JPH11257578A - 真空断熱材 - Google Patents
真空断熱材Info
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- JPH11257578A JPH11257578A JP10058672A JP5867298A JPH11257578A JP H11257578 A JPH11257578 A JP H11257578A JP 10058672 A JP10058672 A JP 10058672A JP 5867298 A JP5867298 A JP 5867298A JP H11257578 A JPH11257578 A JP H11257578A
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- Japan
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- heat insulating
- insulating material
- vacuum heat
- resin
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Abstract
(57)【要約】
【課題】断熱性に優れ、かつ長期にわたって断熱性が維
持される真空断熱材を提供すること。 【解決手段】下記式(1)を満足するガスバリア性を有す
る樹脂含有層(A層)とシーラント層とをそれぞれ少な
くとも1層有する積層フィルムの端部をシールして形成
せしめた中空部を有する真空断熱材であって、該シール
部が下記式(2)を満足する真空断熱材。 W・λ・P<1×10-6 (1) H/d>20 (2) (ただし式中、W、λ、Pはそれぞれ、A層の厚み
(m)、A層の熱伝導度(W/m・K)およびA層の厚
みWでの23℃,50%RHにおける酸素透過度(cc/
m2・day・atm)、またd、Hはそれぞれシーラント層の厚
み(mm)およびシール部の幅(mm)である。)
持される真空断熱材を提供すること。 【解決手段】下記式(1)を満足するガスバリア性を有す
る樹脂含有層(A層)とシーラント層とをそれぞれ少な
くとも1層有する積層フィルムの端部をシールして形成
せしめた中空部を有する真空断熱材であって、該シール
部が下記式(2)を満足する真空断熱材。 W・λ・P<1×10-6 (1) H/d>20 (2) (ただし式中、W、λ、Pはそれぞれ、A層の厚み
(m)、A層の熱伝導度(W/m・K)およびA層の厚
みWでの23℃,50%RHにおける酸素透過度(cc/
m2・day・atm)、またd、Hはそれぞれシーラント層の厚
み(mm)およびシール部の幅(mm)である。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空断熱材に関す
るものである。
るものである。
【0002】
【従来の技術】ガスバリア性材料で形成された容器また
は外包材等で密閉された構造体の内部を真空排気し断熱
効果を高める方法は従来より知られており、さらに断熱
効果を高めるために、該構造体の内部にコア材を充填し
真空排気した真空断熱材も知られている。このような真
空断熱材においては、内部を高真空度に保持することに
より気体伝熱を小さくして断熱性を向上させているた
め、その断熱性を長期にわたって維持するためには、例
えば上記構造体には極めて優れたガスバリア性能を有す
る材質を使用する必要がある。
は外包材等で密閉された構造体の内部を真空排気し断熱
効果を高める方法は従来より知られており、さらに断熱
効果を高めるために、該構造体の内部にコア材を充填し
真空排気した真空断熱材も知られている。このような真
空断熱材においては、内部を高真空度に保持することに
より気体伝熱を小さくして断熱性を向上させているた
め、その断熱性を長期にわたって維持するためには、例
えば上記構造体には極めて優れたガスバリア性能を有す
る材質を使用する必要がある。
【0003】かかる材質としては、成形性の観点から樹
脂、特に熱可塑性樹脂の使用が好ましいが、ガスバリア
性に優れる樹脂の代表例であるPVDC(ポリビニリデ
ンクロライド)またはEVOH(エチレン−酢酸ビニル
共重合体の鹸化物)等でもそのガスバリア性は真空断熱
材としては不十分であり、得られる構造体の断熱性を長
期にわたって維持することは困難であった。そこで樹脂
のガスバリア性を改良する目的で、例えば特開昭63−
279083号公報、特開昭63−233284号公報
には、アルミニウム箔を熱可塑性樹脂フィルムに積層し
た金属積層体が記載されている。
脂、特に熱可塑性樹脂の使用が好ましいが、ガスバリア
性に優れる樹脂の代表例であるPVDC(ポリビニリデ
ンクロライド)またはEVOH(エチレン−酢酸ビニル
共重合体の鹸化物)等でもそのガスバリア性は真空断熱
材としては不十分であり、得られる構造体の断熱性を長
期にわたって維持することは困難であった。そこで樹脂
のガスバリア性を改良する目的で、例えば特開昭63−
279083号公報、特開昭63−233284号公報
には、アルミニウム箔を熱可塑性樹脂フィルムに積層し
た金属積層体が記載されている。
【0004】しかしながら、上記金属積層体からなる真
空断熱材は、長期にわたって高真空度を維持することは
できるが、アルミニウム等の金属は熱伝導率が大きいた
め(例えばアルミニウムの熱伝導率は約200W/m・
Kであるのに対し、ポリプロピレン樹脂は約0.23W
/m・K、空気で約0.02W/m・K)、熱が金属部
分を伝って移動する所謂ヒートブリッジが発生し、断熱
性能は大幅に低下する結果となった。
空断熱材は、長期にわたって高真空度を維持することは
できるが、アルミニウム等の金属は熱伝導率が大きいた
め(例えばアルミニウムの熱伝導率は約200W/m・
Kであるのに対し、ポリプロピレン樹脂は約0.23W
/m・K、空気で約0.02W/m・K)、熱が金属部
分を伝って移動する所謂ヒートブリッジが発生し、断熱
性能は大幅に低下する結果となった。
【0005】ヒートブリッジを抑制する目的で、金属層
の厚みを薄くすることも考えられてはいるが、一般に金
属を熱可塑性樹脂層に積層する場合、アルミニウム等の
金属を高温で一旦気化させ樹脂層の表面に蒸着させた
り、圧延等により金属箔を別途作成した後、樹脂層に積
層したりするため、これらの方法では金属層の厚みを薄
くすると多くのピンホールが生じ、金属層を設けたにも
かかわらずガスバリア性が低下し、長期にわたる断熱性
能が低下する結果となった。
の厚みを薄くすることも考えられてはいるが、一般に金
属を熱可塑性樹脂層に積層する場合、アルミニウム等の
金属を高温で一旦気化させ樹脂層の表面に蒸着させた
り、圧延等により金属箔を別途作成した後、樹脂層に積
層したりするため、これらの方法では金属層の厚みを薄
くすると多くのピンホールが生じ、金属層を設けたにも
かかわらずガスバリア性が低下し、長期にわたる断熱性
能が低下する結果となった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者らは、
断熱性に優れ、かつ長期にわたって断熱性が維持される
真空断熱材の開発を目的として検討した結果、本発明に
至った。
断熱性に優れ、かつ長期にわたって断熱性が維持される
真空断熱材の開発を目的として検討した結果、本発明に
至った。
【0007】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、下記
式(1)を満足するガスバリア性を有する樹脂含有層(A
層)とシーラント層とをそれぞれ少なくとも1層有する
積層フィルムの端部をシールして形成せしめた中空部を
有する真空断熱材であって、該シール部が下記式(2)
を満足する真空断熱材を提供するものである。 W・λ・P<1×10-6 (1) H/d > 20 (2) (ただし式中、W、λ、Pはそれぞれ、A層の厚み
(m)、A層の熱伝導度(W/m・K)およびA層の厚
みWでの23℃,50%RHにおける酸素透過度(cc/
m2・day・atm)である。また、d、Hはそれぞれシーラン
ト層の厚み(mm)とシーラント幅(mm)である。)
式(1)を満足するガスバリア性を有する樹脂含有層(A
層)とシーラント層とをそれぞれ少なくとも1層有する
積層フィルムの端部をシールして形成せしめた中空部を
有する真空断熱材であって、該シール部が下記式(2)
を満足する真空断熱材を提供するものである。 W・λ・P<1×10-6 (1) H/d > 20 (2) (ただし式中、W、λ、Pはそれぞれ、A層の厚み
(m)、A層の熱伝導度(W/m・K)およびA層の厚
みWでの23℃,50%RHにおける酸素透過度(cc/
m2・day・atm)である。また、d、Hはそれぞれシーラン
ト層の厚み(mm)とシーラント幅(mm)である。)
【0008】
【発明の実施の形態】本発明におけるA層は、該層の厚
みW(m)、熱伝導度λ(W/m・K)、および厚みW
での23℃における酸素透過度P(cc/m2・day・atm)の
積が1×10 -6未満を満足するガスバリア性の層であ
り、後述するような酸素透過度を有していることが、ガ
スバリア性の観点から好ましい。上記積が1×10-6以
上では、ヒートブリッジによる断熱性の低下がおこるか
または時間の経過とともに断熱性の低下がおこり好まし
くない。W、λおよびPの積は小さい方が好ましく、2
×10-7未満がより好ましく、1×10-7未満が特に好
ましい。A層が例えば後述するような無機層状化合物を
含む場合には、1×10-8未満が好ましく、さらには1
×10-9未満が好ましく、特に1×10-10未満が好ま
しい。
みW(m)、熱伝導度λ(W/m・K)、および厚みW
での23℃における酸素透過度P(cc/m2・day・atm)の
積が1×10 -6未満を満足するガスバリア性の層であ
り、後述するような酸素透過度を有していることが、ガ
スバリア性の観点から好ましい。上記積が1×10-6以
上では、ヒートブリッジによる断熱性の低下がおこるか
または時間の経過とともに断熱性の低下がおこり好まし
くない。W、λおよびPの積は小さい方が好ましく、2
×10-7未満がより好ましく、1×10-7未満が特に好
ましい。A層が例えば後述するような無機層状化合物を
含む場合には、1×10-8未満が好ましく、さらには1
×10-9未満が好ましく、特に1×10-10未満が好ま
しい。
【0009】W、λおよびPは後述するような測定方法
により求めることができる。なおA層の厚みが極めて薄
く、直接上記値を測定できない場合は、適当なフィルム
等に積層し、積層体の厚み、熱伝導度および酸素透過度
の各値とガスバリア層を積層する前のフィルム等の厚
み、熱伝導度および酸素透過度の各値との差からA層の
上記値を求めてもよい。
により求めることができる。なおA層の厚みが極めて薄
く、直接上記値を測定できない場合は、適当なフィルム
等に積層し、積層体の厚み、熱伝導度および酸素透過度
の各値とガスバリア層を積層する前のフィルム等の厚
み、熱伝導度および酸素透過度の各値との差からA層の
上記値を求めてもよい。
【0010】W、λおよびPは、これら3つの積が上記
範囲を満足すれば各値は特に制限はないが、ヒートブリ
ッジの観点から、Wとしては10mm以下が好ましく、
1mm以下がより好ましく、100μm以下が特に好ま
しい。また、ヒートブリッジの観点から、λとしては1
00W/m・K以下が好ましく、10W/m・K以下が
より好ましく、1W/m・K以下が特に好ましい。
範囲を満足すれば各値は特に制限はないが、ヒートブリ
ッジの観点から、Wとしては10mm以下が好ましく、
1mm以下がより好ましく、100μm以下が特に好ま
しい。また、ヒートブリッジの観点から、λとしては1
00W/m・K以下が好ましく、10W/m・K以下が
より好ましく、1W/m・K以下が特に好ましい。
【0011】PはA層の厚みが上記Wの時の該層の23
℃、50%RHにおける酸素透過度であり、長期にわた
る断熱性の維持の観点から、Pとしては0.5cc/m2・
day・atm以下が好ましく、0.1cc/m2・day・atm以下
がより好ましく、0.01cc/m2・day・atm以下が特に
好ましい。
℃、50%RHにおける酸素透過度であり、長期にわた
る断熱性の維持の観点から、Pとしては0.5cc/m2・
day・atm以下が好ましく、0.1cc/m2・day・atm以下
がより好ましく、0.01cc/m2・day・atm以下が特に
好ましい。
【0012】さらにA層は樹脂を含有する層であり、樹
脂からなる層であってもよいし、後述するような樹脂以
外のガスバリア性を付与する物質、例えば金属酸化物ま
たは金属水酸化物等の無機物を含有する樹脂組成物から
なる層であってもよい。A層が樹脂組成物からなる層の
場合、力学的強度の観点から、樹脂が連続層を形成して
いることが好ましい。
脂からなる層であってもよいし、後述するような樹脂以
外のガスバリア性を付与する物質、例えば金属酸化物ま
たは金属水酸化物等の無機物を含有する樹脂組成物から
なる層であってもよい。A層が樹脂組成物からなる層の
場合、力学的強度の観点から、樹脂が連続層を形成して
いることが好ましい。
【0013】含有する樹脂としては、断熱性の持続の観
点からガスバリア性に優れる樹脂が好ましく、例えば、
液晶ポリエステル樹脂などの液晶性ポリマーおよびアラ
ミド樹脂などの疎水性樹脂、樹脂単位重量当りの水素結
合性基またはイオン性基の重量百分率が20%〜60%
の割合を満足する高水素結合性樹脂、芳香族エポキシお
よびフェノール樹脂などの熱硬化性樹脂等があげられ
る。高水素結合性樹脂のさらに好ましい例としては、高
水素結合性樹脂の樹脂単位重量当りの水素結合性基また
はイオン性基の重量百分率が30%〜50%の割合を満
足するものがあげられる。
点からガスバリア性に優れる樹脂が好ましく、例えば、
液晶ポリエステル樹脂などの液晶性ポリマーおよびアラ
ミド樹脂などの疎水性樹脂、樹脂単位重量当りの水素結
合性基またはイオン性基の重量百分率が20%〜60%
の割合を満足する高水素結合性樹脂、芳香族エポキシお
よびフェノール樹脂などの熱硬化性樹脂等があげられ
る。高水素結合性樹脂のさらに好ましい例としては、高
水素結合性樹脂の樹脂単位重量当りの水素結合性基また
はイオン性基の重量百分率が30%〜50%の割合を満
足するものがあげられる。
【0014】高水素結合性樹脂の水素結合性基としては
水酸基、アミノ基、チオール基、カルボキシル基、スル
ホン酸基、燐酸基、などが挙げられ、イオン性基として
はカルボキシレート基、スルホン酸イオン基、燐酸イオ
ン基、アンモニウム基、ホスホニウム基などが挙げられ
る。
水酸基、アミノ基、チオール基、カルボキシル基、スル
ホン酸基、燐酸基、などが挙げられ、イオン性基として
はカルボキシレート基、スルホン酸イオン基、燐酸イオ
ン基、アンモニウム基、ホスホニウム基などが挙げられ
る。
【0015】高水素結合性樹脂の水素結合性基またはイ
オン性基のうち、さらに好ましいものとしては、水酸
基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、カルボ
キシレート基、スルホン酸イオン基、アンモニウム基な
どが挙げられる。
オン性基のうち、さらに好ましいものとしては、水酸
基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、カルボ
キシレート基、スルホン酸イオン基、アンモニウム基な
どが挙げられる。
【0016】具体例としては、例えば、ポリビニルアル
コール、ビニルアルコール分率が41モル%以上のエチ
レン−ビニルアルコール共重合体、ヒドロキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロース、アミロース、アミロペクチン、プルラ
ン、カードラン、ザンタン、キチン、キトサン、セルロ
ース、プルラン、キトサンなどのような多糖類、ポリア
クリル酸、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリベンゼンス
ルホン酸、ポリベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリエ
チレンイミン、ポリアリルアミン、そのアンモニウム塩
ポリビニルチオール、ポリグリセリン、などが挙げられ
る。
コール、ビニルアルコール分率が41モル%以上のエチ
レン−ビニルアルコール共重合体、ヒドロキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロース、アミロース、アミロペクチン、プルラ
ン、カードラン、ザンタン、キチン、キトサン、セルロ
ース、プルラン、キトサンなどのような多糖類、ポリア
クリル酸、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリベンゼンス
ルホン酸、ポリベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリエ
チレンイミン、ポリアリルアミン、そのアンモニウム塩
ポリビニルチオール、ポリグリセリン、などが挙げられ
る。
【0017】かかるA層としては、例えば、上述したよ
うなガスバリア性樹脂からなる層であってもよいし、ま
た、他のガスバリア性を付与する物質、例えば単位結晶
層が互いに積み重なって層状構造を有している無機層状
化合物と、例えばポリビニルアルコール等の樹脂とから
なる樹脂組成物からなる層が例示できる。無機層状化合
物としては、得られるA層のガスバリア性、経済性およ
び入手のしやすさの観点から、アスペクト比が50以上
5000以下が好ましく、100以上がより好ましく、
200以上3000以下が特に好ましい。
うなガスバリア性樹脂からなる層であってもよいし、ま
た、他のガスバリア性を付与する物質、例えば単位結晶
層が互いに積み重なって層状構造を有している無機層状
化合物と、例えばポリビニルアルコール等の樹脂とから
なる樹脂組成物からなる層が例示できる。無機層状化合
物としては、得られるA層のガスバリア性、経済性およ
び入手のしやすさの観点から、アスペクト比が50以上
5000以下が好ましく、100以上がより好ましく、
200以上3000以下が特に好ましい。
【0018】ここでアスペクト比とは、溶媒中、動的光
散乱法により求めた粒径(L)と溶媒中に一旦分散さ
せ、十分に膨潤または壁開させた後、溶媒を乾燥して無
機層状化合物を回収して、回収した無機層状化合物を粉
末X線回折法などによって求められる単位厚みaとの比
(L/a)である。Lおよびaを測定する際の溶媒とし
ては、無機層状化合物の密度より小さい密度を有する溶
媒が用いられ、例えば、水が例示される。アスペクト比
の詳細については、特開平7−251487号公報およ
び特開平6−93133号公報を参照することができ
る。
散乱法により求めた粒径(L)と溶媒中に一旦分散さ
せ、十分に膨潤または壁開させた後、溶媒を乾燥して無
機層状化合物を回収して、回収した無機層状化合物を粉
末X線回折法などによって求められる単位厚みaとの比
(L/a)である。Lおよびaを測定する際の溶媒とし
ては、無機層状化合物の密度より小さい密度を有する溶
媒が用いられ、例えば、水が例示される。アスペクト比
の詳細については、特開平7−251487号公報およ
び特開平6−93133号公報を参照することができ
る。
【0019】また、上記無機層状化合物を使用する場
合、成形性の観点から、上記Lは5μm以下が好まし
く、3μm以下がより好ましい。
合、成形性の観点から、上記Lは5μm以下が好まし
く、3μm以下がより好ましい。
【0020】該無機層状化合物の具体例としては、グラ
ファイト、リン酸塩系誘導体型化合物(リン酸ジルコニ
ウム系化合物)、カルコゲン化物[IV族(Ti、Z
r、Hf)、V族(V、Nb、Ta)およびVI族(M
o、W)のジカルコゲン化物であり、式MX2で表わさ
れる。ここでXはカルコゲン(S、Se、Te)を示
す]または粘度系鉱物等が挙げられる。無機層状化合物
と樹脂との組成比は(重量比)は、断熱効果及び成形性
の観点から、(無機層状化合物/樹脂)が重量比で5/
95〜90/10の範囲が好ましく、5/95〜50/
50の範囲であることがより好ましい。
ファイト、リン酸塩系誘導体型化合物(リン酸ジルコニ
ウム系化合物)、カルコゲン化物[IV族(Ti、Z
r、Hf)、V族(V、Nb、Ta)およびVI族(M
o、W)のジカルコゲン化物であり、式MX2で表わさ
れる。ここでXはカルコゲン(S、Se、Te)を示
す]または粘度系鉱物等が挙げられる。無機層状化合物
と樹脂との組成比は(重量比)は、断熱効果及び成形性
の観点から、(無機層状化合物/樹脂)が重量比で5/
95〜90/10の範囲が好ましく、5/95〜50/
50の範囲であることがより好ましい。
【0021】本発明におけるシーラント層に用いられる
樹脂としては特に限定されないがヒートシール強度や臭
気などの観点から、例えば低密度または高密度ポリエチ
レン、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン
−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エ
チレン−ヘキセン共重合体、エチレン―4―メチル―1
−ペンテン共重合体、エチレン−オクテン共重合体、ポ
リプロピレン、エチレンー酢酸ビニル共重合体、エチレ
ン−メタクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル
酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、ア
イオノマー樹脂などのポリオレフィン系樹脂、ナイロン
6、ナイロン66等のポリアミド樹脂、アクリロニトリ
ル・ブタジエン・スチレン共重合体、アクリロニトリル・
スチレン共重合体、アクリロニトリル共重合体、ポリメ
チルメタクリレート等のポリアクリレート等が挙げられ
る。
樹脂としては特に限定されないがヒートシール強度や臭
気などの観点から、例えば低密度または高密度ポリエチ
レン、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン
−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エ
チレン−ヘキセン共重合体、エチレン―4―メチル―1
−ペンテン共重合体、エチレン−オクテン共重合体、ポ
リプロピレン、エチレンー酢酸ビニル共重合体、エチレ
ン−メタクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル
酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、ア
イオノマー樹脂などのポリオレフィン系樹脂、ナイロン
6、ナイロン66等のポリアミド樹脂、アクリロニトリ
ル・ブタジエン・スチレン共重合体、アクリロニトリル・
スチレン共重合体、アクリロニトリル共重合体、ポリメ
チルメタクリレート等のポリアクリレート等が挙げられ
る。
【0022】本発明の真空断熱材は、上記A層およびシ
ーラント層をそれぞれ少なくとも1層有する積層フィル
ムの端部をシールすることにより、例えば袋状物として
その内部に中空部を形成せしめ、該中空部内を真空排気
することにより断熱効果をより高めたものである。シー
ルする箇所は少なくとも2以上であり、例えばインフレ
ーションフィルムの開口両端をシールする2方シール、
1枚のフィルムを二つ折りにして重なり合った各端部を
シールする3方シール、2枚以上のフィルムを重ね合わ
せて各端部をシールする4方シール等の袋状物が例示で
きるが、これらに特に限定されるものではない。シール
部分からのガス透過の観点から、2方または3方シール
が好ましい。
ーラント層をそれぞれ少なくとも1層有する積層フィル
ムの端部をシールすることにより、例えば袋状物として
その内部に中空部を形成せしめ、該中空部内を真空排気
することにより断熱効果をより高めたものである。シー
ルする箇所は少なくとも2以上であり、例えばインフレ
ーションフィルムの開口両端をシールする2方シール、
1枚のフィルムを二つ折りにして重なり合った各端部を
シールする3方シール、2枚以上のフィルムを重ね合わ
せて各端部をシールする4方シール等の袋状物が例示で
きるが、これらに特に限定されるものではない。シール
部分からのガス透過の観点から、2方または3方シール
が好ましい。
【0023】そのシール部は、上記シーラント層の厚み
をd(mm)、シール部の幅をH(mm)とする時、H/d
>20を満足するものである。H/dが20以下ではシ
ール部分からのガス透過が大きくなる。H/dは大きい
ほど、ガスバリア性の観点から好ましく、1×102以
上がより好ましく、1×103以上がさらに好ましい。
なお、例えば後述するようなヒートシール等のシール前
後でシール部のシーラント層の厚みが変化する可能性の
ある場合は、dはシール前の厚みである。
をd(mm)、シール部の幅をH(mm)とする時、H/d
>20を満足するものである。H/dが20以下ではシ
ール部分からのガス透過が大きくなる。H/dは大きい
ほど、ガスバリア性の観点から好ましく、1×102以
上がより好ましく、1×103以上がさらに好ましい。
なお、例えば後述するようなヒートシール等のシール前
後でシール部のシーラント層の厚みが変化する可能性の
ある場合は、dはシール前の厚みである。
【0024】H及びdの各値は上記比を満足するように
設定すればよいが、ガスバリア性の観点から、dは0.
2mm以下が好ましく、0.05mm以下がさらに好ま
しく、0.04mm以下が特に好ましい。またHは、ガ
スバリア性の観点から、10mm以上が好ましく、20
mm以上がより好ましい。
設定すればよいが、ガスバリア性の観点から、dは0.
2mm以下が好ましく、0.05mm以下がさらに好ま
しく、0.04mm以下が特に好ましい。またHは、ガ
スバリア性の観点から、10mm以上が好ましく、20
mm以上がより好ましい。
【0025】シール方法は特に制限はなく、熱融着、圧
着、接着剤等による接着、熱板融着またはヒートシール
と呼ばれる加熱圧着、高周波加熱による融着等の通常行
われているシール方法が例示できる。これら方法のなか
でもシール強度等の観点から、ヒートシールが好まし
い。
着、接着剤等による接着、熱板融着またはヒートシール
と呼ばれる加熱圧着、高周波加熱による融着等の通常行
われているシール方法が例示できる。これら方法のなか
でもシール強度等の観点から、ヒートシールが好まし
い。
【0026】本発明の真空断熱材において、断熱効果の
観点から、上記方法により形成された中空部内にはいわ
ゆるコア材を有していることが好ましい。用いられるコ
ア材としては、断熱性を有する物であれば特に制限はな
いが、例えば、JIS R2618により測定した時の
熱伝導率が0.1W/m・K未満のものが好ましい。コ
ア材の具体例としては、パーライト粉末、シリカ粉末、
沈降シリカ粉末、ガラスウール、ロックウール、連通発
泡樹脂発泡体等が例示できる。軽量性の観点から100
%連通発泡ウレタンが好ましい。
観点から、上記方法により形成された中空部内にはいわ
ゆるコア材を有していることが好ましい。用いられるコ
ア材としては、断熱性を有する物であれば特に制限はな
いが、例えば、JIS R2618により測定した時の
熱伝導率が0.1W/m・K未満のものが好ましい。コ
ア材の具体例としては、パーライト粉末、シリカ粉末、
沈降シリカ粉末、ガラスウール、ロックウール、連通発
泡樹脂発泡体等が例示できる。軽量性の観点から100
%連通発泡ウレタンが好ましい。
【0027】また必要に応じて所謂ゲッター剤と呼ばれ
る気体等に対して吸着性を有するものを併用してもよい
し、ゲッター剤をコア材として代用してもよい。
る気体等に対して吸着性を有するものを併用してもよい
し、ゲッター剤をコア材として代用してもよい。
【0028】また本発明の真空断熱材の中空部内には、
中空構造体を有していてもよい。中空構造体の形状は特
に制限はなく、直方体、立方体、球等が挙げられるが、
断熱性の観点から、該中空構造体を形成する壁の厚みは
10mm以下が好ましく、5mm以下がより好ましく、
1mm以下が特に好ましい。また、その構成材料は特に
制限はないが、得られる真空断熱体の断熱性の観点か
ら、樹脂製が好ましい。
中空構造体を有していてもよい。中空構造体の形状は特
に制限はなく、直方体、立方体、球等が挙げられるが、
断熱性の観点から、該中空構造体を形成する壁の厚みは
10mm以下が好ましく、5mm以下がより好ましく、
1mm以下が特に好ましい。また、その構成材料は特に
制限はないが、得られる真空断熱体の断熱性の観点か
ら、樹脂製が好ましい。
【0029】かかる樹脂としては、例えば、低密度また
は高密度ポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合
体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共
重合体、エチレン−オクテン共重合体、ポリプロピレ
ン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メチル
メタクリレート共重合体、アイオノマー樹脂などのポリ
オレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートな
どのポリエステル系樹脂、ナイロン−6、ナイロン−
6,6、メタキシレンジアミン−アジピン酸縮重合体、
ポリメチルメタクリルイミドなどのアミド系樹脂、ポリ
メチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチ
レン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン
−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリ
ロニトリルなどのスチレンおよびアクリロニトリル系樹
脂、トリ酢酸セルロース、ジ酢酸セルロースなどの疎水
化セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリフッ化ビニリデン、テフロンなどのハロゲン
含有樹脂、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルア
ルコール共重合体、セルロース誘導体などの水素結合性
樹脂、液晶ポリエステル樹脂などの液晶性ポリマー、ポ
リカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテル
サルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリ
フェニレンオキシド樹脂、ポリメチレンオキシド樹脂、
アラミド樹脂等のエンジニアリングプラスチック系樹
脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂など
があげられる。
は高密度ポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合
体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共
重合体、エチレン−オクテン共重合体、ポリプロピレ
ン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メチル
メタクリレート共重合体、アイオノマー樹脂などのポリ
オレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートな
どのポリエステル系樹脂、ナイロン−6、ナイロン−
6,6、メタキシレンジアミン−アジピン酸縮重合体、
ポリメチルメタクリルイミドなどのアミド系樹脂、ポリ
メチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチ
レン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン
−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリ
ロニトリルなどのスチレンおよびアクリロニトリル系樹
脂、トリ酢酸セルロース、ジ酢酸セルロースなどの疎水
化セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリフッ化ビニリデン、テフロンなどのハロゲン
含有樹脂、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルア
ルコール共重合体、セルロース誘導体などの水素結合性
樹脂、液晶ポリエステル樹脂などの液晶性ポリマー、ポ
リカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテル
サルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリ
フェニレンオキシド樹脂、ポリメチレンオキシド樹脂、
アラミド樹脂等のエンジニアリングプラスチック系樹
脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂など
があげられる。
【0030】さらに上記中空構造体は上述したようなコ
ア材および/またはゲッター剤をその内部に有していて
もよい。
ア材および/またはゲッター剤をその内部に有していて
もよい。
【0031】本発明の真空断熱材としては、例えばA層
とシーラント層からなる積層フィルムをヒートシール等
により袋状物とし、該袋状物内にコア材または中空構造
体等を入れ、袋状物内を真空排気した後密閉したもの等
があげられる。強度の観点から、樹脂積層フィルムは後
述するような基材層を有することが好ましいが、その層
構成に関しては特に制限はない。
とシーラント層からなる積層フィルムをヒートシール等
により袋状物とし、該袋状物内にコア材または中空構造
体等を入れ、袋状物内を真空排気した後密閉したもの等
があげられる。強度の観点から、樹脂積層フィルムは後
述するような基材層を有することが好ましいが、その層
構成に関しては特に制限はない。
【0032】真空排気した後の中空部内の圧力は、真空
断熱材内部の断熱性の観点から、通常、1Torr以下
であり、0.1Torr以下が好ましく、0.01To
rr以下がより好ましい。
断熱材内部の断熱性の観点から、通常、1Torr以下
であり、0.1Torr以下が好ましく、0.01To
rr以下がより好ましい。
【0033】また、本発明の真空断熱材は、真空断熱材
の形状とA層の酸素透過度の観点から、その中空部を覆
う上記A層の面積をS(cm2)、中空部中の空隙体積をV
(cm3)とすると、下記式(3)を満足することが好まし
い。 1×102<V/(P・S)<5×103 (3) ただし、上記式(3)においてPは前記と同じ意味を表
わす。
の形状とA層の酸素透過度の観点から、その中空部を覆
う上記A層の面積をS(cm2)、中空部中の空隙体積をV
(cm3)とすると、下記式(3)を満足することが好まし
い。 1×102<V/(P・S)<5×103 (3) ただし、上記式(3)においてPは前記と同じ意味を表
わす。
【0034】ここで本発明において中空部中の空隙体積
とは、真空断熱材の中空部内を真空排気した後の中空部
の体積であって、真空断熱材がその中空部にコア材を有
している場合、Vは中空部の体積からコア材が占める真
の体積を除いた値である。コア材が占める真の体積はコ
ア材の真比重、および使用したコア材の全重量から求め
ることができる。また、真空断熱材の中空部に上述した
ような中空構造体を有している場合、Vは真空断熱材の
中空部の体積から中空構造体を形成する壁の全体積を除
いた値である。中空構造体が上述したようにその内部に
コア材等を有している場合、Vは真空断熱材の中空部の
体積から中空構造体を形成する壁の全体積を除いた値か
らさらに上述したようにコア材が占める真の体積を除い
た値である。
とは、真空断熱材の中空部内を真空排気した後の中空部
の体積であって、真空断熱材がその中空部にコア材を有
している場合、Vは中空部の体積からコア材が占める真
の体積を除いた値である。コア材が占める真の体積はコ
ア材の真比重、および使用したコア材の全重量から求め
ることができる。また、真空断熱材の中空部に上述した
ような中空構造体を有している場合、Vは真空断熱材の
中空部の体積から中空構造体を形成する壁の全体積を除
いた値である。中空構造体が上述したようにその内部に
コア材等を有している場合、Vは真空断熱材の中空部の
体積から中空構造体を形成する壁の全体積を除いた値か
らさらに上述したようにコア材が占める真の体積を除い
た値である。
【0035】またSは真空断熱材の中空部を覆うA層の
面積であって、中空部に面する表面の反対側の表面の面
積であるが、通常はA層の厚みは薄く中空部に面する表
面の面積とその反対側の表面の面積はほぼ同じとみなし
てよい。したがってSはA層の重量、その見掛比重およ
びA層の厚みから求めることができる。
面積であって、中空部に面する表面の反対側の表面の面
積であるが、通常はA層の厚みは薄く中空部に面する表
面の面積とその反対側の表面の面積はほぼ同じとみなし
てよい。したがってSはA層の重量、その見掛比重およ
びA層の厚みから求めることができる。
【0036】本発明における積層フィルムに基材層を設
ける場合、基材層に用いられる材料としては、特に限定
はないが、ヒートブリッジを抑制する観点からできるだ
け熱伝導率の低い材料が好ましく、成形性の観点から、
樹脂が一般に用いられる。樹脂としては、例えば、低密
度または高密度ポリエチレン、エチレン−プロピレン共
重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセ
ン共重合体、エチレン−オクテン共重合体、ポリプロピ
レン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メチ
ルメタクリレート共重合体、アイオノマー樹脂などのポ
リオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート
などのポリエステル系樹脂、ナイロン−6、ナイロン−
6,6、メタキシレンジアミン−アジピン酸縮重合体、
ポリメチルメタクリルイミドなどのアミド系樹脂、ポリ
メチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチ
レン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン
−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリ
ロニトリルなどのスチレンおよびアクリロニトリル系樹
脂、トリ酢酸セルロース、ジ酢酸セルロースなどの疎水
化セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリフッ化ビニリデン、テフロンなどのハロゲン
含有樹脂、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルア
ルコール共重合体、セルロース誘導体などの水素結合性
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリ
エーテルサルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹
脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリメチレンオキシ
ド樹脂、液晶ポリエステル樹脂などのエンジニアリング
プラスチック系樹脂などがあげられる。これら樹脂のな
かでも、二軸延伸されたポリプロピレン、ポリエチレン
テレフタレート、ナイロン等、Kコートと呼ばれるポリ
塩化ビニリデンをコートした二軸延伸されたポリプロピ
レン、ポリエチレンテレフタレート、ナイロン等、アル
ミニウム蒸着フィルム、アルミナ蒸着フィルム、シリカ
蒸着フィルム等の各種蒸着フィルムおよび液晶ポリエス
テル樹脂、アラミド樹脂などが好ましい。その他の基材
として、アルミ箔、スチール箔等の金属箔および無機物
箔などを用いてもよい。
ける場合、基材層に用いられる材料としては、特に限定
はないが、ヒートブリッジを抑制する観点からできるだ
け熱伝導率の低い材料が好ましく、成形性の観点から、
樹脂が一般に用いられる。樹脂としては、例えば、低密
度または高密度ポリエチレン、エチレン−プロピレン共
重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセ
ン共重合体、エチレン−オクテン共重合体、ポリプロピ
レン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メチ
ルメタクリレート共重合体、アイオノマー樹脂などのポ
リオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート
などのポリエステル系樹脂、ナイロン−6、ナイロン−
6,6、メタキシレンジアミン−アジピン酸縮重合体、
ポリメチルメタクリルイミドなどのアミド系樹脂、ポリ
メチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチ
レン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン
−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリ
ロニトリルなどのスチレンおよびアクリロニトリル系樹
脂、トリ酢酸セルロース、ジ酢酸セルロースなどの疎水
化セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリフッ化ビニリデン、テフロンなどのハロゲン
含有樹脂、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルア
ルコール共重合体、セルロース誘導体などの水素結合性
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリ
エーテルサルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹
脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリメチレンオキシ
ド樹脂、液晶ポリエステル樹脂などのエンジニアリング
プラスチック系樹脂などがあげられる。これら樹脂のな
かでも、二軸延伸されたポリプロピレン、ポリエチレン
テレフタレート、ナイロン等、Kコートと呼ばれるポリ
塩化ビニリデンをコートした二軸延伸されたポリプロピ
レン、ポリエチレンテレフタレート、ナイロン等、アル
ミニウム蒸着フィルム、アルミナ蒸着フィルム、シリカ
蒸着フィルム等の各種蒸着フィルムおよび液晶ポリエス
テル樹脂、アラミド樹脂などが好ましい。その他の基材
として、アルミ箔、スチール箔等の金属箔および無機物
箔などを用いてもよい。
【0037】上記積層フィルムを得る方法としては、ド
ライラミネート法、コーティング法などの通常の方法が
挙げられる。例えば、A層が上述した無機層状化合物と
ポリビニルアルコールからなる樹脂組成物からなる場
合、ポリビニルアルコールを水に溶解した後、該溶液に
無機層状化合物を分散させた分散液をコーティング液と
し、上述したような基材層またはシーラント層等にコー
ティングすればよい。
ライラミネート法、コーティング法などの通常の方法が
挙げられる。例えば、A層が上述した無機層状化合物と
ポリビニルアルコールからなる樹脂組成物からなる場
合、ポリビニルアルコールを水に溶解した後、該溶液に
無機層状化合物を分散させた分散液をコーティング液と
し、上述したような基材層またはシーラント層等にコー
ティングすればよい。
【0038】また得られる積層体の各層間の密着強度の
観点から、各層は必要に応じて、コロナ処理、オゾン処
理、電子線処理やアンカーコート剤などの処理がされて
いてもよい。
観点から、各層は必要に応じて、コロナ処理、オゾン処
理、電子線処理やアンカーコート剤などの処理がされて
いてもよい。
【0039】また、上記A層、シーラント層または基材
層等には本発明の効果を損なわない範囲で、紫外線吸収
剤、着色剤、酸化防止剤等の通常、樹脂に配合される市
販の種々添加剤等を配合してもよい。
層等には本発明の効果を損なわない範囲で、紫外線吸収
剤、着色剤、酸化防止剤等の通常、樹脂に配合される市
販の種々添加剤等を配合してもよい。
【0040】また断熱性の観点から、積層体で覆われた
中空部内の圧力が0.01Torrの時、熱伝導率が
0.005W/m・K以下であるような真空断熱材が特
に好ましい。真空断熱材は必要に応じて真空度を調べる
ための検知体を使用してもよい。
中空部内の圧力が0.01Torrの時、熱伝導率が
0.005W/m・K以下であるような真空断熱材が特
に好ましい。真空断熱材は必要に応じて真空度を調べる
ための検知体を使用してもよい。
【0041】本発明の真空断熱材は、断熱性能に優れ、
冷蔵(10℃以下)庫または冷蔵室や冷凍(0℃以下)
庫または冷凍室等の壁等の断熱材とする、冷蔵または冷
凍用途に用いることができる。またさらに本発明の真空
断熱材は天井、壁、床等の断熱材として用いる建材用途
に用いることもできる。
冷蔵(10℃以下)庫または冷蔵室や冷凍(0℃以下)
庫または冷凍室等の壁等の断熱材とする、冷蔵または冷
凍用途に用いることができる。またさらに本発明の真空
断熱材は天井、壁、床等の断熱材として用いる建材用途
に用いることもできる。
【0042】
【発明の効果】本発明の真空断熱材は従来のものと比較
して断熱性に優れ、かつ長期にわたり断熱性が維持され
るものである。さらに本発明の真空断熱材は、保冷、保
温等断熱を必要とする各種用途(例えば、冷蔵庫、冷凍
庫、保冷車、車の天井部、バッテリー、冷凍または冷蔵
船、保温コンテナー、冷凍または保冷用ショーケース、
携帯用クーラー、料理用保温ケース、自動販売機、太陽
熱温水器、床暖房、床下、壁または壁内、天井部、屋根
裏部屋等の建材、熱水または冷却水の配管、低温流体を
移送する導管その他プラント機器類、衣料、寝具等)の
断熱材として好適に用いることができる。
して断熱性に優れ、かつ長期にわたり断熱性が維持され
るものである。さらに本発明の真空断熱材は、保冷、保
温等断熱を必要とする各種用途(例えば、冷蔵庫、冷凍
庫、保冷車、車の天井部、バッテリー、冷凍または冷蔵
船、保温コンテナー、冷凍または保冷用ショーケース、
携帯用クーラー、料理用保温ケース、自動販売機、太陽
熱温水器、床暖房、床下、壁または壁内、天井部、屋根
裏部屋等の建材、熱水または冷却水の配管、低温流体を
移送する導管その他プラント機器類、衣料、寝具等)の
断熱材として好適に用いることができる。
【0043】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0044】各種物性の測定方法は以下に記したとおり
である。 [熱伝導度測定]上記A層の熱伝導度はJIS R261
8に従い測定した。A層が薄層の場合、A層(厚みLt:
(m))の熱伝導度を基材とともに測定を行い(λt)、基
材のみ(厚み:LB:(m))の熱伝導度を別途測定し(λB)
、下記式によりA層のみ(厚みLA:(m))の熱伝導度
(λA)を算出した。 Lt/λt=LA/λA +LB/λB また真空断熱材の測定はJIS A1412に従い測定
した。
である。 [熱伝導度測定]上記A層の熱伝導度はJIS R261
8に従い測定した。A層が薄層の場合、A層(厚みLt:
(m))の熱伝導度を基材とともに測定を行い(λt)、基
材のみ(厚み:LB:(m))の熱伝導度を別途測定し(λB)
、下記式によりA層のみ(厚みLA:(m))の熱伝導度
(λA)を算出した。 Lt/λt=LA/λA +LB/λB また真空断熱材の測定はJIS A1412に従い測定
した。
【0045】[酸素透過度測定]酸素透過度測定装置(O
X−TRAN100、MOCON社製)にて23℃(5
0%RH)での条件で酸素透過度を測定した。
X−TRAN100、MOCON社製)にて23℃(5
0%RH)での条件で酸素透過度を測定した。
【0046】[ヒートシール条件]温度208℃、時間
0.5秒、ヒートシール幅10mm(ヒートシーラー:
FUJI IMPULSE T230:FUJI IM
PULSE CO.LTD)で3方シールを行い、袋状
物を作製した。
0.5秒、ヒートシール幅10mm(ヒートシーラー:
FUJI IMPULSE T230:FUJI IM
PULSE CO.LTD)で3方シールを行い、袋状
物を作製した。
【0047】[厚み測定]0.5μm以上の厚みは、市販
のデジタル厚み計(接触式厚み計、商品名:超高精度デ
シマイクロヘッド MH−15M、日本光学社製)によ
り測定した。一方、0.5μm未満の厚みは、重量分析
法(一定面積のフィルムの重量測定値をその面積で除
し、更に組成物の比重で除した)によった。
のデジタル厚み計(接触式厚み計、商品名:超高精度デ
シマイクロヘッド MH−15M、日本光学社製)によ
り測定した。一方、0.5μm未満の厚みは、重量分析
法(一定面積のフィルムの重量測定値をその面積で除
し、更に組成物の比重で除した)によった。
【0048】[塗工液1]分散釜(商品名:デスパMH
−L、浅田鉄工(株)製)に、イオン交換水(0.7μS/cm
以下)を980g入れ、さらにポリビニルアルコール
(PVA103;(株)クラレ製,ケン化度;98.5%,重合
度300)を20g入れ、低速攪拌下(1500rpm,
周速度4.10m/min)で95℃に昇温し、1時間
攪拌し、樹脂溶液(A)を得た。次に同じように、合成ス
メクタイト(スメクトンSA;クニミネ工業(株)製)を
粉末のまま添加し、高速攪拌(3100rpm,周速度
8.47m/min)を90分行い固形分濃度2wt%
の溶液(B)を得た。溶液(A)と溶液(B)とを1/2の重
量比で混合・攪拌し、トータル固形分濃度2wt%の樹
脂組成物混合液(C)を得た。
−L、浅田鉄工(株)製)に、イオン交換水(0.7μS/cm
以下)を980g入れ、さらにポリビニルアルコール
(PVA103;(株)クラレ製,ケン化度;98.5%,重合
度300)を20g入れ、低速攪拌下(1500rpm,
周速度4.10m/min)で95℃に昇温し、1時間
攪拌し、樹脂溶液(A)を得た。次に同じように、合成ス
メクタイト(スメクトンSA;クニミネ工業(株)製)を
粉末のまま添加し、高速攪拌(3100rpm,周速度
8.47m/min)を90分行い固形分濃度2wt%
の溶液(B)を得た。溶液(A)と溶液(B)とを1/2の重
量比で混合・攪拌し、トータル固形分濃度2wt%の樹
脂組成物混合液(C)を得た。
【0049】さらに、シリコーン系界面活性剤SH37
46(東レ・ダウコーニング(株)製)をトータル液量に対
し0.01wt%添加した液を塗工液1とし、以下に用
いた。
46(東レ・ダウコーニング(株)製)をトータル液量に対
し0.01wt%添加した液を塗工液1とし、以下に用
いた。
【0050】[実施例1]厚さ20μmの2軸延伸OP
P(パイレンP2102東洋紡績(株))を基材フィルム
とし、該基材フィルム上にアンカコート剤(E)(アド
コートAD335/CAT10=15/1(重量比):
東洋モートン(株)製)をグラビア塗工(テストコータ
ー;康井精機(株)製:マイクログラビア塗工法、塗工
速度3m/分、乾燥温度80℃)した。当該アンカーコ
ート層の乾燥厚みは0.15μmであった。さらに該層
の上に、塗工液1をグラビア塗工(テストコーター;康
井精機(株)製:マイクログラビア塗工法、塗工速度6
m/分、乾燥温度100℃)し、ガスバリア性を有する
樹脂含有層(A層)を有する二軸延伸PETフィルムを
得た。A層の熱伝導率を測定したところ、0.24W/
m・Kであり、乾燥後の厚みは0.5μmであった。
P(パイレンP2102東洋紡績(株))を基材フィルム
とし、該基材フィルム上にアンカコート剤(E)(アド
コートAD335/CAT10=15/1(重量比):
東洋モートン(株)製)をグラビア塗工(テストコータ
ー;康井精機(株)製:マイクログラビア塗工法、塗工
速度3m/分、乾燥温度80℃)した。当該アンカーコ
ート層の乾燥厚みは0.15μmであった。さらに該層
の上に、塗工液1をグラビア塗工(テストコーター;康
井精機(株)製:マイクログラビア塗工法、塗工速度6
m/分、乾燥温度100℃)し、ガスバリア性を有する
樹脂含有層(A層)を有する二軸延伸PETフィルムを
得た。A層の熱伝導率を測定したところ、0.24W/
m・Kであり、乾燥後の厚みは0.5μmであった。
【0051】得られた二軸延伸PETフィルムのA層上
に、ウレタン系接着剤(ユーノフレックスJ3:三洋化
成製)を用いて、表面コロナ処理した直鎖状ポリエチレ
ン(LLDPE)(KF101,関フィル(株)製:厚み
40μm)をドライラミネートし積層フィルムを得た。
そして、当該積層フィルムのA層の酸素透過度を測定し
た(表1)。
に、ウレタン系接着剤(ユーノフレックスJ3:三洋化
成製)を用いて、表面コロナ処理した直鎖状ポリエチレ
ン(LLDPE)(KF101,関フィル(株)製:厚み
40μm)をドライラミネートし積層フィルムを得た。
そして、当該積層フィルムのA層の酸素透過度を測定し
た(表1)。
【0052】[参考例1]上記得られた積層フィルム2
枚を用い、内層であるLLDPE層の3方を熱融着して
250mm×250mmの袋状物を作製した。次いで、
袋状物の中にコア材として120℃で1時間加熱処理を
行った100%連通発泡ウレタン(平均セル径75μ,クラ
ボウ(株)製)を充填し、さらに袋内を0.01Torr
に真空排気を行った後、袋状物の残りの1方を真空シー
ラー(NPC(株)製)(シール幅10mm)にて熱融着して
真空断熱材を得る。H/d=250であった。得られる
真空断熱材の熱伝導率は極めて低く、かつエージング時
の断熱性の低下の極めて少ないものとなる。
枚を用い、内層であるLLDPE層の3方を熱融着して
250mm×250mmの袋状物を作製した。次いで、
袋状物の中にコア材として120℃で1時間加熱処理を
行った100%連通発泡ウレタン(平均セル径75μ,クラ
ボウ(株)製)を充填し、さらに袋内を0.01Torr
に真空排気を行った後、袋状物の残りの1方を真空シー
ラー(NPC(株)製)(シール幅10mm)にて熱融着して
真空断熱材を得る。H/d=250であった。得られる
真空断熱材の熱伝導率は極めて低く、かつエージング時
の断熱性の低下の極めて少ないものとなる。
【0053】[比較例1]厚さ20μmの2軸延伸OP
P(東洋紡績(株),20μ)基材フィルムとし、該基材
フィルム上にアンカーコート剤(E)(アドコートAD
335/CAT10=15/1(重量比):東洋モート
ン(株)製)をグラビア塗工(テストコーター;康井精
機(株)製:マイクログラビア塗工法、塗工速度3m/
分、乾燥温度80℃)した。当該アンカーコート層の乾
燥厚みは0.15μmであった。さらに該層の上に、ポ
リ塩化ビニリデンエマルジョン(呉羽化学(株)製,クレ
ハロンDO833S)をグラビア塗工(テストコータ
ー;康井精機(株)製:マイクログラビア塗工法、塗工
速度6m/分、乾燥温度100℃)し、樹脂含有層を有
する二軸延伸OPPフィルムを得た。当該フィルムの樹
脂含有層の熱伝導率を測定したところ0.24W/m・
Kであり、乾燥後の厚みは3μmであった。
P(東洋紡績(株),20μ)基材フィルムとし、該基材
フィルム上にアンカーコート剤(E)(アドコートAD
335/CAT10=15/1(重量比):東洋モート
ン(株)製)をグラビア塗工(テストコーター;康井精
機(株)製:マイクログラビア塗工法、塗工速度3m/
分、乾燥温度80℃)した。当該アンカーコート層の乾
燥厚みは0.15μmであった。さらに該層の上に、ポ
リ塩化ビニリデンエマルジョン(呉羽化学(株)製,クレ
ハロンDO833S)をグラビア塗工(テストコータ
ー;康井精機(株)製:マイクログラビア塗工法、塗工
速度6m/分、乾燥温度100℃)し、樹脂含有層を有
する二軸延伸OPPフィルムを得た。当該フィルムの樹
脂含有層の熱伝導率を測定したところ0.24W/m・
Kであり、乾燥後の厚みは3μmであった。
【0054】得られた二軸延伸OPPフィルムの樹脂含
有層上に、ウレタン系接着剤(ユーノフレックスJ3:
三洋化成製)を用いて、表面コロナ処理した直鎖状ポリ
エチレン(LLDPE)(関フィル(株)製:厚み150
μm)をドライラミネートし積層フィルムを得た。樹脂
含有層の酸素透過度を測定した。(表1) [比較参考例2]さらに実施例1と同様の条件で真空断
熱材が得られる。H/d=67であった。エージングに
より断熱性が著しく低下するものである。
有層上に、ウレタン系接着剤(ユーノフレックスJ3:
三洋化成製)を用いて、表面コロナ処理した直鎖状ポリ
エチレン(LLDPE)(関フィル(株)製:厚み150
μm)をドライラミネートし積層フィルムを得た。樹脂
含有層の酸素透過度を測定した。(表1) [比較参考例2]さらに実施例1と同様の条件で真空断
熱材が得られる。H/d=67であった。エージングに
より断熱性が著しく低下するものである。
【0055】
【表1】
【0056】
【表2】
Claims (11)
- 【請求項1】下記式(1)を満足するガスバリア性を有す
る樹脂含有層(A層)とシーラント層とをそれぞれ少な
くとも1層有する積層フィルムの端部をシールして形成
せしめた中空部を有する真空断熱材であって、該シール
部が下記式(2)を満足する真空断熱材。 W・λ・P<1×10-6 (1) H/d>20 (2) (ただし式中、W、λ、Pはそれぞれ、A層の厚み
(m)、A層の熱伝導度(W/m・K)およびA層の厚
みWでの23℃,50%RHにおける酸素透過度(cc/
m2・day・atm)、またd、Hはそれぞれシーラント層の厚
み(mm)およびシール部の幅(mm)である。) - 【請求項2】中空部内にコア材を有する請求項1記載の
真空断熱材。 - 【請求項3】中空部内に中空構造体を有する請求項1記
載の真空断熱材。 - 【請求項4】中空構造体中にコア材を有する請求項3記
載の真空断熱材。 - 【請求項5】下記式(3)を満足する請求項2〜4いず
れか1項記載の真空断熱材。 1×102<V/(P・S)<5×103 (3) (ただし式中、Sは中空部を覆うA層の面積(cm2)、V
は真空断熱材中の空隙体積(cm3)であり、Pは前記と同
じ意味を表わす) - 【請求項6】請求項1の式(1)において、W・λ・P
の値が2×10-7未満である真空断熱材。 - 【請求項7】A層に無機層状化合物を含む請求項1記載
の真空断熱材。 - 【請求項8】請求項(1)の式(1)においてW・λ・
Pの値が2×10-8未満である請求項1,7に記載の真
空断熱材。 - 【請求項9】請求項1の式(2)において、H/d>1
00である請求項1〜8に記載の真空断熱材。 - 【請求項10】冷蔵または冷凍用途に用いる請求項1か
ら9のいずれか1項に記載の真空断熱材。 - 【請求項11】建材用途に用いる請求項1から9のいず
れか1項に記載の真空断熱材。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10058672A JPH11257578A (ja) | 1998-03-10 | 1998-03-10 | 真空断熱材 |
KR1019980055192A KR100646146B1 (ko) | 1997-12-16 | 1998-12-15 | 진공단열재 |
DE19858121.1A DE19858121B4 (de) | 1997-12-16 | 1998-12-16 | Vakuumwärmeisolator |
US09/210,895 US6436505B2 (en) | 1997-12-16 | 1998-12-16 | Vacuum thermal insulator |
CNB981116531A CN1140604C (zh) | 1997-12-16 | 1998-12-16 | 真空绝热材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10058672A JPH11257578A (ja) | 1998-03-10 | 1998-03-10 | 真空断熱材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11257578A true JPH11257578A (ja) | 1999-09-21 |
Family
ID=13091085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10058672A Abandoned JPH11257578A (ja) | 1997-12-16 | 1998-03-10 | 真空断熱材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11257578A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012062987A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Fuji Electric Co Ltd | 真空断熱材及びその製造方法 |
-
1998
- 1998-03-10 JP JP10058672A patent/JPH11257578A/ja not_active Abandoned
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012062987A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Fuji Electric Co Ltd | 真空断熱材及びその製造方法 |
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Legal Events
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