JPH11263627A

JPH11263627A - 光学素子のプレス成形方法および成形型

Info

Publication number: JPH11263627A
Application number: JP34327598A
Authority: JP
Inventors: Masaki Omori; 正樹大森; Nobuyuki Nakagawa; 伸行中川; Sunao Miyazaki; 直宮▲崎▼; Keiji Hirabayashi; 敬二平林; Shigeru Hashimoto; 茂橋本; Kiyoshi Yamamoto; 潔山本
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1997-12-05
Filing date: 1998-12-02
Publication date: 1999-09-28

Abstract

(57)【要約】【課題】ガラス素材をプレス成形した後、成形された
ガラス成形品と型部材との熱収縮率の差に起因する大き
な応力がガラス成形品に働く以前に、型部材からのガラ
ス成形品の拘束を解除して、上記ガラス成形品のワレや
クラックを防止する光学素子の成形方法及び成形型を提
供する。【解決手段】上下一対の型部材により、加熱軟化状態
のガラス素材をプレス成形して光学素子を得る方法にお
いて、各型部材の成形面により成形されたガラス素材
が、その片方の面だけを、そのガラス粘度で１０¹²ｄＰ
ａＳに相当する温度以上で離型する状態で、型開きする
ことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学用の成形ガラ
ス素材をプレス成形して、例えば、回折格子やフレネル
レンズなどの、微細パターンを有する高精度な光学有効
面を持った光学素子を得るための、プレス成形方法およ
び成形型に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、研削及び研磨工程を経ずに、所定
の表面精度を有する成形用型内にガラス光学素子材料を
収容してプレス成形することにより、光学機器などに使
用されるレンズなどの光学素子を成形する方法が提唱さ
れる（例えば、特公昭６１−３２２６３号公報に所
載）。ここでは、ある程度の形状及び表面精度に予備成
形されたガラスブランクを成形用型内に収容して、加熱
下でプレス成形する。

【０００３】このようなプレス成形法では、一般に、成
形用上型部材と成形用下型部材とをそれぞれ成形用胴型
部材内に摺動可能に対向配置し、これら上下型部材およ
び胴型部材により形成されるキャビティ内に成形用ガラ
ス素材を導入し、成形可能温度まで型部材を加熱し、型
を閉じ、適宜な時間、プレスして、型部材の成形面の形
状を成形用ガラス素材に転写し、そして、型部材温度を
成形用ガラス転移温度より十分に低い温度まで冷却し、
プレス圧力を除去し、型を開いて、成形済みの光学素子
（ガラス成形品）を取り出すのである。なお、この場
合、型部材の酸化防止のために、型部材が装備される雰
囲気を非酸化雰囲気、例えば、窒素雰囲気にしている。

【０００４】以上のような光学素子のプレス成形法とし
て、例えば、特開昭５９−１２３６３１号公報に所載の
ものが知られている。ここでは、予め、ガラス素材を成
形用型内に配置して、型とガラスを等温度状態で加熱し
て、所定温度でプレスした後に、２００℃になったら、
型を開いてガラス成形品を取り出している。また、回折
格子やフレネルレンズなどの、光学有効面に微細パター
ンを有する光学素子のプレス成形方法が、例えば、特公
平５−７３７００号公報などに記載されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来例
では、次のような問題点がある。つまり、目的とする光
学素子の形状によって、冷却中に型内で割れを生じ、あ
るいは、光学素子の光学有効面に転写するための型部材
の成形面への融着を生じてしまうことである。これはガ
ラスの熱膨張率が型よりも遥かに大きいためであり、特
に、冷却時にガラスが型の成形面での凹凸を挟み込むよ
うな熱応力を発生する場合に、多く発生する。

【０００６】これは、両面凸レンズでは起こらないが、
凹レンズやメニスカスレンズ、特に回折格子やフレネル
レンズなどの、光学有効面に微細パターンを有する光学
素子（例えば、特公平５−７３７００号公報などに記載
のもの）や複雑な形状のプリズムなどの場合に、問題と
なる。

【０００７】なお、ここで、微細パターンとは、０．１
μｍ以上、５０μｍ以下のオーダーを持つ凹凸形状を意
味する。例えば、図１１に示すようなフレネルレンズ
や、図１２に示すような回折格子などのガラス成形品を
成形する場合に、その一方の光学有効面に形成されてい
るのが、それである。

【０００８】このような、微細パターンを有する光学素
子のプレス成形では、上記従来例に示されているよう
に、そのガラスの転移温度もしくはそのガラスの粘度で
１０¹³ｄＰａＳに相当する温度まで型内で冷却すると、
ガラスと型の熱収縮率の差に起因する応力により、微細
パターンの部分で応力集中が起こり、そこで、ガラスに
ワレやクラックを生じ、もしくは、型への融着といった
現象が発生する。

【０００９】本発明は、上記事情に基づいてなされたも
ので、その目的とするところは、ガラス素材をプレス成
形した後、成形されたガラス成形品と型部材との熱収縮
率の差に起因する大きな応力がガラス成形品に働く以前
に、型部材からのガラス成形品の拘束を解除して、上記
ガラス成形品のワレやクラックを防止する光学素子の成
形方法を提供することである。

【００１０】また、本発明の他の目的とするところは、
少なくとも、片面に微細パターンを有する光学素子など
をプレス成形する場合、離型に際して、微細パターンを
有する面を成形する型部材からのガラス成形品の離脱
を、微細パターンのない面を成形する型部材からのガラ
ス成形品の離脱よりも早めて、光学有効面の精度を損な
わない状態で、しかも、ワレやクラックないガラス成形
品を得るための光学素子の成形型を提供することであ
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】このため、本発明では、
上下一対の型部材により、加熱軟化状態のガラス素材を
プレス成形して光学素子を得る方法において、各型部材
の成形面により成形されたガラス素材が、その片方の面
だけを、そのガラス粘度で１０¹²ｄＰａＳに相当する温
度以上で離型する状態で、型開きすることを特徴とす
る。

【００１２】この場合、前記の、成形されたガラス素材
の片方の面だけを離型させる温度が、そのガラス粘度で
１０⁹ｄＰａＳに相当する温度以下であること、型部材
からの成形品の取り出しが、そのガラス粘度で１０¹³ｄ
ＰａＳに相当する温度以下であることが、その実施の形
態として好ましい。

【００１３】更に言うならば、本発明では、上下一対の
型部材により、ガラス素材の少なくとも一面に微細パタ
ーン（０．１μｍ以上で５０μｍ以下のオーダーを持つ
凹凸形状）を転写して、所要の光学有効面を形成する光
学素子のプレス成形方法において、微細パターンを有す
る成形面を、これを転写したガラス成形品の面から、そ
のガラス粘度で１０¹²ｄＰａＳに相当する温度以上で、
離型させるように、プレス成形を実施することを特徴と
する。

【００１４】また、本発明では、上下一対の型部材によ
り、ガラス素材の一面に微細パターン（０．１μｍ以上
で５０μｍ以下のオーダーを持つ凹凸形状）を転写し
て、ガラス成形品に所要の光学機能面を形成する光学素
子のプレス成形型において、上型部材の、微細パターン
を有する成形面の離型時におけるガラス離型性よりも、
下型部材の、微細パターンのない成形面のガラス離型性
が低くなるように、型部材の成形面における材質、ある
いは／および、表面粗さを選択して、両型部材の成形面
を設定したことを特徴とする。

【００１５】この場合、上型部材の、微細パターンを有
する成形面を、硬質炭素膜、ｉ−Ｃ、アモルファス炭化
水素膜の何れかでコーティングし、下型部材の、微細パ
ターンのない成形面を、ＴｉＮ，ＴａＮ，ＴｉＣ，Ｔａ
Ｃ，ＳｉＣ，ＳｉＮなどの硬質セラミック、または、Ｐ
ｔ，Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｗ，Ｔａの
内の一種以上を含む貴金属合金で構成するとよい。

【００１６】また、上型部材の、微細パターンを有する
成形面全領域と、下型部材の、微細パターンのない成形
面の、少なくともプレス成形された光学素子の光学有効
面に対応する部分領域とを、硬質炭素膜、ｉ−Ｃ、アモ
ルファス炭化水素膜の何れかでコーティングすると共
に、下型部材の前記部分領域以外の成形面の部分領域を
ＴｉＮ，ＴａＮ，ＴｉＣ，ＴａＣ，ＳｉＣ，ＳｉＮなど
の硬質セラミック、または、Ｐｔ，Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，
Ｏｓ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｗ，Ｔａの内の一種以上を含む貴金
属合金で構成してもよい。

【００１７】更に、上型部材の、微細パターンを有する
成形面全領域と、下型部材の、微細パターンのない成形
面の、少なくともプレス成形された光学素子の光学有効
面に対応する部分領域との表面粗さを、Ｒｍａｘで２０
ｎｍ以下に、また、下型部材の前記領域外の成形面の部
分領域の表面粗さを、Ｒｍａｘで５０ｎｍ以上２０００
ｎｍ以下にしてもよい。

【００１８】なお、これら型部材の成形面の材質、ある
いは／および、表面粗さを選択する場合には、微細パタ
ーンを有する成形面についての離型時の温度を、ガラス
粘度で１０¹²ｄＰａＳに相当する温度以上に設定して、
使用するのがよい。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の光学素子の成形方
法および成形型についての実施の形態を具体的に説明す
る。

【００２０】（第１の実施の形態）図１は本発明に係わ
る第１の実施の形態を示す図であり、図中、符号４１は
上型部材、４２は下型部材、４３は胴型、４４は光学素
子などの、ガラス成形品である。

【００２１】ここでは、型材料として、超硬合金を用い
ており、その成形面（成形されるべき光学素子の光学有
効面を転写するための成形面）の形状を所定に研削、研
磨加工して、それぞれの型部材が得られる。更に、上型
部材４１の成形面には、ｉ−Ｃ膜をコーティングし、下
型部材４２の成形面には、ＴｉＮ膜をコーティングして
いる。なお、成形される光学素子は外径＝φ３０ｍｍ、
中心厚＝１ｍｍ、Ｒ１＝１５ｍｍ、Ｒ２＝２００ｍｍの
凹メニスカスレンズである。また、ガラスの素材として
は、ＳＫ１２（ｎｄ＝１．５８３１３、νｄ＝５９．
４、Ｔｇ＝５０６℃、Ａｔ＝５３８℃）を用い、所定の
容量のプリフォームを準備した。

【００２２】そして、該プリフォームを図１に示すよう
な型内に投入し、型全体を成形装置（図示せず）に設置
して、雰囲気を窒素ガスとし、その中で、６００℃に加
熱した。更に、上型部材４１を降下させて、プレス成形
を行い、ガラスの厚みが所定の厚みになった後に、型閉
じのまま、型全体を冷却した。

【００２３】その後、５１５℃（ガラス粘度で１０¹²ｄ
ＰａＳ相当）まで冷却されたとき、上型部材４１を上昇
させ、上型部材４１と成形品４４とを相互に分離（離
型）させた。この時、下型部材４２と成形品４４とは、
互いに付着したままである。そして、更に冷却して、５
００℃で成形品４４を下型部材４２から取り出した。こ
の時、下型部材４２と成形品４４とは付着していなかっ
た。その結果、取り出した成形品４には、何らの割れも
なく、良好な品質が確保された。

【００２４】因みに、上型部材４１の上昇温度を５３５
℃、５５７℃、５８４℃に変更して、上述と同様な成形
を行ったが、何れも、良好な結果を得た。次に、本発明
の実施の形態との比較例として、上型部材４１の上昇温
度を５９６℃にすると、離型は可能であるが、取り出し
た成形品の光学有効面（光学機能面とも言う）の形状が
所期の形よりも変形していた。更に別の比較例として、
上型の上昇温度を５０５℃に下げると、取り出した成形
品に、特に、その上型部材４１の成形面との間で、割れ
が発生しているのが観察された。

【００２５】次に上型部材４１の上昇温度を５５７℃と
し、下型部材４２からの成形品４４の取り出し温度を４
５０℃にしたが、結果は良好であった。これとの比較例
として、取り出し温度を５０５℃に上げると、取り出す
ことは可能であったが、成形品の上下面の形状（光学有
効面）が所期の形状より変化していた。さらに別の比較
例として、取り出し温度を５１５℃に上げたが、この場
合は成形品４４と下型部材４２とが固着しており、その
温度では取り出しが困難であった。以上の結果を以下の
表により示すことにする。

【００２６】

【表１】（第２の実施の形態）図２は本発明に係わる第２の実施
の形態を示す図である。ここで、符号４５は上型部材、
４６は下型部材、４７は成形品を示す。図３及び図４は
成形品の寸法を示す図であり、本発明の、この実施の形
態では、４０ｍｍ×３０ｍｍ、厚さ：１０ｍｍのプリズ
ムを得ることを目標にしている。

【００２７】ここでは、型材料として超硬合金を用い、
型部材の成形面を、研削、研磨によって、図２に示すよ
うな形状に加工している。但し、上下型部材の形状を、
各々単体の材料で製作することは困難であるから、複数
の型部品を組み合わせて、各型部材４５、４６を形成し
た。更に、上型部材４５の、上記プリズムの光学機能面
に対応する成形面には、ｉ−Ｃ膜をコーティングし、下
型部材４６の成形面には、ＳｉＣをコーティングした。
ガラス材料としては、ＬａＫ１２（ｎｄ＝１．６６９１
０、νｄ＝５５．４、Ｔｇ＝５３０℃、Ａｔ＝５６２
℃）を用い、所定の容量のプリフォームを準備した。

【００２８】該プリフォームを図２に示すような型内に
投入し、第１の実施の形態のように成形装置内に設置
し、窒素ガス雰囲気中で６１０℃に加熱した。そして、
上型部材４５を下降して、プレス成形を行い、所定の形
状になったところで、型全体を冷却した。

【００２９】そして、５３１℃（ガラス粘度で１０¹²ｄ
ＰａＳ相当）まで冷却された時に、上型部材４５を上昇
させ、上型部材４５と成形品４７とを分離（離型）させ
た。その時に、下型部材４６と成形品４７とは付着した
ままである。更に、冷却して５１３℃で成形品４７を下
型部材４６から取り出した。この時、下型部材４６と成
形品４７とは互いに付着していなかった。その結果、取
り出した成形品４７には割れの発生が無く、良好な品質
を確保していた。

【００３０】次に、上型部材４５を上昇させる温度を、
５４９℃、５６７℃、５８７℃に変更して、上述と同様
に成形を行ったが、何れも良好な結果が得られた。次
に、比較例として、上型部材４５の上昇温度を６００℃
にすると、離型は可能であったが、取り出した成形品の
上面形状が変形していた。別の比較例として、更に上型
部材４５の上昇温度を５２２℃に下げた場合、取り出し
た成形品には割れが発生しているのが観察された。

【００３１】次に、上型部材４５の上昇温度を５６７℃
にし、下型部材４６からの成形品の取り出し温度を４６
０℃にしたが、結果は良好であった。その比較例とし
て、次に、取り出し温度を５２２℃に上げると、取り出
すことは可能であったが、成形品の上下面形状が変形し
ていた。更に、別の比較例として、取り出し温度を５３
１℃にしたが、この場合には、成形品と下型部材とが固
着しており、その温度では、取り出すことができなかっ
た。以上の成果を表２に示す。

【００３２】

【表２】（第３の実施の形態）第３の実施の形態では、回折格子
やフレネルレンズなどの微細パターンを有する光学素子
で、プレス成形後の冷却工程において、ワレやクラック
を生じる虞がある場合に対処している。

【００３３】即ち、実際、ガラス素材のガラス転移温度
もしくはそのガラスの粘度で１０¹³ｄＰａＳに相当する
温度までガラス成形品を型内に保持すると、ガラスと型
との熱収縮率の差に起因して、微細パターンの凹凸個所
に応力集中が起こる。

【００３４】これは、微細パターンの凹凸個所における
ガラス成形品と型部材との局部的な熱収縮量差に比べ、
ガラス成形品本体の全体的な熱収縮量差が大きく、特
に、光学有効面の中央よりも、その外周部で、光学有効
面に沿った内部応力が大きくなる傾向を持つと考えられ
る。その結果、温度降下によってガラス粘度が高まる経
過で、熱応力との均衡が崩れ、ワレやクラックを生じる
のである。

【００３５】そこで、本発明では、熱応力との均衡が破
れる前に、ガラス成形品の微細パターンを有する光学有
効面を型部材の成形面から離脱させることを考慮して、
それが、そのガラス粘度で１０¹²ｄＰａＳに相当する温
度以上であることを特定したのである。これは、微細パ
ターンが、０．１μｍ以上、５０μｍ以下のオーダーを
持つ凹凸形状において、ワレやクラックの発生防止のた
めに有効である。

【００３６】なお、微細パターンの転写精度を確保する
点からは、離型後の成形品の変形、微細パターンの凹凸
形状のだれを避ける意味で、実際の離型時の温度は、可
及的に低い方がよい。従って、実用上は、離型の温度
は、そのガラス粘度で１０¹²ｄＰａＳ〜１０ｄＰａＳ
の範囲に設定するのがよい。

【００３７】また、微細パターンを有する光学有効面が
片面のみにある光学素子を成形する場合には、離型に際
して、微細パターンが転写された成形品の面（光学有効
面）を、他の面よりも早く型部材の成形面から離脱させ
ることが好ましい。これは、上型部材に微細パターンを
転写する成形面を設け、該成形面におけるガラス成形品
の重力による離型性を有効に利用するだけでなく、下型
部材の成形面でガラス成形品全体を支えて、その変形を
回避する点で、また、その影響で微細パターンの転写精
度が低下するのを避ける点で有効である。

【００３８】そのため、本発明では、上下一対の型部材
により、ガラス素材の一面に微細パターン（０．１μｍ
以上で５０μｍ以下のオーダーを持つ凹凸形状）を転写
して、ガラス成形品に所要の光学機能面を形成する光学
素子のプレス成形型において、上型部材の、微細パター
ンを有する成形面の離型時におけるガラス離型性より
も、下型部材の、微細パターンのない成形面のガラス離
型性が低くなるように、型部材の成形面における材質、
あるいは／および、表面粗さを選択して、両型部材の成
形面を設定したのである。

【００３９】因みに、上下の型部材において、上型部材
の成形面に微細パターンを形成し、下型部材の成形面に
平滑な転写面を形成した場合、成形品の重力を考慮しな
ければ、当然、上型部材の成形面の実質的なガラス接触
表面積は、下型部材のそれよりも大きく、型表面に対す
る密着力が大きく、離型性が悪いことが容易に理解され
よう。しかも、実際には、成形品の重力の影響は、型表
面に対する密着力に比べて問題にならない程度であるか
ら、上述の本発明の成形方法のように、プレス成形後の
冷却工程において、比較的高い温度で離型を実行したと
しても、成形型において、微細パターンの有る成形面側
でガラス成形品を先に離脱させるには、特別な配慮が必
要である。

【００４０】そして、その最も単純で簡潔な解決方法
は、上述のような型部材の成形面における材質、あるい
は／および、表面粗さの選択に依るのである。なお、本
発明者は、多くの実験過程から、型表面に対するガラス
成形品の離型性は、型の表面粗さと相関があり、同じ材
質でも、粗くなるほど離型性が悪くなることを明らかに
した。

【００４１】その一つの成形型に対する実施の形態は、
上型部材の、微細パターンを有する成形面を、硬質炭素
膜、ｉ−Ｃ、アモルファス炭化水素膜の何れかでコーテ
ィングするとともに、下型部材の、微細パターンのない
成形面を、ＴｉＮ，ＴａＮ，ＴｉＣ，ＴａＣ，ＳｉＣ，
ＳｉＮなどの硬質セラミック、または、Ｐｔ，Ｐｄ，Ｉ
ｒ，Ｒｈ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｗ，Ｔａの内の一種以上
を含む貴金属合金で構成するのである。

【００４２】また、他の実施の形態は、上型部材の、微
細パターンを有する成形面全領域と、下型部材の、微細
パターンのない成形面の、少なくともプレス成形された
光学素子の光学有効面に対応する部分領域とを、硬質炭
素膜、ｉ−Ｃ、アモルファス炭化水素膜の何れかでコー
ティングすると共に、下型部材の前記部分領域以外の成
形面の部分領域をＴｉＮ，ＴａＮ，ＴｉＣ，ＴａＣ，Ｓ
ｉＣ，ＳｉＮなどの硬質セラミック、または、Ｐｔ，Ｐ
ｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｗ，Ｔａの内の一
種以上を含む貴金属合金で構成するのである。

【００４３】更に、他の実施の形態は、上型部材の、微
細パターンを有する成形面全領域と、下型部材の、微細
パターンのない成形面の、少なくともプレス成形された
光学素子の光学有効面に対応する部分領域との表面粗さ
を、Ｒｍａｘで２０ｎｍ以下（ＲＭＳで５ｎｍ以下）
に、また、下型部材の前記領域外の成形面の部分領域の
表面粗さを、Ｒｍａｘで５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下
（ＲＭＳで１５ｎｍ以上３５０ｎｍ以下）にするのであ
る。なお、ここで、ＲＭＳ値は、２００μｍ角内の平方
自乗平均である。

【００４４】なお、これら型部材の成形面の材質、ある
いは／および、表面粗さを選択する場合には、微細パタ
ーンを有する成形面についての離型時の温度を、ガラス
粘度で１０¹²ｄＰａＳに相当する温度以上に設定して、
使用するのがよい。

【００４５】このように、上型部材の、微細パターンを
有する成形面について、その材質、表面粗さを選択する
ことは、ガラス成形品のワレやクラックを回避するだけ
でなく、型表面に対するガラスの融着を防止する上で有
効である。

【００４６】

【実施例】（実施例１）図５は、本発明に係わる光学素
子の成形方法の一つの実施態様を示すものである。図５
（ａ）において、符号１、２は上下の型部材であり、そ
れらの成形面にはスパッタ法により、ＴｉＮ膜３、４が
２μｍの厚さでコーティングされる。また、上型部材１
については、更に、その上にイオンビーム法により、ｉ
−Ｃ膜５が４０ｎｍの厚さでコーティングされている。
また、型部材１、２の素材には石英を用いており、これ
らの成形面を平坦に、かつ、表面粗さをＲｍａｘで１０
ｎｍ（ＲＭＳで２ｎｍ）に研磨し、また、上型部材１の
成形面には、フォトリソ法により、図５（ｂ）に拡大し
て示したように、微細パターン１ａを、成形面の中心か
ら直径φ：１０ｍｍの領域だけに形成している。

【００４７】符号６は直径φ：１２ｍｍ、厚み：２．５
ｍｍの円板状のガラス素材である。なお、その組成を表
３に示すホウ珪酸ガラスとした。

【００４８】

【表３】ｗｔ％ ────────────────────────────────── SiO₂ B₂O₃ Al₂O₃ Li₂O Na₂O K₂O BaO ZnO Sb₂O₃ 48.1 9.45 3.9 5.95 1.6 0.6 26.5 3.6 0.3 ────────────────────────────────── これらを、公知の加熱装置（図示せず）を用いて、不活
性雰囲気としてのＮ₂中で、５７０℃に加熱し、図５
（ｃ）に示すように、ガラスの厚みが２ｍｍになるよう
に、２４５０Ｎの荷重を６０秒間、負荷した。その後、
ガラスを５１５℃（ガラスの粘度で１０¹²ｄＰａＳに相
当する温度）まで、４０℃／ｍｉｎの冷却速度で冷却し
て、図５（ｄ）に示すように、上型部材１を上昇させ、
成形されたガラス成形品（光学素子）の、微細パターン
を有する光学有効面を、型部材１の成形面から剥離させ
た。

【００４９】更に、下型部材２の成形面上に残されたガ
ラス成形品を、４５０℃まで、８０℃／ｍｉｎの冷却速
度で冷却し、その後、成形型から取出した。成形された
ガラス成形品にはワレやクラックもなく、また、型への
融着、特に、微細パターンを有する面での融着もなかっ
た。また、図５（ｂ）に示すような形状の凹凸形状のエ
ッジの部分７、８は、Ｒ：０．５μｍ以下になってお
り、転写性も良好であった。

【００５０】（比較例１）本発明の優位性を示すため
に、以下に比較例を示す。ここでは、離型のために上型
部材１を上昇させる時の温度を４９０℃（ガラスの粘度
で１０^13.5ｄＰａＳに相当）に設定した以外は、実施例
１と全て、同じ条件でプレス成形しているが、その結果
は、成形されたガラス成形品の微細パターンの一部にク
ラックが発生していた。また、離型のために、５０５℃
（ガラスの粘度で１０^12.5ｄＰａＳに相当）の温度で、
上型部材１を上昇させた場合にも、同様なクラックが発
生した。

【００５１】（比較例２）ここでは、上型部材１の成形
面にｉ−Ｃをコーティングしない（ＴｉＮのまま）で、
それ以外は、実施例１と全て、同じ条件で成形してい
る。その結果、５１５℃の温度で、上型部材１を上昇さ
せたとき、ガラス成形品は、下型部材２とは剥離し、上
型部材１に密着したままであった。その後、８０℃／ｍ
ｉｎの冷却速度で冷却したところ、ガラス成形品は４０
０℃で上型部材１から剥離した。そこで、成形型から取
出そうとしたが、ガラス成形品はワレており、上型部材
１の微細パターンの個所にガラスの一部が融着してい
た。

【００５２】（比較例３）ここでは、実施例１と同じ型
を用い、ガラス素材として、直径φ：１２ｍｍ、厚み：
１．５ｍｍの円板を用いて、１．２ｍｍ厚さにプレス変
形させた以外、上記実施例１と全て、同じ条件で成形し
ている。その結果、５１５℃の温度で、上型部材１との
剥離は可能であったが、４５０℃の温度でも、下型に付
着したままであり、成形型から取出せず、３８０℃の温
度まで降下したところで、取出したが、この場合には、
微細パターンのない下型の成形面に対応するガラス成形
品の下面の平面部からクラックが発生していた。

【００５３】以上のように、本発明の成形方法によれ
ば、ガラスの粘度で１０¹²ｄＰａＳに相当する温度以上
で、微細パターンを有するガラス成形品の面を剥離させ
ることにより、微細パターンの凹凸形状の個所にワレや
クラックの発生、あるいは、そこでの融着を防ぐことが
できる。

【００５４】また、本発明の成形型によれば、微細パタ
ーンのない成形面の材質を、離型性の低い材料にするこ
とにより、微細パターンを有する成形面から、他の特別
な装置を用いることなく、転写後のガラス成形品を高温
で容易に剥離させることができる。ただし、光学素子の
形状の特異性によっては、微細パターンのない面にクラ
ックが発生する場合もある。

【００５５】（実施例２）この実施例では、図６に示す
ような成形型を用いて光学素子の成形を行った。ここで
は、上下の型部材９、１０のに材料に石英を用い、これ
らの成形面を平担に、かつ、表面粗さをＲｍａｘで１０
ｎｍ（ＲＭＳで２ｎｍ）に研磨した。そして、上型部材
９の成形面には、フォトリソ法により、実施例１と同様
な微細パターンを形成した。また、この型部材９、１０
には、スパッタ法により、ＴｉＮ膜１１、１２を、それ
ぞれ、２μｍの厚さでコーティングし、更に、上型部材
９の成形面にはイオンビーム法により、ｉ−Ｃ膜１３を
４０ｎｍの厚さで形成した。また、下型部材１０の成形
面には、マスクをすることにより、中心から直径φ：１
１ｍｍの領域内だけ、ｉ−Ｃ膜１４を４０ｎｍの厚さで
形成した。なお、ガラス素材１５は、直径φ：１２ｍ
ｍ、厚み：１．５ｍｍの円板を用い、その硝種は実施例
１と同じものとした。

【００５６】これらを用いて、実施例１と同様の条件
で、プレス成形したところ、前記比較例３と異なり、４
５０℃の温度でも取出し可能で、ガラス成形品の平面部
にクラックがなく、また、光学有効面での微細パターン
の転写性も良好であった。

【００５７】以上のように、微細パターンを有する成形
面と、微細パターンのない成形面の光学有効面に相当す
る領域とを、離型性に優れたｉ−Ｃ膜とし、微細パター
ンのない成形面の、光学有効面以外の領域を、離型性の
低いＴｉＮ膜のままにすることにより、微細パターンを
有する成形面をガラス素材に転写し、そのガラスの粘度
で１０¹²ｄＰａＳに相当する温度で、上記成型面からガ
ラス成形品を剥離することが可能となり、光学有効面内
のワレや、クラック、融着を防ぐことができる。

【００５８】（実施例３）この実施例では、型部材の成
形面について、実施例２の成形型において、ＴｉＮをＳ
ｉＣに、ｉ−Ｃをグラファイトターゲットを用いたスパ
ッタ法による硬質炭素膜に変更した以外は、同様に作製
している。また、ガラス素材は、直径φ：１２ｍｍ、厚
み：１．５ｍｍの円板で、その組成には、表２に示す燐
酸系ガラスを採用した。

【００５９】

【表４】ｗｔ％ ────────────────────────────────── P₂O₅ B₂O₃ Al₂O₃ Li₂O Na₂O K₂O BaO ZnO SiO₂ 48.7 0.93 2.12 1.74 4.12 6.53 4.60 30.9 0.34 ────────────────────────────────── これらを不活性雰囲気のＮ₂中で、３８５℃の温度に加
熱し、ガラスの厚みが１．２ｍｍになるように、２４５
０Ｎの荷重を６０秒間、負荷した。その後、ガラスを３
６０℃（ガラスの粘度で１０¹¹ｄＰａＳに相当する温
度）まで、２０℃／ｍｉｎの冷却速度で冷却して、上型
部材を上昇させ、微細パターンを有する成型面からガラ
ス成形品の上面を剥離させた。更に、ガラスを３１０℃
まで、４０℃／ｍｉｎの冷却速度で冷却して、成形型か
らガラスを取出した。

【００６０】成形されたガラス成形品にはワレやクラッ
クもなく、型への融着もなかった。また、成形面から転
写された微細パターンも、エッヂがＲ：０．５μｍ以下
で、転写性も良好であった。

【００６１】（比較例４）実施例３との比較のため、こ
こでは、離型のために上型部材を上昇させる時の温度を
３３５℃（ガラスの粘度で１０^13.4ｄＰａＳに相当する
温度）にしたが、それ以外は、実施例３と全て、同じ条
件でプレス成形した。その結果、成形されたガラスは、
微細パターンの一部にクラックが発生していた。また、
別に、離型する時の温度を３４５℃（ガラスの粘度で１
０^12.3ｄＰａＳに相当する温度）にした場合について
も、同様なクラックが発生した。しかし、離型（上型部
材の上昇）の際の温度を、３５０℃（ガラスの粘度で１
０^11.8ｄＰａＳに相当）にした場合には、発生しなかっ
た。

【００６２】（比較例５）ここでは、実施例３と同様に
成形し、上型部材の温度を３６０℃で、上昇させて、微
細パターンを有する成形面からガラス成形品の上面を剥
離させた後、図７に示すような、下からの突き出し棒１
６で、下型部材とガラス成形品の下面を強制的に剥離さ
せ、ガラス成形品を成形型から取出した。その結果、成
形されたガラス成形品１７の微細パターンのある面に
は、ワレやクラックもなく、型への融着もなかった。し
かし、取出されたガラス成形品は、下面剥離時の外力に
より、図８に示す様な変形が生じた。

【００６３】以上のように、微細パターンを有する成形
面と、微細パターンのない成形面の光学有効面に相当す
る領域とを、離型性の優れた硬質炭素膜とし、微細パタ
ーンのない面での上記領域以外の面を、離型性の低いＳ
ｉＣにすることにより、特別な剥離機構などを用いるこ
となく、微細パターンを有する成形面をガラス素材に転
写し、そのガラスの粘度で１０¹¹ｄＰａＳに相当する温
度で、ガラス成形品の上記転写面を剥離することが可能
となり、剥離時に生ずるガラスの変形や、光学有効面内
のワレ、クラック、融着を防ぐことができる。

【００６４】（実施例４）ここでは、図９に示すような
成形型を用いてプレス成形した。上型部材１８には石英
を用い、これを平面に研磨し、表面粗さをＲｍａｘで１
０ｎｍ（ＲＭＳで２ｎｍ）とした。その後、フォトリソ
法により、実施例１と同じに、微細パターンを形成し
た。下型部材１９にはバインダレス超硬合金を用い、こ
れを平面に研磨した。ここでは、全面をまず１／４ｕｍ
のダイヤモンドパウダーを用いて研磨することにより、
表面粗さをＲｍａｘで１３ｎｍ（ＲＭＳで３ｎｍ）と
し、その後に、中心から直径φ：１１ｍｍより外の領域
１９ａのみを、３μｍのダイヤモンドパウダーで研磨す
ることにより、表面粗さをＲｍａｘで５０ｎｍ（ＲＭＳ
で１５ｎｍ）とした。

【００６５】そして、この型部材１８、１９に、スパッ
タ法により、ＴｉＮ膜２０、２１を２μｍの厚さでコー
ティングし、更に、上下型部材の両方に、イオンビーム
法によりｉ−Ｃ膜２２、２３を、４０ｎｍの厚さで形成
した。なお、ガラス素材２４は、直径φ：１２ｍｍ、厚
み：１．５ｍｍの円板で、その硝種には、実施例１と同
じものを用いた。

【００６６】これらを用いて、実施例１と同様の条件
で、プレス成形したところ、５１５℃での上型型部材の
成形面とガラス成形品の上面との剥離、及び、４５０℃
での成形型からの取出しも可能で、ガラス成形品のワレ
やクラック、型への融着もなく、微細パターンの転写性
も、エッヂがＲ：０．５μｍ以下になっており、良好で
あった。

【００６７】また、微細パターンのない成形面を、その
中心から直径φ：１１ｍｍより外の領域のみを、＃８０
０のカーボンランダムであらし、その表面粗さをＲｍａ
ｘで２０００ｎｍ（ＲＭＳで３５０ｎｍ）とした。この
成形型を用いても、上述同様なガラス成形品の形成が可
能であった。

【００６８】（比較例６）ここでは、微細パターンのな
い成形面の中心から直径φ：１１ｍｍより外の領域のみ
を、２μｍのダイヤモンドパウダーで研磨することによ
り、表面粗さをＲｍａｘで４０ｎｍ（ＲＭＳで１０ｎ
ｍ）とした以外は、実施例４と全て、同じ条件でプレス
成形した。その結果、１０回の成形で２回、５１５℃で
の上型部材とガラス成形品の上面との剥離時に、ガラス
が上型部材に密着したままで、先に成形品の下面が剥離
した。この後、ガラス成形品を４５０℃まで冷却して、
取出したところ、微細パターンの一部にクラックが発生
していた。

【００６９】（比較例７）ここでは、微細パターンのな
い成形面の中心から直径φ：１１ｍｍより外の領域のみ
を、サンドブラストにより、表面粗さをＲｍａｘで２５
００ｎｍ（ＲＭＳで４００ｎｍ）とした以外は、実施例
４と全て、同じ条件でプレス成形した。その結果、５１
５℃での上型部材の成形面とガラス成形品の上面との剥
離、及び、４５０℃での成形型からの取出しも可能であ
ったが、成形品の下面周辺部からクラックが発生し、一
部、型への融着も発生していた。

【００７０】（比較例８）ここでは、微細パターンを有
する成形面の全面と、微細パターンのない成形面の中心
から直径φ：１１ｍｍの領域を、１．５μｍのダイヤモ
ンドパウダーを用いて研磨することにより、表面粗さを
Ｒｍａｘで２５ｎｍ（ＲＭＳで６ｎｍ）とし、微細パタ
ーンのない成形面の中心から直径φ：１１ｍｍより外の
領域を、＃８００のカーボランダムで粗し、表面粗さを
Ｒｍａｘで２０００ｎｍ（ＲＭＳで３５０ｎｍ）とした
成形型を用いたが、その他は、実施例４と全て、同じ条
件でプレス成形した。その結果、５１５℃での上型部材
の成形面とガラス成形品の上面との剥離、及び、４５０
℃での成形型からの取出しも可能で、成形品のワレやク
ラック、型への融着もなく、微細パターンの転写性も、
エッヂがＲ：０．５μｍ以下になっており、良好であっ
たが、成形品全体が曇っており、透過率が公差外であっ
た。しかし、微細パターンを有する成形面の全面と微細
パターンのない成形面の中心から直径φ：１１ｍｍの領
域を、１μｍのダイヤモンドパウダーを用いて研磨する
ことにより、表面粗さをＲｍａｘで２０ｎｍ（ＲＭＳで
５ｎｍ）にしたところ、成形したガラス成形品は、若干
の曇はあるものの、その透過率は公差内であった。

【００７１】以上のように、微細パターンを有する面と
微細パターンのない面の光学有効面相当の領域の表面粗
さをＲｍａｘで２０ｎｍ（ＲＭＳで５ｎｍ）以下とし、
微細パターンのない成形面の上記以外の領域の表面粗さ
を、Ｒｍａｘで５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（ＲＭＳ
で１５ｎｍ以上３５０ｎｍ以下）にすることにより、特
別な剥離機構を用いることなく、微細パターンを有する
成形面を、ガラス素材に転写し、そのガラスの粘度で１
０¹²ｄＰａＳに相当する温度で、剥離することが可能と
なり、剥離時に生ずるガラスの変形や、冷却時のワレ、
クラック、融着を防ぐことができる。

【００７２】（実施例５）ここでは、図１０に示すよう
な成形型を用いてプレス成形するが、上下の型部材２
５、２６にはバインダレス超硬合金を用い、これを平面
に研磨し、表面粗さをＲｍａｘで１２ｎｍ（ＲＭＳで３
ｎｍ）とした。型部材２５は、フォトリソ法により、図
１０（ｂ）に拡大して示すような、微細パターン２５ａ
を、直径φ：１０ｍｍの領域だけ形成した。型部材２６
は、その成形面の中心から直径φ：１１ｍｍより外の領
域２６ａのみを、＃８００のカーボランダムあらし、表
面粗さをＲｍａｘで２０００ｎｍ（ＲＭＳで３５０ｎ
ｍ）とした。これら型部材２５、２６にスパッタ法によ
り、ＴｉＮ膜２７、２８を２μｍの厚さでコーティング
し、更に、上下型部材の両方にイオンビーム法により、
ｉ−Ｃ膜２９、３０を、４０ｎｍの厚さで形成した。な
お、ガラス素材３１は直径φ：１２ｍｍ、厚み：２．５
ｍｍの円板で、その硝種は実施例１と同じものを用い
た。

【００７３】これらを用いて、実施例１と同様の条件で
プレス成形したところ、５１５℃での上型部材の成形面
とガラス成形品の上面との剥離、及び、４５０℃での型
からの取出しも可能で、成形品のワレやクラック、型へ
の融着もなく、微細パターンの転写性も、エッヂがＲ
０．５μｍ以下になっており、良好であった。

【００７４】（比較例９）ここでは、微細パターンのな
い成形面の中心から直径φ：１１ｍｍより外の領域のみ
を、４μｍのダイヤモンドパウダーで研磨することによ
り、表面粗さをＲｍａｘで８０ｎｍ（ＲＭＳで１８ｎ
ｍ）とした以外は、実施例５と全て、同じ条件でプレス
成形した。その結果、１０回の成形で３回、５１５℃で
の上型型部材の成形面とガラス成形品の上面の剥離時
に、ガラスが上型部材に密着したままであり、その下面
が剥離した。この後、ガラス成形品を４５０℃まで冷却
して、取出したところ、微細パターンの一部にクラック
が発生していた。しかし、微細パターンのない型の中心
から直径φ：１１ｍｍより外の領域のみを、５μｍのダ
イヤモンドパウダーで研磨することにより、表面粗さを
Ｒｍａｘで３００ｎｍ（ＲＭＳで２５ｎｍ）とした以外
は、実施例５と全て、同じ条件でプレス成形したとこ
ろ、１０回の成形で、１０回とも５１５℃での上型部材
の成形面とガラス成形品の上面の剥離及び４５０℃での
型からの取出しも可能で、成形品のワレやクラック、型
への融着もなく、微細パターンの転写性も、エッヂが
Ｒ：０．５μｍ以下になっており、良好であった。

【００７５】以上説明したように、実施例４、５から、
微細パターンを有する成形面と微細パターンのない成形
面の少なくとも光学有効面に相当する領域との表面粗さ
に対して、微細パターンのない成形面の、ガラスと接触
する他の領域の面の表面粗さをより粗くすることによ
り、特別な剥離機構を用いることなく、微細パターンを
有する成形面で転写し、そのガラスの粘度で１０¹²ｄＰ
ａＳに相当する温度で剥離することが可能となり、剥離
時に生ずるガラス成形品の変形や冷却時のワレ、クラッ
ク、融着を防ぐことができる。また、微細パターンの形
状による離型性の変化に対しても、微細パターンのない
成形面の、光学有効面の相当領域以外の表面粗さを、Ｒ
ｍａｘで５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（ＲＭＳで、１
５ｎｍ以上３５０ｎｍ以下）の範囲内で選ぶことによ
り、対応可能となる。

【００７６】なお、これまでに述べた実施例では、離型
性の良い表面材としてｉ−Ｃ、硬質炭素膜をあげたが、
アモルファス炭化水素膜でも同様な結果が得られ、離型
性の低い表面材としてＴｉＮ、ＳｉＣを挙げたが、Ｔａ
Ｎ，ＴｉＣ，ＴａＣ，ＳｉＮなどの硬質セラミックある
いは、Ｐｔ，Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｒｅ，
Ｗ，Ｔａの内の一種以上を含む貴金属合金でも同様な結
果が得られた。

【００７７】また、本発明の成形方法の実施の形態で
は、片面のみに微細パターンを有する光学有効面の光学
素子を形成する場合について述べたが、上下の両面に微
細パターンを有する光学有効面の光学素子を形成する場
合にも、離型温度を特定した本発明の成形方法を採用す
ることができる。この場合には、離型の際に、ガラス成
形品を、その外周部で保持するなどの別の保持手段を用
いればよい。

【００７８】

【発明の効果】本発明は、以上説明したようになり、ガ
ラス素材をプレス成形した後、成形されたガラス成形品
と型部材との熱収縮率の差に起因する大きな応力がガラ
ス成形品に働く以前に、型部材からのガラス成形品の拘
束を解除して、上記ガラス成形品のワレやクラックを防
止する。

【００７９】また、本発明では、微細パターンを有する
ガラス光学素子を、その微細パターンの個所で、ワレや
クラックの発生、型へのガラスの融着のない成形が可能
となる。

【００８０】また、本発明の成形方法で採用される成形
型によれば、片面に微細パターンを有するガラス光学素
子を、特別な機構を追加することなく、容易に微細パタ
ーンの個所での離型を実現することができる。勿論、こ
の発明によれば、微細パターンの形状毎に異なる離型性
に対しても、容易に対処することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態を示す型の概略断面
正面図である。

【図２】本発明の第２の実施の形態を示す型の概略断面
正面図である。

【図３】同じく、これによって得られる光学素子の平面
図である。

【図４】同じく、正面図である。

【図５】本発明の第３の実施例で用いる成形型とプロセ
スを示す概略図である。

【図６】同じく、本発明の第４の実施例で用いる成形型
を示す概略図である。

【図７】同じく、比較例５で用いる離型機構を示す概略
図である。

【図８】同じく、比較例５で成形されたガラスの形状を
示す図である。

【図９】同じく、本発明の第５の実施例で用いる成形型
を示す概略図である。

【図１０】同じく、本発明の第６の実施例で用いる成形
型を示す概略図である。

【図１１】成形されるフレネルレンズを示す概略図であ
る。

【図１２】成形される回折格子を示す概略図である。

【符号の説明】

１、２型部材１ａ微細パターンを有する成形面３、４ＴｉＮ膜５ｉ−Ｃ膜６ガラス素材７、８エッジ９、１０型部材１１、１２ＴｉＮ膜１３、１４ｉ−Ｃ膜１５ガラス素材１６突き出し棒１７ガラス成形品（光学素子）１８、１９型部材１９ａ表面粗さの異なる面２０、２１ＴｉＮ膜２２、２３ｉ−Ｃ膜２４ガラス素材２５、２６型部材２７、２８ＴｉＮ膜２９、３０ｉ−Ｃ膜３１ガラス素材４１、４５上型部材４２、４６下型部材４３、４７胴型４４、４８成形品

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者平林敬二東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者橋本茂東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者山本潔東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】上下一対の型部材により、加熱軟化状態
のガラス素材をプレス成形して光学素子を得る方法にお
いて、各型部材の成形面により成形されたガラス素材
が、その片方の面だけを、そのガラス粘度で１０¹²ｄＰ
ａＳに相当する温度以上で離型する状態で、型開きする
ことを特徴とする光学素子のプレス成形方法。
【請求項２】前記の、成形されたガラス素材の片方の
面だけを離型させる温度が、そのガラス粘度で１０⁹ｄ
ＰａＳに相当する温度以下であることを特徴とする請求
項１に記載の光学素子の成形方法。
【請求項３】型部材からの成形品の取り出しが、その
ガラス粘度で１０¹³ｄＰａＳに相当する温度以下である
ことを特徴とする請求項１あるいは２に記載の光学素子
の成形方法。
【請求項４】成形される光学素子の片方の面形状が、
冷却時に型部材の対応面を挟み込む形状であることを特
徴とする請求項１ないし３の何れかに記載の光学素子の
成形方法。
【請求項５】上下一対の型部材により、ガラス素材の
少なくとも一面に微細パターン（０．１μｍ以上で５０
μｍ以下のオーダーを持つ凹凸形状）を転写して、所要
の光学有効面を形成する光学素子のプレス成形方法にお
いて、微細パターンを有する成形面を、これを転写した
ガラス成形品の面から、そのガラス粘度で１０¹²ｄＰａ
Ｓに相当する温度以上で、離型させるように、プレス成
形を実施することを特徴とする光学素子のプレス成形方
法。
【請求項６】上下一対の型部材により、ガラス素材の
一面に微細パターン（０．１μｍ以上で５０μｍ以下の
オーダーを持つ凹凸形状）を転写して、ガラス成形品に
所要の光学機能面を形成する光学素子のプレス成形型に
おいて、上型部材の、微細パターンを有する成形面の離
型時におけるガラス離型性よりも、下型部材の、微細パ
ターンのない成形面のガラス離型性が低くなるように、
上記型部材の成形面における材質、あるいは／および、
表面粗さを選択して、両型部材の成形面を設定したこと
を特徴とする光学素子のプレス成形型。
【請求項７】上型部材の、微細パターンを有する成形
面を、硬質炭素膜、ｉ−Ｃ、アモルファス炭化水素膜の
何れかでコーティングし、下型部材の、微細パターンの
ない成形面を、ＴｉＮ，ＴａＮ，ＴｉＣ，ＴａＣ，Ｓｉ
Ｃ，ＳｉＮなどの硬質セラミック、または、Ｐｔ，Ｐ
ｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｗ，Ｔａの内の一
種以上を含む貴金属合金で構成したことを特徴とする請
求項６に記載の光学素子の成形型。
【請求項８】上型部材の、微細パターンを有する成形
面全領域と、下型部材の、微細パターンのない成形面
の、少なくともプレス成形された光学素子の光学有効面
に対応する部分領域とを、硬質炭素膜、ｉ−Ｃ、アモル
ファス炭化水素膜の何れかでコーティングすると共に、
下型部材の前記部分領域以外の成形面の部分領域をＴｉ
Ｎ，ＴａＮ，ＴｉＣ，ＴａＣ，ＳｉＣ，ＳｉＮなどの硬
質セラミック、または、Ｐｔ，Ｐｄ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｏ
ｓ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｗ，Ｔａの内の一種以上を含む貴金属
合金で構成したことを特徴とする請求項６に記載の光学
素子の成形型。
【請求項９】上型部材の、微細パターンを有する成形
面全領域と、下型部材の、微細パターンのない成形面
の、少なくともプレス成形された光学素子の光学有効面
に対応する部分領域との表面粗さを、Ｒｍａｘで２０ｎ
ｍ以下に、また、下型部材の前記領域外の成形面の部分
領域の表面粗さを、Ｒｍａｘで５０ｎｍ以上２０００ｎ
ｍ以下にしたことを特徴とする請求項６に記載の光学素
子の成形型。
【請求項１０】微細パターンを有する成形面について
の離型時の温度を、ガラス粘度で１０¹²ｄＰａＳに相当
する温度以上に設定して、使用されることを特徴とする
請求項６〜９の何れかに記載の光学素子のプレス成形
型。