JPH0312385A - シリコン単結晶の引上方法 - Google Patents

シリコン単結晶の引上方法

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JPH0312385A
JPH0312385A JP1144358A JP14435889A JPH0312385A JP H0312385 A JPH0312385 A JP H0312385A JP 1144358 A JP1144358 A JP 1144358A JP 14435889 A JP14435889 A JP 14435889A JP H0312385 A JPH0312385 A JP H0312385A
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crystal
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Shigeoki Takami
高見 重興
Masakatsu Kojima
児島 正勝
Hiroshi Yoneda
洋 米田
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Toshiba Electronic Device Solutions Corp
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Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、シリコン単結晶の引上方法に関し。
特に、大容量の引上げや単一の石英るつぼでシリコン単
結晶を繰返し引上げるのに好適するものである。
(従来の技術) 従来から利用されているシリコン単結晶の製造方法は1
石英るつぼに収納したシリコン原料融液に浸した種結晶
を引上げて単一のシリコン単結晶を引上げる方法が一般
的であり、これを第3図を参照して簡単に説明するが1
本発明に必要な部品に止どめる。図にあるように鉛直方
向に軸方向がある中空の引上チャンバー50の中心線上
に配置した回転軸51にカーボンるつぼ52を配置し、
ここに密着内挿した石英るつぼ53にはシリコン原料を
収納後加熱してその融液が充填される。これに対してド
ープ剤を添加するドープ剤投下器54を引上チャンバー
50に設置する外に、シリコン原料融液に浸して引上げ
る種結晶は、チャンバー50の中心線上にその中心を位
置させて移動させる。
(発明が解決しようとする課題) 一般に使用されているシリコン原料は、不定形な塊状で
あるために大量を一遍に石英るっぽ53に収納するのは
非常に難しく当然量にも限界がある。その上、例え大量
のシリコン原料を収納できてもその溶融では、しばしば
原料同士がブリッジを形成するか1石英るつぼ53の内
壁に未溶融のシリコン原料が付着して引上げが非常に困
難になり、大容量のシリコン単結晶の引上げが非常に難
しい。
更に、−回の引上げ毎に高価な新しい石英るつぼを使用
しなければならず、コスト高となっている。
更にまた、シリコン単結晶の引上げが終了する毎に加熱
川原源をオフにして引上結晶を取出し、中空の引上チャ
ンバー即ち炉部材を室温程度まで冷却してから、清浄工
程を行って、新たな石英るつぼをカーボンるつぼにセッ
トし、更に、シリコン原料を収納しなければならない。
本発明はこのような事情により成されたもので。
特に、石英るつぼに充填されるシリコン原料融液の増量
及び引上げ単結晶の重量増更に、単一の石英るつぼによ
り所望のシリコン単結晶を複数本繰返して引上げること
を目的とする。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) 回転自在なカーボンるつぼに密着内挿する石英るつぼに
充填したシリコン原料溶融液に対して鉛直方向に沿った
引上方向に固定した棒状シリコン原料を接触して追加溶
融後、種結晶を追加溶融液に浸してから所定の速度で引
上げることに本発明に係わるシリコン単結晶の引上方法
の特徴がある。
(作 用) 本発明では、石英るつぼにチャージできるシリコン原料
を増大させるために、石英るつぼ内のシリコン原料溶融
液に棒状シリコン原料を接触させて追加溶融させる手法
によりシリコン原料溶融液を増加させ、この追加溶融に
より縮小した棒状シリコン原料を種結晶と交換してから
、追加溶融液に浸してシリコン単結晶を製造した。この
種結晶と棒状シリコン原料の交換を実施するために中空
の引上チャンバーにはゲートバルブを設置することによ
って結晶収納室と炉部材収納室に区分し、この結晶収納
室で上記の交換を行う。
また、炉部材収納室には、ドープ剤投下器を設置して、
追加溶融液に必要なドープ材添加ができるようにして、
原料の追加溶融とシリコン単結晶の育成を繰返して行な
えるようにすると共に、2本以上のシリコン単結晶の育
成を1個の石英るつぼの使用により行なえるものである
(実施例) 第1図及び第2図a ” fにより本発明の詳細な説明
する。即ち、第1図の要部断面図に示すように引上チャ
ンバー1は、径大な炉部材収納室2と径小な結晶収納室
3をその境界付近に設置するゲートバルブ4によって区
分可能とするが、径小な結晶収納室3は、径大な炉部材
収納室2の中央部分に形成され、この両者は勿論中空で
ある。
径大な炉部材収納室2には、その中央部分に回転軸端5
を固定し、ここにカーボンるつぼ6を設置し、更に石英
るつぼ7を密着内挿、配置するので、両るつぼ6.7は
回転可能となる。石英るつぼ7に充填するシリコン原料
溶融液8に必要なドープ材を投入するドープ剤投下器9
が石英るつぼ7から斜上方に位置する炉部材収納室2に
設置される。
更に、径小な結晶収納室3の頂部には棒状シリコン追加
原料10を吊下げる引上げワイヤ11の引上駆動機構1
2が取付けてあり、この引上げワイヤ11は、シリコン
種結晶13も上下させる。
回転軸5に取付けたカーボンるつぼ6及び石英るつぼ7
を囲んで、加熱ヒータ17及びカーボン保温部材18径
大な炉部材収納室2に設置する。
第1図には、石英るつぼ7内に収納した高純度シリコン
原料40kg (第1図に示していない)を加熱した溶
融液8に、引上げワイヤ11に固定された棒状シリコン
追加原料IOを接触させて徐々に溶融させ、所定量が溶
融した時点で径小な結晶収納室3に収容してからゲート
バルブ4を閉めて炉外に取出した。この時の原料の追加
量は約20kgで石英るつぼ7内の溶融液量は約60k
gとなった。次に所定量のドープ剤をドープ剤投下器9
から投入して所定の比抵抗値の単結晶が得られるように
溶融液内に添加し、更に径小な結晶収納室3で引上げワ
イヤ11に固定したシリコン種結晶13を溶融液に浸し
て総重量約56kg 6吋Φの無転位シリコン単結晶が
製造できた。
第2図a = fにより他の実施例を説明する。即ち、
第2図aにあるように直径16吋Φの石英るつぼ7内に
は、35kgの塊状の高純度シリコン原料14を収納後
溶融後、ゲートバルブ4を開いてシリコン種結晶13を
シリコン原料溶融液8に接触(第2図す参照)させてか
ら通常の速度によって引上工程を行う。この工程で得ら
れた単結晶は重量が約25kgの5吋Φ無転位シリコン
単結晶であった。
詳細に説明するとゲートバルブ4を閉じて径小な結晶収
納室3に収容しく第2図C参照)だシリコン単結晶15
は、棒状シリコン追加原料10と交換する(第2図C参
照)。
再びゲートバルブ4を開けて引上げワイヤ11に固定さ
れた約25kgの棒状シリコン追加原料10を降下させ
て高純度シリコン溶融液8に徐々に接触して所定量の追
加溶融が完了した時点で引上げワイヤ11の引上駆動機
構12を稼働して引上げワイヤ11を引上げる。この状
態を第2図eには接触溶融する状況を示した。
棒状シリコン追加原料10は、引上げワイヤ11の引上
駆動機構12により移動させるが、その溶融量は移動量
検出センサシステムによって管理している。即ち、引上
げられた単結晶の重量を先ず測定してから、所定のチャ
ージ量の棒状シリコン追加原料10を引上げワイヤ11
に取付けてから、徐々に引上量と等量を溶融する。
例えば約20kgの原料を追加する場合、100〜10
5φの棒状多結晶シリコン追加原料の溶融長りは7Cr
  p 1: 20000gr  ここでr=5.1c
+++、ρ(シリコン密度) =2.33 1 =20
000/190=105cmとなる。
次に第2図fに明らかなように所定量のドープ剤をドー
プ剤投下器8から添加して所定の比抵抗をもった単結晶
製造に備えると共に追加溶融液16を形成する。ここで
径小な結晶収納室3にある引上げワイヤ11に固定した
シリコン種結晶13を、引上げワイヤ11を上下させる
機構12の稼働により追加溶融液16に浸してから所定
の速度で2回目の引上げを行って総重量約56kgの5
吋Φの無転位シリコン単結晶を得た。
即ち、第2図a ’−eでは、所定量の結晶成長後、引
上げワイヤ11からシリコン単結晶を取外して追加の棒
状シリコン追加原料を取付けて結晶成長を行う他の実施
例を示したものである。なお、部品名称と番号は第1図
と同じとした。
このように、本発明では、単一の石英るつぼ7を利用し
て3本の無転位単結晶を合計約80kgが得られた。こ
の工程により引上チャンバ1内の汚れは従来方法と変わ
らないので容易に結晶育成ができる。
〔発明の効果〕
本発明は、石英るつぼに収納するシリコン溶融液に棒状
シリコン原料を追加溶融することによって容量を増加さ
せることができる。更に、所定量の単結晶を引上でから
、この単結晶を炉外に取出してから棒状シリコン原料を
石英るつぼ内に残ったシリコン溶融液に追加溶融する方
法により、2本以上のシリコン単結晶を繰返して引上げ
ることができる。
従って、結晶引上げの効率が向上し、また部品材料コス
トの低減などに大きな効果があるのでより安価なシリコ
ンウェーハを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例に利用する装置の要部を示す断
面図、第2図C参照は他の実施例の工程毎の利用装置の
内部状態を示す断面図、第3図は従来の装置の概略を示
す断面図である。 1:引上チャンバー   2:炉部材収納室。 3:結晶収納室、    4:ゲートバルブ、5:回転
軸、       6:カーボンるつぼ、7:石英るつ
ぼ、    8:溶融液、9:ドープ剤投下器、 10:棒状シリコン追加原料、 11:引上げワイヤー、  12:引上駆動機構、13
:シリコン種結晶、  14:高純度シリコン原料、1
5:シリコン単結晶、16:追加溶融液。 17:加熱ヒータ、    18:カーボン保温材。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  回転自在なカーボンるつぼに密着内挿する石英るつぼ
    に充填したシリコン原料溶融液に対して鉛直方向に沿っ
    た引上方向に固定した棒状シリコン原料を接触して追加
    溶融後、種結晶を追加溶融液に浸してから所望の単結晶
    を引上げることを特徴とするシリコン単結晶の引上方法
JP1144358A 1989-06-07 1989-06-07 シリコン単結晶の引上方法 Expired - Lifetime JP2721242B2 (ja)

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