TWI736440B - 用於提拉半導體材料之單晶的設備和方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供用於從包含在坩堝（8）中的熔體（7）提拉半導體材料之單晶（1）的設備，該設備具有用於旋轉提拉軸（14）的裝置（20）和具有用於旋轉坩堝軸（13）的裝置（21），其特徵在於，在驅動器（22）與提拉軸（14）之間的雙蝸輪組以及在另一驅動器（31）與坩堝軸（13）之間的另一雙蝸輪組。本發明還提供使用該設備提拉半導體材料之單晶的方法。

Description

用於提拉半導體材料之單晶的設備和方法

本發明提供一種用於從包含在坩堝中的熔體提拉半導體材料之單晶的設備，以及一種用於提拉半導體材料之單晶的方法，在該方法中使用該設備。

半導體材料之單晶通常係藉由CZ法生產，其中將生長在種晶上的單晶從包含在坩堝中的熔體向上提拉出。在產業規模上，在隨後被進一步加工成半導體晶圓和之後再加工成電子元件之前，以這種方式生產特別是諸如矽的半導體材料之單晶。

用於CZ法的設備通常包括：坩堝，該坩堝由可升高且可降低的坩堝軸固持；以及可升高且可降低的提拉軸，該提拉軸用於將生長的單晶從熔體中提拉出。這種設備的組成部分還包括分別用於旋轉提拉軸和用於旋轉坩堝軸的一個裝置。單晶的生長需要超低抖動之環境（ultra low-jitter environment），這就是為何用於執行提拉軸和坩堝軸之旋轉運動的裝置特別重要的原因。

在EP 0 466 457 A1中示出一種設備，其中用於旋轉提拉軸的裝置包括驅動齒輪（gear wheel）的電動機，該齒輪接合到安裝在提拉軸上的蝸輪（worm wheel）中。用於旋轉坩堝軸的裝置包括直接驅動坩堝軸的電動機。

這種設備不再能滿足當今對提供超低抖動之環境的需求。特別而言，不能保證充分抑制相對長波的振動。

本發明之目的是提供一種用於提拉半導體材料之單晶的設備和方法，其中用於旋轉提拉軸和坩堝軸的設備的裝置係設計以提供能確保這些裝置的低抖動操作。

本發明之目的是藉由一種用於從包含在坩堝中的熔體提拉半導體材料之單晶的設備來實現，該設備具有用於旋轉提拉軸的裝置和具有用於旋轉坩堝軸的裝置，其特徵在於，在驅動器與提拉軸之間的雙蝸輪組（double worm gear）以及在另一驅動器與坩堝軸之間的另一雙蝸輪組。

該設備不僅實現該目的，而且代表一種用於引起提拉軸和坩堝軸之旋轉的節省空間且易於維護的解決方案。該二個雙蝸輪組以相對較小的間隙（play）和相對明顯的平穩運行而著稱。有效地抑制了長波振動，該長波振動尤其是由坩堝軸的低旋轉速度（小於1 rpm的旋轉速度）引起及／或跟隨坩堝軸的旋轉方向變化而引起。

發明人已經發現，在每種情況下，有必要在提拉軸與將其旋轉的驅動器之間以及在坩堝軸與將其旋轉的另一驅動器之間分別安裝一個雙蝸輪組。利用這種佈置，相應的驅動器（較佳為電動機）的位置橫向於提拉軸的旋轉軸線（或相應地橫向於坩堝軸的旋轉軸線），與相應的旋轉軸線有足夠的距離，其中該相應的驅動器的軸驅動相應的雙蝸輪組的第一蝸桿。較佳地，相應的驅動器係剛性地安裝在相應的雙蝸輪組的殼體板上。因此，相應的驅動器沒有安裝彈簧。較佳地，相應驅動器的軸係平行於提拉軸（或相應的坩堝軸）佈置。相應的雙蝸輪組的第一蝸桿接合到相應的第一蝸輪中，該相應的第一蝸輪係同軸地安裝在相應的雙蝸輪組的第二蝸桿的軸上。又，相應的雙蝸輪組的第二蝸桿接合到相應的雙蝸輪組的相應的第二蝸輪中，該相應的第二蝸輪係同軸地安裝在提拉軸（或相應的坩堝軸）上。

此外，較佳的是，將提拉軸和坩堝軸分別分成上部分和下部分，並在每種情況下將這二部分經由聯接波紋管連接。此外，至少在提拉軸的情況下，聯接波紋管係構造以使得提拉軸的上部分與提拉軸的下部分電絕緣。這使得能夠經由包含坩堝軸之下部分的電路來簡單地實施對熔體之表面的探測。

坩堝軸的驅動器較佳係設計成使得坩堝軸的旋轉方向也可以反轉。

下面參照二個附圖更詳細地闡釋本發明。

作為例示，圖1示出用於從熔體7提拉出半導體材料之單晶1的設備10，其可以在本發明中使用。該設備包括腔室2、加熱器6、坩堝8、坩堝軸13、提拉軸14、及磁場產生線圈18。腔室2的一個內壁設有絕熱材料3。在腔室2的上部分有氣體進口4，惰性氣體如氬氣係經由氣體進口4而引入，在腔室2的下部分有氣體出口5。坩堝8支撐內部坩堝，該內部坩堝填有半導體材料的熔體7。圍繞坩堝8的是加熱器6，以熔化固體半導體材料並將其保持在熔融狀態。坩堝軸13從坩堝8的下端延伸到腔室的基底，並透過支撐裝置12安裝。坩堝軸13可藉由支撐裝置12被升高、降低、及旋轉。提拉軸14係藉由固持裝置15固持在上端，並且藉助於固持裝置15而可被升高、降低、及圍繞旋轉軸線D旋轉。支撐裝置12和固持裝置15係由控制器19控制。藉由使電流通過磁場產生線圈18，可在熔體7上施加磁場，例如水平磁場。此外，還可以在生長的單晶11的周圍佈置隔熱罩（圖中未示出）。附圖標記16和17表示種晶固持件和種晶。

根據圖2中的圖示，固持裝置15包括用於旋轉提拉軸14的裝置20，且支撐裝置12包括用於旋轉坩堝軸13的裝置21。裝置20和21係根據本發明來設計。

用於旋轉提拉軸14的裝置20包括驅動器22，該驅動器22具有驅動第一蝸桿（worm）24的驅動軸23。第一蝸桿24接合到第一蝸輪25中，該第一蝸輪25係同軸地固定在第二蝸桿26的軸上。第二蝸桿26接合到第二蝸輪27中，該第二蝸輪27係同軸地固定在提拉軸14的上部分28上。第一蝸桿24和第二蝸桿26以及第一蝸輪25和第二蝸輪27一起形成雙蝸輪組。驅動器22係剛性地安裝在雙蝸輪組的殼體板9上。在提拉軸14的上部分28與提拉軸14的下部分29之間佈置有第一波紋管聯軸器30，第一波紋管聯軸器30使提拉軸14的上部分28與提拉軸14的下部分29電絕緣。

用於旋轉坩堝軸13的裝置21包括另一驅動器31，該另一驅動器31具有另一驅動軸32，該另一驅動軸32驅動另一第一蝸桿33。另一第一蝸桿33接合到另一第一蝸輪34中，該另一第一蝸輪34係同軸地固定在另一第二蝸桿35的軸上。該另一第二蝸桿35接合到另一第二蝸輪36中，該另一第二蝸輪36係同軸地固定在坩堝軸13的下部分37上。另一第一蝸桿33和另一第二蝸桿35以及另一第一蝸輪34和另一第二蝸輪36一起形成另一雙蝸輪組。另一驅動器31係剛性地安裝在另一雙蝸輪組的另一殼體板40上。在坩堝軸13的下部分37與坩堝軸13的上部分38之間佈置有另一波紋管聯軸器39。

以上示意性實施態樣的描述應被理解為例示的描述。相應地做出的揭露一方面使得技術人員能夠理解本發明及其相關的優點，而另一方面，技術人員的理解還涵蓋所描述之方法和結構的明顯變更和修改。因此，係旨在使所有這樣的變更和修改以及等效物都被申請專利範圍的保護範圍所涵蓋。

1：單晶 2：腔室 3：絕熱材料 4：氣體進口 5：氣體出口 6：加熱器 7：熔體 8：坩堝 9：殼體板 10：用於提拉的設備 11：生長的單晶 12：支撐裝置 13：坩堝軸 14：提拉軸 15：固持裝置 16：種晶固持件 17：種晶 18：磁場產生線圈 19：控制器 20：用於旋轉提拉軸的裝置 21：用於旋轉坩堝軸的裝置 22：驅動器 23：驅動軸 24：第一蝸桿 25：第一蝸輪 26：第二蝸桿 27：第二蝸輪 28：提拉軸的上部分 29：提拉軸的下部分 30：波紋管聯軸器 31：另一驅動器 32：另一驅動軸 33：另一第一蝸桿 34：另一第一蝸輪 35：另一第二蝸桿 36：另一第二蝸輪 37：坩堝軸的下部分 38：坩堝軸的上部分 39：另一波紋管聯軸器 40：另一殼體板 D：旋轉軸線

圖1示出作為例示的藉由CZ法提拉單晶的設備，該設備可用於實施本發明。

圖2示出根據本發明的設備的特徵。

9：殼體板 20：用於旋轉提拉軸的裝置 21：用於旋轉坩堝軸的裝置 22：驅動器 23：驅動軸 24：第一蝸桿 25：第一蝸輪 26：第二蝸桿 27：第二蝸輪 28：提拉軸的上部分 29：提拉軸的下部分 30：波紋管聯軸器 31：另一驅動器 32：另一驅動軸 33：另一第一蝸桿 34：另一第一蝸輪 35：另一第二蝸桿 36：另一第二蝸輪 37：坩堝軸的下部分 38：坩堝軸的上部分 39：另一波紋管聯軸器 40：另一殼體板

Claims (8)

1. 一種用於從包含在坩堝（8）中的熔體（7）提拉半導體材料之單晶（1）的設備，該設備具有用於旋轉提拉軸（14）的裝置（20）和具有用於旋轉坩堝軸（13）的裝置（21），其特徵在於，在驅動器（22）與提拉軸（14）之間的雙蝸輪組（double worm gear）以及在另一驅動器（31）與坩堝軸（13）之間的另一雙蝸輪組。
2. 如請求項1所述的設備，其中，在該提拉軸的上部分（28）與下部分（29）之間設置有波紋管聯軸器（bellows coupling）（30）。
3. 如請求項1或2所述的設備，其中，在該坩堝軸（13）的上部分（38）與下部分（37）之間設置有另一波紋管聯軸器（39）。
4. 如請求項1或2所述的設備，其中，該驅動器（22）的驅動軸（23）係平行於該提拉軸（14）佈置。
5. 如請求項1或2所述的設備，其中，該驅動器（22）係剛性地安裝在該雙蝸輪組的殼體板（9）上。
6. 如請求項1或2所述的設備，其中，該另一驅動器（31）的驅動軸（32）係平行於該坩堝軸（13）佈置。
7. 如請求項1或2所述的設備，其中，該另一驅動器（31）係剛性地安裝在該另一雙蝸輪組的殼體板（40）上。
8. 一種藉由CZ法從熔體提拉半導體材料之單晶的方法，其特徵在於，使用如請求項1至7中任一項所述的設備來提拉半導體材料之單晶。

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