JPH11263874A - 立体障害性アミンおよび紫外線吸収剤の混合物によるポリカ―ボネ―ト／ａｂｓブレンドの安定化 - Google Patents

立体障害性アミンおよび紫外線吸収剤の混合物によるポリカ―ボネ―ト／ａｂｓブレンドの安定化

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JPH11263874A
JPH11263874A JP10377871A JP37787198A JPH11263874A JP H11263874 A JPH11263874 A JP H11263874A JP 10377871 A JP10377871 A JP 10377871A JP 37787198 A JP37787198 A JP 37787198A JP H11263874 A JPH11263874 A JP H11263874A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 立体障害性アミンおよび紫外線吸収剤の混合
物により安定化されたポリカーボネート／ＡＢＳブレン
ドの提供。 【解決手段】 ３，３，５，５−テトラメチル−２−オ
キソ−１−ピペラジニル部分を含有する選択された非塩
基性立体障害性アミンならびに例えばベンゾトリアゾー
ル、ｓ−トリアジンおよびベンゾフェノン、特にベンゾ
フェノンおよびｓ−トリアジンのような紫外線吸収剤の
組合せにより、ＡＢＳ樹脂とポリカーボネートとのブレ
ンドは効果的に安定化される。

Description

【発明の詳細な説明】 【発明の属する技術分野】
【０００１】これまで、ポリカーボネートまたはポリカ
ーボネートおよび他のポリマーのブレンドに対して、立
体障害性アミン光安定剤を首尾よく使用することは不可
能であった。予想外にも、ある種の立体障害性アミン
は、耐衝撃性の持続性および低着色性の持続性に関して
良好な効力を供えながらも、ポリマーに対する非変質性
相互作用の好都合なバランスを提供することが見出され
た。この発見は、要求される用途、すなわち物理的性質
の持続性および低着色性の持続性が有益な特徴である透
明および着色ポリマー系の両方において、ブレンドを含
むポリカーボネートに関する市場を開くであろう。
【従来の技術】
【０００２】ポリカーボネート単独もしくは他のポリマ
ーと組合せたポリカーボネートを慣用の安定剤により安
定化させることが可能であることを示す従来技術の文献
は無数に存在する。しかしながら、ポリカーボネートお
よびスチレン系ポリマーＡＢＳ（アクリロニトリル−ブ
タジエン−スチレン）のブレンドの安定化の特殊な発表
は、Research Disclosure ，1993年10月号，第６７３〜
６７５ページにおける無名の著者によるものだけで、こ
こでは紫外線吸収剤、立体障害性アミンおよび他の添加
剤と組合せて使用することが勧められている。立体障害
性アミンは非塩基性でなければならないとは言及されて
いない。
【０００３】ポリマーブレンドは、機械的性質、溶融プ
ロセスおよびコストについての有益なバランスを提供す
る。結果としてブレンドは工業的に幅広く受け入れられ
ている。一つの例はスチレン系変性ゴム、例えばポリ
（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン）（以後Ａ
ＢＳとする）によりブレンドされたポリカーボネート
（ＰＣ）である。このＰＣは高い機械的および熱的性質
を提供し、ＡＢＳは（正味のＰＣに対するよりも）低い
加工温度を許容させ、そして従来技術で見られたような
低温の衝撃強さの増加を分け与える。
【０００４】ＰＣブレンドは要求される用途、例えば自
動車部品、電動工具、および商業装置の外装などにおい
て幅広く使用される。特に、自動車明細書はＰＣ／ＡＢ
ＳおよびＰＣ／ＰＢＴブレンドに対する色の持続性（脱
色の欠如）に関して厳重である。The General Motors E
ngineering Materials and Processes PLASTICS Standa
rds ，1995年６月号においては、着色ＰＣ／ＡＢＳに関
する色変化試験値デルタＥが求められ、これは内部キセ
ノンアーク装置において２６３ｋＪ／ｍ2 後の最大３．
０に等しい。
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】しかしながら、地上の光線に対するＰＣブ
レンドのふさわしい安定化は問題を残している。当該分
野の現行の状態は紫外線吸収剤の使用のみである。その
ような紫外線吸収剤の高濃度の使用がしばしば必要とさ
れ、結果としてそのようなＰＣブレンドでは高いコスト
が生じてしまう。紫外線光のスクリーニングにおいて紫
外線吸収剤は有益であるが、紫外線吸収剤は、ブレンド
中のＰＣまたはＡＢＳ成分の紫外線誘因または熱誘因分
解から生じるラジカル種を捕捉する作用を行わない。立
体障害性アミンは、P.M.Klemchuk等，Makromol. Chem.,
Makromol Sympos. 28, 117(1989) に示されたように、
例えばポリオレフィン、ゴムおよびスチレン系コポリマ
ーおよびＡＢＳを含むターポリマーなどの多くの種類の
ポリマー材料のためのラジカル捕捉剤として非常に公知
である。
【０００６】しかしながら、G.L.Gaines, Jr.Polymer D
egradation and Stability, 27,13(1990) により示され
たように、立体障害性アミン内の塩基性の窒素原子に係
る化学反応に敏感なポリマー基材では、立体障害性アミ
ンを使用することは不可能である。そのようなポリマー
基材にはＰＣが含まれ、そしてあるいはポリエステルも
含まれる。事実、M.Clauss等，"Stabilization of PC/A
BS blend with polymer bound hindered amine light s
tabilizer"，Additives 95 meeting，２月２２−２４
日，１９９５年により示されたように、ＰＣ／ＡＢＳブ
レンド中に当該分野で公知の立体障害性アミン［ビス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）セバケート，登録商標チヌビン(TINUVIN) ７７０，
チバ（Ciba）］を取り込ませた場合、機械的性質に関す
る重大な減少が報告されている。
【０００７】このＰＣ／ＡＢＳブレンドは、たった数日
間の促進曝露状態にさらした後ですらも、有用な機械的
性質の損失に対して無抵抗である。性質に関するこのよ
うな損失は部分的に、ＡＢＳのポリブチレン部分の紫外
線誘因光酸化によるものであろうと、J.D.Cooney，Poly
mer Engineering and Science ，22，492(1982) および
J-L.Gaudette等，Polymer Degradation and Stability
，48，457(1995) により報告されている。立体障害性
アミンまたは紫外線吸収剤との組合せによる立体障害性
アミンの使用により地上の光線に対してＡＢＳを安定化
することが可能であることは公知であるが、上記の理由
によりポリカーボネートが複合成分ポリマーブレンドに
存在する場合、そのような立体障害性アミンをＡＢＳを
安定化させるために使用することはできない。従ってＰ
Ｃブレンド工業は、ブレンド中でポリマーと有害な反応
を示さない適当な立体障害性アミンを未だに必要として
いる。
【０００８】驚くべきことに、有害な様態において相互
作用を示さない、従ってポリカーボネートブレンドに適
当なある種の立体障害性アミンが存在する。３，３，
５，５−テトラメチル−２−ピペリジノン型構造（登録
商標グッドライト(GOODRITE)化合物）を基準とした立体
障害性アミンは、ＰＣ／ＡＢＳブレンド中で紫外線光に
対する安定剤として優れた効力を論証する。
【０００９】これらの登録商標グッドライト(GOODRITE)
型立体障害性アミンは、単独では紫外線光に対するポリ
マーブレンドのふさわしい安定化を提供するために十分
ではない。しかしながら紫外線吸収剤およびこれらの立
体障害性アミンの組合せは、そのようなポリマーブレン
ドのために紫外線光に対してふさわしい安定化を提供す
る。明らかに全ての先行技術において足りなかったこと
は、ポリマーまたはポリマーブレンドを安定化させるた
めにこのような立体障害性アミンおよび紫外線吸収剤の
組合せを使用することのいずれかの議論である。
【００１０】米国特許第４７５３９７９号では、一連の
ポリマー基材を安定化させるために４−アシル−２−ピ
ペリジノン型化合物を使用することが開示されている。
米国特許第４２４０９６１号；第４２９２２４０号；第
４４８００９２号；第４７２２８０６号；第５０７１９
８１号；および第５０９８９４４号ならびにＰＣＴＷＯ
第９２／０４４０７号には、登録商標グッドライト(GOO
DRITE)型立体障害性アミンが開示されている。これらの
安定剤は第一にポリオレフィン、ポリアセタール（Ｕ．
Ｓ．第５０５９６４４号）およびポリグルタルイミド
（ＥＰ第５７７２９２号）において有用であるとして開
示されている。それらはポリマーまたはポリマーブレン
ドを安定化させるために紫外線吸収剤とともに使用が可
能であるか、または使用しなければならないという特殊
な開示はない。
【課題を解決するための手段】
【００１１】本発明は、（ａ）ポリカーボネートならび
にポリエステル、スチレン系コポリマー、ゴムおよび塩
化ビニルポリマーまたはコポリマーからなる群から選択
された第二ポリマーのブレンド；ならびに（ｂ）３，
３，５，５−テトラメチル−２−オキソ−１−ピペラジ
ニル部分を含有する非塩基性立体障害性アミンおよび紫
外線吸収剤の混合物の有効安定化量を含み、熱および光
の有害な影響に対して安定化された組成物に関する。
【発明の実施の形態】
【００１２】ブレンド中の第二ポリマーは、アクリロニ
トリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ樹脂）、アクリ
ロニトリル−スチレン−アクリレート（ＡＳＡ樹脂）、
アクリロニトリル−ＥＰＤＭ−スチレン（ＡＥＳ樹脂；
ＥＰＤＭはエチレン−プロピレン−ジエンエラストマー
を意味する。）、スチレン−アクリロニトリル（ＳＡＮ
樹脂）、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（ブチ
レンテレフタレート）、メチルメタクリレート−ブタジ
エン−スチレン（ＭＢＳ樹脂）、アクリルゴム、ニトリ
ルゴム、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリ（塩化
ビニル）およびＡＢＳ樹脂；ならびにポリ（塩化ビニ
ル）およびＡＳＡ樹脂；からなる群から選択され、好ま
しくはＡＢＳ樹脂である。
【００１３】本発明で特に使用される立体障害性アミン
は３，３，５，５−テトラメチル−２−オキソ−１−ピ
ペラジニル部分を含有するものを含み、例えば次式（Ｉ
ａ）
【化５】 〔式中、Ｅは水素原子、Ｏ・、ヒドロキシル基、炭素原
子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし８
のアルケニル基、炭素原子数３ないし８のアルキニル
基、炭素原子数７ないし１２のアルアルキル基、炭素原
子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし
８のシクロアルコキシ基、炭素原子数７ないし９のフェ
ニルアルコキシ基、炭素原子数１ないし８のアルカノイ
ル基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル基、炭素原
子数１ないし１８のアルカノイルオキシ基、グリシジル
基または式−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）−Ｚ（式中Ｚは水素原
子、メチル基もしくはフェニル基を表す。）で表される
基；好ましくは水素原子、炭素原子数１ないし４のアル
キル基、アリル基、ベンジル基、アセチル基またはアク
リロイル基を表し；そしてＲは水素原子またはメチル基
を表し；ｐは１または２であり、ｐが１の場合、Ｔ4 は
水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素
原子数２ないし１８のアルケニル基、プロパルギル基、
グリシジル基を表し；ｐが２の場合、Ｔ4 は炭素原子数
１ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２
のアルケニレン基またはキシリレン基を表す。〕で表さ
れる化合物；または次式（Ｉｂ）
【化６】 〔式中、ｎは数１または２であり、そしてＧ18は次式
【化７】 （式中、Ｇは−Ｏ−または−ＮＤ’’’−を表し、Ａは
炭素原子数２ないし６のアルキレン基もしくは−（ＣＨ
2 ）3 −Ｏ−または次式
【化８】 で表される基により置換された炭素原子数２ないし６の
アルキレン基を表し、そしてｘ1 は数０または１であ
り、Ｄ’’’は水素原子、炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、炭素原子数２ないし５のヒドロキシアルキル
基または炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表
す。）で表される基を表し；Ｇ19はＧ18と同様である
か、あるいは基−Ｎ（Ｇ21）（Ｇ22）、−ＯＧ23、−Ｎ
（Ｈ）（ＣＨ2 ＯＧ23）または−Ｎ（ＣＨ2 ＯＧ23）2
の１個を表し、Ｇ20は、ｎが１である場合はＧ18または
Ｇ19と同様であり、そしてｎが２である場合は−Ｇ−Ｄ
IV−Ｇ−基（式中、ＤIVは炭素原子数２ないし８のアル
キレン基または−ＮＧ21−基の１もしくは２個により中
断された炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表
す。）を表し、Ｇ21は炭素原子数１ないし１２のアルキ
ル基、シクロヘキシル基、ベンジル基または炭素原子数
１ないし４のヒドロキシアルキル基を表し；Ｇ22は炭素
原子数１ないし１２のアルキル基、シクロヘキシル基、
ベンジル基または炭素原子数１ないし４のヒドロキシア
ルキル基を表し、そしてＧ23は水素原子、炭素原子数１
ないし１２のアルキル基またはフェニル基を表すか、あ
るいはＧ21およびＧ22は一緒に炭素原子数４ないし５の
アルキレン基または炭素原子数４ないし５のオキサアル
キレン基、例えば−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ
2 −、あるいは式−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｎ（Ｅ）−ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 −で表される基を表す。〕で表される化合物；ある
いはトリアジン部分を超えて結合した３，３，５，５−
テトラメチル−２−オキソ−１−ピペラジニル基を含む
ポリマー化合物である。
【００１４】特に重要なものは以下に記載する化合物； （ａ）１，３，５−トリス［Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−
（２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン
−４−イル）アミノ］−ｓ−トリアジン（登録商標グッ
ドライト(GOODRITE)３１５０，グッドリッチ(Goodric
h)）； （ｂ）１，３，５−トリス［Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−
（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペラジン−３−
オン−４−イル）アミノ］−ｓ−トリアジン（登録商標
グッドライト(GOODRITE)３１５９，グッドリッチ(Goodr
ich)）； （ｃ）１，２−エタン−ビス（Ｎ−３，３，５，５−テ
トラメチル−２−ピペラゾン）（登録商標グッドライト
(GOODRITE)３０３４，グッドリッチ(Goodrich)）； （ｄ）Ｎ−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
３，３，５，５−テトラメチル−２−ピペラジノン
（Ｕ．Ｓ．第４２４０９６１号参照）； （ｅ）１，３，５−トリス｛１−メチルプロピル［２−
（３，３，５，５−テトラメチル−２−オキソ−１−ピ
ペラジニル）エチルアミノ）−ｓ−トリアジン； （ｆ）１，３，５−トリス｛１，３−ジメチルブチル
［２−（３，３，５，５−テトラメチル−２−オキソ−
１−ピペラジニル）エチルアミノ）−ｓ−トリアジン； （ｇ）１，１’，１’’，１’’’−｛１，４−ピペラ
ジニル−ｓ−トリアジン−２，４，６−トリイル ビス
［（イソプロピルアミノ）−１，２−エタンジイル］｝
テトラキス（３，３，５，５−テトラメチル−２−オキ
ソ−ピペラジン）； （ｈ）１，１’，１’’，１’’’−｛１，４−ピペラ
ジニル−ｓ−トリアジン−２，４，６−トリイル ビス
［（シクロヘキシルアミノ）−１，２−エタンジイ
ル］｝テトラキス（３，３，５，５−テトラメチル−２
−オキソ−ピペラジン）；または （ｉ）ポリ｛［６−（１−メチルプロピル［２−（３，
３，５，５−テトラメチル−２−オキソ−１−ピペラジ
ニル）エチル］アミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジ
イル］イミノ−１，６−ヘキサンジイルアミノ｝であ
る。
【００１５】最も特に、立体障害性アミンは、１，３，
５−トリス［Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（２，２，６，
６−テトラメチルピペラジン−３−オン−４−イル）ア
ミノ］−ｓ−トリアジン（登録商標グッドライト(GOODR
ITE)３１５０）；または１，３，５−トリス［Ｎ−シク
ロヘキシル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル
ピペラジン−３−オン−４−イル）アミノ］−ｓ−トリ
アジン（登録商標グッドライト(GOODRITE)３１５９）で
ある。これらの化合物は、ＥＰ第５７７２９２号におい
て総称的に報告され、そしてＵ．Ｓ．第４４８００９２
号において開示される。この方法で有用な紫外線吸収剤
はベンゾトリアゾール、ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−
トリアジンまたはベンゾフェノン、例えば４−オクチル
オキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノンである。ある種
のｓ−トリアジンおよびベンゾトリアゾールは特に効力
がある。
【００１６】本発明において特に効果的な紫外線吸収剤
は、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフ
ェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（登録商標チヌビ
ン(TINUVIN) ２３４，チバ（Ciba））；２−（２−ヒド
ロキシ−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾト
リアゾール（登録商標チヌビン(TINUVIN) ３２９，チバ
（Ciba））；２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−
５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル（登録商標チヌビン(TINUVIN) ９２８，チバ（Cib
a））；および２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロ
キシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン
（登録商標チヌビン(TINUVIN) １５７７，チバ（Cib
a））である。
【００１７】本発明は、ポリカーボネート（ＰＣ）およ
びＡＢＳのブレンドに対して紫外線吸収剤および登録商
標グッドライト(GOODRITE)３１５０または登録商標グッ
ドライト(GOODRITE)３１５９立体障害性アミン光安定剤
の組合せを使用することを開示する。これらのポリマー
ブレンドの用途のための当該分野で現行の状態の立体障
害性アミンと比較して、幾つかの要因が登録商標グッド
ライト(Goodrite)立体障害性アミンに予想外の優秀な安
定化効果を発現させるようである。 １．登録商標グッドライト(GOODRITE)３１５０および登
録商標グッドライト(GOODRITE)３１５９は、ｐＫａ値と
して示されるような低い塩基性を示す（下記の表１参
照）。登録商標グッドライト(GOODRITE)３１５０と同程
度のｐＫａ値を示す他の立体障害性アミンは存在する
が、下記に示す追加理由のため、これらの低塩基性立体
障害性アミンはＰＣ／ＡＢＳブレンドに対して十分な安
定化を提供しない。
【００１８】２．また本発明で使用される立体障害性ア
ミンは低揮発性も示し、そしてＴＧＡにより測定された
ように既存のポリマーブレンドに必要とされる高い加工
温度において、安定剤分子自体に関する化学的安定性を
も示す。慣用の立体障害性アミンは非常に揮発性である
か、またはそのような加工温度では分解されるため、既
存のポリマーブレンドのための効果的な安定剤としては
除外される（表１参照）。 ３．また本発明で使用される立体障害性アミンは、（押
出または射出成形による）最終製品への加工段階におけ
るポリマーブレンドの溶融粘度に最小または無視しうる
影響しか示さない。幾つかの慣用の立体障害性アミン
は、加工段階においてポリカーボネート成分の化学的分
解を引き起こし、そしてこのようなことから条件にかな
う品質を有するポリマーブレンドの製造には無効であ
る。慣用の立体障害性アミンおよびポリカーボネートの
有害な相互作用は上記で示す通り公知である。
【００１９】
【表１】
【００２０】登録商標チヌビン(TINUVUN) ７７０はビス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）セバケートを表す。登録商標チヌビン(TINUVUN) ６
２２は１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６
−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンおよびスク
シン酸の縮合生成物を表す。登録商標チヌビン(TINUVU
N) １２３はビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，
６−テトラメチルピペロジン−４−イル）セバケートを
表す。登録商標ホスタビン(HOSTAVIN)N-30はポリマー性
立体障害性アミンである。
【００２１】測定された性能基準は、変色の速度および
広がり（黄色度指数およびデルタＥ）ならびにキャピラ
リー流動計により測定された溶融安定性を含む。性能デ
ータは、重量比５０／５０で押出されたＰＣおよびＡＢ
Ｓのブレンドの、そのままのものおよびチタニウムジオ
キシドで着色されたもので得られる。追加の性能データ
は、チタニウムジオキシドで着色された商用グレードの
ＰＣ／ＡＢＳ、登録商標サイコロイ(CYCOLOY) ＭＣ−８
００２を使用することにより得られる。
【００２２】最適な安定化性能は、登録商標グッドライ
ト(GOODRITE)型立体障害性アミン（ＨＡＬＳ）を紫外線
吸収剤と組み合わせて使用したときに達成される。立体
障害性アミンが単独で安定剤である場合、非塩基性立体
障害性アミンの場合ですら、より小さい広がり、より大
きな変色が促進曝露（キセノンアーク）にさらした後の
ＰＣ／ＡＢＳプラックに生じる。ポリマーブレンドを基
準として、立体障害性アミンに関する有用な充填範囲は
０．０５重量％ないし５重量％、好ましくは０．２５重
量％ないし２重量％の範囲である。ポリマーブレンドを
基準として、有用な紫外線吸収剤に関する有用な充填範
囲は０．０５重量％ないし５重量％、好ましくは０．２
５重量％ないし２重量％の範囲である。
【００２３】ここで最も興味深い登録商標グッドライト
(GOODRITE)型の立体障害性アミンは、ある種のアルキル
化２−ピペラジノン化合物の一般的な種類のものであ
り、特にトリアジン環を含有する複合環化合物のもの
（例えば登録商標グッドライト(GOODRITE)３１５０また
は登録商標グッドライト(GOODRITE)３１５９）である。
同様に３，３，５，５−テトラメチル−２−ピペリジノ
ン構造を含む他の立体障害性アミン化合物は同様の性能
を示すものと予想される。米国特許第４９２９６５３号
参照。適当であると考えられている他の立体障害性アミ
ンは、２−ケト−１，４−ジアザシクロアルカン（米国
特許第４１９０５７１号参照）および置換ピペラジンジ
オン（米国特許第３９１９２３４号、第３９２０６５９
号および第３９２８３３０号参照）である。
【実施例】
【００２４】以下の例は立証する目的のためだけに意味
されるものであり、いずれかのどのような方法にも本発
明の範囲を限定するために解釈されるものではない。材料および実験方法 全ての添加剤は市販の材料である。チタニウムジオキシ
ドはデュポン(DuPont)の登録商標タイ−ピュア(Ti-PUR
E) Ｒ−１０４である。ポリカーボネート（ＰＣ）は登
録商標レキサン(LEXAN) １４１−１１１ナチュラルであ
り；ＡＢＳはダウ(Dow) の登録商標マグナム(MAGNUM)３
４２ＥＺである。スクリューデザイン１８ｍｍ、共回転
式、非かみ合い式の二軸スクリュー押出機を使用し、加
工温度２４０℃、ダイ溶融温度２６０℃で、一過程でポ
リマーおよび添加剤を押出混合する。アイゾットバー状
（２．５”Ｌ×０．５”Ｗ×０．１５”Ｗ）の射出成形
は、ボイ(BOY) ３０マシンにおいて、バレル温度４７５
−５１５ OＦ、ダイ温度５１５ OＦで行われる。
【００２５】促進曝露は、アトラス(Atlas) Ｃｉ６５Ａ
ウェザー−オーメーター（“ＸＡＷ”）を使用して、"
乾式ＸＡＷ”モード（ＡＳＴＭ Ｇ２６−９０，方法
Ｃ）もしくは室内自動（“ＩＡＸＡＷ”）のどちらかで
操作されて行われる（ブラックパネル温度８９℃、光／
闇サイクル３．８時間／１．０時間；幅射照度０．５５
ワット／ｍ2 、内部フィルター−水晶、外部フィルター
−ハイボレート）。黄色度指数およびデルタＥは、１０
度で操作され、小面積ビュー、鏡面を含むクロマ(Chrom
a)−センサーＣＳ−５熱量計を使用して、ＡＳＴＭ Ｄ
−１９２５により測定される。
【００２６】チップの耐衝撃性は、３０ｆｔ−ｌｂ重量
を使用してＴＭＩモニター／インンパクトテスターにお
いてＡＳＴＭ Ｄ−４５０８−９０により測定される。
ＡＳＴＭ Ｄ−４５０８−９０の４．６節によると、衝
撃強さの結果は完全な破壊、部分的な破壊もしくは非破
壊として報告され、非破壊試料は最も望ましい耐衝撃性
の持続性を示し、部分的な破壊は次に望ましい耐衝撃性
の持続性を示す。提供されたデータは、それぞれの構造
物に対する１０回の繰り返し試料の平均である。溶融レ
オロジーは、１０００ポンドロードセル、穴の直径０．
０１５インチおよび穴の長さ１００００インチのダイを
備え付けたカイエネスギャラクシー(Kayeness Galaxy)
Ｖキャピラリー流動計を使用して、一定の試験温度で操
作する。試料を窒素雰囲気下で真空オーブン中で前乾燥
し、レオロジー試験の前に１００ｐｐｍより小さい分析
モイスチャーレベルとする。
【００２７】立体障害性アミンのｐＫａ測定は非水性の
滴定により得られる。水の中での公知のｐＫａ値を有す
る有機参照物質を非水系メディア（１：１アセトニトリ
ル：クロロホルムおよび０．１Ｎ過塩素酸／ジオキサン
滴定系）に滴下し、ｐＫａに対する非水系の半−中和位
置（ＨＮＰ）検量線のプロットを作成する。次いでＨＮ
Ｐを決定するために“未知の”立体障害性アミンを滴定
し、そしてこの検量線プロットから相当するｐＫａを得
るために推測する。立体障害性アミンに関する重量損失
データは、窒素雰囲気において走査速度５℃／分で操作
されたデュポン(DuPont)のモデル２１００アナライザー
で、アルミナパン中に４−５ｍｇの試料を使用して、熱
重量分析により得られる。
【００２８】以下の試験で使用された安定剤は；登録商
標チヌビン(TINUVIN) ２３４（チバ(Ciba)）は２−（２
−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２
Ｈ−ベンゾトリアゾール；登録商標チヌビン(TINUVIN)
７７０（チバ(Ciba)）はビス（２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン−４−イル）セバケート；登録商標チ
ヌビン(TINUVIN) ６２２（チバ(Ciba)）は１−（２−ヒ
ドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４
−ヒドロキシピペリジンおよびスクシン酸の重縮合生成
物；登録商標チヌビン(TINUVIN) １２３（チバ(Ciba)）
はビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン−４−イル）セバケート；登録商標チ
マソルブ(CHIMASSORB)９４４（チバ(Ciba)）は４，４’
−ヘキサメチレン−ビス（アミノ−２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジン）および２，４−ジクロロ−６−
第三−オクチルアミノ−ｓ−トリアジン；登録商標ホス
タビン(HOSTAVIN)Ｎ−３０（ヘキスト(Hoechst))は４，
４−（１−オキサ−２，２−ウンデカメチレン−３−ア
ザ−３−Ｒ−４−カルボニルテトラチレン）−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジンから誘導されたポリマ
ー性立体障害性アミン；登録商標グッドライト(GOODRIT
E)３１５０（グッドリッチ(Goodrich)）は１，３，５−
トリス［Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン−３−オン−４−イル）アミ
ノ］−ｓ−トリアジン；登録商標グッドライト(GOODRIT
E)３１５９（グッドリッチ(Goodrich)）は１，３，５−
トリス［Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（１，２，２，６，
６−ペンタメチルピペリジン−３−オン−４−イル）ア
ミノ］−ｓ−トリアジン；登録商標イルガホス(IRGAFO
S) １６８（チバ(Ciba)）はトリス（２，４−ジ−第三
ブチルフェニル）ホスファイトである。
【００２９】実施例１ 乾式ＸＡＷ−透明ポリカーボネート／ＡＢＳ チップ衝撃試験片を製造し、乾式ＸＡＷ促進曝露を受け
させる。色測定および続く破壊的チップ衝撃試験のため
に選択された間隔で試料を除去する。
【００３０】下記の表２および３に見られるように、最
良の色安定性は配合１９−１０、すなわち登録商標グッ
ドライト(GOODRITE)３１５０および登録商標チヌビン(T
INUVIN) ２３４の組合せで達成される。他の配合物も４
９９時間の経過曝露において低いデルタＥ色を示すが、
これらの配合物は重大な脱色を示し、ここでは時間の経
過につれ初期の色が霞み、脱色が進む。時間の経過によ
るいづれの変色は、安定した色の持続性を示す製品より
劣勢なものとして認められるので、脱色の影響は工業的
に問題である。
【００３１】有用な機械的性質の持続性も、チップ衝撃
強度により測定されたように、配合１９−１０に関して
が最良である。４９９時間の曝露後、登録商標グッドラ
イト(GOODRITE)３１５０および登録商標チヌビン(TINUV
IN) ２３４をそれぞれ０．７５および０．２５重量％含
むＰＣ／ＡＢＳブレンドは、試験された一連の中で唯一
の非破壊の結果を与える。全ての他の配合物と比較して
さらに高い割合の衝撃強さは配合１９−１０で観測され
た（７９．７％）。
【００３２】
【表２】
【００３３】
【表３】
【００３４】実施例２ 室内自動ＸＡＷ−透明ＰＣ／ＡＢＳ チップ衝撃試験片を製造し、室内自動キセノンアークウ
ェザー−オーメーター（ＩＡＸＡＷ）条件下で促進曝露
を受けさせる。色測定および続く破壊的チップ衝撃試験
のために、ある間隔で試験試料を除去する。より高い温
度およびより高い照射エネルギーのため、ＩＡＸＡＷ条
件は乾式キセノン（ＸＡＷ）条件よりも過酷である。
【００３５】下記の表４および５に見られるように、ま
た最良の色安定性は配合１９−１０、すなわち登録商標
グッドライト(GOODRITE)３１５０および登録商標チヌビ
ン(TINUVIN) ２３４の組合せで達成される。この配合物
も４８５時間の経過曝露において最も低いデルタＥ色を
示す。
【００３６】有用な機械的性質の持続性も、チップ衝撃
強さにより測定されたように、配合１９−１０およびＲ
４２−１３に関してが最良である。４８５時間曝露後、
登録商標グッドライト(GOODRITE)３１５０および登録商
標チヌビン(TINUVIN) ２３４をそれぞれ０．７５および
０．２５重量％含むＰＣ／ＡＢＳブレンドは、いずれの
立体障害性アミンおよび登録商標チヌビン(TINUVIN) ２
３４の組合せの中で最も高い衝撃強さを与える。
【００３７】
【表４】
【００３８】
【表５】
【００３９】実施例３ 室内自動ＸＡＷ−着色ＰＣ／ＡＢＳ 表６および７に提供されたデータは、１．０重量％のチ
タニウムジオキシド（ＴｉＯ2 ）を含む５０／５０重量
比のＰＣおよびＡＢＳのブレンドに関する。他のいずれ
の立体障害性アミンと登録商標チヌビン(TINUVIN) ２３
４との組合せと比較しても、登録商標グッドライト(GOO
DRITE)３１５０および登録商標チヌビン(TINUVIN) ２３
４の組合せ（配合物１０−９）が最も低い色変化（デル
タＥ）を示す。さらに、チップ衝撃強さが好ましく高
い。多くの配合物はチップ衝撃強さの良好な持続性を示
す。これはおそらく、いくつかのポリマーに対して紫外
線吸収剤として報告されているチタニウムジオキサンの
存在によるものであろう。試料は“失敗のため”試験さ
れないが、登録商標チヌビン(TINUVIN) ７７０を含む試
料（配合１０−４および１０−５）がキセノンアーク曝
露の５１２時間後に重大な衝撃強さを失うことは明白で
ある。
【００４０】
【表６】
【００４１】
【表７】
【００４２】実施例４ 乾式ＸＡＷ−着色登録商標サイコロイ(CYCOLOY) ＰＣ／
ＡＢＳ ＮＣ8002 表８および９に提供されたデータは、１．０重量％のチ
タミウムジオキシドを含むＰＣおよびＡＢＳの市販のブ
レンドに関するものである。他のいずれの立体障害性ア
ミンと登録商標チヌビン(TINUVIN) ２３４との組合せと
比較しても、照射曝露９２８キロジュール後において、
登録商標グッドライト(GOODRITE)３１５０または登録商
標グッドライト(GOODRITE)３１５９および登録商標チヌ
ビン(TINUVIN) ２３４の組合せ（配合６−５、６−６、
６−１０および６−１１）が最も低い色変化（デルタ
Ｅ）を示す。さらに、特に長期にわたる照射曝露の期間
において、チップ衝撃強さが好ましく高い。
【００４３】登録商標グッドライト(GOODRITE)３１５０
または登録商標グッドライト(GOODRITE)３１５９および
登録商標チヌビン(TINUVIN) ２３４を含む配合物のみ
が、６１９および９２９キロジュールの照射曝露におい
て、本質的な１００％の衝撃性の持続性を示す。衝撃強
さ持続性の低さは、登録商標チヌビン(TINUVIN) ２３４
および市販の立体障害性アミン（登録商標チヌビン(TIN
UVIN) ７７０または登録商標チマソルブ(CHIMASSORB)９
４４）の両組合せならびに配合６−７および６−１２に
おける低塩基性立体障害性アミン（登録商標ホスタビン
(HOSTAVIN)Ｎ−３０）との組合せに関して観測された。
全ての低塩基性立体障害性アミンが、効果的な光安定剤
として、または登録商標グッドライト(GOODRITE)３１５
０および３１５９がこれらの性能に対して独特な効力を
提供したような衝撃性の高い持続性を提供するものとし
て、適当であるというわけではないということが明白で
ある。
【００４４】
【表８】
【００４５】
【表９】
【００４６】実施例５ ＰＣ／ＡＢＳブレンドの溶融安定性 ポリマーまたはポリマーブレンドの加工間における分子
量の持続性は有用な製品の好都合な製造にとって重要で
ある。加工間にポリマー基材に対して有害に相互作用を
及ぼす添加剤は、最終的な有用な製品に対して価値の限
定されたもの又は価値のないものである。この有害な相
互作用は様々な因子によるものであり、例えば鎖分裂に
よりポリマーの分子量を減少をさせるような、添加剤お
よびポリマー間の化学反応が挙げられる。また、要求さ
れたポリマーの高温加工の間に添加剤自体の品質が低下
した場合、次いで添加剤自体の品質低下生成物がポリマ
ーと反目して相互作用することもあり得る。
【００４７】ポリカーボネートブレンドにおける使用の
条件にかなう立体障害性アミン安定剤は、有用な製品へ
の高温加工の間、ポリマーに対して最小の有害な相互作
用を示すべきである。上述したように、塩基性（典型的
にはｐＫａ値＞７を有する）の立体障害性アミンは、G.
L.Gaines,Jr.[Polymer Degradation and Stability,27
13-18(1990)] に示されたように特にポリマーの溶融加
工において、ポリカーボネートの品質低下を引き起こす
ことが知られている。溶融レオロジー試験は、溶融状態
のポリマーの安定性を評価するために受け入れられた方
法であり（ＡＳＴＭ Ｄ ３８３５−９０参照）、従っ
てポリマーの分子量における変化に対する添加剤の相互
作用に関する。
【００４８】ポリマー分子量、ならびに分子量変化はポ
リマーの見掛けの溶融粘度という用語で説明されうる。
試験時間の経過につれて生じる見掛けの溶融粘度の低下
はポリマーの分解および分子量の減少が生じていること
を示し、反面、時間の経過につれて生じる見掛けの溶融
粘度の増加は、架橋および分子量増加機構によりポリマ
ーの分解が生じているであろうことを示す。A.B.Auerba
ch等，Polymer Engineering and Science ，30，1041-1
050 (1990)により示された通り溶融粘度比として溶融粘
度における変化を記述することは、しばしば都合が良
い。溶融粘度比（ＭＶＲ）は、時間の経過に対する粘度
変化（η）として定義され、そしていくらかの延長され
た試験時間における溶融粘度（ηx ）を初期溶融粘度
（η0 ）で割ったものの比率として表現され、すなわち
（ηx ／η0 ）として表現される。
【００４９】予想外にも、登録商標グッドライト(GOODR
ITE)型の立体障害性アミン（特に登録商標グッドライト
３１５０）は、試験された立体障害性アミン安定剤の中
で、見掛けの溶融粘度に関して最小の有害衝撃性を示
す。表１０の結果は、重量比５０／５０のＰＣ／ＡＢＳ
試料および実施例１および２に関して示されたように取
り込まれた種々の添加剤を含むポリマー試料に関する１
０分および１５分の試験時間における溶融粘度比を示
す。これらのデータは、流動計の１０分および１５分後
の見掛けの溶融粘度における最小の変化が試料１９−９
（登録商標グッドライト(GOODRITE)３１５０が０．７５
％）および試料１９−１０［登録商標グッドライト(GOO
DRITE)３１５０（０．７５％）および登録商標チヌビン
(TINUVIN) ２３４紫外線吸収剤（０．５０％）の組合
せ］に関して生じることを示す。
【００５０】紫外線吸収剤および立体障害性アミンの組
合せを含むＰＣ／ＡＢＳを比較すると、登録商標チヌビ
ン(TINUVIN) ２３４／登録商標グッドライト(GOODRITE)
３１５０を含む試料１９−１０は、いずれの他の立体障
害性アミン／紫外線吸収剤の組合せよりも、溶融粘度に
おいて最小の減少を示す。また試料１９−１０は安定化
されていないＰＣ／ＡＢＳさえよりも低い溶融粘度にお
ける減少を示す。
【００５１】立体障害性アミンのみを含むＰＣ／ＡＢＳ
を比較すると、登録商標グッドライト(GOODRITE)３１５
０を含む試料は溶融粘度において最小の減少を示し、安
定化されていないＰＣ／ＡＢＳ（試料１９−１）以上に
改良されてさえいる。また登録商標グッドライト(GOODR
ITE)３１５０を含む試料も、登録商標グッドライト(GOO
DRITE)３１５０とほぼ同程度のｐＫａ値を有する立体障
害性アミン、登録商標チヌビン(TINUVIN) ６２２を含む
試料より、溶融粘度に関して、より好ましく、より低い
減少を示す。従って、同程度のｐＫａ値を有する全ての
立体障害性アミンがＰＣ／ＡＢＳブレンドの溶融安定性
に関して同様の影響を示すというわけではない。これは
新しい発見であり、非相互作用性の立体障害性アミンが
ポリカーボネートの鎖分裂に及ぼす影響に関して類似で
あるという従来技術とは比較される。
【００５２】
【表１０】
【００５３】実施例６ 乾式ＸＡＷ−透明ポリカーボネート／ＡＢＳ このポリカーボネートブレンドは二段階の混合から製造
される。設定温度（スロートからダイへ向けて；℃）１
７０／２００／２１５／２２５／２２５／２２５の、１
８ｍｍの二軸式スクリュー押出機で、立体障害性アミン
をＡＢＳと押出混合する。ＡＢＳを所望により再乾燥さ
せる。次いで押出物を当量のポリカーボネートと混合
し、５０／５０重量比のブレンドとする。紫外線吸収剤
も第一の混合段階の間に添加することが出来ないが、登
録商標チヌビン(TINUVIN) ２３４を第二の押出混合段階
の間に添加する。
【００５４】その後、チップ衝撃試験片を製造し、乾式
ＸＡＷ促進曝露を受けさせる。色測定および続く破壊的
チップ衝撃試験のために選択された間隔で試料を除去す
る。
【００５５】下記の表１１および表１２に見られるよう
に、登録商標チヌビン(TINUVIN) ２３４および登録商標
グッドライト(GOODRITE)３１５０の両方に関して、ほと
んど同等の色安定性が達成される。しかしながら、実施
例１に見られるように、衝撃強さに関する最良の持続性
は、登録商標チヌビン(TINUVIN) ２３４および登録商標
グッドライト(GOODRITE)３１５０の組合せである配合２
８−７において達成される。３９０時間において、登録
商標グッドライト(GOODRITE)３１５０が０．７５重量％
の最高添加量のものでは、衝撃強さに関して重大な最高
の持続性が与えられる。（配合２８−７参照）。
【００５６】
【表１１】
【００５７】
【表１２】
【００５８】実施例７ 乾式ＸＡＷ−着色された登録商標サイコロイ(CYCOLOY)
ＰＣ／ＡＢＳ ＭＣ−８００２ 表１３および表１４に提供されたデータは、１重量％の
チタニウムジオキシドを含む、登録商標レキサン(LEXA
N) １４１ＰＣおよび登録商標マグナム(MAGNUM)３４２
ＡＢＳの５０／５０重量比のブレンドに関する。混合
は、材料および実験方法の項に記載された方法と同様の
方法で実行される。登録商標グッドライト(GOODRITE)３
１５０または登録商標グッドライト(GOODRITE)３１５９
および登録商標チヌビン(TINUVIN) １５７７または登録
商標チヌビン(TINUVIN) ２３４のどちらかとの組合せ
（配合２５−５Ｂ、２５−Ｃ、２５−８Ｂまたは２５−
５Ｃ）では、登録商標チヌビン(TINUVIN) ７７０および
登録商標チヌビン(TINUVIN) １５７７または登録商標チ
ヌビン(TINUVIN) ２３４のどちらかとの組合せと比較し
て、６１２および特に９１９キロジュールの照射曝露後
において、衝撃強さに関する最高の持続性が与えられ
る。これらの配合物の多くに関して、ほとんど同様の色
が観測されてはいるが、ポリマーブレンドおよび、低い
衝撃強さの持続性を生じる配合を含む登録商標チヌビン
(TINUVIN) ７７０の間に拮抗が存在することは明白であ
る。
【００５９】
【表１３】
【００６０】
【表１４】

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 （ａ）ポリカーボネートならびにポリエ
    ステル、スチレン系コポリマー、ゴムおよび塩化ビニル
    ポリマーまたはコポリマーからなる群から選択された第
    二ポリマーのブレンド；ならびに（ｂ）３，３，５，５
    −テトラメチル−２−オキソ−１−ピペラジニル部分を
    含有する非塩基性立体障害性アミンおよび紫外線吸収剤
    の混合物の有効安定化量を含み、熱および光の有害な影
    響に対して安定化された組成物。
  2. 【請求項２】 第二ポリマーがアクリロニトリル−ブタ
    ジエン−スチレン；アクリロニトリル−スチレン−アク
    リレート；アクリロニトリル−ＥＰＤＭ−スチレン；ス
    チレン−アクリロニトリル；ポリ（エチレンテレフタレ
    ート）；ポリ（ブチレンテレフタレート）；メチルメタ
    クリレート−ブタジエン−スチレン；アクリルゴム；ニ
    トリルゴム；ポリブタジエン；ポリイソプレン；ポリ
    （塩化ビニル）およびアクリロニトリル−ブタジエン−
    スチレン；ならびにポリ（塩化ビニル）およびアクリロ
    ニトリル−スチレン−アクリレートからなる群から選択
    された請求項１記載の組成物。
  3. 【請求項３】 第二ポリマーがアクリロニトリル−ブタ
    ジエン−スチレンである請求項２記載の組成物。
  4. 【請求項４】 着色されてもいる請求項１記載の組成
    物。
  5. 【請求項５】 ポリマーブレンドの重量をそれぞれ基準
    として、有効な安定化混合物が０．０５ないし５重量％
    の非塩基性立体障害性アミンおよび０．０５ないし５重
    量％の紫外線吸収剤である請求項１記載の組成物。
  6. 【請求項６】 立体障害性アミンが次式（Ｉａ） 【化１】 〔式中、Ｅは水素原子、Ｏ・、ヒドロキシル基、炭素原
    子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし８
    のアルケニル基、炭素原子数３ないし８のアルキニル
    基、炭素原子数７ないし１２のアルアルキル基、炭素原
    子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし
    ８のシクロアルコキシ基、炭素原子数７ないし９のフェ
    ニルアルコキシ基、炭素原子数１ないし８のアルカノイ
    ル基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル基、炭素原
    子数１ないし１８のアルカノイルオキシ基、グリシジル
    基または式−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＨ）−Ｚ（式中Ｚは水素原
    子、メチル基もしくはフェニル基を表す。）で表される
    基を表し；Ｒは水素原子またはメチル基を表し；ｐは１
    または２であり、ｐが１の場合、Ｔ4 は水素原子、炭素
    原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数２ないし
    １８のアルケニル基、プロパルギル基、グリシジル基を
    表し；ｐが２の場合、Ｔ4 は炭素原子数１ないし１２の
    アルキレン基、炭素原子数４ないし１２のアルケニレン
    基またはキシリレン基を表す。〕で表される化合物を表
    すか；あるいは次式（Ｉｂ） 【化２】 〔式中、ｎは数１または２であり、そしてＧ18は次式 【化３】 （式中、Ｇは−Ｏ−または−ＮＤ’’’−を表し、Ａは
    炭素原子数２ないし６のアルキレン基もしくは−（ＣＨ
    2 ）3 −Ｏ−または次式 【化４】 で表される基により置換された炭素原子数２ないし６の
    アルキレン基を表し、そしてｘ1 は数０または１であ
    り、Ｄ’’’は水素原子、炭素原子数１ないし１２のア
    ルキル基、炭素原子数２ないし５のヒドロキシアルキル
    基または炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表
    す。）で表される基を表し；Ｇ19はＧ18と同様である
    か、あるいは基−Ｎ（Ｇ21）（Ｇ22）、−ＯＧ23、−Ｎ
    （Ｈ）（ＣＨ2 ＯＧ23）または−Ｎ（ＣＨ2 ＯＧ23）2
    の１個を表し、Ｇ20は、ｎが１である場合はＧ18または
    Ｇ19と同様であり、そしてｎが２である場合は−Ｇ−Ｄ
    IV−Ｇ−基（式中、ＤIVは炭素原子数２ないし８のアル
    キレン基または−ＮＧ21−基の１もしくは２個により中
    断された炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表
    す。）を表し、Ｇ21は炭素原子数１ないし１２のアルキ
    ル基、シクロヘキシル基、ベンジル基または炭素原子数
    １ないし４のヒドロキシアルキル基を表し；Ｇ22は炭素
    原子数１ないし１２のアルキル基、シクロヘキシル基、
    ベンジル基または炭素原子数１ないし４のヒドロキシア
    ルキル基を表し、そしてＧ23は水素原子、炭素原子数１
    ないし１２のアルキル基またはフェニル基を表すか、あ
    るいはＧ21およびＧ22は一緒に炭素原子数４ないし５の
    アルキレン基または炭素原子数４ないし５のオキサアル
    キレン基、例えば−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ
    2 −、あるいは式−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｎ（Ｅ）−ＣＨ2 Ｃ
    Ｈ2 −で表される基を表す。〕で表される化合物を表す
    か；あるいはトリアジン部分を超えて結合した３，３，
    ５，５−テトラメチル−２−オキソ−１−ピペラジニル
    基を含むポリマー化合物である請求項１記載の組成物。
  7. 【請求項７】 立体障害性アミンが （ａ）１，３，５−トリス［Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−
    （２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン
    −４−イル）アミノ］−ｓ−トリアジン； （ｂ）１，３，５−トリス［Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−
    （１，２，２，６，６−ペンタメチルピペラジン−３−
    オン−４−イル）アミノ］−ｓ−トリアジン； （ｃ）１，２−エタン−ビス（Ｎ−３，３，５，５−テ
    トラメチル−２−ピペラゾン）； （ｄ）Ｎ−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
    ３，３，５，５−テトラメチル−２−ピペラジノン； （ｅ）１，３，５−トリス｛１−メチルプロピル［２−
    （３，３，５，５−テトラメチル−２−オキソ−１−ピ
    ペラジニル）エチルアミノ）−ｓ−トリアジン； （ｆ）１，３，５−トリス｛１，３−ジメチルブチル
    ［２−（３，３，５，５−テトラメチル−２−オキソ−
    １−ピペラジニル）エチルアミノ）−ｓ−トリアジン； （ｇ）１，１’，１’’，１’’’−｛１，４−ピペラ
    ジニル−ｓ−トリアジン−２，４，６−トリイル ビス
    ［（イソプロピルアミノ）−１，２−エタンジイル］｝
    テトラキス（３，３，５，５−テトラメチル−２−オキ
    ソ−ピペラジン）； （ｈ）１，１’，１’’，１’’’−｛１，４−ピペラ
    ジニル−ｓ−トリアジン−２，４，６−トリイル ビス
    ［（シクロヘキシルアミノ）−１，２−エタンジイ
    ル］｝テトラキス（３，３，５，５−テトラメチル−２
    −オキソ−ピペラジン）；または （ｉ）ポリ｛［６−（１−メチルプロピル［２−（３，
    ３，５，５−テトラメチル−２−オキソ−１−ピペラジ
    ニル）エチル］アミノ）−ｓ−トリアジン−２，４−ジ
    イル］イミノ−１，６−ヘキサンジイルアミノ｝である
    請求項１記載の組成物。
  8. 【請求項８】 紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール、ｏ
    −ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジンおよび／または
    ベンゾフェノンである請求項１記載の組成物。
  9. 【請求項９】 ポリカーボネートならびにポリエステ
    ル、スチレン系コポリマー、ゴムおよび塩化ビニルポリ
    マーまたはコポリマーからなる群から選択された第二ポ
    リマーのブレンドを、光、酸素および／または熱の有害
    な影響に対して安定化させる方法であって、ポリマーブ
    レンドの重量をそれぞれ基準として、０．０５ないし５
    重量％の３，３，５，５−テトラメチル−２−オキソ−
    １−ピペラジニル部分を含有する非塩基性立体障害性ア
    ミンおよび０．０５ないし５重量％の紫外線吸収剤を該
    ポリマーブレンドに添加することからなる方法。
  10. 【請求項１０】 ポリカーボネートならびにポリエステ
    ル、スチレン系コポリマー、ゴムおよび塩化ビニルポリ
    マーまたはコポリマーからなる群から選択された第二ポ
    リマーのブレンドを、光、酸素および／または熱の有害
    な影響に対して安定化させるために、紫外線吸収剤と組
    合せて３，３，５，５−テトラメチル−２−オキソ−１
    −ピペラジニル部分を含有する非塩基性立体障害性アミ
    ンを使用する方法。
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