、多
数回の使用が可能な、しかも記録再生時にトラックずれ
等のエラーが極力抑えられたものとなる。

【００２３】さらに、本発明に係わる磁気記録媒体を、
非磁性支持体上に強磁性粉末と高分子材料とを主体とす
る磁性塗料を塗布し乾燥させて磁性層を形成し、上記磁
性層表面の平滑処理を行い、上記磁性層が形成された非
磁性支持体をディスク状に打ち抜き、磁気ディスクを作
製し、上記磁気ディスクに対して、高分子材料のガラス
転移点よりも高く、かつ非磁性支持体のガラス転移点よ
りも低い温度での加熱処理を行って製造する場合に、上
記非磁性支持体として、両主面の屈折率の差Δｎ₁が１
×１０^-3以下であり、厚さが３０μｍ以上であり、且つ
８０℃における熱収縮率が０．１％以下である二軸配向
ポリエチレンテレフタレートフィルムを用れば、上記磁
性塗料中に架橋性化合物として熱硬化性のポリイソシア
ネートを含有させても、上記非磁性支持体がこの架橋性
化合物の架橋反応を促進するのに十分な例えば５０℃〜
９０℃の熱処理温度及び時間に耐え得るため、磁性層の
強度が高まり、磁気記録媒体の走行性、耐久性が高ま
る。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態について、図面を参照しながら詳細に説明する。本発
明を適用した磁気記録媒体は、ディスク状に打ち抜いて
磁気ディスクを製造する、磁気ディスク用の原反として
用いることが好適であるが、そのまま磁気テープ用の原
反として用いても良い。なお、磁気テープ用の原反とし
て用いられる場合には、本発明を適用した磁気記録媒体
は、非磁性支持体の一主面上に磁性層が形成されてな
る。

【００２５】ここでは、本発明を適用した磁気記録媒体
として、図１に示すような磁気ディスク用、特にフレキ
シブルディスク用の原反である磁気記録媒体１を示す。

【００２６】本発明を適用した磁気記録媒体１は、短冊
状の非磁性支持体２の第１の主面２ａ及び第２の主面２
ｂ上に、磁性層３，４がそれぞれ形成されてなるもので
ある。

【００２７】そして、この磁気記録媒体１から磁気ディ
スクを製造するには、例えば、この磁気記録媒体１をデ
ィスク状に打ち抜いた後に、磁性層３，４中の高分子材
料及び架橋剤の反応を促進するための熱処理を施すこと
により、磁気ディスクを製造することができる。

【００２８】本発明を適用した磁気記録媒体１における
非磁性支持体２は、二軸配向ポリエチレンテレフタレー
トフィルムからなる。このフィルムを形成するポリエチ
レンテレフタレートは、分子構成の９０モル％以上がエ
チレンテレフタレート単位からなる重合体、共重合体あ
るいは混合体である。また、このポリマーの融点として
は、２５０℃以上、好ましくは２５５℃以上のものが良
い。ポリマーの固有粘度としては、０．４〜１．０、好
ましくは０．５５〜０．８が良い。

【００２９】ここで、二軸配向ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムとは、ポリエチレンテレフタレートをダイ
で溶融押し出しし、これを二軸方向に延伸して配向せし
めたものである。

【００３０】このように、ポリエチレンテレフタレート
フィルムを二軸方向に延伸（以下、二軸延伸と称す
る。）して二軸配向させる方法としては、以下に示すよ
うな方法を用いると良い。

【００３１】先ず、公知の延伸装置を用い、未延伸状態
のポリエチレンテレフタレートフィルムをそのガラス転
移温度以上の温度域、つまり９０〜１５０℃程度に加熱
して、同時二軸延伸法や逐次二軸延伸法により、長手方
向及び幅方向に延伸する。このとき、例えば、未延伸状
態のポリエチレンテレフタレートフィルムを長手方向及
び幅方向にそれぞれ２〜５倍程度、好ましくは、３〜
４．５倍の範囲で延伸すると良い。すなわち、延伸面積
倍率を４〜２５倍、好ましくは、９〜２０倍とするのが
良い。

【００３２】なお、この二軸二段階の延伸法の他に、延
伸の段数が３以上のものであっても良い。また、このポ
リエチレンテレフタレートフィルムは、バランスタイプ
であることが好ましい。

【００３３】次に、この延伸させたポリエチレンテレフ
タレートフィルムを熱固定して二軸配向させる。このポ
リエチレンテレフタレートの熱固定方法としては、公知
のステンターや加熱ロールを用いる手段が利用可能だ
が、中でも、工業上ステンター法により熱固定すること
が好ましい。このとき、熱固定温度は、上記の延伸温度
より４０℃以上高く、且つ、ポリエチレンテレフタレー
トの融点より２０℃低い温度が好ましく、１８０〜２４
０℃であることが好ましい。ここで、この熱固定温度
は、熱固定処理時のあるいは熱固定処理ゾーンの最高温
度を言う。なお、この方法以外にも緊張又は弛緩状態で
フィルムの四方を把持して熱処理を行っても良い。

【００３４】以上述べたように、ポリエチレンテレフタ
レートフィルムが二軸方向に延伸されて二軸配向され
る。

【００３５】ところで、保存後や上述の熱固定処理後や
後述する磁性層３，４中の高分子材料及び架橋剤の反応
促進のための熱処理後においても、カール等の特定方向
の変形が極力抑えられた非磁性支持体２を得るには、二
軸配向の非磁性支持体２の物性が、任意の位置におい
て、特に、その第１の主面２ａと第２の主面２ｂのあら
ゆる方向において、ほぼ均一であることが必要である。

【００３６】そして、そのためには、例えば、二軸配向
の非磁性支持体２の同一方向における両主面２ａ，２ｂ
の屈折率の差が極力小さい程、非磁性支持体２の物性が
均一であるといえる。

【００３７】言い換えれば、非磁性支持体の屈折率が第
１の主面と第２の主面においてそれぞれ過度に異なる場
合には、この非磁性支持体の両主面の物性が互いに異な
ることになる。このような非磁性支持体では、この非磁
性支持体に熱処理を施した際等に、非磁性支持体の第１
の主面側と第２の主面側の熱収縮率等の物性が過度に異
なるので、非磁性支持体が特定方向に変形してしまうこ
とになる。

【００３８】そこで、本発明を適用した磁気記録媒体１
では、二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムか
らなる非磁性支持体２の第１の主面２ａと第２の主面２
ｂとの屈折率の差ｎ₁が、１×１０^-3以下に規定されて
いる。なお、ここで、非磁性支持体２の第１の主面２ａ
及び第２の主面２ｂというのは、非磁性支持体２の同位
置における第１の主面及び第２の主面を示すものとす
る。

【００３９】すなわち、二軸配向性ポリエチレンテレフ
タレートフィルムのある位置における第１の主面２ａの
屈折率をｎ₁とし、同一位置における第２の主面２ｂの
屈折率をｎ₂とすると、屈折率の差Δｎ₁が次式を満足す
るものである。Δｎ₁＝｜ｎ₁−ｎ₂｜≦１×１０^-3であ
る。

【００４０】このように、本発明を適用した磁気記録媒
体１では、非磁性支持体２の両主面２ａ，２ｂにおける
屈折率の差が極力抑えられているため、非磁性支持体２
の両主面２ａ，２ｂにおける物性差が極力抑えられるこ
とになり、非磁性支持体２の物性が全体にわたって極力
均一化されることになる。そのため、本発明を適用した
磁気記録媒体１では、この非磁性支持体２に対して熱処
理が施された後や保存後においても、非磁性支持体２の
カール等の特定方向に対する変形を極力抑えることがで
きる。そして、その結果、本発明を適用した磁気記録媒
体１は、極力変形が抑えられたものとなり、磁気ヘッド
との当たりが良好となる。

【００４１】また、この非磁性支持体２であるポリエチ
レンテレフタレートフィルムは、厚みが３０μｍ以上、
詳しくは、３０〜１００μｍ、好ましくは、５０〜８０
μｍであると良い。これにより、本発明を適用した磁気
記録媒体１では、磁気記録媒体の全体の厚さに占める非
磁性支持体２の厚さの割合が大きくなり、磁気記録媒体
の変形が非磁性支持体２の形状に支配されることにな
る。よって、本発明を適用した磁気記録媒体１は、より
効果的に変形が抑えられたものとなる。

【００４２】以上述べたように、本発明を適用した磁気
記録媒体１は、非磁性支持体２の両主面における屈折率
の差が小さく抑えられているので、非磁性支持体２の両
主面における物性差が極力抑えられて非磁性支持体２が
全体にわたってほぼ均一な物性となされる。これによ
り、本発明を適用した磁気記録媒体１は、非磁性支持体
２の特定方向に対する変形が極力抑えられて、結果的
に、より効果的に変形が極力抑えられた表面性の良好な
磁気記録媒体となる。

【００４３】また、そのため、本発明を適用した磁気記
録媒体１は、磁気ヘッドとの接触状態がより良好となさ
れて、多数回の使用が可能な、しかも記録再生時のトラ
ックずれ等のエラーが極力抑えられたものとなり、走行
性、耐久性、電磁変換特性及び記録再生特性に優れたも
のとなるとともに、高い線記録密度化が実現可能とな
る。

【００４４】また、本発明を適用した磁気記録媒体１に
おける非磁性支持体２は、各主面２ａ，２ｂにおいて、
各主面内のあらゆる方向の屈折率の最大値と最小値との
差Δｎ₂が、Δｎ₂＝１５×１０^-3以下であることが望ま
しい。ここで、Δｎ₂の調整は、非磁性支持体の長手方
向及び幅方向の延伸倍率によって調整することができ
る。この時、幅方向の延伸倍率を長手方向の延伸倍率よ
りも０．１〜０．３倍高くするのが好ましい。

【００４５】このように、本発明を適用した磁気記録媒
体１では、非磁性支持体２の各主面における屈折率の最
大値と最小値との差Δｎ₂が上述したように限定されて
いるため、非磁性支持体２の各面２ａ，２ｂの面内がほ
ぼ均一な表面性の好ましいものとなされる。その結果、
本発明を適用した磁気記録媒体１は、非磁性支持体２に
対して熱処理が施された後や保存後においても、非磁性
支持体２の各主面内の局所的な変形が極力抑えられて、
結果的に、表面性の良好な磁気記録媒体となる。そのた
め、本発明を適用した磁気記録媒体１は、磁気ヘッドと
の接触状態が良好となされて、多数回の使用が可能な、
しかもトラックずれの極力抑えられたものとなる。

【００４６】なお、このように、非磁性支持体２の両主
面２ａ，２ｂにおける屈折率の調整には、ポリエチレン
テレフタレートフィルム作製の際の延伸時に、非磁性支
持体２であるポリエチレンテレフタレートフィルムの温
度分布を制御すること等により可能である。つまり、延
伸時におけるポリエチレンテレフタレートフィルムの温
度分布を極力均一とすることにより、両主面２ａ，２ｂ
における屈折率の差が極力小さくなされた非磁性支持体
２を作製することが可能である。

【００４７】具体的には、ポリエチレンテレフタレート
フィルムが延伸時に搬送ロールに接している面と接して
いない面とにおいてその温度分布が不均一になる傾向に
あるため、強制的に搬送ロールに接していない面に熱風
を当てたり、或いは、搬送ロールの温度を調整すること
等により、延伸時におけるポリエチレンテレフタレート
フィルムの温度分布を極力均一とすることができる。

【００４８】つぎに、このような非磁性支持体の両主面
における屈折率を測定する方法の原理について、詳細を
説明する。

【００４９】この非磁性支持体の両主面の屈折率をそれ
ぞれ測定するに際しては、例えば、アタゴ社製のアッベ
屈折計を用いる。そして、この屈折計を用いて、以下に
示すような原理に基づいて、非磁性支持体１０の両主面
１０ａ，１０ｂの屈折率をそれぞれ測定する。なお、以
下では、非磁性支持体１０は、非磁性支持体１０の第１
の主面１０ａ側の部分を第１の支持体部１１と称し、非
磁性支持体１０の第２の主面１０ｂ側の部分を第２の支
持体部１２と称する。図２及び図３は、非磁性支持体１
０の第１の主面１０ａと第２の主面１０ｂの屈折率が測
定される原理を説明する断面図である。

【００５０】例えば、上述のアッベ屈折計を用いて主面
１０ａ，１０ｂの屈折率を測定する場合、先ず、この屈
折計に取り付けられた測定用プリズム２０上に、測定対
象物である非磁性支持体１０を配する。このとき、非磁
性支持体１０は、適当な接触液を介して測定用プリズム
２０上に配される。

【００５１】そして、このアッベ屈折計を用いて、非磁
性支持体１０に光を入射させて、この非磁性支持体１０
を透過して測定用プリズム２０に入射してくる光のうち
の測定用プリズム２０に明暗の境界を生じさせる光を検
出して、所望の面の屈折率を測定する。

【００５２】ここで、測定用プリズム２０の屈折率をｎ
₁₃とし、第１の支持体部１１の屈折率をｎ₁₁とし、第２
の支持体部１２の屈折率をｎ₁₂とする。そして、仮に、
このとき、ｎ₁₂＜ｎ₁₁＜ｎ₁₃であるとする。例えば、測
定用プリズムの屈折率ｎ₁₃を１．９３とし、第１の主面
１０ａの屈折率ｎ₁₁を１．７０とし、第２の主面１０ｂ
の屈折率ｎ₁₂を１．５０とする。

【００５３】先ず、図２に示すように、第２の主面１０
ｂが測定用プリズム２０と接触するように、測定用プリ
ズム２０上に非磁性支持体１０を配して、非磁性支持体
１０に光を照射する。

【００５４】すると、屈折率の大きい第１の支持体部１
１に水平方向に入射した光は、第１の支持体部１１内で
全反射してしまい、屈折率の小さい第２の支持体部１２
に入射せず、結果的に測定用プリズム２０内に入射する
ことはなく、アッベ屈折計により検出されない。

【００５５】一方、屈折率の小さい第２の支持体部１２
に水平方向に入射した光２１ａは、この第２の支持体部
１２を透過した後に、図２に示すように、屈折率の大き
い測定用プリズム２０内に入射して、測定用プリズム２
０内を進む。この測定用プリズム２０内を進む光線２１
は、測定用プリズム２０内に明暗の境界を生じさせるも
のであり、この光線２１よりも非磁性支持体１０側に位
置する測定用プリズム２０ａが暗くなる。

【００５６】最終的に、この光線２１をアッベ屈折計に
より検出する。なお、図２では、第１の支持体部１１内
及び第２の支持体部１２内に入射した光線を省略してい
る。

【００５７】したがって、アッベ屈折計を用いて、非磁
性支持体１０の両主面のうちの屈折率の小さい方の第２
の主面１０ｂを屈折率の最も大きい測定用プリズム２０
上に配して、測定用プリズム２０に明暗の境界を生じさ
せる光２１を検出することにより、非磁性支持体１０の
両主面のうちの屈折率が小さい側の第２の主面１０ｂに
おける屈折率ｎ₁₂を測定することができる。

【００５８】次に、これに対して、図３に示すように、
第１の主面１０ａが測定用プリズム２０と接触するよう
に、測定用プリズム２０上に非磁性支持体１０を配し
て、非磁性支持体１０に光を照射させる。

【００５９】すると、屈折率の大きい第１の支持体部１
１に水平方向に入射した光は、図３に示すように、屈折
率のより大きな測定用プリズム２０内に入射して、測定
用プリズム２０内を進む。この測定用プリズム２０内を
進む光線２２は、測定用プリズム２０内に明暗の境界を
生じさせるものであり、この光線２２よりも非磁性支持
体１０側に位置する測定用プリズム２０ｂが暗くなる。

【００６０】最終的に、この光線２２をアッベ屈折計に
より検出する。なお、図３では、第１の支持体部１１内
及び第２の支持体部１２内に入射した光線を省略してい
る。

【００６１】したがって、非磁性支持体１０の両主面の
うちの屈折率の大きい方の第１の主面１０ａを屈折率の
最も大きい測定用プリズム２０上に配して、測定用プリ
ズム２０に明暗の境界を生じさせる光２２を検出するこ
とにより、非磁性支持体１０の屈折率の大きい方の第１
の主面１０ａにおける屈折率ｎ₁₁を測定することができ
る。

【００６２】一方、図３の場合において、屈折率の小さ
い第２の支持体部１２に水平方向に入射した光は、屈折
率の大きい第１の支持体部１１に入射してこの第１の支
持体部１１を透過した後に、図３に示すように、より屈
折率の大きな測定用プリズム２０に入射して、この測定
用プリズム２０内を進む。ところが、この光２３は、第
２の支持体部１２を透過した後に、第１の支持体部１１
を透過するため、第１の支持体部１１の透過率が低い
と、測定用プリズム２０内に現れなくくなり、受光及び
屈折率の測定が困難である。よって、この光２３を検出
することは好ましくない。

【００６３】以上説明したように、アッベ屈折計を用い
て、測定用プリズム２０上に非磁性支持体１０の各主面
をそれぞれ配して当該非磁性支持体１０に測定用の光を
入射させ、結果的に測定用プリズム２０内に入射する光
を検出することにより、非磁性支持体１０の第１の主面
１０ａ及び第２の主面１０ｂにおける屈折率ｎ₁₁，ｎ₁₂
を測定することができる。

【００６４】さらに、本発明を適用した磁気記録媒体１
では、二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムか
らなる非磁性支持体２の８０℃における熱収縮率が０．
１％以下とされているのが好ましく、熱処理を行った際
の非磁性支持体の特定方向に対する変形が小さく抑えら
れる。このことからも、本発明に係わる磁気記録媒体
は、変形の少ない磁気記録媒体となる。この結果、磁気
ヘッドとの接触変動が極力小さくなされるので、多数回
使用可能で且つ記録再生時にトラックずれ等のエラーが
少ない、走行性、耐久性及び記録再生特性に優れたもの
となる。

【００６５】また、このような非磁性支持体２を使用す
れば、磁性層２，３中に架橋性化合物として熱硬化性の
ポリイソシアネートを含有させても、上記非磁性支持体
２がこの架橋性化合物の架橋反応を促進するのに十分な
例えば５０℃〜９０℃の熱処理温度及び時間に耐え得る
ため、磁性層３，４の強度が高まり、磁気記録媒体１の
走行性、耐久性が高まる。

【００６６】このような非磁性支持体の熱収縮率の調整
は、前述の熱固定温度を調整する、或いは熱固定後に弛
緩処理を行うことで可能とされる。例えば、熱固定後の
弛緩処理は二軸延伸熱固定したポリエチレンテレフタレ
ートフィルムをテンターにおいて幅方向に低伸長、特に
０〜４％の伸長を与えながら、熱固定温度よりも低い温
度で行い、熱収縮率を小さくすることが可能である。

【００６７】ところで、本発明を適用した磁気記録媒体
１における非磁性支持体２の表面粗さ、詳しくは、中心
線平均粗さＲａは、７ｎｍ以下が必要であり、好ましく
は２〜７ｎｍの範囲が良い。非磁性支持体の表面粗さが
７ｎｍを越えると、磁性層の粗さへ影響し、スペーシン
グロスが大きくなり電磁変換特性が低下し、エラーレー
トが増大する。しかも、多数回使用した場合の磁性層の
摩耗が激しくなる。また、非磁性支持体の表面粗さが２
ｎｍ以下であると、塗布工程等におけるロールへの巻き
取り時に、非磁性支持体のフィルム同士が張り付きやす
くなり、取り扱いが困難になる。

【００６８】この非磁性支持体２であるポリエチレンテ
レフタレートフィルムの表面粗さを調整する方法として
は、例えば、不活性固体粒子をポリエチレンテレフタレ
ートポリマー中に含有させる方法や、また、不活性固体
粒子を分散させた塗膜をポリエチレンテレフタレートフ
ィルムの両表面上に形成する方法等の他の表面加工処理
を施す方法が挙げられる。

【００６９】この不活性粒子とは、例えば、二酸化ケイ
素（水和物、ケイ藻土、ケイ砂、石英等を含む）、アル
ミナ、ＳｉＯ₂分を３０重量％以上含有するケイ酸塩
（例えば、非結晶質或いは結晶質の粘土鉱物、アルミノ
シリケート（焼成物や水和物を含む）、温石綿、ジルコ
ン、フライアッシュ等）、Ｍｇ，Ｚｎ，Ｚｒ及びＴｌの
酸化物、Ｃａ及びＢａの硫酸塩、Ｌｉ，Ｎａ及びＣａの
リン酸塩（１水素塩や２水素塩を含む）、Ｌｉ，Ｎａ及
びＫの安息香酸塩、Ｃａ，Ｂａ，Ｚｎ及びＭｎのテレフ
タル酸塩、Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ｐｂ，Ｓ
ｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｅ及びＮｉのチタン酸塩、Ｂａ及び
Ｐｂのクロム酸塩、炭素（例えば、カーボンブラック、
グラファイト等）、ガラス（例えば、ガラス粉、ガラス
ビーズ）、Ｃａ及びＭｇの炭酸塩、ホタル石及びＺｎＳ
が挙げられる。

【００７０】上記不活性粒子としては、更に好ましく
は、無水ケイ酸、含水ケイ酸、酸化アルミニウム、ケイ
酸アルミニウム、（焼成物、水和物を含む）、燐酸1リ
チウム、燐酸3リチウム、燐酸ナトリウム、燐酸カルシ
ウム、硫酸バリウム、酸化チタン、安息香酸リチウム、
これらの化合物の複塩（水和物を含む）、ガラス粉、粘
土、（カオリン、ベントナイト、白土等を含む）、タル
ク、ケイ藻土、炭酸カルシウム等が挙げられる。

【００７１】この不活性固体粒子は、その平均粒径が
０．０５〜０．７μm、更には０．０８〜０．４μmが好
ましく、また、その添加量は０．００５〜１．５重量
％、更には０．０１〜１．０重量％であることが好まし
い。

【００７２】なお、非磁性支持体２であるポリエチレン
テレフタレートには、磁性層塗膜の接着強度を向上させ
るため、易接着処理を施しても良い。

【００７３】このような構造からなる非磁性支持体２の
第１の主面２ａ及び第２の主面２ｂ上にそれぞれ形成さ
れる磁性層３，４は、少なくとも強磁性粉末と高分子材
料との組成物を含有する。この磁性層３，４の厚さは、
２．０μm以下、好ましくは１．５μm以下である。

【００７４】磁性層３，４に含有される強磁性粉末とし
ては、例えば、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ含有のγ−Ｆｅ
₂Ｏ₃、Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｏ含有のＦｅ₃Ｏ₄、ＣｒＯ₂、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｐ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合
金、Ｃｏ−Ｎｉ合金、バリウムフェライト等の強磁性体
が挙げられる。これらの強磁性粉末の表面には、後述す
る分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等をそれぞれの目的のた
めに分散に先立って溶剤中で含浸させて、吸着させても
良い。

【００７５】この強磁性粉末と共に使用される高分子材
料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹
脂、又はこれらの混合物が挙げられる。

【００７６】熱可塑性樹脂としては、例えば、硬化温度
が１５０℃以下、平均分子量が１００００〜３００００
０、重合度が約５０〜２０００程度のもので、例えば、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル共重合体、
アクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、アクリ
ル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エス
テルスチレン共重合体、メタクリル酸エステルアクリロ
ニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩化ビニリデ
ン共重合体、メタクリル酸エステルスチレン共重合体、
ウレタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニ
トロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフツカビニル、
塩化ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ブタジエン
アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニ
ルブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセテー
トブチレート、セルロースダイアセテート、セルロース
トリアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセ
ルロース等）、スチレンブタジエン共重合体、ポリエス
テル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エステル共
重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂
及びこれらの混合物等が使用される。

【００７７】熱可塑性樹脂としては、例えば、ガラス転
移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１０００
〜２０００００、好ましくは１００００〜１００００
０、重合度が約５０〜１０００程度のものも挙げられ
る。具体的には、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアル
コール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステ
ル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル
酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エ
チレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニル
エーテル等を構成単位として含む重合体又は共重合体、
ポリウレタン樹脂、各種のゴム系樹脂が例示される。

【００７８】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、例
えば、塗布液の状態では２０００００以下の分子量であ
り、塗布及び乾燥後に加熱することにより、縮合、付加
等の反応により分子量は無限大のものとなる。又、これ
らの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化又
は溶融しないものが好ましい。具体的には、例えばフェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、
尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シリコン樹
脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリ
コーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロ
ースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシ
アネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合
体とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエス
テルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、ポリ
ウレタンとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホルム
アルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオー
ル／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物、
ポリアミド樹脂及びこれらの混合物等である。これらの
樹脂については、、例えば朝倉書店発行の「プラスチッ
クハンドブック」に詳細に記載されている。

【００７９】以上の樹脂は単独又は組み合わせて使用で
きるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニ
ル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルアルコール樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体の中
から選ばれる少なくとも１種と、ポリウレタン樹脂の組
合わせ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わ
せたものが挙げられる。ポリウレタン樹脂の構造は、ポ
リエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、
ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネ
ートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリ
ウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタン、ポリオレ
フィンポリウレタン等公知のものが使用可能である。こ
こに示したすべての高分子材料について、より優れた分
散性と耐久性を得るためには、必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ、−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃ Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、
−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ （ただし、これらの式中Ｍは水
素原子又はアルカリ金属塩基を示すこととする。）、−
ＯＨ、−ＮＲ₂ 、−Ｎ＋Ｒ_３（ただし、Ｒは炭化水素基
を示す。）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、スルホベタ
イン、ホスホベタイン、カルボキシベタイン等から選ば
れる少なくともひとつ以上の極性基を共重合又は付加反
応で導入したものを使用することが好ましい。このよう
な極性基の量は１０^−１〜１０^-8モル／ｇであり、好ま
しくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００８０】他に添加剤が加えられても良い。磁性層
３，４に含有される強磁性微粉末と高分子材料との混合
割合は、重量比で強磁性微粉末１００重量部に対して高
分子材料１２〜５０重量部の範囲で使用される。

【００８１】これらの熱可塑、熱硬化性樹脂及び反応型
樹脂は、主たる官能基以外に官能基として、例えば、カ
ルボン酸、スルフイン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エス
テル基や燐酸エステル基等の酸性基、アミノスルホン酸
類やアミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類等の
アミノ酸類、アルキルベタイン型等の両性類基、アミノ
基、イミノ基、イミド基、アミド基等、水酸基、アルコ
キシル基、チオール基、ハロゲン基、シリル基、シロキ
サン基等を含む事が好ましい。

【００８２】また、これら高分子材料の架橋剤としてポ
リイソシアネート等の架橋性化合物を、高分子材料樹脂
中に添加しても良い。特に、本発明を適用した磁気記録
媒体１では、熱処理等による非磁性支持体２の変形が極
力少ないようになされているため、磁性層３，４中の高
分子材料樹脂成分として上記の架橋性化合物を併用した
場合、高分子材料樹脂の架橋反応が促進される十分な熱
処理温度や熱処理時間を採っても、磁気記録媒体１に著
しい変形が生じることがなく、架橋反応を効率良く行う
ことが可能である。その結果、この磁気記録媒体１は、
磁性層３，４の塗膜としての強度も大きくなって、ディ
スクドライブにかけて走行させた時の走行性も保証され
る。

【００８３】上記ポリイソシアネートとしては、トリレ
ンジイソシアネート、４，４´−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシ
リレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソ
シアネート、Ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホ
ロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシ
アネート等のイソシアネート類、またこれらのイソシア
ネート類とポリアルコールとの生成物、またイソシアネ
ート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を
使用することができる。これらのイソシアネート類の市
販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製の
コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、
コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネート
ＭＴＬ、武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネ
ートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネート
Ｄ−２０２、住友バイエル社製のデスモジュールＬ、デ
スモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュール
ＨＬ等が挙げられ、これらを単独又は硬化反応性の差を
利用して２つ若しくはそれ以上の組合わせで非磁性層、
磁性層共に用いることが可能である。

【００８４】そして、これらポリイソシアネートを使用
する場合に、特に非磁性支持体２が、８０℃における熱
収縮率が０．１％以下とものとされていれば、上記非磁
性支持体２がこの架橋性化合物の架橋反応を促進するの
に十分な例えば５０℃〜９０℃の熱処理温度及び時間に
耐え得るため、磁性層３，４の強度が高まり、磁気記録
媒体１の走行性、耐久性が高まる。

【００８５】磁性層３，４に含有される添加剤として
は、分散剤、潤滑剤、研磨剤等が加えられる。潤滑剤と
しては、例えば、シリコンオイル、グラファイト、二硫
化モリブデン、窒化硼素、フッ化黒鉛、フッ素アルコー
ル、ポリエチレンワックス等のポリオレフィン、ポリエ
チレンオキシドワックス等のポリグリコール、アルキル
燐酸エステル、ポリフェニルエーテル、二硫化タングス
テン、炭素数１０〜２０の１塩基性脂肪酸と炭素数３〜
１２個の１価のアルコールもしくは２価のアルコール、
３価のアルコール、４価のアルコール、６価のアルコー
ルのいずれか１つもしくは２つ以上とから成る脂肪酸エ
ステル類、炭素数１０個以上の１塩基性脂肪酸と当該脂
肪酸の炭素数とを合計して炭素数が１１〜２８個となる
１価〜６価のアルコールとから成る脂肪酸エステル類等
が使用できる。又、炭素数８〜２２の脂肪酸或いは脂肪
酸アミド、脂肪族アルコールも使用できる。これら有機
化合物潤滑剤の具体的な例としては、カプリル酸ブチ
ル、カプリン酸オクチル、ラウリン酸エチル、ラウリン
酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチン酸エチル、
ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチル、パルミチ
ン酸エチル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチ
ル、ステアリン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ステア
リン酸オクチル、ステアリン酸アミル、アンヒドロソル
ビタンセノステアレート、アンヒドロソルビタンジステ
アレート、アンヒドロソルビタントリステアレート、ア
ンヒドロソルビタンテトラステアレート、オレイルオレ
ート、オレイルアルコール、ラウリルアルコール等があ
る。また、この他の潤滑剤としては、いわゆる潤滑油添
加剤も単独で使用でき、例えば、アルキルフェノール等
の酸化防止剤、ナフテン酸、アルケニルコハク酸、ジラ
ウリルホスフェート等の錆どめ剤、ナタネ油、ラウリル
アルコール等の油性剤、ジベンジルスルフィド、トリク
レジルホスフェート、トリブチルホスファイト等の極圧
剤、清浄分散剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡ど
め剤等がある。なお、これらの潤滑剤は、高分子材料１
００重量部に対して０．０５〜２０重量部の範囲で添加
されると良い。

【００８６】また、磁性層３，４に含有される分散剤と
しては、カプリン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリス
チン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エ
ライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸
等の炭素数１０〜２２個の脂肪酸、いわゆるＲ₁ＣＯＯ
Ｈ（Ｒ₁は、炭素数９〜２１個のアルキル基）、前記の
脂肪酸のＬｉ、Ｎａ、Ｋ等のアルカリ金属またはＭｇ、
Ｃａ、Ｂａ等のアルカリ土類金属、Ｃｕ、Ｐｂ等から成
る金属石鹸やレシチン等が使用される。この他に、炭素
数４以上の高級アルコール、例えば、ブタノール、オク
チルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリルア
ルコール及びこれらの硫酸エステル、燐酸エステル等も
使用可能である。

【００８７】これらの分散剤は、高分子材料１００重量
部に対して０．００５〜２０重量部の範囲で添加される
と良い。また、これら分散剤の使用方法は、強磁性微粉
末や非磁性微粉末の表面に予め被着されても良く、また
分散途中で添加しても良い。

【００８８】磁性層３，４に含有される帯電防止剤とし
ては、例えば、グラファイト、カーボンブラック、カー
ボンブラックフラフトポリマー等の導電性粉末、サポニ
ン等の天然界面活性剤、アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系、多価アルコール、多価アル
コールエステル、アルキルフェノールＥＯ付加体等のノ
ニオン界面活性剤、高級アルキルアミン類、環状アミ
ン、ヒダントイン誘導体、アミドアミン、エステルアミ
ド、第四級アンモニウム塩類、ピリジン等の複素環類、
ホスホニウム類、スルホニウム類等のカチオン界面活性
剤、カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基や
燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性
剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコー
ルの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベタイン型等
の両性界面活性剤等が使用される。これらの界面活性剤
の使用量は、強磁性微粉末１００重量部あたり０．０１
〜１０重量部である。これらは、帯電防止剤として用い
られるものであるが、他の目的、例えば分散、磁気特性
の改良、潤滑性の改良、塗布助剤として適用される場合
もある。

【００８９】中でも、磁性層３，４中に添加されるカー
ボンブラックとしては、例えば、ゴム用ファーネス、ゴ
ム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック
等を用いることができる。これらカーボンブラックの米
国における略称の具体例を示すと、ＳＡＦ、ＩＳＡＦ、
ＩＩＳＡＦ、Ｔ、ＨＡＦ、ＳＰＦ、ＦＦ、ＦＦＦ、ＨＭ
Ｆ、ＧＰＦ、ＡＰＦ、ＳＲＦ、ＭＰＦ、ＥＣＦ、ＳＣ
Ｆ、ＣＦ、ＦＴ、ＭＴ、ＨＣＣ、ＨＣＦ、ＭＣＦ、ＬＦ
Ｆ、ＲＣＦ等があり、米国のＡＳＴＭ規格のＤ−１７６
５−８２ａに分類されているものを使用することができ
る。これらカーボンブラックの平均粒径は、５〜１００
０ミリμｍ（電子顕微鏡）、窒素吸着法比表面積は１〜
８００ｍ² ／ｇ、ｐＨは４〜１１（ＪＩＳ規格Ｋ−６２
２１−１９８２法）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）吸
油量は１０〜８００ｍｌ／１００ｇ（ＪＩＳ規格Ｋ−６
２２１−１９８２法）である。

【００９０】磁性層３，４に用いられるカーボンブラッ
クのサイズとしては、例えば、磁性層の塗布膜の表面電
気抵抗を下げる目的でカーボンブラックを用いる際には
平均粒径５〜１００ｎｍのカーボンブラックを、また磁
性層の塗布膜の強度を制御する目的でカーボンブラック
を用いる際には平均粒径５０〜１０００ｎｍのカーボン
ブラックを用いること好ましい。また、磁性層の塗布膜
の表面粗さを制御する目的、つまりスペーシングロス減
少のための磁性層の塗布膜の平滑化のためにカーボンブ
ラックを添加する際には、より微粒子のカーボンブラッ
ク、例えば、平均粒径が１００ｎｍ以下のものを用いる
ことが好ましい。また、磁性層の塗布面を粗面化して摩
擦係数を下げる目的でカーボンブラックを添加する際に
は、更に微粒子のカーボンブラック、例えば、平均粒径
５０ｎｍ以上のものを用いることが好ましい。このよう
に、カーボンブラックの種類と添加量は、磁気記録媒体
に要求される目的に応じて使い分けられる。

【００９１】また、これらのカーボンブラックを、分散
剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用し
てもよい。また、カーボンブラックを製造するときの炉
の温度を２０００℃以上で処理して表面の一部をグラフ
ァイト化したものも使用できる。また、特殊なカーボン
ブラックとしては、中空カーボンブラックを使用するこ
ともできる。これらのカーボンブラックは、例えば、強
磁性微粉末１００重量部に対して０．１〜２０重量部で
用いることが望ましい。なお、本発明に使用可能なカー
ボンブラックとしては、例えば、「カーボンブラック便
覧」、カーボンブラック協会編（昭和４６年発行）を参
考にすることができる。

【００９２】また、磁性層３，４に添加できる研磨剤と
しては、一般に使用される研磨作用或いは琢磨作用をも
つ材料であれば良く、例えば、α−アルミナ、熔融アル
ミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、コラン
ダム、人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ石、コラ
ンダムと磁鉄鉱とを主成分とするエメリー、ガーネッ
ト、ケイ石、窒化ケイ素、窒化硼素、炭化モリブデン、
炭化硼素、炭化タングステン、チタンカーバイド、トリ
ポリ、ケイソウ土、ドロマイト等で、主としてモース硬
度６以上の材料が１〜４種組合わせて使用される。これ
らの研磨剤は、平均粒径が０．００５〜５μｍの大きさ
のものが使用され、特に好ましくは０．０５〜２μｍで
ある。また、これらの研磨剤は、高分子材料１００重量
部に対して０．０１〜２０重量部の範囲で添加されるこ
とが好ましい。

【００９３】これら研磨剤を磁性層３，４中に混練する
方法としては、特に制限はなく、また各成分の添加順序
などは適宜設定することができる。磁性塗料およびバツ
クコート層塗料の調製には、通常の混練機、例えば、二
本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル（ＢＡＬ
Ｌ）、ペブルミル（ＰＥＢＢＬＥ）、トロンミル、サン
ドグラインダー、ツエグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）、ア
トライザー（ＡＴＴＲＩＴＯＲ）、ロトミ（Ｒｏｔｏｍ
ｉｌｌ）、高速インペラー（ＨＩＧＨＳＨＥＡＲＩ
ＭＰＥＬＬＥＲ）、分散機、高速ストーンミル、高速度
衝撃ミル、ディスパー（ＤＩＳＰＥＲＳＥＲ）、ニーダ
ー、ニーダーエクストルーダー、高速ミキサー、プラニ
タリーミキサー、リボンブレンダー、コニーダー、イン
テンシブミキサー、タンブラー、ブレンダー（ＢＬＥＮ
ＤＥＲＳ）、ディスパーザー、ホモジナイザー、単軸ス
クリユー押し出し機、二軸スクリユー押し出し機、及び
超音波分散機等を用いることができる。

【００９４】また、磁性層３，４の材料である磁性塗布
液を調整する際に、分散や混練や塗布等に使用する有機
溶剤としては、任意の比率で、例えば、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン
系、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、
メチルシクロヘキサノール等のアルコール系、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イ
ソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエ
ーテル等のエステル系、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、グリコールジメチルエーテル、グリコールモ
ノエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル系、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼ
ン、スチレン等のタール系（芳香族炭化水素）、メチレ
ンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロ
ロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン
等の塩素化炭化水素、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアルデヒ
ド、ヘキサン等のものが使用できる。

【００９５】なお、磁性層３，４と非磁性支持体２との
間にカーボンブラックを含有した非磁性中間層を設ける
ことも帯電防止等の点から有効である。

【００９６】以上のように構成される本発明を適用した
磁気記録媒体１及びこの磁気記録媒１を用いて製造され
る磁気ディスクは、次のような工程を経て製造される。

【００９７】先ず、上述したような不活性固体粒子をポ
リエチレンテレフタレートポリマー中に分散させて、常
法に従ってダイから溶融押し出しし、未延伸状態のポリ
エチレンテレフタレートフィルムを作製する。

【００９８】そして、このポリエチレンテレフタレート
フィルムに対して、上述したように、長手方向及び幅方
向に二軸延伸工程を施して、その後にステンター法によ
り熱固定処理を施して、二軸配向させる。このとき、延
伸工程時に、非磁性支持体２の搬送ロールに接していな
い面に熱風を当てるといった方法等を用いて、非磁性支
持体２の温度分布を極力均一となるようにする。

【００９９】このとき、非磁性支持体の熱収縮率の調整
も行うことが可能であり、前述の熱固定温度を調整す
る、或いは熱固定後に弛緩処理を行うことで可能とされ
る。

【０１００】なお、非磁性支持体２であるポリエチレン
テレフタレートフィルムは、磁性塗料が塗布される前に
コロナ放電処理、プラズマ処理、下塗処理、熱処理、除
塵埃処理、金属蒸着処理及びアルカリ処理を行っても良
い。

【０１０１】次に、二軸配向され、且つ所望の表面粗さ
及び熱収縮率となされたポリエチレンテレフタレートフ
ィルムの両主面上に、上記の強磁性粉末や高分子材料等
からなる磁性塗料を塗布して磁性層３，４を形成する。
この磁性層３，４を塗布する方法としては、例えば、エ
アードクターコート、ブレードコート、エアナイフコー
ト、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコー
ト、トランスファーロールコート、グラビアコート、キ
スコート、キャストコート、スプレイコート等が利用で
き、その他の方法も可能であり、これらの具体的説明は
朝倉書店発行の「コーテイング工学」２５３頁〜２７７
頁（昭和４６．３．２０．発行）に詳細に記載されてい
る。

【０１０２】このような方法により、ポリエチレンテレ
フタレートフィルムからなる非磁性支持体２の両主面２
ａ，２ｂ上にそれぞれ塗布された磁性層３，４に対し
て、必要により磁性層中の磁性粉末を直ちに乾燥しなが
ら配向させる処理を施した後、形成した磁性層３，４を
乾燥させて、本発明を適用した磁気記録媒体１を作製す
る。このときの非磁性支持体２の搬送速度は、通常、１
０ｍ／分〜１０００ｍ／分で行われ、乾燥温度が５０℃
〜１３０℃で制御される。また、必要により表面平滑化
加工、例えば、カレンダー処理を施しても良い。

【０１０３】上記カレンダー処理を行うカレンダー処理
ロールとしては、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、
ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロール
を使用する。また、金属ロール同士で処理することも可
能である。処理温度は、好ましくは７０〜１２０℃、さ
らに好ましくは８０〜１００℃以上である。線圧力は好
ましくは２００〜５００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ましくは
３００〜４００ｋｇ／ｃｍ以上である。

【０１０４】熱処理条件としては、磁性層中の樹脂、架
橋剤が硬化するのに十分な温度と時間が選択される。

【０１０５】最終的に、所望の形状、例えばディスク状
に裁断した後、磁性層３，４中の高分子材料及び架橋剤
の反応促進のための熱処理を施して、磁気ディスクを製
造する。ここで、上記の熱処理条件としては、磁性層
３，４中の樹脂や、架橋剤が反応するのに十分な温度と
時間が選ばれる。ただし、このとき、磁性層中の高分子
材料のガラス転移点よりも高く、かつ非磁性支持体のガ
ラス転移点よりも低い温度での熱処理を行う必要があ
り、例えば、温度は５０〜８０℃、時間は５〜１００ｈ
ｒが好ましい。

【０１０６】また、非磁性支持体として、両主面の屈折
率の差Δｎ₁が１×１０^-3以下であり、厚さが３０μｍ
以上であり、且つ８０℃における熱収縮率が０．１％以
下である二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルム
を用れば、上記磁性塗料中に架橋性化合物として熱硬化
性のポリイソシアネートを含有させても、上記非磁性支
持体がこの架橋性化合物の架橋反応を促進するのに十分
な例えば５０℃〜９０℃の若干高温である熱処理温度及
び時間に耐え得る。このことから、例えば温度は５０〜
９０℃、時間は５〜１００ｈｒが選ばれ、温度７０〜９
０℃、時間２４〜１００ｈｒで行うことにより、より強
固な磁性層の形成が可能となる。

【０１０７】本発明を適用した磁気記録媒体としては、
上述した磁気記録媒体と略同様の構成を有し、磁性層が
上層と下層が積層されてなるものであり、少なくとも上
層が強磁性粉末と高分子材料とを含有する磁性体層とな
されているものも挙げられる。なお、このような磁気記
録媒体においては、上記下層が、非磁性粉末と高分子材
料とを主体とする非磁性体層となされていることが好ま
しい。

【０１０８】上記磁性体層及び非磁性体層は各々単層或
いは複層構造であっても良い。従って、高分子材料量、
高分子材料中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン
樹脂、ポリイソシアネート、或いはそれ以外の樹脂の
量、各層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、或いは
先に述べた樹脂の物理特性等を本発明の主旨を逸脱しな
い範囲で各層で変更することはもちろん可能であり、多
層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、上層
（磁性体層）、下層（非磁性体層）の他、中間層（磁性
体層或いは非磁性体層）を形成し、これらの間で高分子
材料量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすため
には、磁性体層中の高分子材料量を増量することが有効
であり、磁気ヘッドに対するヘッドタッチを良好にする
ためには、磁性層以外の中間層の高分子材料量を多くし
て柔軟性を持たせる方法が適用可能である。

【０１０９】磁性体層は、前述の磁性層と同様にして形
成すれば良い。一方の非磁性体層は、非磁性粉末と高分
子材料とを主体とする層である。表面平滑性及び塗膜強
度を有する非磁性体層である下層を非磁性支持体上に設
けることにより、磁性層である上層を直接非磁性支持体
上に単層で形成するよりも磁性層を薄層化することがで
きる。

【０１１０】具体的に非磁性体層に用いられる非磁性粉
末としては、α−酸化鉄、ゲータイト、針状酸化チタン
等が代表的顔料として挙げられる。これら非磁性顔料に
は、分散性の改良、導電性の付与、光透過率の調整等の
目的で表面処理を施してもよい。

【０１１１】さらに、上記非磁性顔料は、以下に例示す
る顔料と併用することも可能である。例えば、カーボン
ブラック、特に限定してストラクチャー構造を持つカー
ボンブラック、ゲータイト、ルチル型酸化チタン、アナ
ターゼ型酸化チタン、酸化錫、酸化タングステン、酸化
珪素、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、チタンカ
ーバイト、ＢＮ、α-アルミナ、β-アルミナ、γ-アル
ミナ、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデ
ン、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウ
ム、炭酸ストロンチウム、チタン酸バリウム等と併用し
てもその効果は変わらない。

【０１１２】また、非磁性体層に使用される高分子材料
としては、前述の磁性層で使用される公知の熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂等が使用可能である。

【０１１３】このように磁性層が多層化されている磁気
記録媒体を製造するには、磁性体層を形成する磁性塗料
と非磁性体層を形成する非磁性塗料を製造しておき、非
磁性支持体の一方の面上に下層用非磁性塗料及び上層用
磁性塗料を重層塗布し、乾燥させる。この後、非磁性支
持体のもう一方の面に同様に下層用非磁性塗料及び上層
用磁性塗料を重層塗布し、乾燥させる。そして、両面に
磁性層が形成された非磁性支持体にカレンダー処理等の
平滑化加工を行う。

【０１１４】なお、上記の製造順序ではなく、片面塗布
−乾燥−カレンダー処理後に、反対面塗布−乾燥−カレ
ンダー処理の順で製造することも可能である。

【０１１５】上記のように、上層用磁性塗料、下層用非
磁性塗料といった２種類の塗料を重層塗布するには、１
層ずつ塗布乾燥を行う方式（いわゆるウエット・オン・
ドライ塗布方式）を適用してもよいし、乾燥されていな
い湿潤状態にある非磁性体層の上に磁性体層を重ねて塗
布する方式（いわゆるウエット・オン・ウエット塗布方
式＝同時湿潤重層塗布方式）を適用してもよい。但し、
塗膜の均質性、上下界面の接着性、生産性の観点からウ
エット・オン・ウエット重層塗布方式による同時湿潤重
層塗布を行うのが好ましい。

【０１１６】

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について説明
する。

【０１１７】〔実験１〕非磁性支持体の各主面における
屈折率が磁気記録媒体に及ぼす影響を評価するために、
以下に示すような方法によって試料を作製した。

【０１１８】実験例１先ず、平均粒径０．１μmのシリカを０．０５重量％含
有するポリエチレンテレフタレートポリマーからなるペ
レットを１８０℃で３時間乾燥した。このポリマーのペ
レットを常法に従ってダイから溶融押し出しし、未延伸
フィルムを作成した。

【０１１９】次に、この未延伸フィルムに対して、長手
方向に１００℃で４倍、幅方向に１１０℃で４．２倍、
逐次二軸延伸を施した。このとき、長手方向の延伸の際
には、延伸ロールと雰囲気の温度が同一になるようにし
た。

【０１２０】次に、この二軸延伸したポリエチレンテレ
フタレートフィルムに対して、２００℃でステンター法
により熱固定処理を施し、中心線平均粗さＲａ２ｎｍ、
厚み７０μm、且つ５ｍ幅のポリエチレンテレフタレー
トフィルムを得た。

【０１２１】最終的に、このポリエチレンテレフタレー
トフィルムの幅方向におけるセンター部、センター部よ
り幅方向に１ｍ外れたミドル部、センター部より幅方向
に２ｍ外れたエッジ部を、それぞれ３００ｍｍ幅のフィ
ルムに長手方向に裁断して、それぞれ試料Ａ、Ｂ、Ｃと
した。

【０１２２】実験例２平均粒径０．１μｍのシリカを０．３重量％含有するポ
リエチレンテレフタレートポリマーを用いた以外は実施
例１と同様な工程を行って、中心線平均粗さＲａが７ｎ
ｍ、厚み７０μｍ、且つ５ｍ幅のポリエチレンテレフタ
レートフィルムを得た。そして、実施例１と同様にし
て、このポリエチレンテレフタレートフィルムのセンタ
ー部、ミドル部及びエッジ部についてそれぞれ３００ｍ
ｍ幅に裁断し、試料Ｄ、Ｅ、Ｆとした。

【０１２３】実験例３平均粒径０．１μｍのシリカを０．４重量％含有するポ
リエチレンテレフタレートポリマーを用いて、延伸時の
温度調整としては雰囲気温度のみの調整を行い、幅方向
の延伸倍率を４．５倍とした以外は実施例１と同様な工
程を行って、表面粗さ８ｎｍ、厚み７０μｍ、且つ５ｍ
幅のポリエチレンテレフタレートフィルムを得た。そし
て、実施例１と同様にして、このポリエチレンテレフタ
レートフィルムのセンター部、ミドル部及びエッジ部に
ついてそれぞれ３００ｍｍ幅に裁断し、試料Ｇ、Ｈ、Ｉ
とした。

【０１２４】以上のように作製した試料Ａ〜Ｉの主面の
屈折率を、以下に示すような方法により測定し、各試料
の両主面における屈折率の差Δｎ₁、屈折率の各主面内
の最大値と最小値との差Δｎ₂及び表面粗さを測定し
た。

【０１２５】屈折率の測定波長λが５８９ｎｍのナトリウムＤ線を光源として、ア
ッベ屈折計を用いて測定した。マウント液には、ヨウ化
メチレンを用い、温度２５℃、湿度６５％ＲＨＲＨにて
測定した。

【０１２６】屈折率の表裏面の差Δｎ₁の測定各試料のポリエチレンテレフタレートフィルムの長手方
向を基準として、２０°毎に０°から１６０°まで屈折
率測定用のサンプルを切り出して、第１の主面及び第２
の主面の屈折率の測定を行い、その差の絶対値を求め
た。そして、長手方向に対して０°から１６０°まで切
り出したサンプルにおける両主面との屈折率の差のうち
の最大値をΔｎ₁とした。

【０１２７】屈折率の面内方向の差の測定新王子製紙（株）社製の分子配向計ＭＯＡ−５００１Ａ
を用いて、各試料のポリエチレンテレフタレートフィル
ムの配向軸を求めて、その配向軸の方向の一方における
屈折率とその方向とは９０°回転した方向における屈折
率の差を求めてΔｎ₂とした。

【０１２８】表面粗さの測定ＪＩＳ−Ｂ−０６０１に規定された方法に従って、各試
料の表面の中心線平均粗さＲａを触針式表面粗さ計を用
いて測定した。なお、カットオフを０．２５ｍｍとし、
且つ、測定長を１ｍｍとした。以上の結果を表１に示
す。

【０１２９】

【表１】

【０１３０】実験例４つぎに、以上のように作製したポリエチレンテレフタレ
ートフィルムからなる各試料Ａ〜Ｉの両主面上に、以下
に示す磁性塗料を塗布して磁性層を形成した後、この磁
性層にカレンダー処理を施して、磁気記録媒体を得た。

【０１３１】＜磁性塗料＞強磁性粉末：Ｆｅ（比表面積５０ｍ²／ｇ）１００重量部高分子材料：塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂（ＵＣＣ製ＶＡＧＨ）５重量部ポリウレタン（日本ポリウレタン工業製）２０重量部ニトロセルロース樹脂５重量部イソシアネート化合物（日本ポリウレタン工業製コロネートＨＬ）２０重量部添加剤：カーボンブラック（平均粒径０．５μｍ）５重量部有機溶媒：トルエン１００重量部メチルエチルケトン１００重量部シクロヘキサノン１００重量部そして、このように作製された各磁気記録媒体を直径
３．５インチのディスク状に打ち抜き、その後に、７０
℃で４８時間の熱処理を施して、最終的に磁気ディスク
を得た。

【０１３２】なお、ここで、試料Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，
Ｆを用いて作製した磁気ディスクを、それぞれ実施例
１、実施例２、実施例３、実施例４、実施例５、実施例
６とした。また、試料Ｇ，Ｈ，Ｉを用いて作製した磁気
ディスクを、それぞれ比較例１、比較例２、比較例３と
した。

【０１３３】以上のようにして得られた実施例１〜実施
例６及び比較例１〜比較例３の磁気ディスクについて、
以下に示すように、変形程度、耐久性及びオフトラック
値を測定した。

【０１３４】磁気ディスクの変形量の測定各磁気ディスクのサンプルを回転させながら、再外周の
振れ量を読み取り、各磁気ディスクの変形量を測定し
た。

【０１３５】耐久性の評価フロッピーディスクドライブＦＤ−１１３５−Ｄ（日本
電気社製）を改造したものを使用して、各磁気ディスク
のサンプルを１２００ｒｐｍで回転させながら連続走行
させ、その出力が初期値の８０％に低下するまでのパス
回数を測定した。

【０１３６】オフトラック値の測定各磁気ディスクのサンプルに情報信号を記録した後に、
これら記録後の磁気ディスクを温度６０℃、湿度８０％
ＲＨ以下で７２時間保存させ、フロッピーディスクドラ
イブＦＤ−１１３５−Ｄ（日本電気社製）を改造したも
のを用いて、最外周トラックでの出力の最大値と最小値
との比を測定し、これをオフトラック値とした。以上の
結果を表２に示す。

【０１３７】

【表２】

【０１３８】以上の表１及び表２の結果から、非磁性支
持体の第１の主面と第２の主面とにおける屈折率の差Δ
ｎ₁が１×１０^-3以下である実施例１〜実施例６は、屈
折率の差Δｎ₁が上述の範囲内でない比較例１〜比較例
３よりも、磁気ディスクの変形量が小さく、走行耐久性
に優れていることがわかった。

【０１３９】また、特に、非磁性支持体の各主面内にお
ける屈折率の最大値と最小値との差Δｎ₂が１５×１０
^-3以下である実施例１、実施例２、実施例４及び実施例
５は、比較例２及び比較例３よりも、オフトラック値が
著しく小さいことがわかった。

【０１４０】さらに、表面粗さが２〜７ｎｍである実施
例１〜実施例６は、表面粗さがこの範囲以上の比較例１
〜比較例３よりも、特に、走行耐久性に優れていること
がわかった。表面粗さが８ｎｍである比較例１〜比較例
３では、走行耐久性が著しく悪く、実施例の１／６パス
である５００万パスで既に磁気ディスク表面に傷が生じ
てしまっている。

【０１４１】したがって、以上の結果から、本発明を適
用した磁気記録媒体は、非磁性支持体の両主面の屈折率
の差Δｎ₁が１×１０^-3以下に規定されていることによ
り、変形が極力抑えられたものとすることができるとい
える。

【０１４２】その結果、本発明を適用した磁気記録媒体
は、磁気ヘッドとの当たりを均一に良好とすることがで
きて、磁気ヘッドとの接触による摩耗を極力抑えること
ができて、走行耐久性を向上することができる。つま
り、多数回使用しても磁性層の摩耗を極力抑えられ、寿
命の長い磁気記録媒体とすることができると判明した。

【０１４３】例えば、この磁気記録媒体を用いて磁気デ
ィスクを作製すると、磁気ディスクの変形量を極力抑え
ることができて、磁気ヘッドとの当たりが非常に良好と
なり、多数回使用しても磁性層の摩耗が極力抑えられて
磁気ディスクの回転が円滑になるとともに出力低下が極
力抑制されて、高品質で繰り返し使用可能な寿命の長い
磁気ディスクとなる。

【０１４４】また、本発明を適用した磁気記録媒体は、
変形が極力抑えられて磁気ヘッドとの当たりを均一に良
好とすることができるため、トラッキングミス等が減少
してエラーレートが少なくなり、信頼性の高い記録再生
動作を達成することができる。

【０１４５】さらに、本発明を適用した磁気記録媒体
は、非磁性支持体の各主面内における屈折率の最大値と
最小値との差Δｎ₂が１５×１０^-3以下に規定されてい
るので、面内における物性も極力均一化されてオフトラ
ックが抑えられ、記録再生特性が向上するといえる。

【０１４６】また、本発明を適用した磁気記録媒体は、
変形が極力抑えられたものなので、磁気ヘッドとの間隔
を極力小さくして高密度記録化を図ることができる。し
かも、磁性層の厚さを所定範囲内でより薄膜化すること
により、更なる高記録密度化を実現することができる。

【０１４７】〔実験２〕非磁性支持体の熱収縮率が磁気
記録媒体に及ぼす影響を評価するために、以下に示すよ
うな方法によって試料を作製した。

【０１４８】実験例１先ず、平均粒径０．１μmのシリカを０．０５重量％含
有するポリエチレンテレフタレートポリマーからなるペ
レットを１８０℃で３時間乾燥した。このポリマーのペ
レットを常法に従ってダイから溶融押し出しし、未延伸
フィルムを作成した。

【０１４９】次に、この未延伸フィルムに対して、長手
方向に１００℃で４倍、幅方向に１１０℃で４．２倍、
逐次二軸延伸を施した。このとき、長手方向の延伸の際
には、延伸ロールと雰囲気の温度が同一になるようにし
た。

【０１５０】次に、この二軸延伸したポリエチレンテレ
フタレートフィルムに対して、２１５℃でステンター法
により熱固定処理を施し、更に１．０％の制限収縮を加
えながら１８０℃の温度で熱処理を行った。そして、中
心線平均粗さＲａ２ｎｍ、厚み７０μmのポリエチレン
テレフタレートフィルムを得た。これを試料ａと称す
る。

【０１５１】次に、最終的な熱処理の制限圧縮を０．５
％に変更する以外は、試料ａと同様にしてポリエチレン
テレフタレートフィルムを製造し、これを試料ｂと称す
ることとした。

【０１５２】さらに、熱固定処理を２００℃で行い、最
終的な熱処理を省く以外は試料ａと同様にしてポリエチ
レンテレフタレートフィルムを製造し、これを試料ｃと
称することとした。

【０１５３】以上のように作製した試料ａ〜ｃの両主面
における屈折率の差Δｎ₁、表面粗さを前述の実験１と
同様にして測定した。さらに、本実験においては、試料
ａ〜ｃの熱収縮率についても、以下に示すような方法で
測定した。

【０１５４】熱収縮率の測定各試料のポリエチレンテレフタレートフィルムの長手方
向を基準として、２０°毎に０°から１６０°までそれ
ぞれの方向で幅１０ｍｍ、長さ２００ｍｍの熱収縮率測
定用のサンプルを切り出して、評点距離を１００ｍｍと
して印を付けた。次に、１０ｇの荷重をかけた場合の評
点距離の変化をフリー社製のデジタル精密測定器を用い
て１／１０００ｍｍまで読み取り、次いでこれらサンプ
ルを８０℃で１時間熱処理した後で同様に１０ｇの荷重
をかけた場合の評点距離の変化を１／１０００ｍｍまで
読み取った。これらの結果から、熱処理前後の寸法変化
により収縮率を求めた。そして、長手方向に対して０°
から１６０°まで切り出したサンプルにおける熱収縮率
のうちの最大値を熱収縮率として求めた。

【０１５５】各試料における両主面における屈折率の差
Δｎ₁、表面粗さ、熱収縮率の結果を表３にまとめて示
す。

【０１５６】

【表３】

【０１５７】実験例２つぎに、以上のように作製したポリエチレンテレフタレ
ートフィルムからなる試料ａの両主面上に、以下に示す
磁性塗料を塗布して磁性層を形成した後、この磁性層に
カレンダー処理を施して、磁気記録媒体を得た。

【０１５８】＜磁性塗料＞強磁性粉末：Ｆｅ磁性粉末（比表面積５０ｍ²／ｇ）１００重量部高分子材料：塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂（ＵＣＣ製ＶＡＧＨ）５重量部ポリウレタン（日本ポリウレタン工業製）２０重量部ニトロセルロース樹脂５重量部イソシアネート化合物（日本ポリウレタン工業製コロネートＨＬ）２０重量部添加剤：カーボンブラック（平均粒径０．５μｍ）５重量部有機溶媒：トルエン１００重量部メチルエチルケトン１００重量部シクロヘキサノン１００重量部そして、このように作製された各磁気記録媒体を直径
３．５インチのディスク状に打ち抜き、その後に、５０
℃で４８時間の熱処理を施して、最終的に磁気ディスク
を得た。この磁気ディスクを実施例７とする。

【０１５９】次に、熱処理の温度を７０℃、９０℃とす
る以外は、実施例７と同様にしてそれぞれ磁気ディスク
を製造し、これらをそれぞれ実施例８、実施例９とし
た。

【０１６０】また、試料ａの代わりに試料ｂを使用する
以外は、実施例７〜９と同様にしてそれぞれ磁気ディス
クを製造し、これらをそれぞれ実施例１０〜１２とし
た。

【０１６１】さらにまた、熱処理の温度を４０℃、１０
０℃とする以外は、実施例７と同様にしてそれぞれ磁気
ディスクを製造し、これらをそれぞれ実施例１３、実施
例１４とした。

【０１６２】さらに、比較のために試料ａの代わりに試
料ｃを使用する以外は、実施例７〜９と同様にしてそれ
ぞれ磁気ディスクを製造し、これらをそれぞれ比較例４
〜６とした。

【０１６３】以上のようにして得られた実施例７〜実施
例１４及び比較例４〜比較例６の磁気ディスクについ
て、実験１で述べたのと同様にして、変形程度、耐久性
及びオフトラック値を測定した。結果を表４に併せて示
す。

【０１６４】

【表４】

【０１６５】実験例３つぎに、以上のように作製したポリエチレンテレフタレ
ートフィルムからなる試料ａの両主面上に、実験例２で
示した組成の磁性塗料にて上層（磁性体層）と下記の組
成の非磁性塗料にて下層（非磁性体層）を４リップ方式
ダイコーターを用いて同時重層塗布し、上層と下層より
なる磁性層を形成した後、この磁性層にカレンダー処理
を施して、磁気記録媒体を得た。ここで、各層の乾燥後
の塗布厚は、上層を０．２５μｍ、下層を２．０μｍに
設定した。

【０１６６】＜下層用非磁性塗料＞ α−酸化鉄９５重量部（平均長軸長＝０．１５μｍ、針状比＝１２、ｐＨ＝５．７） γ−酸化鉄（平均長軸長＝０．２μｍ、針状比＝９）５重量部ポリ塩化ビニル樹脂（重合度１５０２０重量部極性官能基としてオキシスルホン酸カリウム塩を５×１０^-5ｍｏｌ／ｇ含む）ステアリン酸３重量部ヘプチルステアレート３重量部メチルエチルケトン１５０重量部シクロヘキサノン１５０重量部ポリイソシアネート２重量部そして、このように作製された各磁気記録媒体を直径
３．５インチのディスク状に打ち抜き、その後に、５０
℃で４８時間の熱処理を施して、最終的に磁気ディスク
を得た。この磁気ディスクを実施例１５とする。

【０１６７】次に、熱処理の温度を７０℃、９０℃とす
る以外は、実施例１５と同様にしてそれぞれ磁気ディス
クを製造し、これらをそれぞれ実施例１６、実施例１７
とした。

【０１６８】また、試料ａの代わりに試料ｂを使用する
以外は、実施例１５〜１７と同様にしてそれぞれ磁気デ
ィスクを製造し、これらをそれぞれ実施例１８〜２０と
した。

【０１６９】さらに、比較のために試料ａの代わりに試
料ｃを使用する以外は、実施例１５〜１７と同様にして
それぞれ磁気ディスクを製造し、これらをそれぞれ比較
例７〜９とした。

【０１７０】以上のようにして得られた実施例１５〜実
施例２０及び比較例７〜比較例９の磁気ディスクについ
て、実験１で述べたのと同様にして、変形程度、耐久性
及びオフトラック値を測定した。結果を表５に併せて示
す。

【０１７１】

【表５】

【０１７２】以上の表３〜表５の結果から、非磁性支持
体が、両主面の屈折率の差Δｎ₁が１×１０^-3以下であ
り、厚さが３０μｍ以上であり、８０℃における熱収縮
率が０．１％以下である実施例７〜実施例２０は、熱処
理の温度に関係無く、磁気ディスクの変形量が小さく、
走行性、耐久性に優れていることがわかった。一方、非
磁性支持体が、両主面の屈折率の差Δｎ₁が１×１０^-3
以下であり、厚さが３０μｍ以上であるものの、８０℃
における熱収縮率が０．１％よりも大である比較例４〜
比較例６は、熱処理の温度に関係無く、磁気ディスクの
変形量が大きく、走行性、耐久性もあまり良好ではない
ことがわかった。

【０１７３】また、特に、実施例７〜２０の結果を見て
明らかなように、非磁性支持体の８０℃における熱収縮
率が０．１％以下とされていると、実施例７〜実施例１
２、実施例１４、実施例１５〜実施例２０のように熱処
理温度を５０〜１００℃と比較的高温としても、非磁性
支持体が比較的高温下における熱処理に十分耐えうるこ
とから、磁気ディスクの変形量が小さく、走行性、耐久
性が保証されることがわかった。また、このように高温
下で熱処理することで、磁性層の高分子材料の架橋反応
を促進され、磁性層の塗膜としての強度も向上し、この
ことからも走行性、耐久性が確保されることがわかっ
た。

【０１７４】さらに、実施例７〜２０の結果を見て明ら
かなように、熱処理温度が５０〜９０℃とされている実
施例７〜実施例１２、実施例１５〜実施例２０と熱処理
温度が上記範囲外である実施例１３，１４の結果を比較
すると、実施例７〜実施例１２、実施例１５〜実施例２
０の方が磁気ディスク変形量が小さく、走行性、耐久性
にも優れるため、熱処理温度は５０〜９０℃の範囲とす
ることが好ましいことが確認された。

【０１７５】さらにまた、磁性層が単層とされている実
施例７〜１２と磁性層が上層と下層の２層構造とされて
いる実施例１５〜２０の結果を比較してわかるように、
これらの結果は両者とも良好なものであり、本発明が、
磁性層が積層構造となされる磁気記録媒体にも十分適用
可能であることが確認された。

【０１７６】したがって、以上の結果から、本発明を適
用した磁気記録媒体は、非磁性支持体が、両主面の屈折
率の差Δｎ₁が１×１０^-3以下であり、厚さが３０μｍ
以上であるとともに、８０℃における熱収縮率が０．１
％以下とされていることにより、変形が極力抑えられた
ものとすることができるといえる。

【０１７７】その結果、本発明を適用した磁気記録媒体
は、磁気ヘッドとの当たりを均一に良好とすることがで
きて、磁気ヘッドとの接触による摩耗を極力抑えること
ができて、走行耐久性を向上することができる。つま
り、多数回使用しても磁性層の摩耗を極力抑えられ、寿
命の長い磁気記録媒体とすることができると判明した。

【０１７８】例えば、この磁気記録媒体を用いて磁気デ
ィスクを作製すると、磁気ディスクの変形量を極力抑え
ることができて、磁気ヘッドとの当たりが非常に良好と
なり、多数回使用しても磁性層の摩耗が極力抑えられて
磁気ディスクの回転が円滑になるとともに出力低下が極
力抑制されて、高品質で繰り返し使用可能な寿命の長い
磁気ディスクとなる。

【０１７９】また、本発明を適用した磁気記録媒体は、
変形が極力抑えられて磁気ヘッドとの当たりを均一に良
好とすることができるため、トラッキングミス等が減少
してエラーレートが少なくなり、信頼性の高い記録再生
動作を達成することができる。

【０１８０】さらに、本発明を適用した磁気記録媒体
は、非磁性支持体の８０℃における熱収縮率が０．１％
以下とされていることから、比較的高温下における熱処
理が可能となり、強度の高い磁性層の形成が可能となる
ため、このことからも走行性、耐久性が確保される。

【０１８１】また、本発明を適用した磁気記録媒体は、
変形が極力抑えられたものなので、磁気ヘッドとの間隔
を極力小さくして高密度記録化を図ることができる。し
かも、磁性層の厚さを所定範囲内でより薄膜化すること
により、更なる高記録密度化を実現することができる。

【０１８２】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る磁気記録媒体は、非磁性支持体の両主面の屈折率の差
Δｎ₁を１×１０^-3以下に規定することにより、非磁性
支持体の両主面側の物性差が小さく抑えられ、非磁性支
持体の全体にわたって物性が極力均一化される。これに
より、本発明に係る磁気記録媒体は、保存後や熱処理後
においても、非磁性支持体の特定方向に対する変形が極
力抑えられて、結果的に、変形が極力抑えられた磁気記
録媒体となる。

【０１８３】また、そのため、本発明に係る磁気記録媒
体は、磁気ヘッドとの当たりが均一で且つ良好なものと
なり、磁気ヘッドとの接触変動が極力小さくなされるの
で、多数回使用可能で且つ記録再生時にトラックずれ等
のエラーが極力抑えられて、走行性、耐久性及び記録再
生特性に優れたものとなり、その結果高い線記録密度化
が実現可能となる。

【０１８４】さらに、本発明に係る磁気記録媒体では、
非磁性支持体の厚さが３０μｍ以上であることにより、
磁気記録媒体の全体の厚さに占める非磁性支持体の厚さ
の割合が大きくなるため、磁気記録媒体の形状が非磁性
支持体の形状により支配される。そのため、本発明に係
る磁気記録媒体は、変形がより効果的に極力抑えられた
ものとなる。

【０１８５】さらにまた、本発明に係わる磁気記録媒体
では、非磁性支持体の８０℃における熱収縮率が０．１
％以下であることにより、熱処理を行った際の非磁性支
持体の特定方向に対する変形を小さく抑えている。この
ことからも、本発明に係わる磁気記録媒体は、変形の少
ない磁気記録媒体となる。この結果、磁気ヘッドとの接
触変動が極力小さくなされるので、多数回使用可能で且
つ記録再生時にトラックずれ等のエラーが少ない、走行
性、耐久性及び記録再生特性に優れたものとなる。

【０１８６】また、本発明に係る磁気記録媒体では、非
磁性支持体の各主面内における屈折率の最大値と最小値
との差Δｎ₂が上述したように限定されることにより、
非磁性支持体の各主面の面内がほぼ均一な表面性の好ま
しいものとなされる。その結果、本発明に係る磁気記録
媒体は、非磁性支持体に対して熱処理が施された後や保
存後においても、非磁性支持体の各主面内の局所的な変
形が極力抑えられて、結果的に、表面性の良好な磁気記
録媒体となる。そのため、本発明に係る磁気記録媒体
は、磁気ヘッドとの接触状態がより良好となされて、多
数回の使用が可能な、しかも記録再生時にトラックずれ
等のエラーが極力抑えられて、走行性、耐久性及び記録
再生特性が向上される。

【０１８７】さらに、本発明に係わる磁気記録媒体を、
非磁性支持体上に強磁性粉末と高分子材料とを主体とす
る磁性塗料を塗布し乾燥させて磁性層を形成し、上記磁
性層表面の平滑処理を行い、上記磁性層が形成された非
磁性支持体をディスク状に打ち抜き、磁気ディスクを作
製し、上記磁気ディスクに対して、高分子材料のガラス
転移点よりも高く、かつ非磁性支持体のガラス転移点よ
りも低い温度での加熱処理を行って製造する場合に、上
記非磁性支持体として、両主面の屈折率の差Δｎ₁が１
×１０^-3以下であり、厚さが３０μｍ以上であり、且つ
８０℃における熱収縮率が０．１％以下である二軸配向
ポリエチレンテレフタレートフィルムを用れば、上記磁
性塗料中に架橋性化合物として熱硬化性のポリイソシア
ネートを含有させても、上記非磁性支持体がこの架橋性
化合物の架橋反応を促進するのに十分な例えば５０℃〜
９０℃の熱処理温度及び時間に耐え得るため、磁性層の
強度が高まり、磁気記録媒体の走行性、耐久性が高ま
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気記録媒体の一例を示す断
面図である。

【図２】非磁性支持体の一方の面における屈折率を測定
する様子を示す断面図である。

【図３】非磁性支持体の他方の面における屈折率を測定
する様子を示す断面図である。

【符号の説明】

１磁気記録媒体、２，１０非磁性支持体、３
磁性層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】二軸配向ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムからなる非磁性支持体と、上記非磁性支持体の少なくとも一方の主面上に形成さ
れ、少なくとも強磁性粉末と高分子材料とを含有する磁
性層とを備え、上記非磁性支持体は、両主面の屈折率の差Δｎ₁が１×
１０^-3以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】上記磁性層が上記非磁性支持体の両主面
上に形成されていることを特徴とする請求項１記載の磁
気記録媒体。
【請求項３】上記非磁性支持体の各主面内における屈
折率の最大値と最小値との差Δｎ₂がそれぞれ１５×１
０^-3以下であることを特徴とする請求項１記載の磁気記
録媒体。
【請求項４】上記磁性層の厚みが２．０μｍ以下であ
ることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項５】上記非磁性支持体の厚さが３０μｍ以上
であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項６】上記非磁性支持体の８０℃における熱収
縮率が０．１％以下であることを特徴とする請求項５記
載の磁気記録媒体。
【請求項７】上記磁性層中に熱硬化性のポリイソシア
ネートが含有されていることを特徴とする請求項６記載
の磁気記録媒体。
【請求項８】上記磁性層が上層と下層が積層されてな
るものであり、少なくとも上層が強磁性粉末と高分子材
料とを含有する磁性体層となされていることを特徴とす
る請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項９】上記下層が、非磁性粉末と高分子材料と
を主体とする非磁性体層となされていることを特徴とす
る請求項８記載の磁気記録媒体。
【請求項１０】非磁性支持体上に強磁性粉末と高分子
材料とを主体とする磁性塗料を塗布し乾燥させ磁性層を
形成する塗布工程と、上記磁性層表面の平滑処理工程と、上記磁性層が形成された非磁性支持体をディスク状に打
ち抜き、磁気ディスクを作製する裁断工程と、上記磁気ディスクに対して、高分子材料のガラス転移点
よりも高く、かつ非磁性支持体のガラス転移点よりも低
い温度での加熱処理を行う熱処理工程とからなることを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１１】上記非磁性支持体が、両主面の屈折率
の差Δｎ₁が１×１０^-3以下であり、厚さが３０μｍ以
上であり、且つ８０℃における熱収縮率が０．１％以下
である二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムで
あって、上記磁性塗料中に熱硬化性のポリイソシアネートが含有
されており、熱処理工程の加熱処理が５０℃〜９０℃の温度条件で行
われることを特徴とする請求項１０記載の磁気記録媒体
の製造方法。