JPH11267443A - 乾式ガスの除害処理装置および除害方法 - Google Patents

乾式ガスの除害処理装置および除害方法

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JPH11267443A
JPH11267443A JP10074404A JP7440498A JPH11267443A JP H11267443 A JPH11267443 A JP H11267443A JP 10074404 A JP10074404 A JP 10074404A JP 7440498 A JP7440498 A JP 7440498A JP H11267443 A JPH11267443 A JP H11267443A
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JP
Japan
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gas
abatement
solid
agent
inlet
Prior art date
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Pending
Application number
JP10074404A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuo Ueda
哲生 植田
Nobuhiko Matsuoka
伸彦 松岡
Tetsuo Kawatani
哲郎 川谷
Hiroshi Ichimaru
広志 市丸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Central Glass Co Ltd
Original Assignee
Central Glass Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 除害対象ガスを除害処理装置に安定的に導入
し、かつ安全に除害処理する。 【解決手段】 ガス除害用の固体薬剤を充填した乾式ガ
ス除害処理装置において、ガス導入口を2箇所設け、一
方は固体除害薬剤から離れた装置内の上流部に設け、も
う一方は固体除害薬剤を埋設した装置内の下流部の固体
除害薬剤の中に設けた装置で、上流のガス導入口からガ
スを導入し、その除害経路が絶たれた際、もう一方の固
体除害薬剤の中に設けたガス導入口からガスを導入す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス除害用の固体
薬剤を充填した乾式ガス除害処理装置において、ガス経
路が絶たれた場合、別の経路からガスを除害処理しガス
経路の閉塞を防ぐことを目的とする乾式ガスの除害処理
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】固体除害薬剤を充填した乾式ガス除害処
理装置において、除害対象ガスを常に安定して導入処理
することは、重要な要素技術のひとつである。そのため
には絶えず除害筒のガスの圧力損失を一定値以下にする
ことが不可欠である。例えば、除害対象ガス中に多量の
粒子を含み、それらが乾式ガス除害処理装置に導入され
た場合、薬剤の上部でガス導入経路の閉塞が起こり、除
害筒のガスの圧力損失が増大し、ガスが流れにくくなる
ことがある。また、別の例として、固体除害薬剤との反
応により固結を生じ、同様に薬剤の上部でガス導入経路
の閉塞が起こり、ガスが流れにくくなることがある。
【0003】乾式ガス除害処理装置において、除害筒の
ガスの圧力損失を一定値以下にし、除害対象ガスを常に
安定して導入する方法が従来から採られてきた。その方
法は、除害筒の入口ガスの圧力が増大し、ガスが導入さ
れにくくなった場合、図7に示したようにバイパスライ
ン7の設置により、バルブ2を開けて導入ガスを除害筒
5を経由させずに装置外に排気するものや、図8に示し
たように予備の除害筒8を設置してバルブ2を開けてそ
ちらに導入ガスを逃がし除害処理して排気するものであ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする問題点】上記従来の固体除害
薬剤を充填した乾式ガス除害処理装置において、除害筒
のガスの圧力損失を一定値以下にし除害対象ガスを常に
安定して導入する方法では、安全上の問題や装置が大き
くなるといった問題点があった。すなわち、図7に示し
たようにバイパスライン7の設置によりバルブ2を開け
て導入ガスを除害筒5を経由せずに装置外に排気する方
法では、バイパスライン7に除害筒が無いため除害対象
ガスが除害されず装置外に排気されることが考えられ
る。また、図8に示したように予備の除害筒8を設置し
てバルブ2を開けてそちらに導入ガスを逃がし除害処理
して排気する方法では、予備の除害筒8により除害対象
ガスを除害できるため、装置外に該ガスが排気されると
いった安全上の問題点はないが、別途予備の除害筒を設
置する必要があり装置全体が大きくなるといった問題点
がある。また、実公平3−17935号公報にも同様な
方法を用いた処理装置が記載されている。
【0005】これら乾式ガス除害処理装置で除害対象ガ
スを常に安定して導入処理することが、安全に、かつ装
置が大きくなることなく実現できれば、乾式ガス除害処
理装置において今までにないコンパクトで安全なものが
実現できる。
【0006】このため安全にかつ装置が大きくなること
なく除害対象ガスを常に安定して導入処理することがで
きる乾式ガス除害処理装置の開発が待たれていた。
【0007】
【問題点を解決するための具体的手段】本発明者らは、
かかる問題点に鑑み鋭意検討の結果、固体除害薬剤を充
填した乾式ガス除害処理装置において、ガス導入口を2
箇所設け、一方の除害経路が絶たれた場合、他方を予備
として使用することにより、除害対象ガスを常に安定し
て導入処理できることを見いだし本発明に到達したもの
である。
【0008】すなわち本発明は、ガス除害用の固体薬剤
を充填した乾式ガス除害処理装置において、ガス導入口
を装置内に2箇所設け、一方は固体除害薬剤から離れた
装置内の上流部に設け、もう一方は固体除害薬剤を埋設
した装置内の下流部の固体除害薬剤の中に設けたことを
特徴とする乾式ガスの除害処理装置で、さらには、下流
部出口に予備除害塔を設けた装置であり、また、固体除
害薬剤から離れた上流部のガス導入口からガスを導入
し、その除害経路が絶たれた際、固体除害薬剤を埋設し
た装置内下流部の固体除害薬剤の中のもう一方のガス導
入口からガスを導入することを特徴とする該装置を用い
る乾式ガスの除害処理方法を提供するものである。
【0009】本発明者らは、除害対象ガス導入経路の閉
塞がどの位置で起こるか調べたところ、ガス出口付近で
は起こらないことがわかった。ガス導入経路の閉塞が起
こる場合は、粒子が乾式ガス除害処理装置に多量に混入
した場合であり、薬剤の上部でガス導入経路の閉塞が起
こり、除害筒のガスの圧力損失が増大しガスが流れにく
くなる。また、固体除害薬剤との反応により固結が起こ
る場合であり、反応ゾーンがガス除害処理が進むにつれ
て上部から下方に移動するが、この反応ゾーンでガス導
入経路の閉塞が起こり、ガスが流れにくくなる。
【0010】本発明は、除害対象ガス導入経路の閉塞が
ガス出口付近は起こらないという知見に基づき、ガス導
入口を2箇所設け、図1に示したように、一方が固体除
害薬剤6から離れたガス入口ライン9からガスを導入す
るものに対し、他方は固体除害薬剤6の埋設した装置出
口付近の固体除害薬剤中のガス入口ライン10からガス
を導入することにより、一方の除害経路が絶たれた場
合、他方を予備として使用することにより除害対象ガス
を常に安定して導入し、しかも固体除害薬剤中に導入す
ることにより除害処理を可能とするものである。また、
下流部出口付近に、インジケーターや予備の除害塔を設
けることにより安全性はさらに高まる。
【0011】本発明において、対象となるガスは、ハロ
ゲン系ガスや水素系ガス等であり、ハロゲン系ガスとし
ては、F2、Cl2、ClF、ClF3、ClF5、AsC
3、SiCl4、SiF4、GeF4、WF6、BCl3
BF3、HCl、HBr、HF、SiH2Cl2、SiH
Cl3、TiCl4、TiF4などであり、水素系ガスと
しては、AsH3、PH3、B26、SeH2、SiH4
Si26、GeH4などであり特に限定されるものでは
ない。
【0012】また、本発明において、用いられる固体除
害剤としては、水酸化カルシウム、水酸化カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化マグネシウ
ム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、水酸化ニ
オブ、水酸化銅、ソーダライム、酸化カルシウム、酸化
カリウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化銅、酸
化亜鉛、酸化鉄、酸化コバルト、酸化ニッケル、酸化ス
ズ、酸化鉛、酸化アンチモン、酸化ビスマス、酸化モリ
ブデン、酸化タングステン、酸化タンタル、活性炭、ゼ
オライト、アルミナなどであり特に限定されるものでは
ない。
【0013】
【実施例】以下、実施例により具体的に説明するが、か
かる実施例に限定されるものではない。
【0014】実施例1 図1に本発明方法による乾式ガス除害装置の概略図を示
す。1は、ガス入口ライン9に設けたバルブで、通常除
害対象ガスを処理する場合はこれを開けて当該ガスを導
入する。2は、予備として設置したガス入口ライン10
のバルブで、入口ガスの圧力が増大した場合にこれを開
けて当該ガスを導入し除害処理する。3は、出口のバル
ブでこれを開けて除害筒において処理したガスを排気す
る。4は、入口のガス圧力を測定するための圧力計であ
る。5は、除害筒で、この中にガスを除害処理するため
の固体除害薬剤6が充填されている。通常除害対象ガス
を処理する場合は、ガス入口ライン9で、予備として入
口ライン10が設置してある。
【0015】用いた除害処理装置は、除害筒の内径を5
00mm、高さを1000mmとしたもので、また入口
のガス圧力が10kPaになった時点で予備として設置
した入口のバルブが自動で開放されて当該ガスを導入す
るものである。除害筒内の固体除害薬剤は、酸化銅(初
期かさ密度1.2g/cm3)を用いた。
【0016】除害対象ガスとしてシラン(SiH4)を
用い、流量1000cm3/minで流し、また粒子を
含んだ希釈ガスの窒素(N2)を100000cm3/m
inで同時に流した。37時間後入口のガス圧力は10
kPaとなり、それと同時に予備として設置した入口の
バルブが開となり、入口のガス圧力は1kPa以下に戻
り、除害筒の出口においても除害対象ガスは、1ppm
以下であり引き続きガス除害処理が可能となった。その
ときの除害筒内のかさ密度分布を調べた結果、図2の斜
線部に示したように1.4g/cm3の部分が上部に発
生していた。また、これは希釈窒素ガス中の粒子が堆積
したものであることが固体薬剤の分析結果から明らかに
なった。
【0017】実施例2 実施例1と同じ装置を用い、固体除害薬剤としてソーダ
ライムを用いた。除害対象ガスとして六フッ化タングス
テン(WF6)を用い流量8000cm3/minで、希
釈ガスの窒素(N2)を流量100000cm3/min
で同時に流した。45時間後入口のガス圧力は10kP
aになり、それと同時に予備として設置した入口のバル
ブが開となり、入口のガス圧力は1kPa以下に戻り、
除害筒の出口においても除害対象ガスは1ppm以下で
あり引き続きガス除害処理が可能となった。そのときの
除害筒内のかさ密度分布を調べた結果、図3の斜線部に
示したように1.4g/cm3以上の部分が除害筒中央
部となった。また、これは六フッ化タングステンと固体
除害薬剤との反応生成物からなるものであることが固体
除害薬剤の分析結果から明らかになった。
【0018】実施例3 実施例1と同じ装置を用い、固体除害薬剤として酸化銅
を用いた。また固体除害薬剤の寿命を検出するためのカ
ラーインジケータが設置されている。図4に示すように
カラーインジケータ部11を除けば図1〜図3に示した
除害処理装置と同様である。これは、除害対象ガスが除
害処理されずにここを通過するとカラーインジケータの
薬剤が変色し、除害筒薬剤が寿命にきており交換しなけ
ればならないことを知らすものである。ただし、カラー
インジケータで検出された後もすぐにガスが装置外に排
出されることがないようカラーインジケータ部の下流に
おいても薬剤が充填されている構造になっている。
【0019】除害対象ガスとしてシラン(SiH4)を
用い、流量1000cm3/minで流し、また粒子を
含んだ希釈ガスの窒素(N2)を100000cm3/m
inで同時に流した。34時間後入口のガス圧力は10
kPaとなり、それと同時に予備として設置した入口の
バルブが開となり、入口のガス圧力は1kPa以下に戻
った。そのときの除害筒内のかさ密度分布を調べた結
果、図4の斜線部に示したように1.4g/cm3の部
分が上部に発生していた。また、これは希釈窒素ガス中
の粒子が堆積したものであることが固体薬剤の分析結果
から明らかになった。また予備として設置した入口のバ
ルブが開となって1時間後カラーインジケータ薬剤が変
色して正常に固体除害薬剤が寿命に達したことを検出で
きた。検出時も除害筒の出口においても除害対象ガスは
1ppm以下であり引き続き1時間以内はガス除害処理
ができた。
【0020】実施例4 図5に示すようにガス出口を薬剤の埋設した下流部に取
り付けた構造とした以外は、実施例3と同じ処理装置を
用い、固体除害薬剤として酸化銅を用いた。除害対象ガ
スとしてシラン(SiH4)を用い、流量1000cm3
/minで流し、また粒子を含んだ希釈ガスの窒素(N
2)を100000cm3/minで同時に流した。36
時間後入口のガス圧力は10kPaとなり、それと同時
に予備として設置した入口のバルブが開となり、入口の
ガス圧力は1kPa以下に戻った。そのときの除害筒内
のかさ密度分布を調べた結果、図5の斜線部に示したよ
うに1.4g/cm3の部分が上部に発生していた。ま
た、これは希釈窒素ガス中の粒子が堆積したものである
ことが固体除害薬剤の分析結果から明らかになった。ま
た予備として設置した入口のバルブが開となって1時間
後カラーインジケータ薬剤が変色して正常に固体充填薬
剤が寿命に達したことを検出できた。検出時も除害筒の
出口においても除害対象ガスは1ppm以下であり引き
続き1時間以内はガス除害処理ができた。
【0021】実施例5 図6に示すようにガス出口を薬剤の埋設した下流部に取
り付けた構造とした。さらに、出口側にはガス検知ポー
ト12が設置された以外は実施例4と同じ処理装置及び
固体除害薬剤として酸化銅を用いており、ここにガス検
知器を接続することによりガス検知器による除害筒薬剤
の寿命の検出が可能となる。また寿命を検出した後もす
ぐにガスが装置外に排出されることがないようさらに下
流の出口部(図6においては上部)においても薬剤が充
填されている予備除害塔8を設けた構造になっている。
【0022】この装置に除害対象ガスとしてシラン(S
iH4)を用い、流量1000cm3/minで流し、ま
た粒子を含んだ希釈ガスの窒素(N2)を100000
cm3/minで同時に流した。35時間後入口のガス
圧力は10kPaとなり、それと同時に予備として設置
した入口のバルブが開となり、入口のガス圧力は1kP
a以下に戻った。そのときの除害筒内のかさ密度分布を
調べた結果、図6の斜線部に示したように1.4g/c
3の部分が上部に発生した。また、これは希釈窒素ガ
ス中の粒子が堆積したものであることが固体除害薬剤の
分析結果から明らかになった。また予備として設置した
入口のバルブが開となって1時間後カラーインジケータ
薬剤が変色し、それとほぼ同時にガス検知ポートに接続
されたガス検知器により検知があり、正常に固体充填薬
剤が寿命に達したことを検出できた。検出時も除害筒の
出口においても除害対象ガスは1ppm以下であり引き
続き1時間以内はガス除害処理ができた。
【0023】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の方法によ
れば固体除害薬剤を充填した乾式ガス除害処理装置にお
いて、ガス入口を2箇所設けることにより、一方の除害
経路が絶たれた場合、他方を予備として使用することに
より、除害対象ガスを常に安定して導入することがで
き、かつ安全にガス除害処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明方法による除害処理装置の概略図であ
る。
【図2】実施例1の除害処理装置における粒子による閉
塞例の概略図である。
【図3】実施例2の除害処理装置における反応生成物に
よる閉塞例の概略図である。
【図4】実施例3の除害処理装置の構成及び粒子による
閉塞例の概略図である。
【図5】実施例4の除害処理装置の構成及び粒子による
閉塞例の概略図である。
【図6】実施例5の除害処理装置の構成及び粒子による
閉塞例の概略図である。
【図7】従来から用いられている除害処理装置の概略図
の一例である。
【図8】従来から用いられている除害処理装置の概略図
の一例である。
【符号の説明】
1・・・バルブ1 2・・・バルブ2 3・・・バルブ3 4・・・圧力計 5・・・除害筒 6・・・固体除害薬剤 7・・・バイパスライン 8・・・予備除害筒 9・・・ガス入口ライン 10・・ガス入口ライン 11・・カラーインジケータ 12・・ガス検知ポート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 市丸 広志 山口県宇部市大字沖宇部5272番地の1 セ ントラルエンジニアリング株式会社内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガス除害用の固体薬剤を充填した乾式ガ
    ス除害処理装置において、ガス導入口を装置内に2箇所
    設け、一方は固体除害薬剤から離れた装置内の上流部に
    設け、もう一方は固体除害薬剤を埋設した装置内の下流
    部の固体除害薬剤の中に設けたことを特徴とする乾式ガ
    スの除害処理装置。
  2. 【請求項2】 固体除害薬剤から離れた上流部のガス導
    入口からガスを導入し、その除害経路が絶たれた際、固
    体除害薬剤を埋設した装置内下流部の固体除害薬剤の中
    のもう一方のガス導入口からガスを導入することを特徴
    とする請求項1記載の装置を用いる乾式ガスの除害処理
    方法。
  3. 【請求項3】 下流部出口に予備除害塔を設けたことを
    特徴とする請求項1記載の乾式ガスの除害処理装置。
JP10074404A 1998-03-23 1998-03-23 乾式ガスの除害処理装置および除害方法 Pending JPH11267443A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006314869A (ja) * 2005-05-10 2006-11-24 L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude 半導体プロセスチャンバからの排ガスを除害するためのシステム
JP2010511513A (ja) * 2006-12-05 2010-04-15 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 複数入口の除害装置
JP2010158643A (ja) * 2009-01-09 2010-07-22 Ebara Corp 予備処理槽を備えた排ガス処理装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006314869A (ja) * 2005-05-10 2006-11-24 L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude 半導体プロセスチャンバからの排ガスを除害するためのシステム
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040318