JPH11240789A - 単結晶製造装置 - Google Patents
単結晶製造装置Info
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- JPH11240789A JPH11240789A JP6230398A JP6230398A JPH11240789A JP H11240789 A JPH11240789 A JP H11240789A JP 6230398 A JP6230398 A JP 6230398A JP 6230398 A JP6230398 A JP 6230398A JP H11240789 A JPH11240789 A JP H11240789A
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Abstract
で容易に良質に製造できる単結晶製造装置を提供する。 【解決手段】 引き下げ法を用いた単結晶製造装置にお
いて、粉末原料供給装置20により電気炉10内の原料
融解槽3に粉末原料5pを供給し、原料融解槽3内で粉
末原料5pを融解させて原料融液5mを生成し、この原
料融液5mを白金棒4を伝わらせて白金坩堝2内に導入
することにより、白金坩堝2内に原料融液5mを連続的
に供給して結晶18を育成する。粉末原料槽6内の粉末
原料5p中に乾燥空気を導入して原料粉末5pの湿気を
防ぐ。粉末原料5mを移送する移送管9を冷却すること
により粉末原料5pの融解により移送管9が詰まるのを
防ぐ。
Description
し、特に引き下げ法により単結晶を製造する製造装置に
関するものである。
(以下LTと記す。)、ニオブ酸リチウムLiNbO3
(以下LNと記す。)、四硼酸リチウムLi2 B4 O7
(以下LBOと記す。)等の酸化物の単結晶を用いて各
種の表面波デバイスが生産されている。これらの単結晶
は、水晶基板に比べて大きな電気機械結合係数(K2 )
が得られ、LTやLBOにあっては零温度係数の切断角
度が存在することから、表面波デバイスにこれらの単結
晶を使用することにより、携帯電話機器等の端末が小型
化、高機能化等されるようになった。上記の酸化物の中
でも、LBOは正方晶系4mmに属し、この単結晶は遅
延時間温度係数がほぼ0ppm/゜Cであり、また電気
機械結合係数は水晶の約6倍と大きく、機械的反射はL
TやLNよりも大きいので、表面弾性波デバイスの小型
化に適した材料として注目されている。LBO単結晶の
育成方法には大きく分けて次の3つの方法がある。すな
わち、チョクラルスキー法(Cz法、回転引き上げ
法)、バーティカルブリッジマン法(VB法)、及び引
き下げ法である。チョクラルスキー法は、図2に示すよ
うに、結晶化しようとする原料を白金坩堝41に入れ、
電気炉42内にて原料を融点以上に昇温し融解させ、そ
の融液43に棒状の種子結晶44の下端部を浸けてゆっ
くり回転させながら引き上げることにより、種子結晶4
4の下端部から結晶45を成長させる方法である。バー
ティカルブリッジマン法は、図3に示すように、結晶化
しようとする原料を白金坩堝51に入れ、電気炉52内
にて原料を融点以上に昇温し融解させた後、白金坩堝5
1の一端に板状の種子結晶53を入れ、電気炉52内に
温度勾配を形成した状態で、白金坩堝51を種子結晶5
3側を先端にして高温側から低温側に徐々に移動させる
ことにより、種子結晶53側より順次結晶を成長させる
方法である。引き下げ法は、本願に係る発明者の一人が
文献(Jornal of the Ceramic Society of Japan105[7]
1997 )に発表した単結晶成長法であり、図4に示すよ
うに、底に細孔610aを設けた白金坩堝61の中に多
結晶原料を入れ、この白金坩堝61を上側を原料の融点
以上、下側を原料の融点以下に保った電気炉62内の最
も温度勾配が急峻な位置に配置して原料を融解させ、白
金坩堝61の細孔610aから重力によって流出した原
料融液に棒状の種子結晶63の上端を接触させた状態
で、種子結晶63を回転させながら引き下げることによ
って結晶させる方法である。この引き下げ法は、白金坩
堝61の底の細孔610aから漏れ出た原料融液の白金
坩堝61に対する濡れ性及び表面張力を利用して、白金
坩堝61と種子結晶63との間に原料融液を保持しつつ
結晶育成を行うため、LBOのように溶融時に粘性の大
きい物質の結晶育成に適している。
ラルスキー法は、Si(シリコン)、LT、LNなど、
融液の粘性が比較的小さい物質の結晶育成には適してい
るが、LBOはSi、LT、LNなどと比べて融液の粘
性が大きいため、育成の過程で気泡やクラックが入り易
い。このためチョクラルスキー法によるLBO単結晶の
育成速度は0.3mm/h程度と他のSi、LT、LN
等の結晶に比べて10分の1以下になるという問題があ
った。また、チョクラルスキー法による結晶製造装置
は、ブリッジマン法、引き下げ法など他の方法による結
晶製造装置に比べて一般に高価であるという問題もあっ
た。また、バーティカルブリッジマン法は、現在LBO
単結晶を育成する標準的な方法となっているが、LBO
単結晶を一回育成する度毎に白金坩堝を新たに用意しな
ければならず、製造コストが高くなるという問題があ
る。そこで多くの場合、白金坩堝への原料充填量を増や
して白金坩堝の使用を減らす目的で、粉末原料よりも高
価な非晶質LBO焼結体を原料として使用している。ま
た、バーティカルブリッジマン法では結晶の育成状況を
その場で観察しながら育成を行うことができないため育
成終了後でなければその良否を判断できないといった問
題や、育成速度が0.3mm/h〜0.5mm/h程度
と遅く結晶育成に時間ががかり過ぎるため製造コストが
高くなるという問題もあった。さらに、チョクラルスキ
ー法、バーティカルブリッジマン法は、いずれもLBO
融液の粘性が大きいため、融液内の水分や気泡が残留し
易く、結晶中にこれら水分や気泡が含まれてしまう場合
が多い。また、引き下げ法においては、白金坩堝の底の
細孔から流出する融液の流量が柑禍内の融液量に伴って
変化するため、直胴部すなわち均一な径の部分を多く有
する良質な単結晶を得ることが難しいという問題があっ
た。すなわち、柑禍内の融液量が多いときは細孔から流
出する融液の流量も多いが、柑禍内の融液量が減少する
に連れて流量が減少していくため、直胴部を多く得るた
めには、育成開始から終わりにかけて徐々に育成速度を
低下させていく必要があり、そのための炉内温度制御や
種子結晶の引き下げ速度制御などが困難であった。ま
た、いずれの育成方法においても坩堝内の原料容積が限
定されているので、育成される結晶の寸法(長さ、直径
など)には制限があった。本発明は上記問題を解決すべ
く創案されたものであり、LBOなど融液の粘性が大き
い物質をはじめとして、単結晶を連続的に低コストで容
易に良質に製造できる単結晶製造装置を提供することに
ある。
に、請求項1に記載の発明に係る単結晶製造装置は、電
気炉内に原料の入った坩堝を配置してこれを当該原料の
融点以上の温度に保ち、坩堝の底部に形成された細孔か
ら漏れ出た原料融液に種子結晶の上端部を接触させた状
態で種子結晶を回転させながら引き下げることによって
結晶を成長させる引き下げ法を用いた単結晶製造装置に
おいて、粉末原料(粉末状態の原料)を融解させて原料
融液を生成するための原料融解槽と、この原料融解槽に
粉末原料を供給する粉末原料供給手段と、当該原料融解
槽内の原料融液を前記坩堝内に導入する原料融液導入手
段とを備えたことを特徴としている。上記のように構成
された単結晶製造装置によれば、粉末原料供給手段によ
り原料融解槽に粉末原料を供給し、原料融解槽内で粉末
原料を融解させて原料融液を生成し、この原料融液を原
料融液導入手段により坩堝内に導入することにより、坩
堝内に原料融液を供給しつつ結晶育成中を行うことがで
きるので、結晶育成の始めから終わりまで柑禍内の融液
量をほぼ一定に保ち、柑禍の底の細孔からの原料融液の
流出量をほぼ一定に保ちつつ結晶育成を行うことができ
る。また、請求項2に記載の発明に係る単結晶製造装置
は、請求項1における粉末原料供給手段が、粉末原料を
収容する粉末原料槽と、この粉末原料槽内の粉末原料中
へ乾燥気体を導入する乾燥気体導入手段と、この粉末原
料槽から原料融解槽へ粉末原料を移送するための原料移
送手段とを有するものであることを特徴としている。上
記のように構成された単結晶製造装置によれば、粉末原
料中に乾燥空気を導入して原料粉末の湿気を除去するこ
とにより、湿気による原料粉末の凝集を防ぎ、原料融解
槽へ成分比一定の粉末原料を安定に供給できる。また、
請求項3に記載の発明に係る単結晶製造装置は、請求項
2における原料融解槽が、坩堝と共に電気炉内に配置さ
れており、原料移送手段は、原料融解槽へ粉末原料を移
送すべくその一端側が粉末原料槽に他端側が電気炉内に
挿入された移送管と、この移送管を外部から冷却する冷
却手段とを備えたものであることを特徴としている。上
記のように構成された単結晶製造装置によれば、坩堝と
原料融解槽とを一つの電気炉で加熱できるので装置構成
を簡略化することができるとともに、電気炉外部から電
気炉内の原料融解槽に粉末原料を移送する移送管を冷却
することにより、移送管の途中で粉末原料が融解するの
を防ぎ移送管の詰まりを防止できる。また、請求項4に
記載の発明に係る単結晶製造装置は、請求項3に記載の
原料融解槽が、坩堝よりも高い位置に配置されており、
原料融液導入手段は、原料融解槽の底部に形成された孔
から漏れ出て流下する原料融液をその表面を伝わらせて
坩堝内へ案内する案内部材を備えたものであることを特
徴としている。上記のように構成された単結晶製造装置
によれば、原料融解槽の底部から漏れ出た原料融液を案
内部材の表面を伝わらせて自重により降下させて坩堝内
へ供給しつつ、この原料融液中に残存する水分や不純物
を坩堝に入る前に電気炉の熱で蒸発させて除去すること
ができる。
り本発明をより詳細に説明する。図1(a)は本発明に
係る単結晶製造装置1の実施の形態の一例を示す概略全
体構成図である。この例では、LBO単結晶を製造する
場合について説明する。図1(a)において10は電気
炉、20は粉末原料供給装置、30は結晶引き下げ装置
である。電気炉10は円筒形状の3つの電気炉要素10
a、10b、10cを上下に積み重ねて連結した構造に
なっており、電気炉10内の下部には白金坩堝2が、上
部には白金製の原料融解槽(以下、プリメルト坩堝とい
う。)3が設けられている。また、プリメルト坩堝3と
白金坩堝2との間には、プリメルト坩堝3で生成された
LBOの原料融液5mを白金坩堝2内に導入するための
案内部材である白金棒4が設けられている。電気炉10
の最上部の電気炉要素10aはプリメルト坩堝3をLB
Oの融点以上の温度(例えば、995゜C)に加熱して
いる。中間部の電気炉要素10bは白金坩堝2をLBO
の融点以上の温度(例えば、970゜C)に加熱してい
る。また、最下部の電気炉要素10cはLBOの融点よ
りも低い温度(例えば、690゜C)に設定されてい
る。これにより中間部から最下部にかけて緩やかな温度
勾配が形成され、育成された結晶の歪みを除去するアニ
ール効果を有する。また、電気炉10の側壁には、白金
坩堝2の下部近傍すなわち結晶成長部を炉外から目視に
より観察できるように覗き窓17が設けられている。こ
の覗き窓17は耐熱ガラスにて気密に閉塞されている。
粉末原料供給装置20は、LBOの粉末原料5pを収容
する粉末原料槽6と、図示しない粉末原料供給源から粉
末原料槽6内に粉末原料5pを導入するための原料導入
管7と、図示しない乾燥気体発生源から粉末原料槽6内
の粉末原料5p中に乾燥気体(乾燥空気、窒素、アルゴ
ン、ヘリウム、等)を導入するための乾燥気体導入管8
と、粉末原料槽6から原料融解槽3へ粉末原料5pを移
送するための原料移送装置21とを有している。
原料5pを移送すべくその上端側が粉末原料槽6の底部
6aに下端側が電気炉10内に挿入された移送管9と、
この移送管9を冷却するための冷却ジャケット11と、
粉末原料5pを強制移送すべく移送管9の途中に設けら
れた粉末供給ポンプ12とを有する。移送管9及び冷却
ジャケット11は、電気炉10の上蓋10dの中央部に
形成された貫通孔13内に挿入されており、移送管9の
下端部は原料融解槽3内に達している。冷却ジャケット
11は、移送管9の外周を取り囲むようにして設けられ
ており、その内部を通過する冷媒により移送管9を外部
から冷却することにより、移送管9内を電気炉10から
の熱に抗してLBOの融点温度未満に保っている。 結
晶引き下げ装置30は、種子結晶14を保持するための
保持部15aをその上端部に有する円柱状の回転ロッド
15と、この回転ロッド15を鉛直姿勢に保持して軸回
転させつつ上下に移動させる回転引き下げ装置16とか
らなる。 図1(b)に上記プリメルト坩堝3及び白金
棒4の部分の構造を、図1(c)に白金坩堝2の構造を
示す。
3の底部には中央に孔3aが開いており、この孔3aに
白金棒4の上端部が挿入されている。孔3aの径は白金
棒4の径よりも若干大きく設定されており、孔3aから
漏れ出た原料融液5mが白金棒4の表面を伝って流下す
ることにより白金坩堝2内へ自然に案内される仕組みに
なっている。図1(c)に示すように、白金坩堝2の底
部は漏斗状(逆円錐形状)に形成されるとともに、底部
中央及びその周辺部には同一口径(例えば、0.5m
m)複数の細孔2a、2a、・・が設けられており、複
数の細孔2a、2a、・・から原料融液5mを流出させ
ることにより、白金坩堝2の下面全体を有効に利用して
育成中の結晶18の上面との間に原料融液5mを保持し
つつ結晶育成を行える構造になっている。
によれば以下のようにしてLBO単結晶を製造すること
ができる。まず、電気炉10の電気炉要素10a及び1
0bの温度をLBOの融点温度以上、電気炉要素10c
の温度をLBOの融点温度未満にそれぞれ設定して炉内
の加熱を開始し、炉内が設定温度になったらその状態を
維持する。冷却ジャケット11には冷媒を常時流し、粉
末原料槽6内の粉末原料5p中には乾燥気体導入管8を
通して乾燥気体を常時導入しておく。その後、粉末供給
ポンプ12を作動させ、粉末原料槽6から移送管9を通
してプリメルト坩堝3内に粉末原料5pを所定量供給す
る。プリメルト坩堝3内に供給された粉末原料5pは電
気炉10により加熱されて融解し、原料融液5mとなっ
てプリメルト坩堝3の底部の孔3aから漏れ出し始め
る。そして、この原料融液5mが白金棒4の表面を伝っ
て流下することにより、白金坩堝2内に原料融液5mが
導入されていく。白金坩堝2内に原料融液5mが溜まる
と、白金坩堝2の底部の複数の細孔2a、2a、・・か
ら原料融液5mが漏出し始める。この状況は電気炉10
の覗き窓17を通して観察することができるので、原料
融液5mの漏れ出しが確認されたら、回転引き下げ装置
16により回転ロッド15を上昇させ、回転ロッド15
に保持されている種子結晶14の先端(上端)を白金坩
堝2の下面を濡らしている原料融液5mに接触させる。
その後、種子結晶14の先端を原料融液5mに接触させ
た状態を維持しつつ、回転引き下げ装置16により回転
ロッド15を一定の向きに所定の速度(例えば、30r
pm)で回転させながら一定の速度(例えば、0.75
mm/h)で下降させることにより、種子結晶14の先
端から結晶18を成長させていく。
5pの供給量を制御して白金坩堝2内への原料融液5m
の導入量を制御することにより、結晶育成の始めから終
わりまで白金坩堝2内の原料融液5mの量をほぼ一定に
保って、白金坩堝2の底の細孔2a、2a、・・からの
原料融液5mの流出量をほぼ一定に保ちつつ結晶18の
育成を行う。このように白金坩堝2の底の細孔2a、2
a、・・からの原料融液5mの流出量をほぼ一定に保つ
ことにより、育成中の結晶18の上面に単位時間あたり
に供給される原料融液5mの量が結晶育成中ほぼ一定に
保たれる。
置1によれば以下のような優れた利点を有する。すなわ
ち、育成中の結晶18の上面に単位時間あたりに供給さ
れる原料融液5mの量を結晶育成中ほぼ一定に保つこと
ができるので、粉末原料槽6からプリメルト坩堝3へ粉
末原料5pを連続的に供給しつつ結晶を育成することに
より、直胴部を多く有する長寸のLBO単結晶を得るこ
とができる。また、粉末原料槽6に入れる粉末原料5p
として、LBOの粉末や、Li2 OとB2 O3 との混合
粉末など自由に選択できるので、非晶質LBO焼結体を
原料として使用するバーチカルブリッジマン法と比較し
て原料コストを安くできる。また、チョクラルスキー法
と同様に棒状種子を使用できることも製造コストを削減
する上で有利である。
時の蒸気圧が原料成分毎に異なるため、原料融液の組成
変動が生じ、育成結晶の組成変動を引き起こしたり、原
料融液の粘性変化により均一な結晶育成が不可能となる
場合が多いが、本実施の形態の単結晶製造装置1によれ
ば、予め原料融解時の組成変動を見越して原料粉末5p
の成分比率を調整しておくことにより、組成変動のない
均一な結晶を育成することができる。また、粉末原料槽
6内の粉末原料5p中に乾燥空気を導入して原料粉末5
pの湿気を除去するようにしたので、湿気による原料粉
末5pの凝集を防ぎ、プリメルト坩堝3へ成分比一定の
粉末原料5pを安定に供給できる。また、電気炉10の
外部から電気炉10内のプリメルト坩堝3に粉末原料5
pを移送する移送管9を冷却するようにしたので、移送
管9の中で粉末原料5pが融解するのを防いで移送管9
の詰まりを防止してプリメルト坩堝3に粉末原料5pを
安定に供給できる。また、プリメルト坩堝3の底部に形
成された孔3aから漏れ出て流下する原料融液5mを白
金棒4の表面を伝わらせて白金坩堝2内へ案内するよう
にしたことにより、プリメルト坩堝3内で生成された原
料融液5m中に残存していた水分や不純物を白金坩堝2
に入る前に電気炉の熱で蒸発除去できるので、気泡や不
純物を含まない高品質の結晶を育成することができる。
けて結晶育成部をその場で観察できるようにしたので、
種付け部やショルダー部の制御が容易である。また、白
金坩堝2の底部の複数の細孔2a、2a、・・の数、位
置、大きさ、白金坩堝2の底形状、テーパ角度θ(図1
(c)参照)等を適切に設定することで育成結晶の直径
を大きくすることが可能である。また、上記電気炉1
0、粉末原料供給装置20、原料移送装置21、結晶引
き下げ装置30等をコンピュータ制御することにより良
質なLBO単結晶を自動育成することも可能である。な
お、上記実施の形態ではLBOの単結晶を製造する場合
を例にとり説明したが、上記構成の単結晶製造装置1
は、光アイソレータの材料に使用されるルチル、シンチ
レータの材料に使用されるBGO、BSO、非線形光学
材料の一種であるCLBO、圧電・光学材料として知ら
れるLN、LT、等の単結晶製造用としても応用できる
ものである。
うな優れた効果を奏するものである。請求項1に記載の
発明では、引き下げ法を用いた単結晶製造装置におい
て、粉末原料供給手段により原料融解槽に粉末原料を供
給し、原料融解槽内で粉末原料を融解させて原料融液を
生成し、この原料融液を原料融液導入手段により坩堝内
に導入することにより、坩堝内に原料融液を連続的に供
給しつつ結晶育成を行えるようにしたので、LBOなど
融液の粘性が大きい物質の単結晶を低コストで容易に且
つ良質に製造できる。また、請求項2に記載の発明で
は、粉末原料中に乾燥空気を導入して原料粉末の湿気を
除去するようにしたので、湿気による原料粉末の凝集を
防ぎ、原料融解槽へ成分比一定の粉末原料を安定に供給
できる。また、請求項3に記載の発明では、坩堝と原料
融解槽とを一つの電気炉で加熱できるので装置構成を簡
略化することができる。また、電気炉外部から電気炉内
の原料融解槽に粉末原料を移送する移送管を冷却するよ
うに構成したので、移送管の中で粉末原料が融解して詰
まりが発生するの防いで原料融解槽へ粉末原料を安定に
供給できる。また、請求項4に記載の発明では、原料融
解槽の底部に形成された孔から漏れ出て流下する原料融
液を案内部材の表面を伝わらせて坩堝内へ案内するよう
にしたことにより、原料融解槽内で生成された原料融液
中に残存していた水分や不純物を坩堝に入る前に電気炉
の熱で蒸発除去できるので、気泡や不純物を含まない高
品質の結晶を育成することができる。
形態の一例を示す概略全体構成図、(b)、(c)は
(a)に示す単結晶製造装置の部分拡大断面図である
る。
る。
る。
4:白金棒(融液導入手段、案内部材) 5p:末原料 6:粉末原料槽 6a:底部
7:原料導入管 8:乾燥気体導入管 9:移送管 10:電気炉 10a、10b、10c:電気炉要素
10d:上蓋 11:冷却ジャケット(冷却手段) 12:粉末供給
ポンプ 14:種子結晶 15:回転ロッド 16:回転引
き下げ装置 17:覗き窓 20:粉末原料供給装置 21:原
料移送装置
ラルスキー法は、Si(シリコン)、LT、LNなど、
融液の粘性が比較的小さい物質の結晶育成には適してい
るが、LBOはSi、LT、LNなどと比べて融液の粘
性が大きいため、育成の過程で気泡やクラックが入り易
い。このためチョクラルスキー法によるLBO単結晶の
育成速度は0.3mm/h程度と他のSi、LT、LN
等の結晶に比べて10分の1以下になるという問題があ
った。また、チョクラルスキー法による結晶製造装置
は、ブリッジマン法、引き下げ法など他の方法による結
晶製造装置に比べて一般に高価であるという問題もあっ
た。また、バーティカルブリッジマン法は、現在LBO
単結晶を育成する標準的な方法となっているが、LBO
単結晶を一回育成する度毎に白金坩堝を新たに用意しな
ければならず、製造コストが高くなるという問題があ
る。そこで多くの場合、白金坩堝への原料充填量を増や
して白金坩堝の使用を減らす目的で、粉末原料よりも高
価な非晶質LBO焼結体を原料として使用している。ま
た、バーティカルブリッジマン法では結晶の育成状況を
その場で観察しながら育成を行うことができないため育
成終了後でなければその良否を判断できないといった問
題や、育成速度が0.3mm/h〜0.5mm/h程度
と遅く結晶育成に時間ががかり過ぎるため製造コストが
高くなるという問題もあった。さらに、チョクラルスキ
ー法、バーティカルブリッジマン法は、いずれもLBO
融液の粘性が大きいため、融液内の水分や気泡が残留し
易く、結晶中にこれら水分や気泡が含まれてしまう場合
が多い。また、引き下げ法においては、白金坩堝の底の
細孔から流出する融液の流量が坩堝内の融液量に伴って
変化するため、直胴部すなわち均一な径の部分を多く有
する良質な単結晶を得ることが難しいという問題があっ
た。すなわち、坩堝内の融液量が多いときは細孔から流
出する融液の流量も多いが、坩堝内の融液量が減少する
に連れて流量が減少していくため、直胴部を多く得るた
めには、育成開始から終わりにかけて徐々に育成速度を
低下させていく必要があり、そのための炉内温度制御や
種子結晶の引き下げ速度制御などが困難であった。ま
た、いずれの育成方法においても坩堝内の原料容積が限
定されているので、育成される結晶の寸法(長さ、直径
など)には制限があった。本発明は上記問題を解決すべ
く創案されたものであり、LBOなど融液の粘性が大き
い物質をはじめとして、単結晶を連続的に低コストで容
易に良質に製造できる単結晶製造装置を提供することに
ある。
に、請求項1に記載の発明に係る単結晶製造装置は、電
気炉内に原料の入った坩堝を配置してこれを当該原料の
融点以上の温度に保ち、坩堝の底部に形成された細孔か
ら漏れ出た原料融液に種子結晶の上端部を接触させた状
態で種子結晶を回転させながら引き下げることによって
結晶を成長させる引き下げ法を用いた単結晶製造装置に
おいて、粉末原料(粉末状態の原料)を融解させて原料
融液を生成するための原料融解槽と、この原料融解槽に
粉末原料を供給する粉末原料供給手段と、当該原料融解
槽内の原料融液を前記坩堝内に導入する原料融液導入手
段とを備えたことを特徴としている。上記のように構成
された単結晶製造装置によれば、粉末原料供給手段によ
り原料融解槽に粉末原料を供給し、原料融解槽内で粉末
原料を融解させて原料融液を生成し、この原料融液を原
料融液導入手段により坩堝内に導入することにより、坩
堝内に原料融液を供給しつつ結晶育成中を行うことがで
きるので、結晶育成の始めから終わりまで坩堝内の融液
量をほぼ一定に保ち、坩堝の底の細孔からの原料融液の
流出量をほぼ一定に保ちつつ結晶育成を行うことができ
る。また、請求項2に記載の発明に係る単結晶製造装置
は、請求項1における粉末原料供給手段が、粉末原料を
収容する粉末原料槽と、この粉末原料槽内の粉末原料中
へ乾燥気体を導入する乾燥気体導入手段と、この粉末原
料槽から原料融解槽へ粉末原料を移送するための原料移
送手段とを有するものであることを特徴としている。上
記のように構成された単結晶製造装置によれば、粉末原
料中に乾燥空気を導入して原料粉末の湿気を除去するこ
とにより、湿気による原料粉末の凝集を防ぎ、原料融解
槽へ成分比一定の粉末原料を安定に供給できる。また、
請求項3に記載の発明に係る単結晶製造装置は、請求項
2における原料融解槽が、坩堝と共に電気炉内に配置さ
れており、原料移送手段は、原料融解槽へ粉末原料を移
送すべくその一端側が粉末原料槽に他端側が電気炉内に
挿入された移送管と、この移送管を外部から冷却する冷
却手段とを備えたものであることを特徴としている。上
記のように構成された単結晶製造装置によれば、坩堝と
原料融解槽とを一つの電気炉で加熱できるので装置構成
を簡略化することができるとともに、電気炉外部から電
気炉内の原料融解槽に粉末原料を移送する移送管を冷却
することにより、移送管の途中で粉末原料が融解するの
を防ぎ移送管の詰まりを防止できる。また、請求項4に
記載の発明に係る単結晶製造装置は、請求項3に記載の
原料融解槽が、坩堝よりも高い位置に配置されており、
原料融液導入手段は、原料融解槽の底部に形成された孔
から漏れ出て流下する原料融液をその表面を伝わらせて
坩堝内へ案内する案内部材を備えたものであることを特
徴としている。上記のように構成された単結晶製造装置
によれば、原料融解槽の底部から漏れ出た原料融液を案
内部材の表面を伝わらせて自重により降下させて坩堝内
へ供給しつつ、この原料融液中に残存する水分や不純物
を坩堝に入る前に電気炉の熱で蒸発させて除去すること
ができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 電気炉内に原料の入った坩堝を配置して
これを当該原料の融点以上の温度に保ち、坩堝の底部に
形成された細孔から漏れ出た原料融液に種子結晶の上端
部を接触させた状態で種子結晶を回転させながら引き下
げることによって結晶を成長させる単結晶製造装置にお
いて、 粉末原料を融解させて原料融液を生成するための原料融
解槽と、この原料融解槽に粉末原料を供給する粉末原料
供給手段と、当該原料融解槽内の原料融液を前記坩堝内
に導入する原料融液導入手段とを備えたことを特徴とす
る単結晶製造装置。 - 【請求項2】 前記粉末原料供給手段は、粉末原料を収
容する粉末原料槽と、この粉末原料槽内の粉末原料中へ
乾燥気体を導入する乾燥気体導入手段と、この粉末原料
槽から前記原料融解槽へ粉末原料を移送するための原料
移送手段とを有することを特徴とする請求項1に記載の
単結晶製造装置。 - 【請求項3】 前記原料融解槽は、前記坩堝と共に前記
電気炉内に配置されており、前記原料移送手段は、前記
原料融解槽へ粉末原料を移送すべくその一端側が前記粉
末原料槽に他端側が前記電気炉内に挿入された移送管
と、この移送管を外部から冷却する冷却手段とを備えて
いることを特徴とする請求項2に記載の単結晶製造装
置。 - 【請求項4】 前記原料融解槽は、前記坩堝よりも高い
位置に配置されており、前記原料融液導入手段は、前記
原料融解槽の底部に形成された細孔から漏れ出て流下す
る原料融液をその表面を伝わらせて前記坩堝内へ案内す
る案内部材を備えていることを特徴とする請求項3に記
載の単結晶製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06230398A JP3550495B2 (ja) | 1998-02-26 | 1998-02-26 | 単結晶製造装置および単結晶製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP06230398A JP3550495B2 (ja) | 1998-02-26 | 1998-02-26 | 単結晶製造装置および単結晶製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11240789A true JPH11240789A (ja) | 1999-09-07 |
JP3550495B2 JP3550495B2 (ja) | 2004-08-04 |
Family
ID=13196245
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP06230398A Expired - Lifetime JP3550495B2 (ja) | 1998-02-26 | 1998-02-26 | 単結晶製造装置および単結晶製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3550495B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008150223A (ja) * | 2006-12-14 | 2008-07-03 | Tdk Corp | 引下げ装置における原材料供給装置 |
JP2012086995A (ja) * | 2010-10-18 | 2012-05-10 | Tdk Corp | 単結晶引下げ装置 |
JP2013040103A (ja) * | 2012-11-26 | 2013-02-28 | Tdk Corp | 単結晶引下げ装置 |
CN114481051A (zh) * | 2022-01-11 | 2022-05-13 | 先导薄膜材料(广东)有限公司 | 一种锗靶材及其制备装置、制备方法 |
CN117904714A (zh) * | 2024-01-22 | 2024-04-19 | 深圳市东方聚成科技有限公司 | 一种合成多晶翡翠的方法 |
-
1998
- 1998-02-26 JP JP06230398A patent/JP3550495B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP2012086995A (ja) * | 2010-10-18 | 2012-05-10 | Tdk Corp | 単結晶引下げ装置 |
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