JPH1125520A - 光ディスクの製造方法 - Google Patents
光ディスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH1125520A JPH1125520A JP17704497A JP17704497A JPH1125520A JP H1125520 A JPH1125520 A JP H1125520A JP 17704497 A JP17704497 A JP 17704497A JP 17704497 A JP17704497 A JP 17704497A JP H1125520 A JPH1125520 A JP H1125520A
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- JP
- Japan
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- disk substrate
- disk
- gas
- lid
- substrate
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ディスク基板の搬送中や保管中に水分等を吸
収しないようにして薄膜の膜質を安定し、高品質の光デ
ィスクを得る。 【解決手段】 成形機１で成形したディスク基板ＤをＮ
2 ガス雰囲気のクリーンチューブ２中を搬送し、又はＮ
2 ガス雰囲気のディスク保管容器７を備えたストッカー
４で保管し、その後成膜機３でディスク基板Ｄに薄膜を
形成するものであり、ディスク基板Ｄの搬送中や保管中
に水分等を吸収しないため成膜機３での薄膜形成時にガ
スを放出する恐れがなく、膜質の安定した高品質の光デ
ィスクが得られるようにした。
収しないようにして薄膜の膜質を安定し、高品質の光デ
ィスクを得る。 【解決手段】 成形機１で成形したディスク基板ＤをＮ
2 ガス雰囲気のクリーンチューブ２中を搬送し、又はＮ
2 ガス雰囲気のディスク保管容器７を備えたストッカー
４で保管し、その後成膜機３でディスク基板Ｄに薄膜を
形成するものであり、ディスク基板Ｄの搬送中や保管中
に水分等を吸収しないため成膜機３での薄膜形成時にガ
スを放出する恐れがなく、膜質の安定した高品質の光デ
ィスクが得られるようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光ディスクの製造方
法に関し、特に搬送中や保管中に雰囲気中の水分などを
吸収せず安定した薄膜形成ができる光ディスクの製造方
法及びそれに用いるディスク保管容器に関するものであ
る。
法に関し、特に搬送中や保管中に雰囲気中の水分などを
吸収せず安定した薄膜形成ができる光ディスクの製造方
法及びそれに用いるディスク保管容器に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の光ディスクの製造装置を図５を参
照して説明する。図５において、２１はディスク基板Ｄ
の成形機であり、成形されたディスク基板Ｄは搬送手段
を内蔵したクリーンチューブ２２内に排出されて後続工
程に供給される。２３はディスク基板Ｄに薄膜形成を行
う成膜機であり、クリーンチューブ２２からディスク基
板Ｄを取り入れ、成膜後再びクリーンチューブ２２に排
出して後続工程に向けて搬送する。２４は成形機２１と
成膜機２３の間でクリーンチューブ２２に接続して配設
されたストッカーであり、成形されたディスク基板Ｄを
一時的にストックする。
照して説明する。図５において、２１はディスク基板Ｄ
の成形機であり、成形されたディスク基板Ｄは搬送手段
を内蔵したクリーンチューブ２２内に排出されて後続工
程に供給される。２３はディスク基板Ｄに薄膜形成を行
う成膜機であり、クリーンチューブ２２からディスク基
板Ｄを取り入れ、成膜後再びクリーンチューブ２２に排
出して後続工程に向けて搬送する。２４は成形機２１と
成膜機２３の間でクリーンチューブ２２に接続して配設
されたストッカーであり、成形されたディスク基板Ｄを
一時的にストックする。
【０００３】クリーンチューブ２２の上部には、除湿さ
れた空気を送る除湿エア供給ライン２５が配設され、こ
の除湿エア供給ライン２５とディスク基板Ｄの搬送空間
２６の間にＨＥＰＡフィルタ２７が配設され、搬送空間
２６及びストッカー２４内に送る空気の除塵を行ってい
る。
れた空気を送る除湿エア供給ライン２５が配設され、こ
の除湿エア供給ライン２５とディスク基板Ｄの搬送空間
２６の間にＨＥＰＡフィルタ２７が配設され、搬送空間
２６及びストッカー２４内に送る空気の除塵を行ってい
る。
【０００４】以上の構成において、成形機２１によって
成形されたディスク基板Ｄは、除湿された空気の中で搬
送又はストックされた後、成膜機２３によって薄膜形成
される。その後、必要に応じて保護膜形成、貼り合わ
せ、検査等の工程を経て光ディスクが完成される。
成形されたディスク基板Ｄは、除湿された空気の中で搬
送又はストックされた後、成膜機２３によって薄膜形成
される。その後、必要に応じて保護膜形成、貼り合わ
せ、検査等の工程を経て光ディスクが完成される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の構成では成形されたディスク基板Ｄがクリーンチュ
ーブ２２内を搬送される間やストッカー２４に保管され
ている間に除湿されてはいるがなお水分の残存する空気
に晒されるため、その中に残存している水分などがディ
スク基板Ｄに吸収され、薄膜形成時にそれがガス放出さ
れることによって安定した薄膜形成ができず、膜質が安
定しないという問題があった。
来の構成では成形されたディスク基板Ｄがクリーンチュ
ーブ２２内を搬送される間やストッカー２４に保管され
ている間に除湿されてはいるがなお水分の残存する空気
に晒されるため、その中に残存している水分などがディ
スク基板Ｄに吸収され、薄膜形成時にそれがガス放出さ
れることによって安定した薄膜形成ができず、膜質が安
定しないという問題があった。
【０００６】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、薄膜
の膜質が安定し、高品質の光ディスクが得られる光ディ
スクの製造方法及びそれに用いるディスク保管容器を提
供することを目的としている。
の膜質が安定し、高品質の光ディスクが得られる光ディ
スクの製造方法及びそれに用いるディスク保管容器を提
供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の光ディスクの製
造方法は、成形したディスク基板をＮ2 ガス雰囲気中で
搬送又は保管又はその両方を行い、その後ディスク基板
に薄膜を形成するものであり、ディスク基板の搬送中や
保管中に水分等を吸収しないので薄膜形成時にガスを放
出する恐れがなく、安定して薄膜形成できて膜質が安定
し、高品質の光ディスクが得られる。
造方法は、成形したディスク基板をＮ2 ガス雰囲気中で
搬送又は保管又はその両方を行い、その後ディスク基板
に薄膜を形成するものであり、ディスク基板の搬送中や
保管中に水分等を吸収しないので薄膜形成時にガスを放
出する恐れがなく、安定して薄膜形成できて膜質が安定
し、高品質の光ディスクが得られる。
【０００８】また、ディスク基板の保管に際し、蓋とＮ
2 ガス供給ラインとを備えたディスク保管容器にディス
ク基板を収納し、蓋を開いてディスク基板を出し入れす
るときにＮ2 ガスを供給し、蓋を閉じて保管するときに
は蓋を開いているときよりも少量のＮ2 ガスを供給する
と、ディスク基板の出し入れ時に蓋を開いても容器内の
ディスク基板が容器外の雰囲気に晒されず、蓋が閉じて
いるときには容器の隙間から外気が侵入するを防止しな
がらＮ2 ガスの消費量を少なくできてコスト低下を図る
ことができる。
2 ガス供給ラインとを備えたディスク保管容器にディス
ク基板を収納し、蓋を開いてディスク基板を出し入れす
るときにＮ2 ガスを供給し、蓋を閉じて保管するときに
は蓋を開いているときよりも少量のＮ2 ガスを供給する
と、ディスク基板の出し入れ時に蓋を開いても容器内の
ディスク基板が容器外の雰囲気に晒されず、蓋が閉じて
いるときには容器の隙間から外気が侵入するを防止しな
がらＮ2 ガスの消費量を少なくできてコスト低下を図る
ことができる。
【０００９】また、本発明の光ディスクの製造装置は、
ディスク基板を成形する成形機と、ディスク基板をＮ2
ガス雰囲気中で搬送するクリーンチューブと、ディスク
基板をＮ2 ガス雰囲気を保持して一時的に保管するスト
ッカーと、ディスク基板に薄膜を形成する成膜機とを備
えたものであり、上記光ディスクの製造方法を実施して
高品質の光ディスクを製造できる。
ディスク基板を成形する成形機と、ディスク基板をＮ2
ガス雰囲気中で搬送するクリーンチューブと、ディスク
基板をＮ2 ガス雰囲気を保持して一時的に保管するスト
ッカーと、ディスク基板に薄膜を形成する成膜機とを備
えたものであり、上記光ディスクの製造方法を実施して
高品質の光ディスクを製造できる。
【００１０】また、本発明のディスク保管容器は、ディ
スク基板を収納可能な容器本体と、容器本体の一端に設
けられたディスク基板を出し入れするための開口部を開
閉する蓋と、容器本体の他端に接続されたＮ2 ガス供給
ラインとを備えたものであり、上記作用が得られるとと
もに、Ｎ2 ガスが容器本体の他端から蓋のある一端に向
けて流れるので、蓋を開いた場合にも容器本体内の全体
をＮ2 ガス雰囲気に確実に保持でき、ディスク基板を確
実に外気に晒さずに保管することができる。
スク基板を収納可能な容器本体と、容器本体の一端に設
けられたディスク基板を出し入れするための開口部を開
閉する蓋と、容器本体の他端に接続されたＮ2 ガス供給
ラインとを備えたものであり、上記作用が得られるとと
もに、Ｎ2 ガスが容器本体の他端から蓋のある一端に向
けて流れるので、蓋を開いた場合にも容器本体内の全体
をＮ2 ガス雰囲気に確実に保持でき、ディスク基板を確
実に外気に晒さずに保管することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の光ディスクの製造
装置の一実施形態について図１〜図４を参照して説明す
る。
装置の一実施形態について図１〜図４を参照して説明す
る。
【００１２】図１、図２において、１はディスク基板Ｄ
の成形機であり、成形されたディスク基板Ｄは搬送手段
を内蔵したクリーンチューブ２内に排出されて後続工程
に供給される。３はディスク基板Ｄに薄膜形成を行う成
膜機であり、クリーンチューブ２からディスク基板Ｄを
取り入れ、成膜後再びクリーンチューブ２に排出して後
続工程に向けて搬送する。４は成形機１と成膜機３の間
でクリーンチューブ２に接続して配設されたストッカー
であり、成形されたディスク基板Ｄを一時的にストック
する。
の成形機であり、成形されたディスク基板Ｄは搬送手段
を内蔵したクリーンチューブ２内に排出されて後続工程
に供給される。３はディスク基板Ｄに薄膜形成を行う成
膜機であり、クリーンチューブ２からディスク基板Ｄを
取り入れ、成膜後再びクリーンチューブ２に排出して後
続工程に向けて搬送する。４は成形機１と成膜機３の間
でクリーンチューブ２に接続して配設されたストッカー
であり、成形されたディスク基板Ｄを一時的にストック
する。
【００１３】クリーンチューブ２内は、Ｎ2 ガス供給ラ
イン５にてＮ2 ガスが導入されることによってＮ2 ガス
雰囲気とされている。６は、クリーンチューブ２内に供
給するＮ2 ガスの除塵を行うフィルタである。
イン５にてＮ2 ガスが導入されることによってＮ2 ガス
雰囲気とされている。６は、クリーンチューブ２内に供
給するＮ2 ガスの除塵を行うフィルタである。
【００１４】ストッカー４には複数のディスク保管容器
７を備えており、クリーンチューブ２内を搬送されてき
たディスク基板Ｄを移載手段（図示せず）にて任意のデ
ィスク保管容器７に収納してストックし、或いはディス
ク保管容器７からクリーンチューブ２へ送り出し可能に
構成されている。
７を備えており、クリーンチューブ２内を搬送されてき
たディスク基板Ｄを移載手段（図示せず）にて任意のデ
ィスク保管容器７に収納してストックし、或いはディス
ク保管容器７からクリーンチューブ２へ送り出し可能に
構成されている。
【００１５】ディスク保管容器７は、図３、図４に示す
ように、ディスク基板Ｄを積層状態で収納可能な円筒容
器状の容器本体８と、容器本体８の上端に設けられたデ
ィスク基板Ｄを出し入れするための開口部９を開閉する
蓋１０と、容器本体８の下端に接続されたＮ2 ガス供給
ライン１１にて構成されている。１２はＮ2 ガス供給ラ
イン１１に設けられたＮ2 ガスの除塵を行うフィルタで
ある。また、容器本体８の軸心位置にはディスク基板Ｄ
を同芯状態で積層するためのガイド軸１３が立設され、
また積層したディスク基板Ｄを昇降可能に支持して最上
段のディスク基板Ｄを開口部９の高さに位置させる昇降
支持板１４が設けられている。
ように、ディスク基板Ｄを積層状態で収納可能な円筒容
器状の容器本体８と、容器本体８の上端に設けられたデ
ィスク基板Ｄを出し入れするための開口部９を開閉する
蓋１０と、容器本体８の下端に接続されたＮ2 ガス供給
ライン１１にて構成されている。１２はＮ2 ガス供給ラ
イン１１に設けられたＮ2 ガスの除塵を行うフィルタで
ある。また、容器本体８の軸心位置にはディスク基板Ｄ
を同芯状態で積層するためのガイド軸１３が立設され、
また積層したディスク基板Ｄを昇降可能に支持して最上
段のディスク基板Ｄを開口部９の高さに位置させる昇降
支持板１４が設けられている。
【００１６】ディスク保管容器７に供給するＮ2 ガスの
流量は、蓋１０を開放した時にはその開口部９で０．１
〜１０ｍ／sec の面風速が得られるように設定され、蓋
１０を閉じた時には容器本体８自体及び容器本体８と蓋
１０の間の隙間から出て行くＮ2 ガスの面風速が同じく
０．１〜１０ｍ／sec となるように設定されている。
流量は、蓋１０を開放した時にはその開口部９で０．１
〜１０ｍ／sec の面風速が得られるように設定され、蓋
１０を閉じた時には容器本体８自体及び容器本体８と蓋
１０の間の隙間から出て行くＮ2 ガスの面風速が同じく
０．１〜１０ｍ／sec となるように設定されている。
【００１７】蓋１０を閉じている時には、その隙間の開
口面積が、蓋１０を開いている場合の開口部９の開口面
積の１／１００以下と小さいので、Ｎ2 ガスの供給量は
少なくて済み、Ｎ2 ガスの消費量を少なくできてコスト
アップを抑制できる。
口面積が、蓋１０を開いている場合の開口部９の開口面
積の１／１００以下と小さいので、Ｎ2 ガスの供給量は
少なくて済み、Ｎ2 ガスの消費量を少なくできてコスト
アップを抑制できる。
【００１８】以上の構成において、成形機１によって成
形されたディスク基板Ｄは、直ちにＮ2 ガス雰囲気に保
持されたクリーンチューブ２内に移載されて後続工程に
向けて搬送されるので、搬送中に水分等を含んだ大気の
雰囲気に接することはない。
形されたディスク基板Ｄは、直ちにＮ2 ガス雰囲気に保
持されたクリーンチューブ２内に移載されて後続工程に
向けて搬送されるので、搬送中に水分等を含んだ大気の
雰囲気に接することはない。
【００１９】この状態でディスク基板Ｄは成膜機３に向
けて搬送され、あるいは一時的にストッカー４でストッ
クされる。
けて搬送され、あるいは一時的にストッカー４でストッ
クされる。
【００２０】クリーンチューブ２からストッカー４にデ
ィスク基板Ｄをストックする際には、ディスク保管容器
７の蓋１０を開放して開口部９を通してディスク基板Ｄ
を収納するが、その時ディスク保管容器７内に開口部９
から所定の面風速で流出するようにＮ2 ガスが供給され
ているので、ディスク保管容器７内はＮ2 ガス雰囲気に
保持される。その後、ディスク基板Ｄの収納が終わると
蓋１０を閉じるとともに、ディスク保管容器７内にその
隙間から所定の面風速で流出するようにＮ2 ガスが供給
される。かくして、ディスク基板Ｄはディスク保管容器
７内が完全にＮ2 ガス雰囲気に保持された状態でストッ
クされる。
ィスク基板Ｄをストックする際には、ディスク保管容器
７の蓋１０を開放して開口部９を通してディスク基板Ｄ
を収納するが、その時ディスク保管容器７内に開口部９
から所定の面風速で流出するようにＮ2 ガスが供給され
ているので、ディスク保管容器７内はＮ2 ガス雰囲気に
保持される。その後、ディスク基板Ｄの収納が終わると
蓋１０を閉じるとともに、ディスク保管容器７内にその
隙間から所定の面風速で流出するようにＮ2 ガスが供給
される。かくして、ディスク基板Ｄはディスク保管容器
７内が完全にＮ2 ガス雰囲気に保持された状態でストッ
クされる。
【００２１】その後、ストッカー４に一時的にストック
していたディスク基板Ｄを成膜機３に向けて供給すると
きには、上述のようにディスク保管容器７内のＮ2 ガス
雰囲気に保持しつつ蓋１０を開いてディスク基板Ｄをク
リーンチューブ２に受け渡し、成膜機３に向けてディス
ク基板Ｄを供給する。
していたディスク基板Ｄを成膜機３に向けて供給すると
きには、上述のようにディスク保管容器７内のＮ2 ガス
雰囲気に保持しつつ蓋１０を開いてディスク基板Ｄをク
リーンチューブ２に受け渡し、成膜機３に向けてディス
ク基板Ｄを供給する。
【００２２】クリーンチューブ２を経て成膜機３に供給
されたディスク基板Ｄは、成膜機３で薄膜形成される。
成膜は真空中で行われるため、ディスク基板Ｄが水分等
を吸収していると、真空中でＨ2 Ｏガスを放出するた
め、Ｈ2 Ｏの成分を含んだ膜が形成されてしまうが、本
実施形態ではディスク基板Ｄが成形直後よりＮ2 ガス雰
囲気に保持されているため、水分等を吸収していず、所
望の膜形成が安定して行われる。
されたディスク基板Ｄは、成膜機３で薄膜形成される。
成膜は真空中で行われるため、ディスク基板Ｄが水分等
を吸収していると、真空中でＨ2 Ｏガスを放出するた
め、Ｈ2 Ｏの成分を含んだ膜が形成されてしまうが、本
実施形態ではディスク基板Ｄが成形直後よりＮ2 ガス雰
囲気に保持されているため、水分等を吸収していず、所
望の膜形成が安定して行われる。
【００２３】成膜機３で膜形成されたディスク基板Ｄは
再びクリーンチューブ２内に移載されて後続工程に向け
て搬送され、必要に応じて保護膜形成、貼り合わせ、検
査工程を経て光ディスクが完成する。
再びクリーンチューブ２内に移載されて後続工程に向け
て搬送され、必要に応じて保護膜形成、貼り合わせ、検
査工程を経て光ディスクが完成する。
【００２４】
【発明の効果】本発明の光ディスクの製造方法及び装置
によれば、以上の説明から明らかなように、成形したデ
ィスク基板をＮ2 ガス雰囲気中で搬送又は保管又はその
両方を行い、その後ディスク基板に薄膜を形成するの
で、ディスク基板の搬送中や保管中に水分等を吸収せ
ず、従って薄膜形成時にガスを放出する恐れがなく、安
定して薄膜形成できて膜質が安定し、高品質の光ディス
クを得ることができる。
によれば、以上の説明から明らかなように、成形したデ
ィスク基板をＮ2 ガス雰囲気中で搬送又は保管又はその
両方を行い、その後ディスク基板に薄膜を形成するの
で、ディスク基板の搬送中や保管中に水分等を吸収せ
ず、従って薄膜形成時にガスを放出する恐れがなく、安
定して薄膜形成できて膜質が安定し、高品質の光ディス
クを得ることができる。
【００２５】また、ディスク基板の保管に際し、蓋とＮ
2 ガス供給ラインとを備えたディスク保管容器にディス
ク基板を収納し、蓋を開いてディスク基板を出し入れす
るときにＮ2 ガスを供給し、蓋を閉じて保管するときに
は蓋を開いているときよりも少量のＮ2 ガスを供給する
と、ディスク基板の出し入れ時に蓋を開いても容器内の
ディスク基板が容器外の雰囲気に晒されず、蓋が閉じて
いるときには容器の隙間から外気が侵入するを防止しな
がらＮ2 ガスの消費量を少なくできてコスト低下を図る
ことができる。
2 ガス供給ラインとを備えたディスク保管容器にディス
ク基板を収納し、蓋を開いてディスク基板を出し入れす
るときにＮ2 ガスを供給し、蓋を閉じて保管するときに
は蓋を開いているときよりも少量のＮ2 ガスを供給する
と、ディスク基板の出し入れ時に蓋を開いても容器内の
ディスク基板が容器外の雰囲気に晒されず、蓋が閉じて
いるときには容器の隙間から外気が侵入するを防止しな
がらＮ2 ガスの消費量を少なくできてコスト低下を図る
ことができる。
【００２６】また、本発明のディスク保管容器によれ
ば、ディスク基板を収納可能な容器本体と、容器本体の
一端に設けられたディスク基板を出し入れするための開
口部を開閉する蓋と、容器本体の他端に接続されたＮ2
ガス供給ラインとを備えているので、上記効果が得られ
るとともに、Ｎ2 ガスが容器本体の他端から蓋のある一
端に向けて流れるので容器本体内の全体をＮ2 ガス雰囲
気に確実に保持でき、ディスク基板を確実に外気に晒さ
ずに保管できるという効果を発揮する。
ば、ディスク基板を収納可能な容器本体と、容器本体の
一端に設けられたディスク基板を出し入れするための開
口部を開閉する蓋と、容器本体の他端に接続されたＮ2
ガス供給ラインとを備えているので、上記効果が得られ
るとともに、Ｎ2 ガスが容器本体の他端から蓋のある一
端に向けて流れるので容器本体内の全体をＮ2 ガス雰囲
気に確実に保持でき、ディスク基板を確実に外気に晒さ
ずに保管できるという効果を発揮する。
【図１】本発明の光ディスクの製造装置における一実施
形態の概略構成を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は縦断
面図である。
形態の概略構成を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は縦断
面図である。
【図２】同実施形態の概略構成を示す斜視図である。
【図３】同実施形態におけるディスク保管容器を示し、
（ａ）は斜視図、（ｂ）は側面図である。
（ａ）は斜視図、（ｂ）は側面図である。
【図４】同実施形態におけるディスク保管容器の蓋を閉
じた状態の側面図である。
じた状態の側面図である。
【図５】従来例の光ディスクの製造装置の概略構成を示
し、（ａ）は平面図、（ｂ）は縦断面図である。
し、（ａ）は平面図、（ｂ）は縦断面図である。
１ 成形機 ２ クリーンチューブ ３ 成膜機 ４ ストッカー ５ Ｎ2 ガス供給ライン ７ ディスク保管容器 ８ 容器本体 ９ 開口部 １０ 蓋 １１ Ｎ2 ガス供給ライン Ｄ ディスク基板
Claims (4)
- 【請求項１】 成形したディスク基板をＮ2 ガス雰囲気
中で搬送又は保管又はその両方を行い、その後ディスク
基板に薄膜を形成することを特徴とする光ディスクの製
造方法。 - 【請求項２】 ディスク基板の保管に際し、蓋とＮ2 ガ
ス供給ラインとを備えたディスク保管容器にディスク基
板を収納し、蓋を開いてディスク基板を出し入れすると
きにＮ2 ガスを供給し、蓋を閉じて保管するときには蓋
を開いているときよりも少量のＮ2 ガスを供給すること
を特徴とする請求項１記載の光ディスクの製造方法。 - 【請求項３】 ディスク基板を成形する成形機と、ディ
スク基板をＮ2 ガス雰囲気中で搬送するクリーンチュー
ブと、ディスク基板をＮ2 ガス雰囲気を保持して一時的
に保管するストッカーと、ディスク基板に薄膜を形成す
る成膜機とを備えたことを特徴とする光ディスクの製造
装置。 - 【請求項４】 ディスク基板を収納可能な容器本体と、
容器本体の一端に設けられたディスク基板を出し入れす
るための開口部を開閉する蓋と、容器本体の他端に接続
されたＮ2 ガス供給ラインとを備えたことを特徴とする
ディスク保管容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17704497A JPH1125520A (ja) | 1997-07-02 | 1997-07-02 | 光ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17704497A JPH1125520A (ja) | 1997-07-02 | 1997-07-02 | 光ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1125520A true JPH1125520A (ja) | 1999-01-29 |
Family
ID=16024165
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17704497A Pending JPH1125520A (ja) | 1997-07-02 | 1997-07-02 | 光ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1125520A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014013864A (ja) * | 2012-07-05 | 2014-01-23 | Asahi Kasei E-Materials Corp | レジスト基板の保管方法 |
-
1997
- 1997-07-02 JP JP17704497A patent/JPH1125520A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014013864A (ja) * | 2012-07-05 | 2014-01-23 | Asahi Kasei E-Materials Corp | レジスト基板の保管方法 |
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