JP2001322830A - ガラス光学素子のプレス成形方法およびそれにより成形したガラス光学素子 - Google Patents
ガラス光学素子のプレス成形方法およびそれにより成形したガラス光学素子Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/082—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses having profiled, patterned or microstructured surfaces
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/40—Product characteristics
- C03B2215/41—Profiled surfaces
- C03B2215/412—Profiled surfaces fine structured, e.g. fresnel lenses, prismatic reflectors, other sharp-edged surface profiles
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/40—Product characteristics
- C03B2215/44—Flat, parallel-faced disc or plate products
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- Organic Chemistry (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 成形型の成形面への濡れ性を向上させ、溝深
さが深いところへのガラスの充填を可能とし、転写性を
確保するガラス光学素子の成形方法を提供する。 【解決手段】 上下一対の型部材を具備する成形型によ
り、その光学機能面に１０μｍ以下の溝深さである微細
パターンを有する光学素子を、プレス成形する方法にお
いて、隣酸（Ｐ2 Ｏ5 ）の含有率がモル比で２０％以上
である隣酸系ガラスを、成形用ガラス素材として用いる
ことを特徴とする。
さが深いところへのガラスの充填を可能とし、転写性を
確保するガラス光学素子の成形方法を提供する。 【解決手段】 上下一対の型部材を具備する成形型によ
り、その光学機能面に１０μｍ以下の溝深さである微細
パターンを有する光学素子を、プレス成形する方法にお
いて、隣酸（Ｐ2 Ｏ5 ）の含有率がモル比で２０％以上
である隣酸系ガラスを、成形用ガラス素材として用いる
ことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、回折格子
やフレネルレンズ、光ディスク基板などの、微細パター
ンを光学機能面に有する、高精度なガラス光学素子のプ
レス成形方法およびそれにより成形したガラス光学素子
に関する。
やフレネルレンズ、光ディスク基板などの、微細パター
ンを光学機能面に有する、高精度なガラス光学素子のプ
レス成形方法およびそれにより成形したガラス光学素子
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、研磨工程を経ずに、型部材の光学
有効成形面（以下、成形面と称す）が所定の表面精度を
有する成形用型内に、光学素子材料を収容して、プレス
成形することにより、光学機器などに使用されるガラス
レンズを製造する方法が提唱された。この方法は、例え
ば、特公昭６１−３２２６３号公報に記載されている。
また、光学機能面に微細パターンを有するガラス光学素
子のプレス成形方法については、特公平５−７３７００
号公報に記載されている。
有効成形面（以下、成形面と称す）が所定の表面精度を
有する成形用型内に、光学素子材料を収容して、プレス
成形することにより、光学機器などに使用されるガラス
レンズを製造する方法が提唱された。この方法は、例え
ば、特公昭６１−３２２６３号公報に記載されている。
また、光学機能面に微細パターンを有するガラス光学素
子のプレス成形方法については、特公平５−７３７００
号公報に記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来例
では、微細パターンを有する光学素子をプレス形成する
場合、図５の（ｂ）に示すように、光学機能面における
微細パターンの溝深さ／溝幅比が０．５以上になると、
溝の底面迄、転写できず、所要の微細パターン形状が正
確に形成できなくなる。なお、ここで、微細パターンと
は、０．０１μｍ以上１０μｍ以下のオーダーを持つ凹
凸形状を意味するものとする。即ち、例えば、図６に示
すようなフレネルレンズ（ガラス成形品Ａ）や、図７に
示すような回折格子（ガラス成形品Ａ）などの光学機能
面についての微細パターンである。
では、微細パターンを有する光学素子をプレス形成する
場合、図５の（ｂ）に示すように、光学機能面における
微細パターンの溝深さ／溝幅比が０．５以上になると、
溝の底面迄、転写できず、所要の微細パターン形状が正
確に形成できなくなる。なお、ここで、微細パターンと
は、０．０１μｍ以上１０μｍ以下のオーダーを持つ凹
凸形状を意味するものとする。即ち、例えば、図６に示
すようなフレネルレンズ（ガラス成形品Ａ）や、図７に
示すような回折格子（ガラス成形品Ａ）などの光学機能
面についての微細パターンである。
【０００４】このような微細パターンを有するガラス光
学素子のプレス成形では、上記従来例、特公平５−７３
７００号公報に示されているように、幅：０．８μｍ、
深さ：０．１μｍの溝であれば、ホウ珪酸ガラスでも転
写が可能であるが溝が深くなり、０．４μｍ以上（溝深
／溝幅比が０．５以上）になると転写しなくなる。
学素子のプレス成形では、上記従来例、特公平５−７３
７００号公報に示されているように、幅：０．８μｍ、
深さ：０．１μｍの溝であれば、ホウ珪酸ガラスでも転
写が可能であるが溝が深くなり、０．４μｍ以上（溝深
／溝幅比が０．５以上）になると転写しなくなる。
【０００５】この原因の一つは、微細パターン溝部に雰
囲気ガスが閉じ込められるため、その部分の内圧が上が
って、ガラスが充填されず、転写しなくなることであ
る。しかし、真空中（例えば、１Ｐａ）で、プレス成形
しても、溝深／溝幅比が０．５以上になると、矢張り、
充填、転写しなくなる。これは、成形面へのガラスの濡
れ性が悪く、深くまで充填しないためであり、特に、溝
幅が２μｍ以下になると、それが顕著となる。
囲気ガスが閉じ込められるため、その部分の内圧が上が
って、ガラスが充填されず、転写しなくなることであ
る。しかし、真空中（例えば、１Ｐａ）で、プレス成形
しても、溝深／溝幅比が０．５以上になると、矢張り、
充填、転写しなくなる。これは、成形面へのガラスの濡
れ性が悪く、深くまで充填しないためであり、特に、溝
幅が２μｍ以下になると、それが顕著となる。
【０００６】そこで、ガラス材料として隣酸系ガラスを
用いると、その他の組成系のガラスと比べ飛躍的に濡れ
性がよくなるため、溝深／溝幅比が０．５以上でも充
填、転写可能となる。
用いると、その他の組成系のガラスと比べ飛躍的に濡れ
性がよくなるため、溝深／溝幅比が０．５以上でも充
填、転写可能となる。
【０００７】このように、ガラスの濡れ性が良くなる
と、微細パターンの転写性は、上記理由で良くなるが、
濡れ性が良いということは、付着仕事が大きくなること
であり、逆に、離型性が悪くなり、成形品が冷却時にワ
レたり、型へ融着したりすることになる。そこで、成形
面での離型性の良い炭素系の型部材や貴金属系の型部材
を用いることが考慮されている。
と、微細パターンの転写性は、上記理由で良くなるが、
濡れ性が良いということは、付着仕事が大きくなること
であり、逆に、離型性が悪くなり、成形品が冷却時にワ
レたり、型へ融着したりすることになる。そこで、成形
面での離型性の良い炭素系の型部材や貴金属系の型部材
を用いることが考慮されている。
【０００８】本発明は、上記事情に基づいてなされたも
ので、その第１の目的は、成形型の成形面への濡れ性を
向上させ、溝深さが深いところへのガラスの充填を可能
とし、転写性を確保するガラス光学素子の成形方法を提
供することにある。
ので、その第１の目的は、成形型の成形面への濡れ性を
向上させ、溝深さが深いところへのガラスの充填を可能
とし、転写性を確保するガラス光学素子の成形方法を提
供することにある。
【０００９】また、本発明の第２の目的は、上述の転写
性向上に加えて、離型性を向上させて、ワレや融着を防
止するガラス光学素子の成形方法を提供することにあ
る。
性向上に加えて、離型性を向上させて、ワレや融着を防
止するガラス光学素子の成形方法を提供することにあ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】このため、本発明では、
上下一対の型部材を具備する成形型により、その光学機
能面に１０μｍ以下の溝深さである微細パターンを有す
る光学素子を、プレス成形する方法において、隣酸（Ｐ
2 Ｏ5 ）の含有率がモル比で２０％以上である隣酸系ガ
ラスを、成形用ガラス素材として用いることを特徴とす
る。
上下一対の型部材を具備する成形型により、その光学機
能面に１０μｍ以下の溝深さである微細パターンを有す
る光学素子を、プレス成形する方法において、隣酸（Ｐ
2 Ｏ5 ）の含有率がモル比で２０％以上である隣酸系ガ
ラスを、成形用ガラス素材として用いることを特徴とす
る。
【００１１】この場合、本発明の実施の形態として、前
記光学機能面に転写する前記型部材の成形面には、ｉ−
Ｃ、硬質炭素膜、あるいは、水素化アモルファス炭素膜
を用いること、また、前記型部材の型材として、Ｐｔ，
Ｐｄ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｗ，Ｔａの内、一種以
上を含む貴金属合金を用いることが有効である。
記光学機能面に転写する前記型部材の成形面には、ｉ−
Ｃ、硬質炭素膜、あるいは、水素化アモルファス炭素膜
を用いること、また、前記型部材の型材として、Ｐｔ，
Ｐｄ，Ｉｒ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｗ，Ｔａの内、一種以
上を含む貴金属合金を用いることが有効である。
【００１２】
【発明の実施の形態】（第１の実施の形態）図１は本発
明に係わるガラス光学素子成形方法の第１の実施の形態
を示すものである。図１の（ａ）において、符号１，２
は型母材であり、符号３，４は、その上にコーティング
されたＴｉＮ膜、更に、符号５，６は、更にその上にコ
ーティングされたｉ−Ｃ膜、符号７は円板状のガラス素
材である。
明に係わるガラス光学素子成形方法の第１の実施の形態
を示すものである。図１の（ａ）において、符号１，２
は型母材であり、符号３，４は、その上にコーティング
されたＴｉＮ膜、更に、符号５，６は、更にその上にコ
ーティングされたｉ−Ｃ膜、符号７は円板状のガラス素
材である。
【００１３】この実施の形態では、上述の型母材１，２
に超硬合金を用い、これを平面に研磨し、表面粗さをＲ
ｍａｘで１０ｎｍ、ＲＭＳで２ｎｍとした。更に、下型
の母材１の成形面には、フォトリソ法により、図１の
（ｂ）に拡大して示すような、微細パターン１ａを、中
心から直径：φ１０ｍｍの領域だけ、形成した。この型
母材１，２の成形面には、スパッタ法により、ＴｉＮ
３，４を、０．２μｍの厚さで、コーティングし、ま
た、イオンビーム法により、ｉ−Ｃ膜５，６を、４０ｎ
ｍの厚さで形成した。なお、ガラス素材７として、その
形状が、直径：φ１２ｍｍ、厚み：２．５ｍｍの円板と
なるものを採用する。また、その組成を、表１に示す隣
酸系ガラスとした。
に超硬合金を用い、これを平面に研磨し、表面粗さをＲ
ｍａｘで１０ｎｍ、ＲＭＳで２ｎｍとした。更に、下型
の母材１の成形面には、フォトリソ法により、図１の
（ｂ）に拡大して示すような、微細パターン１ａを、中
心から直径：φ１０ｍｍの領域だけ、形成した。この型
母材１，２の成形面には、スパッタ法により、ＴｉＮ
３，４を、０．２μｍの厚さで、コーティングし、ま
た、イオンビーム法により、ｉ−Ｃ膜５，６を、４０ｎ
ｍの厚さで形成した。なお、ガラス素材７として、その
形状が、直径：φ１２ｍｍ、厚み：２．５ｍｍの円板と
なるものを採用する。また、その組成を、表１に示す隣
酸系ガラスとした。
【００１４】
【表１】
【００１５】しかして、ガラスのプレス成形に際して
は、これらを加熱装置（図示せず）を用いて、不活性雰
囲気、例えば、Ｎ2 ガス中で、５８５℃（ガラスの粘度
で１０ 9 ｄＰａ・ｓに相当）に加熱し、図１の（ｃ）に
示すように、ガラスの厚みが２ｍｍになるように、２４
５０Ｎの荷重を６０秒間負荷した。
は、これらを加熱装置（図示せず）を用いて、不活性雰
囲気、例えば、Ｎ2 ガス中で、５８５℃（ガラスの粘度
で１０ 9 ｄＰａ・ｓに相当）に加熱し、図１の（ｃ）に
示すように、ガラスの厚みが２ｍｍになるように、２４
５０Ｎの荷重を６０秒間負荷した。
【００１６】その後、ガラス成形品を５２５℃（ガラス
の粘度で１０12ｄＰａ・ｓに相当）まで、４０℃／ｍｉ
ｎの冷却速度で冷却して、図１の（ｄ）に示すように、
上型を上昇させ、更に、ガラス成形品を、４５０℃まで
８０℃／ｍｉｎの冷却速度で冷却して、成形型から取出
した。
の粘度で１０12ｄＰａ・ｓに相当）まで、４０℃／ｍｉ
ｎの冷却速度で冷却して、図１の（ｄ）に示すように、
上型を上昇させ、更に、ガラス成形品を、４５０℃まで
８０℃／ｍｉｎの冷却速度で冷却して、成形型から取出
した。
【００１７】成形されたガラス成形品には、ワレやクラ
ックもなく、成形型への融着もなかった。また、成形品
の下面における微細パターン転写部は、図１の（ｅ）の
ように、成形型の成形面に形成された溝深を、そのま
ま、転写していた。なお、図１の（ｂ）の、符号８で示
す部位において形成されるガラスのエッヂ部は、曲率半
径：Ｒ＝０．０５μｍ以下になっており、転写性も良好
であった。
ックもなく、成形型への融着もなかった。また、成形品
の下面における微細パターン転写部は、図１の（ｅ）の
ように、成形型の成形面に形成された溝深を、そのま
ま、転写していた。なお、図１の（ｂ）の、符号８で示
す部位において形成されるガラスのエッヂ部は、曲率半
径：Ｒ＝０．０５μｍ以下になっており、転写性も良好
であった。
【００１８】（比較例１）本発明の第１の実施の形態と
の比較のために、そのガラス材料に、表２に示すホウ珪
酸ガラスを用いた以外は、全て同じ条件（温度条件は、
粘度が同じになるように変更）でプレス成形したとこ
ろ、成形されたガラス成形品は、図２の（ａ）に示すよ
うに、その微細パターンが、０．３μｍまでしか転写さ
れず、エッヂ部もだれていた。
の比較のために、そのガラス材料に、表２に示すホウ珪
酸ガラスを用いた以外は、全て同じ条件（温度条件は、
粘度が同じになるように変更）でプレス成形したとこ
ろ、成形されたガラス成形品は、図２の（ａ）に示すよ
うに、その微細パターンが、０．３μｍまでしか転写さ
れず、エッヂ部もだれていた。
【００１９】
【表２】
【００２０】（比較例２）ここでは、比較例１と同じガ
ラス素材を用いて、真空中（１Ｐａ）で成形を行った。
その他は、本発明の第１の実施の形態と同じ条件で、プ
レス成形したところ、成形されたガラス成形品は、図２
の（ｂ）に示すように、その微細パターンが、０．４μ
ｍまでしか転写されず、エッヂ部もだれていた。
ラス素材を用いて、真空中（１Ｐａ）で成形を行った。
その他は、本発明の第１の実施の形態と同じ条件で、プ
レス成形したところ、成形されたガラス成形品は、図２
の（ｂ）に示すように、その微細パターンが、０．４μ
ｍまでしか転写されず、エッヂ部もだれていた。
【００２１】（比較例３）ここでは、第１の実施の形態
とは、下型にｉ−Ｃをコーティングしない（ＴｉＮのま
ま）以外、全て同じ条件で、成形したところ、４５０℃
で成形品を型から取出そうとしたがワレており、下型の
微細パターン部に、ガラスが、一部融着していた。
とは、下型にｉ−Ｃをコーティングしない（ＴｉＮのま
ま）以外、全て同じ条件で、成形したところ、４５０℃
で成形品を型から取出そうとしたがワレており、下型の
微細パターン部に、ガラスが、一部融着していた。
【００２２】以上説明したように、本発明では、硝材と
して、隣酸系ガラスを用いることにより、微細パターン
の溝深くまで充填することができ、型材としてｉ−Ｃを
用いることにより、ワレや融着を防ぐことができた。
して、隣酸系ガラスを用いることにより、微細パターン
の溝深くまで充填することができ、型材としてｉ−Ｃを
用いることにより、ワレや融着を防ぐことができた。
【００２３】（第２の実施の形態）この実施の形態で
は、図３の（ａ）に示すような成形型を用いて、成形し
た。型母材９，１０には、石英を用い、これを平面に研
磨し、表面粗さをＲｍａｘで１０ｎｍ、ＲＭＳで１ｎｍ
とした。下型の母材９には、フォトリソ法により、図３
の（ｂ）に拡大して示すような、鋸刃状の微細パターン
を形成した。この型母材９，１０に、スパッタ法によ
り、ＴａＮ１１，１２を０．２μｍの厚さでコーティン
グし、更に、スパッタ法により、Ｉｒ−Ｗ膜１３，１４
を４０ｎｍの厚さで形成した。なお、ガラス素材１５と
して、その形状が、直径：φ１２ｍｍ、厚み：２．５ｍ
ｍの円板となるものを採用した。また、硝種は、表３に
組成を示すような隣酸系ガラスとした。
は、図３の（ａ）に示すような成形型を用いて、成形し
た。型母材９，１０には、石英を用い、これを平面に研
磨し、表面粗さをＲｍａｘで１０ｎｍ、ＲＭＳで１ｎｍ
とした。下型の母材９には、フォトリソ法により、図３
の（ｂ）に拡大して示すような、鋸刃状の微細パターン
を形成した。この型母材９，１０に、スパッタ法によ
り、ＴａＮ１１，１２を０．２μｍの厚さでコーティン
グし、更に、スパッタ法により、Ｉｒ−Ｗ膜１３，１４
を４０ｎｍの厚さで形成した。なお、ガラス素材１５と
して、その形状が、直径：φ１２ｍｍ、厚み：２．５ｍ
ｍの円板となるものを採用した。また、硝種は、表３に
組成を示すような隣酸系ガラスとした。
【００２４】
【表３】
【００２５】これらを、第１の実施の形態と同様の条件
で、プレス成形したところ（温度条件は粘度が同じにな
るように変更）、図３の（ｃ）に示すように、成形品Ａ
には、微細パターンについて、溝の底面までが転写され
ており、エッヂ部も、曲率半径：Ｒ＝０．０５μｍ以下
で良好であった。
で、プレス成形したところ（温度条件は粘度が同じにな
るように変更）、図３の（ｃ）に示すように、成形品Ａ
には、微細パターンについて、溝の底面までが転写され
ており、エッヂ部も、曲率半径：Ｒ＝０．０５μｍ以下
で良好であった。
【００２６】（比較例４）第２の実施の形態におけるガ
ラス材料を、表４に示す隣酸の含有量が少ないガラスを
用いた以外、全て同じ条件（但し、温度条件は粘度が同
じになるように変更）で、プレス成形したところ、成形
されたガラス成形品は、図４に示すように０．８μｍま
でしか、充填されず、十分に転写しなかった。
ラス材料を、表４に示す隣酸の含有量が少ないガラスを
用いた以外、全て同じ条件（但し、温度条件は粘度が同
じになるように変更）で、プレス成形したところ、成形
されたガラス成形品は、図４に示すように０．８μｍま
でしか、充填されず、十分に転写しなかった。
【００２７】
【表４】
【００２８】以上説明したように、本発明において、隣
酸の含有量が２０ａｔ％以上の隣酸系ガラスを用いるこ
とにより、幅２μｍの溝に対して、１μｍ以上の深さま
で充填され、転写可能となる。
酸の含有量が２０ａｔ％以上の隣酸系ガラスを用いるこ
とにより、幅２μｍの溝に対して、１μｍ以上の深さま
で充填され、転写可能となる。
【００２９】（第３の実施の形態）図５の（ａ）に示す
ような型を用いて成形した。型母材１６，１７に超硬合
金を用い、これを平面に研磨し、表面粗さを、Ｒｍａ
ｘ：１０ｎｍ、ＲＭＳ：２ｎｍとした。下型の母材１６
には、フォトリソ法により、図５の（ｂ）に拡大して示
すような微細パターンを形成した。この型母材１６，１
７に、スパッタ法により、ＴｉＮ膜１８，１９を０．２
μｍの厚さでコーティングし、更に、ＣＶＤ法により、
硬質炭素膜２０，２１を７０ｎｍの厚さで形成した。な
お、ガラス素材２２は、直径：φ１２ｍｍ、厚み：２．
５ｍｍの円板の形状であって、硝種は表５に示すような
組成の隣酸系ガラスとした。
ような型を用いて成形した。型母材１６，１７に超硬合
金を用い、これを平面に研磨し、表面粗さを、Ｒｍａ
ｘ：１０ｎｍ、ＲＭＳ：２ｎｍとした。下型の母材１６
には、フォトリソ法により、図５の（ｂ）に拡大して示
すような微細パターンを形成した。この型母材１６，１
７に、スパッタ法により、ＴｉＮ膜１８，１９を０．２
μｍの厚さでコーティングし、更に、ＣＶＤ法により、
硬質炭素膜２０，２１を７０ｎｍの厚さで形成した。な
お、ガラス素材２２は、直径：φ１２ｍｍ、厚み：２．
５ｍｍの円板の形状であって、硝種は表５に示すような
組成の隣酸系ガラスとした。
【００３０】
【表５】
【００３１】而して、これらを第１の実施の形態と同じ
条件で、プレス成形したところ（但し、温度条件は粘度
が同じになるように変更）、ガラス成形品Ａには、図５
の（ｃ）に示すように、溝の底面まで、転写されてお
り、エッヂ部もＲ＝０．０５μｍ以下で、良好であっ
た。
条件で、プレス成形したところ（但し、温度条件は粘度
が同じになるように変更）、ガラス成形品Ａには、図５
の（ｃ）に示すように、溝の底面まで、転写されてお
り、エッヂ部もＲ＝０．０５μｍ以下で、良好であっ
た。
【００３２】以上のように、隣酸系ガラスを用いること
により、溝の転写において、深くまで充填することがで
き、また、型材として硬質炭素膜を用いることにより、
融着やワレのない成形が可能となって、満足する状態
で、微細パターンを有する光学素子（ガラス成形品）を
形成することができた。
により、溝の転写において、深くまで充填することがで
き、また、型材として硬質炭素膜を用いることにより、
融着やワレのない成形が可能となって、満足する状態
で、微細パターンを有する光学素子（ガラス成形品）を
形成することができた。
【００３３】なお、上述の実施の形態では、離型性の良
い表面材として、ｉ−Ｃ、Ｉｒ−Ｗ膜、硬質炭素膜を挙
げているが、アモルファス炭化水素膜や、Ｐｔ，Ｐｄ，
Ｉｒ，Ｒｈ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｗ，Ｔａのうち、一種
以上を含む貴金属合金でも同様な結果が得られた。
い表面材として、ｉ−Ｃ、Ｉｒ−Ｗ膜、硬質炭素膜を挙
げているが、アモルファス炭化水素膜や、Ｐｔ，Ｐｄ，
Ｉｒ，Ｒｈ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｗ，Ｔａのうち、一種
以上を含む貴金属合金でも同様な結果が得られた。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
微細パターンの形成部分の溝深くまで、ガラスを充填す
ることができ、満足する転写が可能となるので、所要の
精度で、微細パターンを有するガラス光学素子を得るこ
とができる。
微細パターンの形成部分の溝深くまで、ガラスを充填す
ることができ、満足する転写が可能となるので、所要の
精度で、微細パターンを有するガラス光学素子を得るこ
とができる。
【００３５】しかも、本発明によれば、微細パターンの
溝深さが、かなり深いものに対しても、融着やワレのな
い成形が可能となり、従って、微細パターンの溝深さ
を、従来に比べて、深くすることができ、光学素子の設
計の自由度が広がる。
溝深さが、かなり深いものに対しても、融着やワレのな
い成形が可能となり、従って、微細パターンの溝深さ
を、従来に比べて、深くすることができ、光学素子の設
計の自由度が広がる。
【図１】本発明の第１の実施の形態における型、プロセ
ス、成形品形状などを示す概略説明図である。
ス、成形品形状などを示す概略説明図である。
【図２】本発明との比較例１、２の成形品形状を示す概
略図である。
略図である。
【図３】第２の実施の形態で用いる型と成形品形状を示
す概略図である。
す概略図である。
【図４】本発明との比較例４の成形品形状を示す概略図
である。
である。
【図５】第３の実施例で用いる型と成形品形状を示す概
略図。
略図。
【図６】フレネルレンズを示す概略図。
【図７】回折格子に用いられる光学素子を示す概略図。
１，２，９，１０，１６，１７ 型母材 １ａ，９ａ，１６ａ 微細パターン形成部 ３，４，１８，１９ ＴｉＮ膜 ５，６ ｉ−Ｃ膜 ７，１５，２２ ガラス素材 ８ エッヂ １１，１２ ＴａＮ膜 １３，１４ Ｉｒ−Ｗ膜 ２０，２１ 硬質炭素膜 Ａ 成形品
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 3/08 Ｇ０２Ｂ 3/08 5/18 5/18 Ｆターム(参考） 2H049 AA13 AA31 AA45 AA51 4G015 HA01 4G062 AA04 BB01 BB09 CC10 DA02 DA03 DB03 DB04 DC03 DD04 DD05 DD06 DE05 DF01 EA02 EA03 EB02 EB03 EB04 EC03 EC04 ED03 EE01 EF01 EG03 FA01 FA10 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ04 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM02 MM27 NN40
Claims (4)
- 【請求項１】 上下一対の型部材を具備する成形型によ
り、その光学機能面に１０μｍ以下の溝深さである微細
パターンを有する光学素子を、プレス成形する方法にお
いて、隣酸（Ｐ2 Ｏ5 ）の含有率がモル比で２０％以上
である隣酸系ガラスを、成形用ガラス素材として用いる
ことを特徴とするガラス光学素子の成形方法。 - 【請求項２】 前記光学機能面に転写する前記型部材の
光学有効成形面には、ｉ−Ｃ、硬質炭素膜、あるいは、
水素化アモルファス炭素膜を用いることを特徴とする請
求項１に記載のガラス光学素子の成形方法。 - 【請求項３】 前記型部材の型材として、Ｐｔ，Ｐｄ，
Ｉｒ，Ｏｓ，Ｒｕ，Ｒｅ，Ｗ，Ｔａの内、一種以上を含
む貴金属合金を用いることを特徴とする請求項１あるい
は２に記載のガラス光学素子の成形方法。 - 【請求項４】 請求項１ないし３の何れか１項に記載の
成形方法により、成形したことを特徴とするガラス光学
素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000135135A JP2001322830A (ja) | 2000-05-08 | 2000-05-08 | ガラス光学素子のプレス成形方法およびそれにより成形したガラス光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000135135A JP2001322830A (ja) | 2000-05-08 | 2000-05-08 | ガラス光学素子のプレス成形方法およびそれにより成形したガラス光学素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001322830A true JP2001322830A (ja) | 2001-11-20 |
Family
ID=18643276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000135135A Pending JP2001322830A (ja) | 2000-05-08 | 2000-05-08 | ガラス光学素子のプレス成形方法およびそれにより成形したガラス光学素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001322830A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8197727B2 (en) | 2005-11-30 | 2012-06-12 | Hoya Corporation | Method of manufacturing formed article, covering member, and forming apparatus comprising the same |
| US8277704B2 (en) | 2005-11-18 | 2012-10-02 | Hoya Corporation | Method of manufacturing formed article, mold and method of manufacturing the same |
| US8641937B2 (en) | 2009-02-27 | 2014-02-04 | Hoya Corporation | Method of manufacturing lens casting mold and method of manufacturing eyeglass lens |
| US9242889B2 (en) | 2005-11-18 | 2016-01-26 | Hoya Corporation | Method of manufacturing formed article, glass material, and method of determining shape of glass material and mold |
-
2000
- 2000-05-08 JP JP2000135135A patent/JP2001322830A/ja active Pending
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