JPH11250796A - レリーフパターンの設けられた基板、その基板の製造法、プラズマディスプレイパネルのバリアリブの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 パネル全面で欠陥のない高精細、高品位なバ
リアリブを得、生産性よく製造する。 【解決手段】 レリーフパターンとレリーフパターンの
間隙の基板の表面をＸＭＡ（X-ray Micro Analysis）で
分析して表面から炭素成分が検出されないレリーフパタ
ーンの設けられた基板、基板上に感光性樹脂組成物を使
用したフォトリソグラフ法によりレリーフパターンを設
けるレリーフパターンの設けられた基板の製造法、又は
レリーフパターンとレリーフパターンの間隙にバリアリ
ブ形成材料を埋込み、次いでレリーフパターンを除去し
焼成することにより基板上にバリアリブを形成するプラ
ズマディスプレイパネルのバリアリブの製造法におい
て、現像後又はバリアリブ形成材料を埋込む前にレリー
フパターンとレリーフパターンの間隙を流速５０〜１０
００cm／秒の高速噴射流体で洗浄する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レリーフパターン
の設けられた基板、その基板の製造法、プラズマディス
プレイのバリアリブ製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般にプラズマディスプレイパネルのバ
リアリブは、例えば、信学技報Vol.89、No.377、P.69、
信学技報Vol.91、No.407、P.49、特開平２−３０１０３
４号公報等に記載されるような、厚膜スクリーン印刷
法、またはサンドブラスト法によって形成されている。
しかしながら、スクリーン印刷法の場合、１００μｍ以
上の高い障壁を得るためには多数回の繰り返し印刷が必
要である、４０インチ以上の大画面パネルを形成する際
には、スクリーンメッシュの伸縮により位置精度が低下
する、画素密度の高精細化が難かしい等の問題がある。
一方、サンドブラスト法は、基材上に一様に形成した障
壁層上にレリーフパターン（レリーフパターン）を形成
し、基材上面へブラスト材を噴射することで、レリーフ
パターン被覆部以外を削り出してバリアリブを形成する
方法である。しかしながら、高価な障壁材を削りだし、
廃棄するため、非常にコスト高となる、障壁材は一般に
鉛化合物を含有しており、削りだされた障壁材の廃棄に
よる環境汚染の問題がある、高厚膜の場合には障壁の底
部が広がり、矩形形状の障壁が得難い等の問題がある。

【０００３】上記した問題を解消を狙い、基板上に厚膜
レリーフパターンを設け、その厚膜レリーフパターンの
間隙にバリアリブとなるリブペーストを埋め込むことで
バリアリブを製造する、いわゆるアディティブ法（フォ
ト埋め込み法）が提案されており、バリアリブの位置精
度に優れ、バリアリブの形状に優れ、不要のリブ材が極
めて少量のため低コスト、低公害である、等の特長を持
つことが可能となる。しかしながら、アディティブ法の
場合、レリーフパターン間隙にバリアリブ形成材料料を
埋込んだ後、レリーフパターンを除去する工程で、パタ
ーン全面で均一にレリーフパターンが完全に除去されな
い、レリーフパターンの剥離が困難となる、バリアリが
基板から剥離する等の新たな問題が生じることがあり、
結局パネル全面で欠陥のない高精細、高品位なバリアリ
ブを形成できない場合がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】請求項１記載の発明
は、アディティブ法（フォト埋め込み法）を適用し、パ
ネル全面で欠陥のない高精細、高品位なバリアリブを得
られるプラズマディスプレイパネルのバリアリブの製造
に好適なレリーフパターンの設けられた基板を提供す
る。請求項２記載の発明は、アディティブ法（フォト埋
め込み法）を適用し、パネル全面で欠陥のない高精細、
高品位なバリアリブを得られるプラズマディスプレイパ
ネルのバリアリブの製造に好適なレリーフパターンの設
けられた基板を簡便に、生産性よく製造することができ
るレリーフパターンの設けられた基板の製造法を提供す
る。請求項３及び４記載の発明は、パネル全面で欠陥の
ない高精細、高品位なバリアリブを得られるプラズマデ
ィスプレイパネルのバリアリブの製造法を提供する。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、レリーフパタ
ーンとレリーフパターンの間隙の基板の表面をＸＭＡ
（X-ray Micro Analysis）で分析して表面から炭素成分
が検出されないレリーフパターンの設けられた基板に関
する。また、本発明は、基板上に感光性樹脂組成物を使
用したフォトリソグラフ法によりレリーフパターンを設
けるレリーフパターンの設けられた基板の製造法におい
て、現像後レリーフパターンとレリーフパターンの間隙
を流速５０〜１０００cm／秒の高速噴射流体で洗浄する
ことを特徴とするレリーフパターンの設けられた基板の
製造法に関する。

【０００６】また、本発明は、基板上に形成されたレリ
ーフパターンとレリーフパターンの間隙にバリアリブ形
成材料を埋込み、次いでレリーフパターンを除去してバ
リアリブ形成材料からなるパターンを形成し、このパタ
ーンを焼成することにより基板上にバリアリブを形成す
るプラズマディスプレイパネルのバリアリブの製造法に
おいて、バリアリブ形成材料を埋込む前にレリーフパタ
ーンとレリーフパターンの間隙を流速５０〜１０００cm
／秒の高速噴射流体で洗浄することを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルのバリアリブの製造法に関する。
また、本発明は、レリーフパターンが感光性樹脂組成物
を使用したフォトリソグラフ法により設けられたもので
ある前記のプラズマディスプレイパネルのバリアリブの
製造法に関する。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明で使用される基板は、特に
制限はなく、例えば、セラミック板、プラスチック板、
ガラス板等が挙げられる。また、この基板上には、誘電
体層、絶縁膜、電極等が設けられていてもよい。本発明
において基板上に設けられたレリーフパターンは、後に
除去が可能なものであれば特に制限なく種々の材料に種
々の方法を適用して得られるが、所望する微細な構造の
レリーフパターンを容易に得られる点から、感光性樹脂
組成物を使用するフォトリソグラフ法でレリーフパター
ンを形成することが好ましい。フォトリソグラフ法は、
基板上に感光性樹脂組成物の層を形成し、この感光性樹
脂組成物の層を像状露光し、次いで現像して前記像状露
光された感光性樹脂組成物の層を選択的に除去して基板
上にレリーフパターンを形成する方法である。

【０００８】前記感光性樹脂組成物は、特に制限なく公
知のものを使用でき、例えば、ネガ型感光性樹脂組成
物、ポジ型感光性樹脂組成物等を挙げることができる。
ポジ型感光性樹脂組成物としては、特に制限なく公知の
ものを使用出来るが、例えば、１，２−ナフトキノンジ
アジド系化合物、ｏ−ニトロベンジル系化合物等を用い
た可溶性基光生成型の組成物、オニウム塩等を用いた光
酸発生・酸分解型の組成物等が挙げられる。ネガ型感光
性樹脂組成物としては、特に制限はなく公知のものを使
用出来るが、例えば、（ａ）エチレン性不飽和化合物、
（ｂ）カルボキシル基含有フィルム性付与ポリマ、
（ｃ）光重合開始剤あるいは光重合開始剤系化合物
（ｄ）染料又は顔料（ｅ）その他添加物、（ｆ）有機溶
剤等を含んだ光重合型の組成物が挙げられる。

【０００９】感光性樹脂組成物を使用するフォトリソグ
ラフ法において、基板上に感光性樹脂組成物からなる感
光性樹脂層を設ける方法として、感光性樹脂組成物を基
板上に直接塗布し、必要に応じて乾燥する方法がある
が、環境衛生の点、レリーフパターンの膜厚（高さ）を
大きく出来る点から、感光性フィルムを用い、ラミネー
タにより感光性フィルムの感光性樹脂層を基板上に転写
することにより基板上に感光性樹脂層を設ける方法が好
ましい。感光性フィルムは、支持フィルム及び感光性樹
脂層を有するもので、例えば、ポリエチレンテレフタレ
ート等の支持フィルム上に、感光性樹脂組成物を塗布
し、必要に応じて乾燥して感光性樹脂層を形成すること
により製造される。通常、感光性樹脂層は、柔軟で粘着
性を有するため、この層の上にポリエチレンフィルム等
の保護フィルムを貼り合わせて、外部からの損傷、異物
の付着を防止している。

【００１０】感光性樹脂層の厚さは、特に制限はない
が、形成しようとするレリーフパターンを容易に厚膜化
できる観点から１５μｍ以上とすることが好ましく、上
限は２５０μｍ程度である。感光性樹脂層が形成しよう
とするレリーフパターンの厚さより薄い場合には、複数
回ラミネートを繰り返して基板上に２層以上の多層を貼
り合わせることにより、厚膜の感光性樹脂層を形成し、
所定の厚膜のレリーフパターンを形成することができ
る。感光性樹脂層の厚さが１５μｍ未満の場合、何層も
貼り合わせる必要が生じ作業性が低下する、基板の傷に
対する追従性が低下する傾向がある。

【００１１】像状露光に使用する活性光線としては、カ
ーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノン
ランプ等の紫外線を有効に放射するものが用いられる。
感光性樹脂層を像状露光後、支持体フィルムを剥がし、
現像により感光性樹脂層を選択的に除去してレリーフパ
ターンを形成できる。現像方法としては、特に制限され
ず、ウェット現像の場合は、感光性樹脂組成物に対応し
た現像液を用いる。現像液としては、例えば、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属塩を用いた弱ア
ルカリ性の水溶液が挙げられ、現像方式は、ディップ方
式、スプレー方式等が挙げられる。

【００１２】このようにして基板上に形成されたレリー
フパターンとレリーフパターンの間隙にバリアリブ形成
材料を埋込むが、バリアリブ形成材料を埋込む前にレリ
ーフパターンとレリーフパターンの間隙を流速５０〜１
０００cm／秒の高速噴射流体で洗浄する。この、高速噴
射流体による洗浄は、基板上に形成されたレリーフパタ
ーンとレリーフパターンの間隙のコンタミを除去する目
的で行われ、これによりコンタミによるバリアリブ形成
材料の埋込み欠損に起因するバリアリブの形状異常、コ
ンタミによるレリーフパターンと埋め込まれたバリアリ
ブ形成材料料との所望しない密着性向上による後のレリ
ーフパターンの剥離阻害、コンタミによる最終的に得ら
れたバリアリブと基板との密着性の低下を防ぎ、パネル
全面で欠陥高精細、高品位なバリアリブを得ることがで
きる。

【００１３】例えば、レリーフパターンが、アクリル
酸、メタクリル酸等由来のカルボキシル基を有するフィ
ルム付与性ポリマーを含むネガ型感光性樹脂組成物を用
いた感光性フィルムを用い非露光部を炭酸ナトリウム等
のアルカリ金属塩の水溶液で除去して現像して形成され
たものである場合で、レリーフパターンの膜厚が５０μ
ｍ以上と厚い時は、現像後のレリーフパターン間隙に残
存する現像液や、比較的光硬化度が低いレリーフパター
ン底部からしみだす樹脂成分が、従来のスプレー水洗
（流速１〜１０cm／秒程度）だけでは完全に除去されな
いため、レリーフパターン形成後、それらの成分がコン
タミとして残存し、レリーフパターン表面及び基板表面
にコンタミとして付着して前記した不都合を起こす。こ
の場合は、効率的にコンタミを除去する点から、現像
後、直ちに（概ね現像後５分以内）高速噴射流体による
洗浄を行うことが好ましい。前記洗浄は、レリーフパタ
ーンとレリーフパターンの間隙の基板の表面をＸＭＡ
（X-ray Micro Analysis）分析し、前記表面から炭素成
分が、検出されない程度に行われることが好ましい。

【００１４】上記高速噴射流体を構成する液体として
は、水（水道水、イオン交換水、純水等）、有機溶剤、
水／有機溶剤の重量比１／９〜９／１の混合液などが挙
げられる。高速噴射流体の流速は、５０〜１０００cm／
秒とされ、５０cm／秒未満では、コンタミの除去が不充
分となり、１０００cm／秒を超えるとレリーフパターン
の損傷が起きることがあり、また、かかる高い流速を達
成することが工業的に困難となる。本発明において高速
噴射流体の流速は、高速噴射流体を構成する液体がレリ
ーフパターンの形成された基板に衝突する際の流速を意
味する。

【００１５】このような高速噴射流体の供給手段として
は、例えば、比較的狭い噴射口を有する容器に圧力をか
けた流体を導入することにより容器の噴射口から液体を
噴射するように構成された装置が挙げられる。上記比較
的狭い噴射口を有する容器としては、例えば、噴射口と
してのスリット、穴等を有するパイプ、ノズル等が挙げ
られ、圧力をかけた流体の導入はポンプ等により行いう
る。噴射口がスリットである場合、その幅は、０．１〜
５mmであることが好ましく、０．３〜２mmであることが
より好ましい。この幅が、０．１mm未満であると詰まり
やすく、また、所望の流速が得にくくなる傾向があり、
５mmを超えると流体が拡散しやすく、所望の流速が得に
くくなる傾向がある。

【００１６】噴射口とレリーフパターンとレリーフパタ
ーンの間隙との距離は、０．１〜１０cmとすることが好
ましく、０．３〜５cmとすることがより好ましく、０．
３〜２cmとすることが特に好ましい。この距離が０．１
cm未満であると作業性に劣る傾向があり、１０cmを超え
ると噴射口から吹き出した流体がレリーフパターンとレ
リーフパターンの間隙に到達するまでに拡散してしま
い、液体の流速が著しく低下する傾向がある。高速噴射
流体の流量は、所望の流速を確保する点から、５〜１０
０cm³/cm²とすることが好ましい。この流量は、洗浄時
にレリーフパターンが設けられた基板の単位面積当たり
が受ける高速噴射流体の量（体積）であり、例えば、高
速噴射流体の噴射口の下をレリーフパターンが設けられ
た基板がベルトコンベアに載って搬送される場合、この
流量は噴射口を有する容器に単位時間に導入される液体
量及びベルトコンベア速度を選択することにより調整で
きる。上記高速噴射流体を構成する液体の温度は、作業
性、コンタミの除去効率の点から、１０〜１００℃とす
ることが好ましい。このような高速噴射流体の供給手段
として、例えば、(株)竹網製作所製のハイブローノズル
Ｓタイプ等が好適に用いうる。

【００１７】なお、洗浄後レリーフパターンを露光及び
又は加熱することが好ましい。これにより、基板上に形
成したレリーフパターンの全部分を充分に硬化させるこ
とができ、レリーフパターンにより高い耐薬品性や耐溶
剤性を付与することができる。

【００１８】このようにして得られるレリーフパターン
の厚さ（高さ）は、５０〜２５０μｍ程度であり、スト
ライプ型のレリーフパターンであれば、その幅は、５０
〜２５０μｍ程度であり、レリーフパターン間隔は、３
０〜２５０μｍ程度である。

【００１９】本発明におけるバリアリブ形成材料として
は、特に制限なく、公知のものを使用できるが、例え
ば、高分子結合材（熱可塑型または熱硬化型）等の有機
成分、ガラスフリット、アルミナ等の無機成分を必須と
し、他に必要に応じて有機溶剤、分散剤等の添加剤を配
合した組成物が挙げられる。このようなバリアリブ形成
材料で市販品としては、例えば、ＴＲ−０９９４（太陽
インキ製造(株)製リブペースト）等が挙げられる。

【００２０】バリアリブ形成材料を基板上に設けられた
レリーフパターンの間隙に埋込む方法は、特に制限なく
公知の方法を用いることができるが、例えば、ロールコ
ータ法、スクリーン印刷法、スキージを用いた埋込み法
等が挙げられる。レリーフパターンの間隙への埋込みを
充分にする目的でレリーフパターンの上をバリアリブ形
成材料が覆うようにすることができ（レリーフパターン
の間隙の容積より多めにバリアリブ形成材料を適用すれ
ばよい）、この場合はレリーフパターンの上を覆った余
分のバリアリブ形成材料をレリーフパターンの除去前に
サンドペーパ等で研磨等して除去することができる。埋
込み後、必要に応じてバリアリブ形成材料中の有機溶剤
を一部又は殆どを除去する目的、レベリングの目的等に
より加熱（４０〜１２０℃で１０〜１２０分）すること
ができる。また、バリアリブ形成材料中の有機成分が熱
硬化型のものであれば、これを熱硬化させる目的で加熱
（１３０〜２３０℃で１０〜１８０分）することができ
る。

【００２１】本発明においてレリーフパターンは最終的
には種々の公知の方法で除去されるが、レリーフパター
ンの剥離を剥離液を用いて行う場合、使用する剥離液
は、例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムの水溶
液が好適である。剥離方法としては、浸漬法、スプレイ
法等が挙げられる。このようにしてレリーフパターンの
除去を行って得られるバリアリブ形成材料からなるパタ
ーンの厚さ（高さ）は５０〜２５０μｍ程度であり、ス
トライプ型のであれば、その幅は２０〜２５０μｍであ
り、バリアリブの間隔は５０〜２５０μｍ程度である。
このバリアリブ形成材料からなるパターンから有機物を
除去し、強度、ガス不透過性等を向上する目的で、バリ
アリブ形成材料からなるパターンを焼成する。この焼成
の温度と時間は、３５０〜８００℃、０．５〜２０時間
程度である。

【００２２】

【実施例】次に、本発明を実施例により説明する。 実施例１ 〔感光性樹脂組成物の調整〕メタクリル酸メチル／アク
リル酸エチル／メタクリル酸共重合体（共重合組成重量
比５３／３０／１７、重量平均分子量１０万）の４１重
量％メチルセロソルブ／トルエン（重量比８／２）溶液
１３４ｇ（固形分５５ｇ）、２，２−ビス〔４−（メ
タクリロキシペンタエトキシ）フェニル〕プロパン３４
ｇ、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−メタ
クリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート １１ｇ、
２，２′−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチル
フェノール） ０．１ｇ、トリブロモメチルフェニルス
ルフォン １．２ｇ、シリコーンレベリング剤（商品名
ＳＨ−１９３、東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)
製） ０．０４ｇ、１−７−ビス（９−アクリジニル）
ヘプタン ０．２ｇ、ベンジルメチルケタール ３ｇ、
ロイコクリスタルバイオレット １．０ｇ、マラカイト
グリーン ０．０５ｇ、トルエン ７ｇ、メチルエチル
ケトン １３ｇ及びメタノール ３ｇを配合して感光性
樹脂組成物の溶液を得た。

【００２３】〔感光性フィルムの作製〕この感光性樹脂
組成物の溶液を２０μｍ厚のポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に均一に塗布し、１１０℃の熱風対流式乾
燥機で１０分間乾燥して感光性フィルムを得た。乾燥後
の感光性樹脂組成物層の膜厚は５０μｍであった。

【００２４】〔レリーフパターンの形成〕次いで、得ら
れた感光性フィルムを厚さ３．０mmのガラス板上にラミ
ネータを使用してラミネートし、ポリエチレンテレフタ
レートフィルムを剥離し、感光性樹脂組成物層を露出さ
せた。この露出した感光性樹脂組成物層上に前記感光性
フィルムを前記と同様にラミネートし、ポリエチレンテ
レフタレートフィルムを剥離し、感光性樹脂組成物層を
露出させた。さらに、この露出した感光性樹脂組成物層
上に前記感光性フィルムを前記と同様にラミネートし、
ガラス板上に１５０μｍ厚の感光性樹脂組成物層を形成
した。ラミネートはラミネートロール温度１３０℃、ロ
ール圧４．０kgf/cm²、速度０．５ｍ／分の条件で行っ
た。その後、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に
所定のネガマスクを載置し、ネガマスクの上から平行光
線型露光機にて露光量９０mJ/cm²（紫外線波長：３６５
nm）で感光性樹脂組成物層を露光し、次いで、現像機で
１．０重量％炭酸ナトリウム水溶液により現像して未露
光部を除去しガラス板上にレリーフパターンを形成し
た。このレリーフパターンは、ライン／スペース＝１０
０／５０μｍであった。

【００２５】〔高速噴射流体による洗浄〕次いで、(株)
竹網製作所製のハイブローノズルＳタイプを使用し（ス
リット幅１mm、スリット長さ１３５cmに調整）、これに
ポンプで５０００cm³／秒の水（２５℃）を供給し、ス
リットから噴射する流速１２３cm／秒の水流を、ベルト
コンベア上に載置されて搬送（搬送速度２．５cm／秒、
また、スリットの長手方向とレリーフパターンの長手方
向とが直角になるように載置）される前記レリーフパタ
ーンの形成された基板に吹き付けた（単位面積当たりの
基板が受ける水の流量１５cm³/cm²）。ここでスリット
とレリーフパターン上面との距離は０．７mmとした。ス
リットから噴出するナイフ状の水は、前記レリーフパタ
ーンの形成された基板に到達した時点で幅３mmに拡散し
ていた。洗浄後、レリーフパターンとレリーフパターン
の間隙のガラス板の表面をＸＭＡ（X-ray Micro Analys
is）で調べたところこの表面から炭素成分は検出されず
樹脂残渣は存在しないことが確認された。

【００２６】〔後露光、後加熱〕次いで、レリーフパタ
ーンを紫外線照射機により３０００mJ/cm²の露光量で露
光し、その後、乾燥機で１６０℃で６０分間の加熱処理
を行った。

【００２７】〔バリアリブ形成材料の埋め込み〕上記の
ようにして得たレリーフパターンを有するガラス板上
に、バリアリブ形成材料としてのリブペースト（製品名
ＴＲ−０９９４、太陽インキ製造(株)製）を１２０メッ
シュのスクリーンを有するスクリーン印刷機により、ベ
タ塗り状態で塗布し、減圧装置の付いたアルミ製の容器
中に入れ、１０トールに減圧して３分間保持後、常圧に
戻す操作を行った。この操作でバリアリブ形成材料中の
気泡が除去され、バリアリブ形成材料が確実にレリーフ
パターンの間隙に埋込まれた。その後、乾燥機で８０℃
で３０分間乾燥し、表面の有機溶剤を揮発させた。さら
に、上記のバリアリブ形成材料塗布、減圧、乾燥の操作
を繰り返し行い、レリーフパターンの間隙をバリアリブ
形成材料でほぼ完全に埋込んだ。続いて、乾燥機で１６
０℃で４５分間乾燥して残っている有機溶剤を揮発させ
てから、レリーフパターンの上部に残っているバリアリ
ブ形成材料を水を使用してサンドペーパ（＃６００）に
てレリーフパターンが見えるまで均一に研磨して除去し
た。

【００２８】〔レリーフパターンの剥離、バリアリブ形
成材料からなるパターンの形成〕研磨後、４５℃に保持
した５．０重量％水酸化ナトリウム水溶液（剥離液）に
１０分浸漬した後、すぐに４５℃に保持した温水に浸漬
してレリーフパターンを剥離を試みたところ、レリーフ
パターンの剥離は容易に行えた。その後、水洗し、８０
℃で３０分間乾燥してバリアリブ形成材料からなるパタ
ーンを得た。このバリアリブ形成材料からなるパターン
は、剥離液に充分耐えて膨潤せず、レリーフパターン剥
離時のレリーフパターンの膨潤応力にも充分耐えて、欠
損、変形及び剥がれがなく、レリーフパターンとレリー
フパターンの間隙の形状を忠実に再現した良好な形状を
有しており、バリアリブ形成材料からなるパターンの寸
法は、上部の幅が５０μｍ、底面の幅が７０μｍ、高さ
が１３０μｍであった。

【００２９】〔焼成〕次いで、マッフル炉を使用し、空
気中で焼成してバリアリブを得た。焼成条件は、室温か
ら４００℃まで昇温速度が３℃／分で昇温し、４００℃
で３０分間保持、さらに、５５０℃まで昇温速度が５℃
／分で昇温し、５５０℃で３０分間保持、室温まで冷却
するものであった。焼成後に得られたバリアリブは、上
記の焼成前のバリアリブ形成材料からなるパターンの形
状を保持し、レリーフパターンとレリーフパターンの間
隙の形状を忠実に再現し、焼成後に得られたバリアリブ
の寸法は、上部の幅が３５μｍ、底面の幅が６５μｍ、
高さが１００μｍであり、ガラス板上全面で無欠陥の高
精細、高品位なものであった。

【００３０】比較例１ 実施例１において〔高速噴射流体による洗浄〕に変え
て、下記の〔水洗〕を行った以外は実施例１と同様にし
てバリアリブを形成した。水洗後、レリーフパターンと
レリーフパターンの間隙のガラス板の表面をＸＭＡで調
べたところこの表面から炭素成分が検出され樹脂残渣が
存在することが確認された。また、バリアリブ形成材料
を埋込んだ後の、レリーフパターンの剥離は困難であっ
た。そして、焼成後に得られたバリアリブは、ガラス板
上全面で欠陥を有し実用に耐えないものであった。

【００３１】〔水洗〕０．２cm²の楕円形（長軸２．５m
m、短軸１mm）の穴を１０cm間隔で設けたパイプ（穴の
長手方向とレパイプの長手方向とは平行）に穴１個当た
り３０cm³/秒で水を供給し前記穴からスプレー状に噴出
する３cm／秒の水流を、ベルトコンベア上に載置されて
搬送（搬送速度２．５cm／秒、また、穴の長手方向とレ
リーフパターンの長手方向とが直角になるように載置）
される前記レリーフパターンの形成された基板に吹き付
けた（単位面積当たりの基板が受ける水の流量１．２cm
³/cm²）。ここで穴とレリーフパターン上面との距離は
２０cmとした。穴から噴出するスプレー状の水は、前記
レリーフパターンの形成された基板に到達した時点で長
さ１０cm、幅１cmに拡散していた。

【００３２】

【発明の効果】請求項１記載のレリーフパターンの設け
られた基板は、アディティブ法（フォト埋め込み法）を
適用し、パネル全面で欠陥のない高精細、高品位なバリ
アリブを得られるプラズマディスプレイパネルのバリア
リブの製造に好適なものである。請求項２記載のレリー
フパターンの設けられた基板の製造法は、アディティブ
法（フォト埋め込み法）を適用し、パネル全面で欠陥の
ない高精細、高品位なバリアリブを得られるプラズマデ
ィスプレイパネルのバリアリブの製造に好適なレリーフ
パターンの設けられた基板を簡便に、生産性よく製造す
ることができる。請求項３及び４記載のプラズマディス
プレイパネルのバリアリブの製造法により、パネル全面
で欠陥のない高精細、高品位なバリアリブが得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 17/16 Ｈ０１Ｊ 17/16 (72)発明者 丹野 清吉 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 勝谷 康夫 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レリーフパターンとレリーフパターンの
   間隙の基板の表面をＸＭＡ（X-ray Micro Analysis）で
   分析して表面から炭素成分が検出されないレリーフパタ
   ーンの設けられた基板。
2. 【請求項２】 基板上に感光性樹脂組成物を使用したフ
   ォトリソグラフ法によりレリーフパターンを設けるレリ
   ーフパターンの設けられた基板の製造法において、現像
   後レリーフパターンとレリーフパターンの間隙を流速５
   ０〜１０００cm／秒の高速噴射流体で洗浄することを特
   徴とするレリーフパターンの設けられた基板の製造法。
3. 【請求項３】 基板上に形成されたレリーフパターンと
   レリーフパターンの間隙にバリアリブ形成材料を埋込
   み、次いでレリーフパターンを除去してバリアリブ形成
   材料からなるパターンを形成し、このパターンを焼成す
   ることにより基板上にバリアリブを形成するプラズマデ
   ィスプレイパネルのバリアリブの製造法において、バリ
   アリブ形成材料を埋込む前にレリーフパターンとレリー
   フパターンの間隙を流速５０〜１０００cm／秒の高速噴
   射流体で洗浄することを特徴とするプラズマディスプレ
   イパネルのバリアリブの製造法。
4. 【請求項４】 レリーフパターンが感光性樹脂組成物を
   使用したフォトリソグラフ法により設けられたものであ
   る請求項３記載のプラズマディスプレイパネルのバリア
   リブの製造法。