JPH04260686A - 単結晶引上装置 - Google Patents
単結晶引上装置Info
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- JPH04260686A JPH04260686A JP3037895A JP3789591A JPH04260686A JP H04260686 A JPH04260686 A JP H04260686A JP 3037895 A JP3037895 A JP 3037895A JP 3789591 A JP3789591 A JP 3789591A JP H04260686 A JPH04260686 A JP H04260686A
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- 238000004804 winding Methods 0.000 abstract description 9
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/30—Mechanisms for rotating or moving either the melt or the crystal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
- Y10T117/10—Apparatus
- Y10T117/1024—Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
- Y10T117/1032—Seed pulling
- Y10T117/106—Seed pulling including sealing means details
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T117/1072—Seed pulling including details of means providing product movement [e.g., shaft guides, servo means]
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、CZ法(Czochr
alski 法)によって多結晶融液から単結晶を引き
上げるための単結晶引上装置に関する。
alski 法)によって多結晶融液から単結晶を引き
上げるための単結晶引上装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の単結晶引上装置は、メインチャ
ンバーの上部にアイソレーションバルブを介してプルチ
ャンバーを立設し、該プルチャンバーの上方に巻上装置
を配して構成される。そして、メインチャンバー内には
、ルツボ軸によって支持されたルツボ、該ルツボの周囲
に配されるヒーター等が収納され、ルツボ内に投入され
たシリコン等の多結晶原料はヒーターによって加熱され
て溶融せしめられる。
ンバーの上部にアイソレーションバルブを介してプルチ
ャンバーを立設し、該プルチャンバーの上方に巻上装置
を配して構成される。そして、メインチャンバー内には
、ルツボ軸によって支持されたルツボ、該ルツボの周囲
に配されるヒーター等が収納され、ルツボ内に投入され
たシリコン等の多結晶原料はヒーターによって加熱され
て溶融せしめられる。
【0003】而して、前記巻上装置から垂下する上軸で
あるワイヤーの下端に取り付けられた種結晶をルツボ内
の多結晶融液に浸漬し、ワイヤーを回転させながらこれ
を所定の速度で引き上げれば、種結晶の下に所要の単結
晶が成長する。そして、引き上げられた単結晶は、アイ
ソレーションバルブを閉じてプルチャンバーとメインチ
ャンバーとの連通が遮断された後に、プルチャンバーか
ら取り出される。
あるワイヤーの下端に取り付けられた種結晶をルツボ内
の多結晶融液に浸漬し、ワイヤーを回転させながらこれ
を所定の速度で引き上げれば、種結晶の下に所要の単結
晶が成長する。そして、引き上げられた単結晶は、アイ
ソレーションバルブを閉じてプルチャンバーとメインチ
ャンバーとの連通が遮断された後に、プルチャンバーか
ら取り出される。
【0004】ところで、操業の安定を図るには、単結晶
引き上げ中にワイヤーとルツボ軸とが同芯に保たれ、両
者間に大きな芯ズレがあってはならない。
引き上げ中にワイヤーとルツボ軸とが同芯に保たれ、両
者間に大きな芯ズレがあってはならない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の単結
晶引上装置にあっては、巻上装置がプルチャンバー上に
一体的に取り付けられているため、真空置換や加熱に伴
うメインチャンバーの変形がプルチャンバーを介して巻
上装置に及び、該巻上装置が前後、左右に傾いてワイヤ
ーとルツボ軸の間に芯ズレが不可避的に発生し、結晶の
クランク、ワイヤーの振れ、種絞り結晶の曲り等の問題
が引き起こされていた。
晶引上装置にあっては、巻上装置がプルチャンバー上に
一体的に取り付けられているため、真空置換や加熱に伴
うメインチャンバーの変形がプルチャンバーを介して巻
上装置に及び、該巻上装置が前後、左右に傾いてワイヤ
ーとルツボ軸の間に芯ズレが不可避的に発生し、結晶の
クランク、ワイヤーの振れ、種絞り結晶の曲り等の問題
が引き起こされていた。
【0006】又、巻上装置の駆動系にて発生する振動が
プルチャンバー及びメインチャンバーに伝播し、種々の
不具合が発生する原因となっていた。
プルチャンバー及びメインチャンバーに伝播し、種々の
不具合が発生する原因となっていた。
【0007】本発明は上記問題に鑑みてなされたもので
、その目的とする処は、巻き上げ用のワイヤーとルツボ
軸とを同芯に保って両者間の芯ズレを解消するとともに
、巻上装置からチャンバー側への振動の伝播を防いで操
業の安定化を図ることができる単結晶引上装置を提供す
ることにある。
、その目的とする処は、巻き上げ用のワイヤーとルツボ
軸とを同芯に保って両者間の芯ズレを解消するとともに
、巻上装置からチャンバー側への振動の伝播を防いで操
業の安定化を図ることができる単結晶引上装置を提供す
ることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく本
発明は、メインチャンバー上にアイソレーションバルブ
を介してプルチャンバーを立設し、該プルチャンバーの
上方に巻上装置を配して構成される単結晶引上装置にお
いて、前記メインチャンバー及びプルチャンバーとは独
立のフレームを設け、該フレーム上に前記巻上装置を取
り付けるとともに、該巻上装置とプルチャンバーとを撓
曲自在な伸縮継手で接続したことを特徴とする。
発明は、メインチャンバー上にアイソレーションバルブ
を介してプルチャンバーを立設し、該プルチャンバーの
上方に巻上装置を配して構成される単結晶引上装置にお
いて、前記メインチャンバー及びプルチャンバーとは独
立のフレームを設け、該フレーム上に前記巻上装置を取
り付けるとともに、該巻上装置とプルチャンバーとを撓
曲自在な伸縮継手で接続したことを特徴とする。
【0009】
【作用】本発明によれば、巻上装置はメインチャンバー
及びプルチャンバーとは独立なフレームによって支持さ
れているため、真空置換や加熱に伴うメインチャンバー
等の変形が巻上装置に伝えられることがなく、巻上装置
とルツボ軸との位置関係は常に一定に保たれ、巻上装置
から垂下するワイヤーとルツボ軸とは同芯に保たれて両
者間に芯ズレが生ずることがなく、芯ズレに伴って従来
発生していた結晶のクランク、ワイヤーの振れ、種絞り
結晶の曲り等の不具合が解消される。
及びプルチャンバーとは独立なフレームによって支持さ
れているため、真空置換や加熱に伴うメインチャンバー
等の変形が巻上装置に伝えられることがなく、巻上装置
とルツボ軸との位置関係は常に一定に保たれ、巻上装置
から垂下するワイヤーとルツボ軸とは同芯に保たれて両
者間に芯ズレが生ずることがなく、芯ズレに伴って従来
発生していた結晶のクランク、ワイヤーの振れ、種絞り
結晶の曲り等の不具合が解消される。
【0010】又、巻上装置とプルチャンバーとはベロー
ズの如き撓曲自在な伸縮継手で接続されているため、巻
上装置の駆動系にて発生する振動は伸縮継手によって吸
収され、プルチャンバー側への振動伝播が遮断される。
ズの如き撓曲自在な伸縮継手で接続されているため、巻
上装置の駆動系にて発生する振動は伸縮継手によって吸
収され、プルチャンバー側への振動伝播が遮断される。
【0011】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。
説明する。
【0012】図1は本発明に係る単結晶引上装置1の正
面図、図2は同単結晶引上装置1の縦断面図であり、図
1においては2はステンレス製円筒から成るメインチャ
ンバーであり、これは床上に設置されたフレーム3上に
取り付けられている。そして、このメインチャンバー2
の上部には、ステンレス製円筒から成るプルチャンバー
4が立設されており、該プルチャンバー4とメインチャ
ンバー2の間には、これら両チャンバー2,4を連通、
遮断するアイソレーションバルブ5が介設されている。
面図、図2は同単結晶引上装置1の縦断面図であり、図
1においては2はステンレス製円筒から成るメインチャ
ンバーであり、これは床上に設置されたフレーム3上に
取り付けられている。そして、このメインチャンバー2
の上部には、ステンレス製円筒から成るプルチャンバー
4が立設されており、該プルチャンバー4とメインチャ
ンバー2の間には、これら両チャンバー2,4を連通、
遮断するアイソレーションバルブ5が介設されている。
【0013】ところで、メインチャンバー2内には、図
2に示すように、石英製ルツボ6がルツボ軸7によって
上下動及び回転自在に支持されて収納されている。そし
て、このルツボ6の周囲には炭素材から成る円筒状のヒ
ーター8が配され、該ヒーター8の周囲には同じく炭素
材から成る断熱部材9が配設されている。
2に示すように、石英製ルツボ6がルツボ軸7によって
上下動及び回転自在に支持されて収納されている。そし
て、このルツボ6の周囲には炭素材から成る円筒状のヒ
ーター8が配され、該ヒーター8の周囲には同じく炭素
材から成る断熱部材9が配設されている。
【0014】一方、図1に示すように、床上には門型の
フレーム10が前記メインチャンバー2及びプルチャン
バー4とは独立に立設されており、該フレーム10の上
部中央には巻上装置11が取り付けられている。巻上装
置11のボックス12は、それ自体がフレーム10に対
して回転可能に取り付けられており、これは不図示の駆
動手段によって水平に回転駆動される。このボックス1
2内には、図2に示すように、不図示の駆動手段によっ
て回転駆動される巻上ドラム13が回転自在に収容され
ている。そして、この巻上ドラム13には上軸であるワ
イヤー14が巻回されており、巻上ドラム13から下方
に延出するワイヤー14の下端には種保持具15によっ
て種結晶16が取り付けられている。
フレーム10が前記メインチャンバー2及びプルチャン
バー4とは独立に立設されており、該フレーム10の上
部中央には巻上装置11が取り付けられている。巻上装
置11のボックス12は、それ自体がフレーム10に対
して回転可能に取り付けられており、これは不図示の駆
動手段によって水平に回転駆動される。このボックス1
2内には、図2に示すように、不図示の駆動手段によっ
て回転駆動される巻上ドラム13が回転自在に収容され
ている。そして、この巻上ドラム13には上軸であるワ
イヤー14が巻回されており、巻上ドラム13から下方
に延出するワイヤー14の下端には種保持具15によっ
て種結晶16が取り付けられている。
【0015】而して、フレーム10に取り付けられた巻
上装置11は、撓曲自在な伸縮継手を構成する蛇腹状の
ベローズ17によって前記プルチャンバー4に接続され
ている。尚、本実施例では、ベローズ17としてステン
レス製の溶接ベローズを用いたが、該ベローズ17とし
ては、その他適当な材質を選択することができる。
上装置11は、撓曲自在な伸縮継手を構成する蛇腹状の
ベローズ17によって前記プルチャンバー4に接続され
ている。尚、本実施例では、ベローズ17としてステン
レス製の溶接ベローズを用いたが、該ベローズ17とし
ては、その他適当な材質を選択することができる。
【0016】次に、本単結晶引上装置1の作用を説明す
る。
る。
【0017】単結晶の引き上げに際しては、前記アイソ
レーションバルブ5が開けられてメインチャンバー2と
プルチャンバー4とが連通せしめられ、両チャンバー2
,4内は減圧下の不活性ガスで満たされ、単結晶の引き
上げは不活性ガス雰囲気で行なわれる。
レーションバルブ5が開けられてメインチャンバー2と
プルチャンバー4とが連通せしめられ、両チャンバー2
,4内は減圧下の不活性ガスで満たされ、単結晶の引き
上げは不活性ガス雰囲気で行なわれる。
【0018】即ち、ルツボ6内にはシリコン等の多結晶
原料が投入され、この多結晶原料はヒーター8によって
加熱、溶融され、ルツボ6内には多結晶融液18が収容
される。その後、巻上装置11の巻上ドラム13が回転
駆動され、これに巻回されたワイヤー14が徐々に下げ
られてその下端に取り付けられた前記種結晶16がルツ
ボ6内の多結晶融液18内に浸漬される。
原料が投入され、この多結晶原料はヒーター8によって
加熱、溶融され、ルツボ6内には多結晶融液18が収容
される。その後、巻上装置11の巻上ドラム13が回転
駆動され、これに巻回されたワイヤー14が徐々に下げ
られてその下端に取り付けられた前記種結晶16がルツ
ボ6内の多結晶融液18内に浸漬される。
【0019】次に、ルツボ軸7及びこれに支持されたル
ツボ6がその軸中心回りに所定の速度で回転駆動される
。これと同時に、巻上装置11の巻上ドラム13が回転
駆動されてワイヤー14も回転せしめられ、この結果、
ワイヤー14は回転しながら上昇し、これの下端に取り
付けられた種結晶16には単結晶が成長して図示のよう
に単結晶インゴットWが引き上げられる。
ツボ6がその軸中心回りに所定の速度で回転駆動される
。これと同時に、巻上装置11の巻上ドラム13が回転
駆動されてワイヤー14も回転せしめられ、この結果、
ワイヤー14は回転しながら上昇し、これの下端に取り
付けられた種結晶16には単結晶が成長して図示のよう
に単結晶インゴットWが引き上げられる。
【0020】上記のようにして引き上げられた単結晶イ
ンゴットWはプルチャンバー4内に収容され、その後ア
イソレーションバルブ5が閉じられてメインチャンバー
2とプルチャンバー4との連通が遮断され、プルチャン
バー4の開閉扉が開けられて単結晶インゴットWが取り
出される。
ンゴットWはプルチャンバー4内に収容され、その後ア
イソレーションバルブ5が閉じられてメインチャンバー
2とプルチャンバー4との連通が遮断され、プルチャン
バー4の開閉扉が開けられて単結晶インゴットWが取り
出される。
【0021】以上のように、本実施例では巻上装置11
はメインチャンバー2及びプルチャンバー4とは独立な
フレーム10によって支持されているため、真空置換や
加熱に伴って生ずるメインチャンバー2等の変形が巻上
装置11に伝えられることがなく、巻上装置11とルツ
ボ軸7との位置関係は常に一定に保たれ、巻上装置11
から垂下するワイヤー14とルツボ軸7とは同芯に保た
れて両者に芯ズレが生ずることがなく、芯ズレに伴って
従来発生していた結晶のクランク、ワイヤーの振れ、種
絞り結晶の曲り等の不具合が解消されて操業の安定化が
図られる。
はメインチャンバー2及びプルチャンバー4とは独立な
フレーム10によって支持されているため、真空置換や
加熱に伴って生ずるメインチャンバー2等の変形が巻上
装置11に伝えられることがなく、巻上装置11とルツ
ボ軸7との位置関係は常に一定に保たれ、巻上装置11
から垂下するワイヤー14とルツボ軸7とは同芯に保た
れて両者に芯ズレが生ずることがなく、芯ズレに伴って
従来発生していた結晶のクランク、ワイヤーの振れ、種
絞り結晶の曲り等の不具合が解消されて操業の安定化が
図られる。
【0022】又、巻上装置11とプルチャンバー4とは
撓曲自在なベローズ17で接続されているため、巻上装
置11の駆動系にて発生する振動はベローズ17によっ
て吸収され、プルチャンバー4側への振動伝播が遮断さ
れ、振動に伴う種々の不具合が解消される。
撓曲自在なベローズ17で接続されているため、巻上装
置11の駆動系にて発生する振動はベローズ17によっ
て吸収され、プルチャンバー4側への振動伝播が遮断さ
れ、振動に伴う種々の不具合が解消される。
【0023】尚、以上の実施例では巻上装置11を支持
するフレーム10を床上に設置したが、図3に示すよう
に、メインチャンバー2及びプルチャンバー4を支持す
るフレーム3上にフレーム10を立設するようにしても
よい。
するフレーム10を床上に設置したが、図3に示すよう
に、メインチャンバー2及びプルチャンバー4を支持す
るフレーム3上にフレーム10を立設するようにしても
よい。
【0024】
【発明の効果】以上の説明で明らかな如く、本発明によ
れば、メインチャンバー上にアイソレーションバルブを
介してプルチャンバーを立設し、該プルチャンバーの上
方に巻上装置を配して構成される単結晶引上装置におい
て、前記メインチャンバー及びプルチャンバーとは独立
のフレームを設け、該フレーム上に前記巻上装置を取り
付けるとともに、該巻上装置とプルチャンバーとを撓曲
自在な伸縮継手で接続したため、ワイヤーとルツボ軸と
を同芯に保って両者間の芯ズレを解消するとともに、巻
上装置からチャンバー側への振動の伝播を防いで操業の
安定化を図ることができるという効果が得られる。
れば、メインチャンバー上にアイソレーションバルブを
介してプルチャンバーを立設し、該プルチャンバーの上
方に巻上装置を配して構成される単結晶引上装置におい
て、前記メインチャンバー及びプルチャンバーとは独立
のフレームを設け、該フレーム上に前記巻上装置を取り
付けるとともに、該巻上装置とプルチャンバーとを撓曲
自在な伸縮継手で接続したため、ワイヤーとルツボ軸と
を同芯に保って両者間の芯ズレを解消するとともに、巻
上装置からチャンバー側への振動の伝播を防いで操業の
安定化を図ることができるという効果が得られる。
【図1】本発明に係る単結晶引上装置の正面図である。
【図2】本発明に係る単結晶引上装置の縦断面図である
。
。
【図3】本発明の他の実施例を示す単結晶引上装置の正
面図である。
面図である。
1 単結晶引上装置
2 メインチャンバー
4 プルチャンバー
5 アイソレーションバルブ6
ルツボ 7 ルツボ軸 10 フレーム 11 巻上装置 14 ワイヤー 17 ベローズ(伸縮継手)
ルツボ 7 ルツボ軸 10 フレーム 11 巻上装置 14 ワイヤー 17 ベローズ(伸縮継手)
Claims (3)
- 【請求項1】 メインチャンバー上にアイソレーショ
ンバルブを介してプルチャンバーを立設し、該プルチャ
ンバーの上方に巻上装置を配して構成される単結晶引上
装置において、前記メインチャンバー及びプルチャンバ
ーとは独立のフレームを設け、該フレーム上に前記巻上
装置を取り付けるとともに、該巻上装置とプルチャンバ
ーとを撓曲自在な伸縮継手で接続したことを特徴とする
単結晶引上装置。 - 【請求項2】 前記フレームは、前記メインチャンバ
ー及びプルチャンバーを支持するフレーム上に立設され
ることを特徴とする請求項1記載の単結晶引上装置。 - 【請求項3】 前記伸縮継手は、ベローズで構成され
ることを特徴とする請求項1又は2記載の単結晶引上装
置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3037895A JPH04260686A (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | 単結晶引上装置 |
US07/829,900 US5254319A (en) | 1991-02-08 | 1992-02-03 | Single crystal pulling apparatus |
EP92301017A EP0498652A1 (en) | 1991-02-08 | 1992-02-06 | A single crystal pulling apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3037895A JPH04260686A (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | 単結晶引上装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04260686A true JPH04260686A (ja) | 1992-09-16 |
Family
ID=12510280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3037895A Pending JPH04260686A (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | 単結晶引上装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5254319A (ja) |
EP (1) | EP0498652A1 (ja) |
JP (1) | JPH04260686A (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2940439B2 (ja) * | 1995-06-10 | 1999-08-25 | 信越半導体株式会社 | 単結晶引上げ装置 |
US5582642A (en) * | 1995-06-20 | 1996-12-10 | Memc Electronic Materials, Inc. | Apparatus and method for adjusting the position of a pull wire of a crystal pulling machine |
JP3041670B2 (ja) * | 1995-07-04 | 2000-05-15 | 信越半導体株式会社 | 単結晶引上げ装置 |
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