JPH11254160A - レーザ装置 - Google Patents
レーザ装置Info
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- JPH11254160A JPH11254160A JP10057791A JP5779198A JPH11254160A JP H11254160 A JPH11254160 A JP H11254160A JP 10057791 A JP10057791 A JP 10057791A JP 5779198 A JP5779198 A JP 5779198A JP H11254160 A JPH11254160 A JP H11254160A
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- Japan
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- intensity distribution
- light intensity
- laser
- laser beam
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、さまざまな形状の被照射部に対し
て異なる形状の光強度分布を得ることにより良好な施工
品質を得ることができるレーザ装置を提供することを目
的とする。 【解決手段】 レーザ光を発光する複数の発光部３と、
発光部３から発光したレーザ光を入射して伝達するため
のファイバ６と、ファイバ６の出射端８から出射したレ
ーザ光を被照射部１２に集光させる集光レンズ９と、集
光レンズ９によって集光されたレーザ光の光強度分布を
任意に設定できる光強度分布設定部１ａと、光強度分布
設定部１ａによって設定された光強度分布となるように
各発光部３に供給する各電流値を制御する電流変換部２
ａを備えたレーザ装置。
て異なる形状の光強度分布を得ることにより良好な施工
品質を得ることができるレーザ装置を提供することを目
的とする。 【解決手段】 レーザ光を発光する複数の発光部３と、
発光部３から発光したレーザ光を入射して伝達するため
のファイバ６と、ファイバ６の出射端８から出射したレ
ーザ光を被照射部１２に集光させる集光レンズ９と、集
光レンズ９によって集光されたレーザ光の光強度分布を
任意に設定できる光強度分布設定部１ａと、光強度分布
設定部１ａによって設定された光強度分布となるように
各発光部３に供給する各電流値を制御する電流変換部２
ａを備えたレーザ装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザ光を集光する
ことによって局部加熱を可能にしたレーザ装置であっ
て、はんだ付け用の加熱，細径ポリウレタン線の皮膜除
去あるいはさまざまな物質の加熱溶融などに適するレー
ザ装置に関するものである。
ことによって局部加熱を可能にしたレーザ装置であっ
て、はんだ付け用の加熱，細径ポリウレタン線の皮膜除
去あるいはさまざまな物質の加熱溶融などに適するレー
ザ装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、レーザ光を集光して被加熱物を加
熱するレーザ装置は、非接触加熱源としてはんだ付け用
の加熱，細径ポリウレタン線の皮膜除去あるいはさまざ
まな物質の溶融，表面改質，切断などに広く採用されて
いる。以下、従来のレーザ装置について説明する。
熱するレーザ装置は、非接触加熱源としてはんだ付け用
の加熱，細径ポリウレタン線の皮膜除去あるいはさまざ
まな物質の溶融，表面改質，切断などに広く採用されて
いる。以下、従来のレーザ装置について説明する。
【０００３】従来のレーザ装置の構成を図３に、被照射
部に集光される光強度分布を図４に示す。図３におい
て、被照射部１２に照射される照射光１０の光強度は光
強度設定部１にて設定される。電流制御部２は照射光１
０の光強度が設定値となるようにｎ個の発光部３へ供給
する全体電流Ｉｔを制御する。ｎ個の発光部３は並列接
続されており、全体電流Ｉｔは、素子電流Ｉｎ（ｎ＝
１，……）となって分流し各発光部３に供給される。各
発光部３において、レーザ素子４は供給される電流に応
じてレーザ光を発光し、発光した各レーザ光はマイクロ
レンズ５にて集光され各光ファイバ６へ入射する。光フ
ァイバ６は、発光部３の数に等しいｎ本設けられるのが
一般的である。ｎ本の光ファイバ６は束ねられており、
光ファイバ束７となって被照射部１２近傍へ各レーザ光
を伝達する。伝達された各レーザ光は光ファイバ束７の
出射端８から出射し、集光レンズ９によって集光されて
照射光１０として被照射部１２に照射される。光ファイ
バ束７となって出射端８に至ったｎ本の光ファイバ６の
配列状態は被照射部１２から求められる形状によって決
定されるべきであるが、外周が円形となるように固定配
置されているのが一般的である。また、出射端配列にお
ける各光ファイバ６の配列位置はランダムである。
部に集光される光強度分布を図４に示す。図３におい
て、被照射部１２に照射される照射光１０の光強度は光
強度設定部１にて設定される。電流制御部２は照射光１
０の光強度が設定値となるようにｎ個の発光部３へ供給
する全体電流Ｉｔを制御する。ｎ個の発光部３は並列接
続されており、全体電流Ｉｔは、素子電流Ｉｎ（ｎ＝
１，……）となって分流し各発光部３に供給される。各
発光部３において、レーザ素子４は供給される電流に応
じてレーザ光を発光し、発光した各レーザ光はマイクロ
レンズ５にて集光され各光ファイバ６へ入射する。光フ
ァイバ６は、発光部３の数に等しいｎ本設けられるのが
一般的である。ｎ本の光ファイバ６は束ねられており、
光ファイバ束７となって被照射部１２近傍へ各レーザ光
を伝達する。伝達された各レーザ光は光ファイバ束７の
出射端８から出射し、集光レンズ９によって集光されて
照射光１０として被照射部１２に照射される。光ファイ
バ束７となって出射端８に至ったｎ本の光ファイバ６の
配列状態は被照射部１２から求められる形状によって決
定されるべきであるが、外周が円形となるように固定配
置されているのが一般的である。また、出射端配列にお
ける各光ファイバ６の配列位置はランダムである。
【０００４】１１は被照射部１２上に集光照射されるレ
ーザ光１０の光強度分布である。光ファイバ６の出射端
８における配列が円形配列の場合、集光レンズ９によっ
て集光された光強度分布１１は被照射部１２上に底面を
成す円柱または円錐状の光強度分布を得る（図４）。つ
ぎに、光強度設定部１における光強度設定が強い場合と
弱い場合の相対設定にて説明する。
ーザ光１０の光強度分布である。光ファイバ６の出射端
８における配列が円形配列の場合、集光レンズ９によっ
て集光された光強度分布１１は被照射部１２上に底面を
成す円柱または円錐状の光強度分布を得る（図４）。つ
ぎに、光強度設定部１における光強度設定が強い場合と
弱い場合の相対設定にて説明する。
【０００５】光強度設定部１における光強度設定が強い
場合、電流制御部２はｎ個の発光部３へ供給する全体電
流Ｉｔを大きくし、各発光部３のレーザ素子４に供給さ
れる素子電流Ｉｎ（ｎ＝１，……）も大きくなり、各発
光部３から発光されるレーザ光の強度が強くなる。それ
によって、各光ファイバ６で伝達されるレーザ光の強度
も強くなり、被照射部の平坦な光強度分布で「強」の光
強度となる。また、光強度設定部１における光強度設定
が弱い場合、電流制御部２はｎ個の発光部３へ供給する
全体電流Ｉｔを小さくし、各発光部３に供給される素子
電流Ｉｎ（ｎ＝１……）も小さくなり、各発光部３から
発光されるレーザ光の強度が弱くなる。それによって、
各光ファイバ６で伝達されるレーザ光の強度も弱くな
り、被照射部の平坦な光強度分布に示す「弱」の光強度
となる。
場合、電流制御部２はｎ個の発光部３へ供給する全体電
流Ｉｔを大きくし、各発光部３のレーザ素子４に供給さ
れる素子電流Ｉｎ（ｎ＝１，……）も大きくなり、各発
光部３から発光されるレーザ光の強度が強くなる。それ
によって、各光ファイバ６で伝達されるレーザ光の強度
も強くなり、被照射部の平坦な光強度分布で「強」の光
強度となる。また、光強度設定部１における光強度設定
が弱い場合、電流制御部２はｎ個の発光部３へ供給する
全体電流Ｉｔを小さくし、各発光部３に供給される素子
電流Ｉｎ（ｎ＝１……）も小さくなり、各発光部３から
発光されるレーザ光の強度が弱くなる。それによって、
各光ファイバ６で伝達されるレーザ光の強度も弱くな
り、被照射部の平坦な光強度分布に示す「弱」の光強度
となる。
【０００６】さらに、出射端８と集光レンズ９と被照射
部１２の位置が一定である場合、光強度設定部１の光強
度設定を変化させても被照射部の平坦な光強度分布の集
光径は変化できない。また、被照射部の光強度分布の平
坦な基本形状も変化できず、光強度の強弱のいずれかの
平坦な光強度分布における強さのみを変化できることに
なる。
部１２の位置が一定である場合、光強度設定部１の光強
度設定を変化させても被照射部の平坦な光強度分布の集
光径は変化できない。また、被照射部の光強度分布の平
坦な基本形状も変化できず、光強度の強弱のいずれかの
平坦な光強度分布における強さのみを変化できることに
なる。
【０００７】さらに、被照射部１２によって要求される
被照射部の光強度分布の集光径を変化させたい場合は、
出射端８と集光レンズ９間、集光レンズ９と被照射部１
２間の距離のいずれか一方または両方を変化させて対応
する。しかし、基本的に被照射部の光強度分布の平坦な
基本形状を変化させることはできない。
被照射部の光強度分布の集光径を変化させたい場合は、
出射端８と集光レンズ９間、集光レンズ９と被照射部１
２間の距離のいずれか一方または両方を変化させて対応
する。しかし、基本的に被照射部の光強度分布の平坦な
基本形状を変化させることはできない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のレーザ装置
においては、被照射部に照射される照射光の光強度分布
形状を任意に変更することができない。そのため、被照
射部上に底面を成す円柱または円錐状の光強度分布形状
を選択し、照射パワーと、光強度分布の底面直径すなわ
ち集光径とを変化させて施工していた。しかし、さまざ
まな形状の被照射部に対して同一形状の光強度分布で
は、被照射部周辺に熱損傷を与えたり、施工時間が長く
なったり、施工品質が悪いといった課題を有していた。
においては、被照射部に照射される照射光の光強度分布
形状を任意に変更することができない。そのため、被照
射部上に底面を成す円柱または円錐状の光強度分布形状
を選択し、照射パワーと、光強度分布の底面直径すなわ
ち集光径とを変化させて施工していた。しかし、さまざ
まな形状の被照射部に対して同一形状の光強度分布で
は、被照射部周辺に熱損傷を与えたり、施工時間が長く
なったり、施工品質が悪いといった課題を有していた。
【０００９】本発明は上記従来の課題を解決するための
もので、短時間に、良好な施工品質を得ることができる
レーザ装置を提供することを目的とする。
もので、短時間に、良好な施工品質を得ることができる
レーザ装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明の第１手段はレーザ光を発光する複数の発光
手段と、発光手段から発光したレーザ光を入射して伝達
するための光伝達手段と、光伝達手段の出射端から出射
したレーザ光を被照射部に集光させる集光手段と、前記
集光手段によって集光されたレーザ光の光強度分布を任
意に設定できる光強度分布設定手段と、前記光強度分布
設定手段によって設定された光強度分布となるように各
発光手段に供給する各電流値を制御する制御手段を備え
たものである。また、本発明の第２手段は任意の発光手
段に対して発光を停止できる光強度分布設定手段を備え
たものである。
に、本発明の第１手段はレーザ光を発光する複数の発光
手段と、発光手段から発光したレーザ光を入射して伝達
するための光伝達手段と、光伝達手段の出射端から出射
したレーザ光を被照射部に集光させる集光手段と、前記
集光手段によって集光されたレーザ光の光強度分布を任
意に設定できる光強度分布設定手段と、前記光強度分布
設定手段によって設定された光強度分布となるように各
発光手段に供給する各電流値を制御する制御手段を備え
たものである。また、本発明の第２手段は任意の発光手
段に対して発光を停止できる光強度分布設定手段を備え
たものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】上記構成により本発明の第１手段
は、光強度分布設定手段にて設定された光強度分布とな
るように各発光手段に供給する各電流値を制御すること
により、集光手段にて集光されたレーザ光の光強度分布
を任意に制御できるという作用を有する。また、本発明
の第２手段は、任意の発光手段に対して発光を停止でき
るため、光強度分布を環状またはドーナツ状の他集光径
を絞った円柱状等に制御できるという作用を有するもの
である。
は、光強度分布設定手段にて設定された光強度分布とな
るように各発光手段に供給する各電流値を制御すること
により、集光手段にて集光されたレーザ光の光強度分布
を任意に制御できるという作用を有する。また、本発明
の第２手段は、任意の発光手段に対して発光を停止でき
るため、光強度分布を環状またはドーナツ状の他集光径
を絞った円柱状等に制御できるという作用を有するもの
である。
【００１２】以下、本発明の実施の形態を図面に沿って
説明する。図１において、従来構成と同様の部分につい
ては同様の符号を付し、説明を省略する。
説明する。図１において、従来構成と同様の部分につい
ては同様の符号を付し、説明を省略する。
【００１３】図１において、１ａは、被照射部１２に照
射される光強度分布１１ａを設定する光強度分布設定部
である。光強度分布設定部１ａは、個別光強度設定部１
Ａ１，１Ｂ１〜１Ｂ６，１Ｃ１〜１Ｃ１２，１Ｄ１〜１
Ｄ１８が内蔵されている。２ａは前記光強度分布設定部
１ａからの光強度分布信号を電流信号に変換する電流変
換部である。この電流変換部２ａには、各発光部３のレ
ーザ素子４へ供給する素子電流ＩＡ１，ＩＢ１〜ＩＢ
６，ＩＣ１〜ＩＣ１２，ＩＤ１〜ＩＤ１８を制御する個
別電流制御部２Ａ１，２Ｂ１〜２Ｂ６，２Ｃ１〜２Ｃ１
２，２Ｄ１〜２Ｄ１８がそれぞれ内蔵されている。そし
て、各発光部３から発光したレーザ光は光ファイバ６の
Ａ１，Ｂ１〜Ｂ６，Ｃ１〜Ｃ１２，Ｄ１〜Ｄ１８にそれ
ぞれ入射するものである。そして、光強度分布設定部１
ａ，電流変換部２ａ，発光部３，光ファイバ６はそれぞ
れＡ１〜Ｄ１８のグループ番号別に出力制御されるよう
に構成される。例えば、個別光強度設定部１ａの内のＡ
１で設定された光強度によって、個別電流設定部２Ａ１
は素子電流ＩＡ１を発光部３の内のＡ１に供給し、発光
したレーザ光は光ファイバ６の内のＡ１へ入射し、出射
端８の光ファイバ６の内のＡ１から出射する。このよう
に、光強度分布設定部１ａの電流設定により各グループ
毎に出射端８から出射する光ファイバ６のレーザ光を個
別に出力制御できる。
射される光強度分布１１ａを設定する光強度分布設定部
である。光強度分布設定部１ａは、個別光強度設定部１
Ａ１，１Ｂ１〜１Ｂ６，１Ｃ１〜１Ｃ１２，１Ｄ１〜１
Ｄ１８が内蔵されている。２ａは前記光強度分布設定部
１ａからの光強度分布信号を電流信号に変換する電流変
換部である。この電流変換部２ａには、各発光部３のレ
ーザ素子４へ供給する素子電流ＩＡ１，ＩＢ１〜ＩＢ
６，ＩＣ１〜ＩＣ１２，ＩＤ１〜ＩＤ１８を制御する個
別電流制御部２Ａ１，２Ｂ１〜２Ｂ６，２Ｃ１〜２Ｃ１
２，２Ｄ１〜２Ｄ１８がそれぞれ内蔵されている。そし
て、各発光部３から発光したレーザ光は光ファイバ６の
Ａ１，Ｂ１〜Ｂ６，Ｃ１〜Ｃ１２，Ｄ１〜Ｄ１８にそれ
ぞれ入射するものである。そして、光強度分布設定部１
ａ，電流変換部２ａ，発光部３，光ファイバ６はそれぞ
れＡ１〜Ｄ１８のグループ番号別に出力制御されるよう
に構成される。例えば、個別光強度設定部１ａの内のＡ
１で設定された光強度によって、個別電流設定部２Ａ１
は素子電流ＩＡ１を発光部３の内のＡ１に供給し、発光
したレーザ光は光ファイバ６の内のＡ１へ入射し、出射
端８の光ファイバ６の内のＡ１から出射する。このよう
に、光強度分布設定部１ａの電流設定により各グループ
毎に出射端８から出射する光ファイバ６のレーザ光を個
別に出力制御できる。
【００１４】したがって、各光ファイバ６の出射端８に
おける各配置は、図２（ａ），（ｂ），（ｃ）のように
予め決定される。また、被照射部１２の光強度分布は、
図２（ａ）は「強」なる平坦な光強度分布とした場合を
示し、図２（ｂ）は中央部の光ファイバ６の内、Ａ１，
Ｂ１〜Ｂ６が「弱」、その他の部分が「強」となる凹形
の光強度分布にした場合を示す。
おける各配置は、図２（ａ），（ｂ），（ｃ）のように
予め決定される。また、被照射部１２の光強度分布は、
図２（ａ）は「強」なる平坦な光強度分布とした場合を
示し、図２（ｂ）は中央部の光ファイバ６の内、Ａ１，
Ｂ１〜Ｂ６が「弱」、その他の部分が「強」となる凹形
の光強度分布にした場合を示す。
【００１５】そして、図２（ａ）の平坦な光強度分布に
なるように光強度分布設定部１ａを設定すると、すべて
の個別電流制御部２Ａ１，２Ｂ１〜２Ｂ６，２Ｃ１〜２
Ｃ１２，２Ｄ１〜２Ｄ１８は素子電流ＩＡ１，ＩＢ１〜
ＩＢ６，ＩＣ１〜ＩＣ１２，ＩＤ１〜ＩＤ１８は「強」
なる電流を各発光部３のレーザ素子４に流し、各レーザ
素子４は「強」なるレーザ光を発光し伝達される各レー
ザ光も「強」となる。
なるように光強度分布設定部１ａを設定すると、すべて
の個別電流制御部２Ａ１，２Ｂ１〜２Ｂ６，２Ｃ１〜２
Ｃ１２，２Ｄ１〜２Ｄ１８は素子電流ＩＡ１，ＩＢ１〜
ＩＢ６，ＩＣ１〜ＩＣ１２，ＩＤ１〜ＩＤ１８は「強」
なる電流を各発光部３のレーザ素子４に流し、各レーザ
素子４は「強」なるレーザ光を発光し伝達される各レー
ザ光も「強」となる。
【００１６】また、図２（ｂ）の凹形の光強度分布にな
るように光強度分布設定部１ａを設定すると、光ファイ
バ６の内のＡ１，Ｂ１〜Ｂ６に対応する個別電流制御部
２Ａ１，２Ｂ１〜２Ｂ６は素子電流ＩＡ１，ＩＢ１〜Ｉ
Ｂ６を「弱」なる電流として各発光部３の各レーザ素子
４に流し、各レーザ素子４は「弱」なるレーザ光を発光
し、伝達されるレーザ光も「弱」となり、光ファイバ６
の内のＣ１〜Ｃ１２，Ｄ１〜Ｄ１８に対応する個別電流
制御部２Ｃ１〜２Ｃ１２，２Ｄ１〜２Ｄ１８は素子電流
ＩＣ１〜ＩＣ１２，ＩＤ１〜ＩＤ１８を「強」なる電流
として各発光部３の各レーザ素子４に流し、「強」なる
レーザ光を発光するので、光ファイバ６で伝達されるレ
ーザ光も「強」となる。
るように光強度分布設定部１ａを設定すると、光ファイ
バ６の内のＡ１，Ｂ１〜Ｂ６に対応する個別電流制御部
２Ａ１，２Ｂ１〜２Ｂ６は素子電流ＩＡ１，ＩＢ１〜Ｉ
Ｂ６を「弱」なる電流として各発光部３の各レーザ素子
４に流し、各レーザ素子４は「弱」なるレーザ光を発光
し、伝達されるレーザ光も「弱」となり、光ファイバ６
の内のＣ１〜Ｃ１２，Ｄ１〜Ｄ１８に対応する個別電流
制御部２Ｃ１〜２Ｃ１２，２Ｄ１〜２Ｄ１８は素子電流
ＩＣ１〜ＩＣ１２，ＩＤ１〜ＩＤ１８を「強」なる電流
として各発光部３の各レーザ素子４に流し、「強」なる
レーザ光を発光するので、光ファイバ６で伝達されるレ
ーザ光も「強」となる。
【００１７】また、環状またはドーナツ状の光強度分布
を得るために、中央部の光強度「零」、その他が「強」
なる光強度分布とした場合を図２（Ｃ）に示す。すなわ
ち、光強度分布設定部１ａを設定により光ファイバ６の
内のＡ１，Ｂ１〜Ｂ６に対応する個別電流制御部２Ａ
１，２Ｂ１〜２Ｂ６は素子電流ＩＡ１，ＩＢ１〜ＩＢ６
を遮断することによって、発光部３のレーザ素子４に電
流は流れず、レーザ素子４はレーザ光の発光を停止し、
光ファイバ６で伝達されるレーザ光は「零」となる。そ
の他のＣ１〜Ｄ１８の個別電流制御部２Ｃ１〜２Ｃ１
２，２Ｄ１〜２Ｄ１８は素子電流ＩＣ１〜ＩＣ１２，Ｉ
Ｄ１〜ＩＤ１８を「強」なる電流として発光部３のレー
ザ素子４に流し、レーザ素子４は「強」なるレーザ光を
発光し、伝達されるレーザ光も「強」となる。
を得るために、中央部の光強度「零」、その他が「強」
なる光強度分布とした場合を図２（Ｃ）に示す。すなわ
ち、光強度分布設定部１ａを設定により光ファイバ６の
内のＡ１，Ｂ１〜Ｂ６に対応する個別電流制御部２Ａ
１，２Ｂ１〜２Ｂ６は素子電流ＩＡ１，ＩＢ１〜ＩＢ６
を遮断することによって、発光部３のレーザ素子４に電
流は流れず、レーザ素子４はレーザ光の発光を停止し、
光ファイバ６で伝達されるレーザ光は「零」となる。そ
の他のＣ１〜Ｄ１８の個別電流制御部２Ｃ１〜２Ｃ１
２，２Ｄ１〜２Ｄ１８は素子電流ＩＣ１〜ＩＣ１２，Ｉ
Ｄ１〜ＩＤ１８を「強」なる電流として発光部３のレー
ザ素子４に流し、レーザ素子４は「強」なるレーザ光を
発光し、伝達されるレーザ光も「強」となる。
【００１８】以上のように、各レーザ素子に供給する電
流を個々に遮断して任意のレーザ素子の発光を停止する
ことにより、被照射部１２の光強度分布における任意の
部分が光強度「零」となるため環状またはドーナツ状等
の光強度分布を得ることができる。
流を個々に遮断して任意のレーザ素子の発光を停止する
ことにより、被照射部１２の光強度分布における任意の
部分が光強度「零」となるため環状またはドーナツ状等
の光強度分布を得ることができる。
【００１９】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のレーザ装置は各レーザ素子の電流を個別に制御する光
強度分布設定手段を設けたことにより、被照射部の形状
に合わせた任意の光強度分布を得ることができ、したが
って施工品質を向上することができる優れた効果を発す
るものである。また、本発明は任意の発光手段に対して
発光を停止できる光強度分布設定手段を設けることによ
り、環状またはドーナツ状の光強度分布を形成したり、
被照射部と集光レンズ間や集光レンズと出射端との間の
距離を一定としておいても、集光径を実質的に変更した
ものと同様の制御が可能である。
のレーザ装置は各レーザ素子の電流を個別に制御する光
強度分布設定手段を設けたことにより、被照射部の形状
に合わせた任意の光強度分布を得ることができ、したが
って施工品質を向上することができる優れた効果を発す
るものである。また、本発明は任意の発光手段に対して
発光を停止できる光強度分布設定手段を設けることによ
り、環状またはドーナツ状の光強度分布を形成したり、
被照射部と集光レンズ間や集光レンズと出射端との間の
距離を一定としておいても、集光径を実質的に変更した
ものと同様の制御が可能である。
【図１】本発明の実施の形態におけるレーザ装置の構成
図
図
【図２】 （ａ）被照射部の光強度分布の例１を示す光強度分布図 （ｂ）同例２を示す光強度分布図 （ｃ）同例３を示す光強度分布図
【図３】従来のレーザ装置の構成図
【図４】従来のレーザ装置による光強度分布図
１ａ 光強度分布設定部（光強度分布設定手段） １Ａ１，１Ｂ１〜１Ｂ６，１Ｃ１〜１Ｃ１２ 個別光強
度設定部（光強度分布設定手段） ２ａ 電流変換部（制御手段） ２Ａ１，２Ｂ１〜２Ｂ６，２Ｃ１〜２Ｃ１２，２Ｄ１〜
２Ｄ１８ 個別電流制御部（制御手段） ３ 発光部（発光手段） ４ レーザ素子（発光手段） ６ 光ファイバ（光伝達手段） ９ 集光レンズ（光伝達手段） １１ａ，１１ｂ，１１ｃ 光強度分布 １２ 被照射部
度設定部（光強度分布設定手段） ２ａ 電流変換部（制御手段） ２Ａ１，２Ｂ１〜２Ｂ６，２Ｃ１〜２Ｃ１２，２Ｄ１〜
２Ｄ１８ 個別電流制御部（制御手段） ３ 発光部（発光手段） ４ レーザ素子（発光手段） ６ 光ファイバ（光伝達手段） ９ 集光レンズ（光伝達手段） １１ａ，１１ｂ，１１ｃ 光強度分布 １２ 被照射部
Claims (2)
- 【請求項１】レーザ光を発光する複数の発光手段と、前
記発光手段から発光したレーザ光を入射して伝達するた
めの光伝達手段と、前記光伝達手段の出射端から出射し
たレーザ光を被照射部に集光させる集光手段と、前記集
光手段によって集光されたレーザ光の光強度分布を任意
に設定できる光強度分布設定手段と、前記光強度分布設
定手段によって設定された光強度分布となるように前記
各発光手段に供給する各電流値を制御する制御手段を備
えたレーザ装置。 - 【請求項２】任意の発光手段に対して発光を停止できる
光強度分布設定手段を備えた請求項１記載のレーザ装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10057791A JPH11254160A (ja) | 1998-03-10 | 1998-03-10 | レーザ装置 |
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