JPH11276853A - 電気式灰溶融炉の排ガス処理設備 - Google Patents

電気式灰溶融炉の排ガス処理設備

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JPH11276853A
JPH11276853A JP10085248A JP8524898A JPH11276853A JP H11276853 A JPH11276853 A JP H11276853A JP 10085248 A JP10085248 A JP 10085248A JP 8524898 A JP8524898 A JP 8524898A JP H11276853 A JPH11276853 A JP H11276853A
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exhaust gas
bag filter
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ash melting
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Yoshitoshi Sekiguchi
善利 関口
Kunio Sasaki
邦夫 佐々木
Kazunori Nakamura
和範 中村
Kohei Hamabe
孝平 浜辺
Shiro Sakata
詞郎 坂田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】DXNの生成もなく、バグフィルターを使用し
て排ガスを良好に処理できる。 【解決手段】プラズマ式灰溶融炉1から排出される排ガ
スを冷却するガス冷却塔4と、ガス冷却塔4から排出さ
れた排ガス中に排ガス中の有害物質と反応、吸着する薬
剤を吹込む薬剤吹込み装置8と、薬剤の吹込み後の排ガ
スを導入して塵埃および有害物質を除去するバグフィル
ター5と、このバグフィルター5から排出された排ガス
の一部を薬剤吹込み装置8の気送流体として供給する排
ガス循環ライン14とを具備した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、抵抗式やアーク
式、プラズマ式など電気式の灰溶融炉の排ガス処理設備
に関する。
【0002】
【従来の技術】灰溶融炉の排ガス処理設備の集塵装置
に、乾式洗煙装置であるバグフィルターを採用した場
合、従来からあるごみ焼却炉やバーナー式灰溶融炉の排
ガス処理設備を適用することが考えられる。すなわち、
図2に示すように、たとえばプラズマ式灰溶融炉1から
排出された排ガスが二次燃焼室2に導入され、二次空気
が供給されてバーナー3により燃焼される。この二次燃
焼室2から排出される排ガスの温度は800〜900℃
と高温で、バグフィルターに直接導入できないため、ガ
ス冷却塔4に導入されて温度を下げた後、バグフィルタ
ー5に導入されて除塵され、次いで誘引ファン6を介し
て煙突7から排出される。またバグフィルター5の上流
側には、脱塩、脱硝およびダイオキシン(以下DXNと
いう)低減のために、乾式法により消石灰や脱DXN用
の活性炭などの薬剤や目詰まりを防ぐ助剤を排ガス中に
吹込む薬剤吹込み装置8が設けられており、常温の気送
空気とともに排ガス中に吹込まれる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、プラズマ式
灰溶融炉から排出される排ガス量は、バーナー式灰溶融
炉や焼却炉と比較して大幅に少ないため、薬剤の気送空
気により排ガスが冷却されることになる。バグフィルタ
ー5では、排ガス温度が160℃未満となると消石灰が
潮解して固化するため、160℃以上に保つ必要があ
り、バグフィルター5への導入前の排ガス温度を160
℃以上になるように設定すると、ガス冷却塔4の出口の
排ガス温度が約300℃前後となる。しかし、この30
0℃前後温度はDXNが最も生成されやすい温度であ
り、300℃前後に排ガスを保持することができないと
いう問題があった。
【0004】本発明は、上記問題点を解決して、DXN
の生成もなく、バグフィルターを使用して排ガスを良好
に処理できる電気式灰溶融炉の排ガス処理設備を提供す
ることを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、電気式灰溶融炉から排出される排ガスを冷
却するガス冷却手段と、ガス冷却手段から排出された排
ガス中に排ガス中の有害物質と反応、吸着する薬剤を吹
込む薬剤供給装置と、薬剤の吹込み後の排ガスを導入し
て塵埃および有害物質を除去するバグフィルターと、こ
のバグフィルターから排出された排ガスの一部を、前記
薬剤供給装置の薬剤の気送流体として供給する排ガス循
環ラインとを具備したものである。
【0006】上記構成によれば、バグフィルターから排
出された除塵後で160℃前後の排ガスを排ガス循環ラ
インを介して薬剤供給装置の気送流体として使用するの
で、灰溶融炉から排出される排ガスの量が少なくても、
排ガス冷却手段からバグフィルターに導入される排ガス
温度が大きく低下されることがない。したがって、排ガ
ス冷却手段により高温の排ガスを、バグフィルター導入
に支障のない温度より幾分上の200℃前後まで急冷し
て、DXNの生成を未然に防止することができ、バグフ
ィルターにより電気式灰溶融炉から排出される排ガスの
塵埃や有害物資を効果的に除去することができる。また
バグフィルターから排出される排ガスの一部を、バグフ
ィルターの上流側に循環させるので、バグフィルターに
よる除塵効率を向上させることができる。
【0007】
【発明の実施の形態】ここで、本発明に係るプラズマ式
灰溶融炉の実施の形態を図1に基づいて説明する。な
お、従来例で説明したものと同一部材には、同一符号を
付して説明する。
【0008】プラズマ式灰溶融炉1は、底部に導電体と
してベースメタル1aが収容され、内部に窒素ガスなど
の作動ガスが吹込まれるとともに、天壁から垂下された
2本の電極1bに電源装置(図示せず)から電力が供給
されてベースメタル1aと電極1bとの間にプラズマア
ークが形成され、溶融されたベースメタル1a上にホッ
パー1cから灰が供給されて加熱溶融されるもので、溶
融されたスラグは、オーバーフロー形式で排出される。
二次燃焼室2は、灰溶融炉1から排出された排ガスに二
次空気を供給してバーナー3により完全燃焼させるもの
である。
【0009】排ガスを冷却するガス冷却手段であるガス
冷却塔4からバグフィルター5に至る排ガスダクト11
には、薬剤供給手段である薬剤吹込み装置8から薬剤供
給管12が接続され、気送空気により消石灰や脱DXN
用の活性炭、目詰まりを防止する助剤等の薬剤が排ガス
中に吹込まれる。バグフィルター5では、塵埃や薬剤と
の反応物が除去される。バグフィルター5から排ガスを
排出するガス排出ダクト13には、排ガスの一部を薬剤
の気送流体として使用するための排ガス循環ライン14
が接続されており、この排ガス循環ライン14の先端部
は気送ファン15を介して薬剤吹込み装置8に接続さ
れ、薬剤の気送流体としてバグフィルター5の排ガスの
入口温度160〜200℃よりわずかに低下した160
℃前後で除塵後の排ガスを使用して、ガス冷却塔4から
バグフィルター5に送られる排ガスの温度低下を防止し
ている。これにより、ガス冷却塔4において、排ガスの
温度を800〜900℃から200℃前後に急冷するこ
とができ、300℃前後の滞留時間を極めて短くするこ
とでDXNの生成が防止される。
【0010】上記構成において、プラズマ式灰溶融炉1
から排出された排ガスは二次燃焼室2に導入されて二次
空気が添加され、バーナー3により完全燃焼される。こ
の二次燃焼室2から排出された排ガスはガス冷却塔4に
導入され、800〜900℃から200℃前後に急冷さ
れた後、排ガスダクト11を介してバグフィルター5に
導入される。この排ガスダクト11の移送中に、薬剤吹
込み装置8から薬剤供給管12を介して消石灰や脱DX
N用の活性炭、目詰まりを防止する助剤等の薬剤が排ガ
ス中に吹込まれ、薬剤が排ガス中の塩類や重金属類、D
XNと反応または吸着され、これら有害物質の凝縮反応
物や塵埃などがバグフィルター5で捕捉される。この
時、薬剤を気送する流体として、バグフィルター5の出
口のガス排出ダクト13から排ガス循環ライン14を介
して取り出された除塵後の排ガスの一部が使用されるた
め、排ガス量が少なくてもバグフィルター5に導入され
る排ガス温度が大幅に低下して、消石灰が潮解する16
0℃未満となることがない。残りの排ガスは誘引ファン
6を介して煙突7から排出される。
【0011】上記実施の形態によれば、バグフィルター
5から排出された除塵済みで160℃前後の排ガスを排
ガス循環ライン14を介して薬剤供給装置8の気送流体
として使用するので、灰溶融炉1から排出される排ガス
の量が少なくても、薬剤吹込み用の気送流体(ガス)に
より排ガス冷却塔4からバグフィルター5に導入される
排ガスの温度を大きく低下させることがない。したがっ
て、排ガス冷却塔4では、排ガスを800〜900℃か
ら、消石灰の潮解が生じる160℃より幾分上の200
℃前後まで急冷することができる。このため排ガスの3
00℃前後の滞留時間を瞬時とすることができて、DX
Nの生成を未然に防止することができる。
【0012】またバグフィルター5から排出される排ガ
スの一部を、排ガス循環ライン14によりバグフィルタ
ー5の上流側に循環させるので、バグフィルター5によ
る除塵効果をより向上させることができる。
【0013】なお、上記実施の形態ではプラズマ式灰溶
融炉1としたが、抵抗式灰溶融炉やアーク式灰溶融炉な
どの排ガス量が少ない電気式溶融炉に適用できる。
【0014】
【発明の効果】以上に述べたごとく本発明の請求項1記
載の発明によれば、バグフィルターから排出された除塵
済みで160℃前後の排ガスを排ガス循環ラインを介し
て薬剤供給装置の気送流体として使用するので、灰溶融
炉から排出される排ガスの量が少なくても、排ガス冷却
手段からバグフィルターに導入される排ガス温度が大き
く低下されることがない。したがって、排ガス冷却手段
により高温の排ガスを、バグフィルター導入に支障のな
い温度より幾分上の200℃前後まで急冷して、DXN
の生成を未然に防止することができ、バグフィルターに
より電気式灰溶融炉から排出される排ガスの塵埃や有害
物資を効果的に除去することができる。またバグフィル
ターから排出される排ガスの一部を、バグフィルターの
上流側に循環させるので、バグフィルターによる除塵効
率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るプラズマ式灰溶融炉の排ガス処理
設備を示す構成図である。
【図2】従来のバグフィルター使用の排ガス処理設備を
プラズマ式灰溶融炉に適用した場合の構成図である。
【符号の説明】
1 プラズマ式灰溶融炉 2 二次燃焼室 3 バーナー 4 ガス冷却塔 5 バグフィルター 6 誘引ファン 7 煙突 8 薬剤吹込み装置 11 排ガスダクト 12 薬剤供給管 13 ガス排出ダクト 14 排ガス循環ライン
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成10年7月8日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0003
【補正方法】変更
【補正内容】
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、プラズマ式
灰溶融炉から排出される排ガス量は、バーナー式灰溶融
炉や焼却炉と比較して大幅に少ないため、薬剤の気送空
気により排ガスが冷却されることになる。バグフィルタ
ー5では、排ガス温度が160℃未満となると消石灰が
潮解して固化するため、160℃以上に保つ必要があ
り、バグフィルター5への導入前の排ガス温度を160
℃以上になるように設定すると、ガス冷却塔4の出口の
排ガス温度が約300℃前後となる。しかし、この30
0℃前後温度はDXNが最も生成されやすい温度であ
り、200℃前後に排ガスを保持することができないと
いう問題があった。
フロントページの続き (72)発明者 中村 和範 大阪府大阪市住之江区南港北1丁目7番89 号 日立造船株式会社内 (72)発明者 浜辺 孝平 大阪府大阪市住之江区南港北1丁目7番89 号 日立造船株式会社内 (72)発明者 坂田 詞郎 大阪府大阪市住之江区南港北1丁目7番89 号 日立造船株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電気式灰溶融炉から排出される排ガスを冷
    却するガス冷却手段と、 ガス冷却手段から排出された排ガス中に排ガス中の有害
    物質と反応、吸着する薬剤を吹込む薬剤供給装置と、 薬剤の吹込み後の排ガスを導入して塵埃および有害物質
    を除去するバグフィルターと、 このバグフィルターから排出された排ガスの一部を、前
    記薬剤供給装置の薬剤の気送流体として供給する排ガス
    循環ラインとを具備したことを特徴とする電気式灰溶融
    炉の排ガス処理設備。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004081933A (ja) * 2002-08-23 2004-03-18 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 排水処理装置
CN111013257A (zh) * 2019-12-04 2020-04-17 聊城市鲁西化工工程设计有限责任公司 一种环保的金属烧结滤芯再生方法和系统

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