JPH1126549A - 半導体ウェハ搬送装置 - Google Patents
半導体ウェハ搬送装置Info
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- JPH1126549A JPH1126549A JP19068997A JP19068997A JPH1126549A JP H1126549 A JPH1126549 A JP H1126549A JP 19068997 A JP19068997 A JP 19068997A JP 19068997 A JP19068997 A JP 19068997A JP H1126549 A JPH1126549 A JP H1126549A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウェハ搬送時におけるウェハ裏面へのダスト
付着の拡散を少なくする半導体ウェハ搬送装置を提供す
る。 【解決手段】 半導体ウェハを収納するキャリヤと、半
導体ウェハを加工・検査又は受け渡しをするためのステ
ージと、ウェハの裏面を吸着保持してステージとキャリ
ッジとの間で半導体ウェハを搬送する搬送手段を備える
半導体ウェハ搬送装置において、前記ステ−ジを回転さ
せる回転手段と、ウェ−ハ受け取り時のステ−ジの回転
角とステ−ジの回転角の変化を検知する検知手段と、前
記搬送手段がステ−ジからウェ−ハを受け取る場合に前
記検知結果に基づいて半導体ウェハと搬送手段の接触部
をほぼ同じとするように前記回転手段を回転させる制御
手段とを有する。
付着の拡散を少なくする半導体ウェハ搬送装置を提供す
る。 【解決手段】 半導体ウェハを収納するキャリヤと、半
導体ウェハを加工・検査又は受け渡しをするためのステ
ージと、ウェハの裏面を吸着保持してステージとキャリ
ッジとの間で半導体ウェハを搬送する搬送手段を備える
半導体ウェハ搬送装置において、前記ステ−ジを回転さ
せる回転手段と、ウェ−ハ受け取り時のステ−ジの回転
角とステ−ジの回転角の変化を検知する検知手段と、前
記搬送手段がステ−ジからウェ−ハを受け取る場合に前
記検知結果に基づいて半導体ウェハと搬送手段の接触部
をほぼ同じとするように前記回転手段を回転させる制御
手段とを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハを収
納したキャリヤと検査又は受け渡しをするためのステー
ジとの間で、ウェハの搬送を行う半導体ウェハ搬送装置
に関する。
納したキャリヤと検査又は受け渡しをするためのステー
ジとの間で、ウェハの搬送を行う半導体ウェハ搬送装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェハの外観検査等を行うときに
は、キャリヤに収納されたウェハの裏面をエアピンセッ
トにより吸着保持して検査ステージ上に搬送し、検査が
終了したウェハを再びキャリヤに搬送する半導体ウェハ
搬送装置が使用されている。マクロ検査では、検査ステ
ージにウェハを載置した後、検査ステージを回転させて
検査する。さらに精密な検査を必要とするときには、マ
クロ検査終了後に顕微鏡側の検査ステージにエアピンセ
ットによりウェハを搬送する。
は、キャリヤに収納されたウェハの裏面をエアピンセッ
トにより吸着保持して検査ステージ上に搬送し、検査が
終了したウェハを再びキャリヤに搬送する半導体ウェハ
搬送装置が使用されている。マクロ検査では、検査ステ
ージにウェハを載置した後、検査ステージを回転させて
検査する。さらに精密な検査を必要とするときには、マ
クロ検査終了後に顕微鏡側の検査ステージにエアピンセ
ットによりウェハを搬送する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来装置では
検査ステージに載置されたウェハをキャリヤへ、あるい
は別の検査ステージへと搬送するために、エアピンセッ
トがウェハを再度吸着するときには、検査ステージの回
転に伴ってウェハ裏面との接触面が異なることが多かっ
た。また、一つの検査ステージに載置されたウェハを別
の検査ステージへ載せ変えるときには、ウェハ裏面に対
する両方の検査ステージの接触面が異なることが多かっ
た。
検査ステージに載置されたウェハをキャリヤへ、あるい
は別の検査ステージへと搬送するために、エアピンセッ
トがウェハを再度吸着するときには、検査ステージの回
転に伴ってウェハ裏面との接触面が異なることが多かっ
た。また、一つの検査ステージに載置されたウェハを別
の検査ステージへ載せ変えるときには、ウェハ裏面に対
する両方の検査ステージの接触面が異なることが多かっ
た。
【０００４】このようにウェハの搬送の際に、ウェハ裏
面に対してエアピンセットや別の検査ステージの接触面
が異なることが多いと、ウェハ裏面に付着するダストも
広がりやすくなる。ウェハ裏面に付着したダストはキャ
リヤに収納されたときに下のウェハに落下することがあ
るので、その範囲が広いとウェハ表面に施されたＩＣチ
ップの数に対して不良となるＩＣチップの確率がより高
くなるという問題があった。
面に対してエアピンセットや別の検査ステージの接触面
が異なることが多いと、ウェハ裏面に付着するダストも
広がりやすくなる。ウェハ裏面に付着したダストはキャ
リヤに収納されたときに下のウェハに落下することがあ
るので、その範囲が広いとウェハ表面に施されたＩＣチ
ップの数に対して不良となるＩＣチップの確率がより高
くなるという問題があった。
【０００５】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、
ウェハの搬送時におけるウェハ裏面へのダスト付着の拡
散を少なくする半導体ウェハ搬送装置を提供することを
技術課題とする。
ウェハの搬送時におけるウェハ裏面へのダスト付着の拡
散を少なくする半導体ウェハ搬送装置を提供することを
技術課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、以下のような構成を備えることを特徴とす
る。
するために、以下のような構成を備えることを特徴とす
る。
【０００７】（１） 半導体ウェハを収納するキャリヤ
と、半導体ウェハを加工・検査又は受け渡しをするため
のステージと、ウェハの裏面を吸着保持してステージと
キャリヤとの間で半導体ウェハを搬送する搬送手段を備
える半導体ウェハ搬送装置において、前記ステ−ジを回
転させる回転手段と、ウェ−ハ受け取り時のステ−ジの
回転角とステ−ジの回転角の変化を検知する検知手段
と、前記搬送手段がステ−ジからウェ−ハを受け取る場
合に前記検知結果に基づいてその変化を無くするように
前記回転手段を回転させる制御手段と、を備えしたこと
を特徴とする。なお、本発明における検知手段とはステ
−ジの回転をセンサにより検出するもののほか、パルス
モ−タのパルス数をカウントするようなものも含む。
と、半導体ウェハを加工・検査又は受け渡しをするため
のステージと、ウェハの裏面を吸着保持してステージと
キャリヤとの間で半導体ウェハを搬送する搬送手段を備
える半導体ウェハ搬送装置において、前記ステ−ジを回
転させる回転手段と、ウェ−ハ受け取り時のステ−ジの
回転角とステ−ジの回転角の変化を検知する検知手段
と、前記搬送手段がステ−ジからウェ−ハを受け取る場
合に前記検知結果に基づいてその変化を無くするように
前記回転手段を回転させる制御手段と、を備えしたこと
を特徴とする。なお、本発明における検知手段とはステ
−ジの回転をセンサにより検出するもののほか、パルス
モ−タのパルス数をカウントするようなものも含む。
【０００８】（２） （１）の半導体ウェハ搬送装置に
おいて、前記ステージは複数のステ−ジを備え、該複数
のステ−ジはほぼ同一位置にウェハの裏面との接触部を
持つことを特徴とする。
おいて、前記ステージは複数のステ−ジを備え、該複数
のステ−ジはほぼ同一位置にウェハの裏面との接触部を
持つことを特徴とする。
【０００９】（３） （２）の半導体ウェハ搬送装置に
おいて、前記複数のステ−ジはウェハの外観をマクロ的
に検査するマクロ検査用ステージと、顕微鏡装置により
ウェハの外観を検査するための顕微鏡検査用ステージを
含むことを特徴とする。
おいて、前記複数のステ−ジはウェハの外観をマクロ的
に検査するマクロ検査用ステージと、顕微鏡装置により
ウェハの外観を検査するための顕微鏡検査用ステージを
含むことを特徴とする。
【００１０】（４） （１）の半導体ウェハ搬送装置に
おいて、前記制御手段は回転角の変化を無くするように
前記回転手段を回転させることを特徴とする。
おいて、前記制御手段は回転角の変化を無くするように
前記回転手段を回転させることを特徴とする。
【００１１】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
図１（ａ）は実施例の装置を上方から見た図であり、図
１（ｂ）は正面側から見たときの図である。実施例の装
置はマクロ検査ステージを持つウェハ搬送装置本体１と
顕微鏡装置１０を備えており、図２はウェハ搬送装置本
体１の外観斜視図である。
図１（ａ）は実施例の装置を上方から見た図であり、図
１（ｂ）は正面側から見たときの図である。実施例の装
置はマクロ検査ステージを持つウェハ搬送装置本体１と
顕微鏡装置１０を備えており、図２はウェハ搬送装置本
体１の外観斜視図である。
【００１２】図１及び図２において、２は多数枚の半導
体ウェハ４０を収納するキャリヤ４１を載置するキャリ
ヤ載置台である。キャリヤ載置台２の上面にはキャリヤ
４１の位置決めと固定をするための固定部材３ａ、３ｂ
が固着されている。このキャリヤ載置台２は本体内部の
ローダー機構２４により上下動し、キャリヤ４１内の棚
に１枚ずつ収納されたウェハ４０がエアピンセット４で
取り出され、または収納される。
体ウェハ４０を収納するキャリヤ４１を載置するキャリ
ヤ載置台である。キャリヤ載置台２の上面にはキャリヤ
４１の位置決めと固定をするための固定部材３ａ、３ｂ
が固着されている。このキャリヤ載置台２は本体内部の
ローダー機構２４により上下動し、キャリヤ４１内の棚
に１枚ずつ収納されたウェハ４０がエアピンセット４で
取り出され、または収納される。
【００１３】エアピンセット４はその腕の両側に形成さ
れた略Ｕ字型の吸着部４ａでウェハ４０を吸着して保持
する。両側の吸着部４ａには、図３に示すように、ウェ
ハ４０の裏面との接触面となるリング状の接触部材３０
がそれぞれ複数固着されており、両側の接触部材３０は
エアピンセット４の回転軸中心に対して対称に配置して
いる。接触部材３０は、例えば、その厚さが200 ミクロ
ン程度で、ポリイミドやテフロン等のダストが付着しに
くいものを使用している。各接触部材３０の中心には吸
引用の小孔が設けられており、この小孔はエアピンセッ
ト４内部を通って真空チューブ、電磁弁等を経て吸引装
置に繋がっている。エアピンセット４は移動アーム５を
備える装置本体１内部の移動機構により左右方向（矢印
Ａ方向）に移動可能であり、吸引装置を作動させること
により、接触部材３０を介してウェハ４０を吸着保持
し、キャリヤ４１とマクロステージ６との間を搬送をす
る。また、エアピンセット４はその中心を軸にして回転
し、顕微鏡装置１０が備える顕微鏡ステージ１１にウェ
ハ４０を受け渡すことができる。
れた略Ｕ字型の吸着部４ａでウェハ４０を吸着して保持
する。両側の吸着部４ａには、図３に示すように、ウェ
ハ４０の裏面との接触面となるリング状の接触部材３０
がそれぞれ複数固着されており、両側の接触部材３０は
エアピンセット４の回転軸中心に対して対称に配置して
いる。接触部材３０は、例えば、その厚さが200 ミクロ
ン程度で、ポリイミドやテフロン等のダストが付着しに
くいものを使用している。各接触部材３０の中心には吸
引用の小孔が設けられており、この小孔はエアピンセッ
ト４内部を通って真空チューブ、電磁弁等を経て吸引装
置に繋がっている。エアピンセット４は移動アーム５を
備える装置本体１内部の移動機構により左右方向（矢印
Ａ方向）に移動可能であり、吸引装置を作動させること
により、接触部材３０を介してウェハ４０を吸着保持
し、キャリヤ４１とマクロステージ６との間を搬送をす
る。また、エアピンセット４はその中心を軸にして回転
し、顕微鏡装置１０が備える顕微鏡ステージ１１にウェ
ハ４０を受け渡すことができる。
【００１４】マクロステージ６の載置面には、エアピン
セット４の接触部材３０と同様な材質からなる４個のリ
ング状の接触部材５０が、回転軸を中心にした同心円上
に等間隔の配置で固着されている（図３参照）。その中
心には吸引用の小孔が設けられており、エアピンセット
４と同様に吸引装置と繋がり、マクロステージ６は接触
部材５０を介してウェハ４０を吸着保持することができ
る。
セット４の接触部材３０と同様な材質からなる４個のリ
ング状の接触部材５０が、回転軸を中心にした同心円上
に等間隔の配置で固着されている（図３参照）。その中
心には吸引用の小孔が設けられており、エアピンセット
４と同様に吸引装置と繋がり、マクロステージ６は接触
部材５０を介してウェハ４０を吸着保持することができ
る。
【００１５】マクロステージ６は図４に示す回転機構に
より回転動作する。この図において、５１はパルスモー
タであり、そのモータ軸はマクロステージ６の回転軸５
２とカップリング５３により連結されている。回転軸５
２の内部には図示なき吸引装置に繋がれた真空チューブ
５４に続く吸引通路が設けられており、その吸引通路が
マクロステージ６の吸引用の小孔に繋がっている。５５
はモータ取付け部材５６に固定された遮光型のセンサで
あり、回転軸５２に取り付けられた遮光板５７の遮光状
態によりマクロステージ６の回転初期位置を検出する。
より回転動作する。この図において、５１はパルスモー
タであり、そのモータ軸はマクロステージ６の回転軸５
２とカップリング５３により連結されている。回転軸５
２の内部には図示なき吸引装置に繋がれた真空チューブ
５４に続く吸引通路が設けられており、その吸引通路が
マクロステージ６の吸引用の小孔に繋がっている。５５
はモータ取付け部材５６に固定された遮光型のセンサで
あり、回転軸５２に取り付けられた遮光板５７の遮光状
態によりマクロステージ６の回転初期位置を検出する。
【００１６】また、マクロステージ６は本体内部の上下
動機構により図４の回転機構とともに上昇及び下降し、
さらにジョイスティック７の操作により揺動傾斜するよ
うになっている。
動機構により図４の回転機構とともに上昇及び下降し、
さらにジョイスティック７の操作により揺動傾斜するよ
うになっている。
【００１７】９はウェハ４０が持つオリフラ４０ａ（Or
ientational Flat)（図６参照）を検出するためのオリ
フラ検出部である。オリフラ検出部９はＬＥＤと受光素
子等から構成され、マクロステージ６に載置されたウェ
ハ４０を回転したときの受光素子の信号によりマクロス
テージ６の回転角度と対応付けてオリフラ４０ａの方向
を検出する。４２はマクロステージ６上でウェハを検査
するときに使用される照明である。８は各種スイッチを
備えた操作パネルである。
ientational Flat)（図６参照）を検出するためのオリ
フラ検出部である。オリフラ検出部９はＬＥＤと受光素
子等から構成され、マクロステージ６に載置されたウェ
ハ４０を回転したときの受光素子の信号によりマクロス
テージ６の回転角度と対応付けてオリフラ４０ａの方向
を検出する。４２はマクロステージ６上でウェハを検査
するときに使用される照明である。８は各種スイッチを
備えた操作パネルである。
【００１８】顕微鏡装置１０について説明する。顕微鏡
ステージ１１はマクロステージ６と共通の載置面を持
ち、その載置面には接触部材５０と共通の４個の接触部
材１２がやはりマクロステージ６側と同じ配置になるよ
うに固着されている（図３参照）。顕微鏡ステージ１１
は接触部材１２の中心に設けられた吸引用の小孔が吸引
装置と繋がり、接触部材１２を介してウェハ４０を吸着
保持することができる。顕微鏡ステージ１１はスライド
テーブル１３に回転可能に保持され、マクロステージ６
と基本的に同様な回転機構により回転する。スライドテ
ーブル１３はハンドル１４の操作により顕微鏡装置１０
に支持されたＸＹレール上をスライド移動し、さらに微
動ノブ１５の操作により微動移動も可能である。これに
より、顕微鏡ステージ１１上に載置されたウェハ４０の
所望の箇所を双眼の顕微鏡部１６の下に置くことができ
る。１７は合否判定スイッチである。
ステージ１１はマクロステージ６と共通の載置面を持
ち、その載置面には接触部材５０と共通の４個の接触部
材１２がやはりマクロステージ６側と同じ配置になるよ
うに固着されている（図３参照）。顕微鏡ステージ１１
は接触部材１２の中心に設けられた吸引用の小孔が吸引
装置と繋がり、接触部材１２を介してウェハ４０を吸着
保持することができる。顕微鏡ステージ１１はスライド
テーブル１３に回転可能に保持され、マクロステージ６
と基本的に同様な回転機構により回転する。スライドテ
ーブル１３はハンドル１４の操作により顕微鏡装置１０
に支持されたＸＹレール上をスライド移動し、さらに微
動ノブ１５の操作により微動移動も可能である。これに
より、顕微鏡ステージ１１上に載置されたウェハ４０の
所望の箇所を双眼の顕微鏡部１６の下に置くことができ
る。１７は合否判定スイッチである。
【００１９】以上のような構成の装置において、その動
作を図５の制御系の要部構成図を使用して説明する。装
置はマクロ検査のみ行う検査モードとマクロ検査に引き
続き顕微鏡装置１０による検査を行う検査モードを選択
可能であり、ここではこの２つの検査モードについてそ
れぞれ説明する。
作を図５の制御系の要部構成図を使用して説明する。装
置はマクロ検査のみ行う検査モードとマクロ検査に引き
続き顕微鏡装置１０による検査を行う検査モードを選択
可能であり、ここではこの２つの検査モードについてそ
れぞれ説明する。
【００２０】まず、マクロ検査のみ行う検査モードにつ
いて説明する。検査者はウェハが収納されたキャリヤ４
１を載置台２にセットした後、操作パネル８のスタート
スイッチ８ａを押して検査を開始する。制御回路２０
は、スタートスイッチ信号によりエアピンセット移動機
構２１を駆動させてエアピンセット４を移動し、キャリ
ヤ４１内の最下段（又は指定された段）のウェハの下に
差し込む。エアピンセット４が所定位置に移動すると、
ローダ機構２４により目的のウェハがエアピンセット４
にふれる距離までさがる。制御回路２０は電磁弁２５ａ
を制御して吸着部４ａにウェハを吸着させた後、ウェハ
をマクロステージ６上まで搬送する。マクロステージ６
上にウェハが位置すると、制御部２０はエアピンセット
上下動機構２３を作動させる。これによりエアピンセッ
ト４が下降し、マクロステージ６上にウェハを載せる。
いて説明する。検査者はウェハが収納されたキャリヤ４
１を載置台２にセットした後、操作パネル８のスタート
スイッチ８ａを押して検査を開始する。制御回路２０
は、スタートスイッチ信号によりエアピンセット移動機
構２１を駆動させてエアピンセット４を移動し、キャリ
ヤ４１内の最下段（又は指定された段）のウェハの下に
差し込む。エアピンセット４が所定位置に移動すると、
ローダ機構２４により目的のウェハがエアピンセット４
にふれる距離までさがる。制御回路２０は電磁弁２５ａ
を制御して吸着部４ａにウェハを吸着させた後、ウェハ
をマクロステージ６上まで搬送する。マクロステージ６
上にウェハが位置すると、制御部２０はエアピンセット
上下動機構２３を作動させる。これによりエアピンセッ
ト４が下降し、マクロステージ６上にウェハを載せる。
【００２１】次に、制御回路２０はマクロステージ６に
通じる電磁弁２５ｂを作動させてウェハ４０を吸着す
る。なお、装置の電源が投入されたとき、あるいはリセ
ットスイッチ８ｂ等により所定の初期化操作をしたとき
には、センサ５５が遮光板５７の位置を検出することに
より、マクロステージ６は所定の基準回転位置で待機す
るよう初期設定（初期化）されるようになっている。
通じる電磁弁２５ｂを作動させてウェハ４０を吸着す
る。なお、装置の電源が投入されたとき、あるいはリセ
ットスイッチ８ｂ等により所定の初期化操作をしたとき
には、センサ５５が遮光板５７の位置を検出することに
より、マクロステージ６は所定の基準回転位置で待機す
るよう初期設定（初期化）されるようになっている。
【００２２】ウェハ４０を吸着したマクロステージ６
は、マクロステージ上下動機構２２により検査に必要な
高さまで上昇する。検査者はジョイスティック７を操作
してマクロステージ６を揺動傾斜させることによりウェ
ハ４０の傾き角度を変えてマクロ検査を行う。また、マ
クロステージ回転用のスイッチ８ｃを押すと、制御回路
２０はパルスモータ５１に所定パルス信号を付与してマ
クロステージ６を回転させる。これにより、ウェハ４０
を回転させながら必要な検査を行う。マクロステージ６
の回転を停止するときはもう一度スイッチ８ｃを押し
て、ウェハ４０の回転を止める。
は、マクロステージ上下動機構２２により検査に必要な
高さまで上昇する。検査者はジョイスティック７を操作
してマクロステージ６を揺動傾斜させることによりウェ
ハ４０の傾き角度を変えてマクロ検査を行う。また、マ
クロステージ回転用のスイッチ８ｃを押すと、制御回路
２０はパルスモータ５１に所定パルス信号を付与してマ
クロステージ６を回転させる。これにより、ウェハ４０
を回転させながら必要な検査を行う。マクロステージ６
の回転を停止するときはもう一度スイッチ８ｃを押し
て、ウェハ４０の回転を止める。
【００２３】検査者はマクロ検査によりウェハ４０の合
否が分かったら、判定スイッチ８ｄによりその合否を装
置に入力する。制御部２０は判定スイッチの入力によ
り、マクロステージ６上の合否を記憶する。そして、マ
クロステージ６をウェハ４０を載置したときと同じ基準
回転位置まで戻し、さらにマクロステージ６を下降させ
た後に吸着を解除する。この基準回転位置とはセンサ５
５が遮光盤５７を検出した時のステージの回転位置を表
し、ステージがウェハを受け渡す際には常にこの位置か
ら行うため、ウェハ裏面への吸着位置が常に同位置とな
る。次に、エアピンセット４の吸着動作を作動させるこ
とにり、エアピンセット４がウェハ４０を受け取る。こ
のとき、ウェハ４０の回転位置はマクロステージ６にウ
ェハ４０を渡した状態と同じになっているので、エアピ
ンセット４の接触部材３０はウェハ４０の裏面に対して
前とほぼ一致するように接触する。このため、接触部材
３０にダストが付着していても、ウェハ４０の裏面に対
するダストの付着を広げずにすむ。ウェハ４０はエアピ
ンセット４に吸着保持されてキャリヤ４１まで搬送さ
れ、元の位置に戻される。
否が分かったら、判定スイッチ８ｄによりその合否を装
置に入力する。制御部２０は判定スイッチの入力によ
り、マクロステージ６上の合否を記憶する。そして、マ
クロステージ６をウェハ４０を載置したときと同じ基準
回転位置まで戻し、さらにマクロステージ６を下降させ
た後に吸着を解除する。この基準回転位置とはセンサ５
５が遮光盤５７を検出した時のステージの回転位置を表
し、ステージがウェハを受け渡す際には常にこの位置か
ら行うため、ウェハ裏面への吸着位置が常に同位置とな
る。次に、エアピンセット４の吸着動作を作動させるこ
とにり、エアピンセット４がウェハ４０を受け取る。こ
のとき、ウェハ４０の回転位置はマクロステージ６にウ
ェハ４０を渡した状態と同じになっているので、エアピ
ンセット４の接触部材３０はウェハ４０の裏面に対して
前とほぼ一致するように接触する。このため、接触部材
３０にダストが付着していても、ウェハ４０の裏面に対
するダストの付着を広げずにすむ。ウェハ４０はエアピ
ンセット４に吸着保持されてキャリヤ４１まで搬送さ
れ、元の位置に戻される。
【００２４】顕微鏡装置１０による検査を行う検査モー
ドについて説明する。検査者は、上記と同じようにして
１枚のウェハのマクロ検査が終了したら、判定スイッチ
８ｄを押してその合否を装置に入力する。制御部２０は
判定スイッチ８ｄの入力により、マクロステージ６をも
との高さまで下降させるが、その前に一度オリフラ検出
部９がオリフラ４０ａを検出できる高さにてマクロステ
ージ６を回転させる。オリフラ検出部９はマクロステー
ジ６の基準回転位置に対するオリフラ４０ａの方向の角
度検出をするので、制御部２０はこの情報をメモリに格
納しておく。制御部２０はオリフラ４０ａの検出ができ
たら、前述と同じようにウェハ４０を載置したときと同
じ基準回転位置までマクロステージ６を回転させた後に
下降する。次に制御部２０はエアピンセット上下動機構
２３を作動し、エアピンセット４を上昇させてウェハを
載せるとともに吸着動作を作動させる。エアピンセット
４はその接触部材３０がウェハ４０をマクロステージ６
に載置したときと同じ部分に接触するようにしてウェハ
４０の裏面を吸着保持する。
ドについて説明する。検査者は、上記と同じようにして
１枚のウェハのマクロ検査が終了したら、判定スイッチ
８ｄを押してその合否を装置に入力する。制御部２０は
判定スイッチ８ｄの入力により、マクロステージ６をも
との高さまで下降させるが、その前に一度オリフラ検出
部９がオリフラ４０ａを検出できる高さにてマクロステ
ージ６を回転させる。オリフラ検出部９はマクロステー
ジ６の基準回転位置に対するオリフラ４０ａの方向の角
度検出をするので、制御部２０はこの情報をメモリに格
納しておく。制御部２０はオリフラ４０ａの検出ができ
たら、前述と同じようにウェハ４０を載置したときと同
じ基準回転位置までマクロステージ６を回転させた後に
下降する。次に制御部２０はエアピンセット上下動機構
２３を作動し、エアピンセット４を上昇させてウェハを
載せるとともに吸着動作を作動させる。エアピンセット
４はその接触部材３０がウェハ４０をマクロステージ６
に載置したときと同じ部分に接触するようにしてウェハ
４０の裏面を吸着保持する。
【００２５】制御部２０はエアピンセット４が片方の吸
着部４ａでウェハを吸着保持したら、エアピン回転機構
２６を作動させることにより、これを顕微鏡装置１０側
に搬送する。顕微鏡装置１０ではマクロステージ６と同
様に顕微鏡ステ−ジ１１の回転角度をセンサ６１が検出
し、顕微鏡ステ−ジ１１はパルスモータ６０により所定
の基準回転位置（マクロステージ６側の接触部材５０と
顕微鏡ステージ１１側の接触部材１２が同位置となる位
置）で待機する。次に、制御部２０はエアピンセット上
下動機構２３を作動して、エアピンセット４を下降させ
ウェハを顕微鏡ステージに載せる。続いて、制御部２０
は電磁弁２５ｃを作動して顕微鏡ステ−ジ１１にウェハ
を吸着保持させる。その後、先程メモリに格納しておい
たオリフラ４０ａの角度情報に基づき、オリフラ４０ａ
が検査者側に向くように（この方向は予め設定しておく
ことができる）顕微鏡ステ−ジ１１を回転させる。顕微
鏡検査を行うに際して、このようにオリフラ４０ａの方
向を所定の方向におくことは、オリフラ４０ａを基準に
して施されるパターン等の検査に都合が良いからであ
る。
着部４ａでウェハを吸着保持したら、エアピン回転機構
２６を作動させることにより、これを顕微鏡装置１０側
に搬送する。顕微鏡装置１０ではマクロステージ６と同
様に顕微鏡ステ−ジ１１の回転角度をセンサ６１が検出
し、顕微鏡ステ−ジ１１はパルスモータ６０により所定
の基準回転位置（マクロステージ６側の接触部材５０と
顕微鏡ステージ１１側の接触部材１２が同位置となる位
置）で待機する。次に、制御部２０はエアピンセット上
下動機構２３を作動して、エアピンセット４を下降させ
ウェハを顕微鏡ステージに載せる。続いて、制御部２０
は電磁弁２５ｃを作動して顕微鏡ステ−ジ１１にウェハ
を吸着保持させる。その後、先程メモリに格納しておい
たオリフラ４０ａの角度情報に基づき、オリフラ４０ａ
が検査者側に向くように（この方向は予め設定しておく
ことができる）顕微鏡ステ−ジ１１を回転させる。顕微
鏡検査を行うに際して、このようにオリフラ４０ａの方
向を所定の方向におくことは、オリフラ４０ａを基準に
して施されるパターン等の検査に都合が良いからであ
る。
【００２６】検査者はハンドル１４を使用しスライドテ
ーブル１３を移動して、検査ステージ１１に吸着された
ウェハを顕微鏡部１６の下に位置させ、顕微鏡検査を行
う。また、必要ならば操作パネル８の回転スイッチ８ｅ
を押して顕微鏡ステージ１１を回転させてウェハを検査
する。
ーブル１３を移動して、検査ステージ１１に吸着された
ウェハを顕微鏡部１６の下に位置させ、顕微鏡検査を行
う。また、必要ならば操作パネル８の回転スイッチ８ｅ
を押して顕微鏡ステージ１１を回転させてウェハを検査
する。
【００２７】検査者は、検査が終了したらウェハの受け
渡し位置である左奥にスライドテーブル１３とともに顕
微鏡ステージ１１に移動する。顕微鏡ステージ１１が所
定の位置に位置したことをマイクロスイッチ６２が検知
すると、制御部２０はその検知信号に基づいてウェハを
最初に吸着した回転位置（初期化方向）に顕微鏡ステ−
ジ１１を戻す。その後エアピンセット４の吸着動作をに
開始してウェハを吸着保持し、エアピンセット回転機構
２６、移動機構２１を動作させて検査済のウェハをキャ
リヤ４１に収納する。
渡し位置である左奥にスライドテーブル１３とともに顕
微鏡ステージ１１に移動する。顕微鏡ステージ１１が所
定の位置に位置したことをマイクロスイッチ６２が検知
すると、制御部２０はその検知信号に基づいてウェハを
最初に吸着した回転位置（初期化方向）に顕微鏡ステ−
ジ１１を戻す。その後エアピンセット４の吸着動作をに
開始してウェハを吸着保持し、エアピンセット回転機構
２６、移動機構２１を動作させて検査済のウェハをキャ
リヤ４１に収納する。
【００２８】このように、制御部２０はマクロステージ
６及び顕微鏡ステージ１１が常に所定の回転位置に位置
した後にエアピンセット４へのウェハの受け渡しを行う
ように制御する。この制御を行わないときには、図７の
ようにウェハの裏面に接触する各接触部材３０、５０、
１２の位置が異なるのに対して、図６のように接触部材
５０と接触部材１２は同じ位置に接触し、また接触部材
３０も前の位置とほぼ同じ位置に接触してウェハの搬送
を行う。このためウェハ裏面へ付着するダストの拡散を
最小限に抑えることができ、キャリヤへの収納時やその
他の工程において、ウェハ表面に施されるＩＣパターン
へのダストの影響を少なくすることができる。
６及び顕微鏡ステージ１１が常に所定の回転位置に位置
した後にエアピンセット４へのウェハの受け渡しを行う
ように制御する。この制御を行わないときには、図７の
ようにウェハの裏面に接触する各接触部材３０、５０、
１２の位置が異なるのに対して、図６のように接触部材
５０と接触部材１２は同じ位置に接触し、また接触部材
３０も前の位置とほぼ同じ位置に接触してウェハの搬送
を行う。このためウェハ裏面へ付着するダストの拡散を
最小限に抑えることができ、キャリヤへの収納時やその
他の工程において、ウェハ表面に施されるＩＣパターン
へのダストの影響を少なくすることができる。
【００２９】以上の実施例おいて検査ステージを回転駆
動させるためにパルスモータを使用したが、ＤＣモータ
やエンコーダを組み合わせて使用してもよい。また、回
転位置検出のためのセンサには光の反射を利用する反射
センサや磁気を使用した磁気センサー、またはマイクロ
スイッチ等を使用してもよい。
動させるためにパルスモータを使用したが、ＤＣモータ
やエンコーダを組み合わせて使用してもよい。また、回
転位置検出のためのセンサには光の反射を利用する反射
センサや磁気を使用した磁気センサー、またはマイクロ
スイッチ等を使用してもよい。
【００３０】また、今回の実施例においてはパルスモー
タと回転位置検出のためのセンサを組合わせて使用して
いるがパルスモータだけでも回転位置を知ることが可能
である。
タと回転位置検出のためのセンサを組合わせて使用して
いるがパルスモータだけでも回転位置を知ることが可能
である。
【００３１】さらに今回の実施例においての搬送はキャ
リッジから顕微鏡ステージまでであったが、さらに多く
の検査ステージ、エアピンセット等を組み合わた装置に
使用することも可能である。
リッジから顕微鏡ステージまでであったが、さらに多く
の検査ステージ、エアピンセット等を組み合わた装置に
使用することも可能である。
【００３２】さらに、検査ステージのウェハ裏面への接
触面を考えた場合には、常に初期回転位置に回転しなく
ても、接触部材の配置角度を考慮した角度の回転でウェ
ハの受け渡しをするようにしても良い。
触面を考えた場合には、常に初期回転位置に回転しなく
ても、接触部材の配置角度を考慮した角度の回転でウェ
ハの受け渡しをするようにしても良い。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ウェハ搬送時におけるウェハ裏面へのダスト付着の拡散
を抑えることができる。
ウェハ搬送時におけるウェハ裏面へのダスト付着の拡散
を抑えることができる。
【図１】実施例の装置を上方から見た図（ａ）と、正面
側から見たときの図（ｂ）である。
側から見たときの図（ｂ）である。
【図２】ウェハ搬送装置本体の外観斜視図である。
【図３】エアピンセット、マクロステージ及び顕微鏡ス
テージに配置される接触部材を説明する図である。
テージに配置される接触部材を説明する図である。
【図４】マクロステージの回転機構を示す図である。
【図５】装置の制御系の要部構成図である。
【図６】実施例の装置による搬送時の、ウェハ裏面に対
する各接触部材の接触状態を示した図である。
する各接触部材の接触状態を示した図である。
【図７】各検査ステージの回転制御を行わないときの、
ウェハ裏面に対する各接触部材の接触状態を示した図で
ある。
ウェハ裏面に対する各接触部材の接触状態を示した図で
ある。
４ エアピンセット ６ マクロステージ １０ 顕微鏡装置 １１ 顕微鏡ステージ １２ 接触部材 ３０ 接触部材 ４０ 半導体ウェハ ５０ 接触部材
Claims (4)
- 【請求項１】 半導体ウェハを収納するキャリヤと、半
導体ウェハを加工・検査又は受け渡しをするためのステ
ージと、ウェハの裏面を吸着保持してステージとキャリ
ッジとの間で半導体ウェハを搬送する搬送手段を備える
半導体ウェハ搬送装置において、前記ステ−ジを回転さ
せる回転手段と、ウェ−ハ受け取り時のステ−ジの回転
角とステ−ジの回転角の変化を検知する検知手段と、前
記搬送手段がステ−ジからウェ−ハを受け取る場合に前
記検知結果に基づいて半導体ウェハと搬送手段の接触部
をほぼ同じとするように前記回転手段を回転させる制御
手段と、を備えしたことを特徴とする半導体ウェハ搬送
装置。 - 【請求項２】 請求項１の半導体ウェハ搬送装置におい
て、前記ステージは複数のステ−ジを備え、該複数のス
テ−ジはほぼ同一位置にウェハの裏面との接触部を持つ
ことを特徴とする半導体ウェハ搬送装置。 - 【請求項３】 請求項２の半導体ウェハ搬送装置におい
て、前記複数のステ−ジはウェハの外観をマクロ的に検
査するマクロ検査用ステージと、顕微鏡装置によりウェ
ハの外観を検査するための顕微鏡検査用ステージを含む
ことを特徴とする半導体ウェハ搬送装置。 - 【請求項４】 請求項１の半導体ウェハ搬送装置におい
て、前記制御手段は回転角の変化を無くするように前記
回転手段を回転させることを特徴とする半導体ウェハ搬
送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19068997A JPH1126549A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 半導体ウェハ搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19068997A JPH1126549A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 半導体ウェハ搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1126549A true JPH1126549A (ja) | 1999-01-29 |
Family
ID=16262238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19068997A Pending JPH1126549A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 半導体ウェハ搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1126549A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007281030A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Sumco Corp | シリコンウェーハの保持方法 |
| JP2009250972A (ja) * | 2008-04-03 | 2009-10-29 | Korea Techno Co Ltd | 半導体ウエーハ汚染物質測定装置のスキャンステージ |
| CN106142392A (zh) * | 2016-08-16 | 2016-11-23 | 昆山倚天自动化科技股份有限公司 | 一种注塑成型产品的定向上料装置 |
| CN117174640A (zh) * | 2023-09-06 | 2023-12-05 | 南通华隆微电子股份有限公司 | 一种夹持式对晶圆片进行小角度调整的晶圆片盒 |
-
1997
- 1997-06-30 JP JP19068997A patent/JPH1126549A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007281030A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Sumco Corp | シリコンウェーハの保持方法 |
| JP2009250972A (ja) * | 2008-04-03 | 2009-10-29 | Korea Techno Co Ltd | 半導体ウエーハ汚染物質測定装置のスキャンステージ |
| CN106142392A (zh) * | 2016-08-16 | 2016-11-23 | 昆山倚天自动化科技股份有限公司 | 一种注塑成型产品的定向上料装置 |
| CN117174640A (zh) * | 2023-09-06 | 2023-12-05 | 南通华隆微电子股份有限公司 | 一种夹持式对晶圆片进行小角度调整的晶圆片盒 |
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