JPH01290583A - ゲルマニウム単結晶体の製造方法 - Google Patents
ゲルマニウム単結晶体の製造方法Info
- Publication number
- JPH01290583A JPH01290583A JP11919588A JP11919588A JPH01290583A JP H01290583 A JPH01290583 A JP H01290583A JP 11919588 A JP11919588 A JP 11919588A JP 11919588 A JP11919588 A JP 11919588A JP H01290583 A JPH01290583 A JP H01290583A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- germanium
- graphite
- crucible
- furnace
- wool
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 38
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 51
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 51
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims abstract description 51
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 claims abstract description 20
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 claims description 4
- 238000002109 crystal growth method Methods 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 238000004857 zone melting Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野1
本発明は、ブリッジマン法又は縦型温度勾配付炉内徐冷
法により、ゲルマニウム融体からゲルマニウム単結晶を
成長させる方法に関するものである。
法により、ゲルマニウム融体からゲルマニウム単結晶を
成長させる方法に関するものである。
【従来技術1
一般にこの種のゲルマニウム単結晶成長に使用される方
法としては、帯域融解ヒーター移動法と、引上げ法とが
主である。
法としては、帯域融解ヒーター移動法と、引上げ法とが
主である。
前者の帯域融解ヒーター移動法は、種結晶となる単結晶
体を炉内に保持し、一定の帯域のみを融点よりも高い温
度に加熱し、この加熱された部分を移動させることによ
り、加熱帯域の移動に伴って結晶が成長する方法である
。
体を炉内に保持し、一定の帯域のみを融点よりも高い温
度に加熱し、この加熱された部分を移動させることによ
り、加熱帯域の移動に伴って結晶が成長する方法である
。
後者の引上げ法は、融液の上方から種子結晶を降し、種
子結晶が融液と充分なじんだ後に、挿結品を回転させな
がら徐々に引上げ、種結晶に連続させて結晶を成長させ
る方法である。
子結晶が融液と充分なじんだ後に、挿結品を回転させな
がら徐々に引上げ、種結晶に連続させて結晶を成長させ
る方法である。
[発明が解決しようとする課題1
前記従来例の方法はいづれも種結晶を必要とするばかり
でなく、大きな単結晶を得ることができないという課題
を有している。
でなく、大きな単結晶を得ることができないという課題
を有している。
又、従来例の方法で成長させた結晶は、微少な格子欠陥
が多く、赤外線光学デバイスとして使用した場合に、赤
外線を散乱させ、光学デバイスとして使用できない等の
課題も有している。
が多く、赤外線光学デバイスとして使用した場合に、赤
外線を散乱させ、光学デバイスとして使用できない等の
課題も有している。
[課題を解決するための手段1
前記従来例の課題を解決づる具体的手段として本ブを明
は、炉内に配設した黒鉛ルツボの少なくとも底面に黒鉛
ウールを配設し、該黒鉛ルツボ内にゲルマニウムを収納
し、炉内を加熱することで溶融ゲルマニウムにし、該溶
融ゲルマニウムを前記黒鉛ルツボと共に徐冷することで
前記黒鉛ウールとの接触面に結晶核を生成させ、該結晶
核を成長させることを特徴とするゲルマニウム単結晶成
長方法を提供するものであり、黒鉛ウールを配設するこ
とで溶融ゲルマニウムの結晶核が生成し、別体の種子結
晶を用いることなく結晶成長が可能であり、しかも単結
晶として比較的大きなサイズのものが得られるのである
。
は、炉内に配設した黒鉛ルツボの少なくとも底面に黒鉛
ウールを配設し、該黒鉛ルツボ内にゲルマニウムを収納
し、炉内を加熱することで溶融ゲルマニウムにし、該溶
融ゲルマニウムを前記黒鉛ルツボと共に徐冷することで
前記黒鉛ウールとの接触面に結晶核を生成させ、該結晶
核を成長させることを特徴とするゲルマニウム単結晶成
長方法を提供するものであり、黒鉛ウールを配設するこ
とで溶融ゲルマニウムの結晶核が生成し、別体の種子結
晶を用いることなく結晶成長が可能であり、しかも単結
晶として比較的大きなサイズのものが得られるのである
。
(実施例1
次に本光明を図示の実施例により更に詳しく説明すると
、第1図は所定の温度勾配を設定できる縦型炉を示すも
のであり、該炉内の温度分布を第2図のグラフに示しで
ある。
、第1図は所定の温度勾配を設定できる縦型炉を示すも
のであり、該炉内の温度分布を第2図のグラフに示しで
ある。
第1図において、1は縦型の炉全体を示すものであり、
該炉壁2の上下に内部を汚染しない材料、例えば断熱性
のフェルトロール等で・形成された天蓋3と底蓋4とが
施蓋されると共に炉壁の内面に沿って石英管5が配設さ
れ、該石英管5の外周面にヒータ5aが配設されている
。そして、このヒータ5aは複数のゾーンに分割されて
おり、炉内温度分布の温度勾配を任意に設定できる。こ
の炉1内には、前記底蓋4を貫通して上下動するルツボ
軸6が配設され、該ルツボ軸の上端に黒鉛ルツボ7が取
付けられている。
該炉壁2の上下に内部を汚染しない材料、例えば断熱性
のフェルトロール等で・形成された天蓋3と底蓋4とが
施蓋されると共に炉壁の内面に沿って石英管5が配設さ
れ、該石英管5の外周面にヒータ5aが配設されている
。そして、このヒータ5aは複数のゾーンに分割されて
おり、炉内温度分布の温度勾配を任意に設定できる。こ
の炉1内には、前記底蓋4を貫通して上下動するルツボ
軸6が配設され、該ルツボ軸の上端に黒鉛ルツボ7が取
付けられている。
この黒鉛ルツボ7は一般に使用されているものであるが
、特にその黒鉛ルツボ7の内側に黒鉛ウール8を内張す
しである。尚、9は前記天蓋3と同材料で形成された黒
鉛ルツボの蓋、10は黒鉛ルツボ内に収納した溶融ゲル
マニウム、11は下部フレーム、12は上部フレームで
ある。
、特にその黒鉛ルツボ7の内側に黒鉛ウール8を内張す
しである。尚、9は前記天蓋3と同材料で形成された黒
鉛ルツボの蓋、10は黒鉛ルツボ内に収納した溶融ゲル
マニウム、11は下部フレーム、12は上部フレームで
ある。
前記構成を有する縦型の炉1を使用し、該炉内の温度分
布は第2図のグラフに示した通りであり、黒鉛ルツボ7
が位置している上部近傍が1,000℃前後の高温にな
っている。この位置において黒鉛ルツボ7に収納したゲ
ルマニウムは充分溶融して、溶融ゲルマニウム10にな
る。この状態から、前記ルツボ軸6をゆっくり下降させ
ることで黒鉛ルツボ7も下降し、徐々に1 、000℃
以下の低温領域に入ってくる。
布は第2図のグラフに示した通りであり、黒鉛ルツボ7
が位置している上部近傍が1,000℃前後の高温にな
っている。この位置において黒鉛ルツボ7に収納したゲ
ルマニウムは充分溶融して、溶融ゲルマニウム10にな
る。この状態から、前記ルツボ軸6をゆっくり下降させ
ることで黒鉛ルツボ7も下降し、徐々に1 、000℃
以下の低温領域に入ってくる。
この時に、黒鉛ルツボ7に収納されている溶融ゲルマニ
ウム10は内張すされた黒鉛ウール8と接触しており、
黒鉛ルツボ7の底部側から低温領域に入ることで、底部
における黒鉛ウール8と溶融ゲルマニウム10との接触
面に結晶核が発生する。そして、この結晶核が黒鉛ルツ
ボ7の下降に伴って徐々に成長し、前記黒鉛ルツボ7の
内形状に沿った一個の大きなゲルマニウム単結晶となる
のである。
ウム10は内張すされた黒鉛ウール8と接触しており、
黒鉛ルツボ7の底部側から低温領域に入ることで、底部
における黒鉛ウール8と溶融ゲルマニウム10との接触
面に結晶核が発生する。そして、この結晶核が黒鉛ルツ
ボ7の下降に伴って徐々に成長し、前記黒鉛ルツボ7の
内形状に沿った一個の大きなゲルマニウム単結晶となる
のである。
上記した説明は、黒鉛ルツボ7をルツボ軸6の駆動によ
り下降させ、徐々に低温領域に入るようにしたものであ
るが、これに限定されることなく、例えば黒鉛ルツボ7
が収納された炉内の温度をゆっくりと徐々に下げること
でも同様のゲルマニウム結晶が得られる。この場合に注
意すべきことは、黒鉛ルツボ7の底部側から徐々に温度
を下げ、底部で黒鉛ウール8と接触している溶融ゲルマ
ニウム10に結晶核を生成させることである。
り下降させ、徐々に低温領域に入るようにしたものであ
るが、これに限定されることなく、例えば黒鉛ルツボ7
が収納された炉内の温度をゆっくりと徐々に下げること
でも同様のゲルマニウム結晶が得られる。この場合に注
意すべきことは、黒鉛ルツボ7の底部側から徐々に温度
を下げ、底部で黒鉛ウール8と接触している溶融ゲルマ
ニウム10に結晶核を生成させることである。
いづれにしても、黒鉛ルツボ7に内張すした黒鉛ウール
8と接触している部分に結晶核を生成させ、その結晶核
を成長させるという点で技術的思想が一致しているので
ある。そして、別体の種子結晶を用いないで結晶核を成
長させることで、黒鉛ルツボの大きさ形状に沿った1つ
の単結晶となり、比較的大きくかつ格子欠陥のないグル
マニウムI11結晶が得られるのである。
8と接触している部分に結晶核を生成させ、その結晶核
を成長させるという点で技術的思想が一致しているので
ある。そして、別体の種子結晶を用いないで結晶核を成
長させることで、黒鉛ルツボの大きさ形状に沿った1つ
の単結晶となり、比較的大きくかつ格子欠陥のないグル
マニウムI11結晶が得られるのである。
【発明の効果1
以上説明したように本発明に係るゲルマニウム中結晶成
長方法は、炉内に配設した黒鉛ルツボの少なくとも底面
に黒鉛ウールを配設し、該黒鉛ルツボ内にゲルマニウム
を収納し、炉内を加熱することで溶融ゲルマニウムにし
、該溶融ゲルマニウムを前記黒鉛ルツボと共に徐冷ザる
ことで前記黒鉛ウールとの接触面に結晶核を生成させ、
該結晶核を成長させるようにしたので、特に黒鉛ウール
を内張すしておくことで、従来例のように種子結晶を用
いることなく、前記生成した結晶核が成長して黒鉛ルツ
ボの大きさ及び形状に沿った一個のIlj結晶となり、
サイズの大きい単結晶が得られるという優れた効果を奏
する。
長方法は、炉内に配設した黒鉛ルツボの少なくとも底面
に黒鉛ウールを配設し、該黒鉛ルツボ内にゲルマニウム
を収納し、炉内を加熱することで溶融ゲルマニウムにし
、該溶融ゲルマニウムを前記黒鉛ルツボと共に徐冷ザる
ことで前記黒鉛ウールとの接触面に結晶核を生成させ、
該結晶核を成長させるようにしたので、特に黒鉛ウール
を内張すしておくことで、従来例のように種子結晶を用
いることなく、前記生成した結晶核が成長して黒鉛ルツ
ボの大きさ及び形状に沿った一個のIlj結晶となり、
サイズの大きい単結晶が得られるという優れた効果を奏
する。
又、黒鉛ウールと溶融ゲルマニウムとの接触面に結晶核
が生成し、その結晶核が成長して11結晶が形成される
ので、格子欠陥の著しく少ない大口径のゲルマニウム単
結晶が得られ、従ってフィルター、レンズ、プリズム等
の赤外線光学デバイスに適するという優れた効果も奏す
る。
が生成し、その結晶核が成長して11結晶が形成される
ので、格子欠陥の著しく少ない大口径のゲルマニウム単
結晶が得られ、従ってフィルター、レンズ、プリズム等
の赤外線光学デバイスに適するという優れた効果も奏す
る。
第1図は本発明の方法が適用される縦型炉の略示的断面
図、第2図は同炉内の渇庭分布を示すグラフである。 1・・・・・・縦型炉 2・・・・・・炉 壁3・・
・・・・天 M 4・・・・・・底 益5・
・・・・・石英管 5a・・・ヒータ6・・・・
・・ルツボ軸 7・・・・・・黒鉛ルツボ8・・
・・・・黒鉛ウール 9・・・・・・黒鉛ルツボの
益10・・・溶融ゲルマニウム
図、第2図は同炉内の渇庭分布を示すグラフである。 1・・・・・・縦型炉 2・・・・・・炉 壁3・・
・・・・天 M 4・・・・・・底 益5・
・・・・・石英管 5a・・・ヒータ6・・・・
・・ルツボ軸 7・・・・・・黒鉛ルツボ8・・
・・・・黒鉛ウール 9・・・・・・黒鉛ルツボの
益10・・・溶融ゲルマニウム
Claims (4)
- (1)炉内に配設した黒鉛ルツボの少なくとも底面に黒
鉛ウールを配設し、該黒鉛ルツボ内にゲルマニウムを収
納し、炉内を加熱することで溶融ゲルマニウムにし、該
溶融ゲルマニウムを前記黒鉛ルツボと共に徐冷すること
で前記黒鉛ウールとの接触面に結晶核を生成させ、該結
晶核を成長させることを特徴とするゲルマニウム単結晶
成長方法。 - (2)結晶核は底部の黒鉛ウールとの接触面に生成させ
る前記請求項(1)記載のゲルマニウム単結晶成長方法
。 - (3)徐冷手段は、炉内に高温領域と低温領域とを設け
ておき、前記高温領域から徐々に低温領域に黒鉛ルツボ
を移動させるようにした前記請求項(1)記載のゲルマ
ニウム単結晶成長方法。 - (4)徐冷手段は、炉内温度を底部側から徐々に下降さ
せるようにした前記請求項(1)記載のゲルマニウム単
結晶成長方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11919588A JPH08748B2 (ja) | 1988-05-18 | 1988-05-18 | ゲルマニウム単結晶体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11919588A JPH08748B2 (ja) | 1988-05-18 | 1988-05-18 | ゲルマニウム単結晶体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01290583A true JPH01290583A (ja) | 1989-11-22 |
JPH08748B2 JPH08748B2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=14755276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11919588A Expired - Lifetime JPH08748B2 (ja) | 1988-05-18 | 1988-05-18 | ゲルマニウム単結晶体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08748B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012508153A (ja) * | 2008-11-10 | 2012-04-05 | エーエックスティー,インコーポレーテッド | 単結晶ゲルマニウムの結晶成長システム、方法および基板 |
CN113789567A (zh) * | 2021-09-17 | 2021-12-14 | 安徽光智科技有限公司 | 一种大尺寸锗单晶生长方法 |
CN114481051A (zh) * | 2022-01-11 | 2022-05-13 | 先导薄膜材料(广东)有限公司 | 一种锗靶材及其制备装置、制备方法 |
-
1988
- 1988-05-18 JP JP11919588A patent/JPH08748B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012508153A (ja) * | 2008-11-10 | 2012-04-05 | エーエックスティー,インコーポレーテッド | 単結晶ゲルマニウムの結晶成長システム、方法および基板 |
CN113789567A (zh) * | 2021-09-17 | 2021-12-14 | 安徽光智科技有限公司 | 一种大尺寸锗单晶生长方法 |
CN114481051A (zh) * | 2022-01-11 | 2022-05-13 | 先导薄膜材料(广东)有限公司 | 一种锗靶材及其制备装置、制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH08748B2 (ja) | 1996-01-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20030089307A1 (en) | Method and device for growing large-volume oriented monocrystals | |
US4752451A (en) | Apparatus for producing a strain-free monocrystal of a crystalline ferroelectric compound | |
US20030221610A1 (en) | Process for growing calcium fluoride single crystals | |
JPH01290583A (ja) | ゲルマニウム単結晶体の製造方法 | |
JP2709310B2 (ja) | 単結晶引上げ装置 | |
US6736893B2 (en) | Process for growing calcium fluoride monocrystals | |
JPH01290582A (ja) | 単結晶成長方法 | |
JPH0891980A (ja) | 単結晶育成装置 | |
JPH11255575A (ja) | 単結晶引上げ装置及びその冷却方法 | |
JPH01317188A (ja) | 半導体単結晶の製造方法及び装置 | |
EP0221051A1 (en) | Method and apparatus for growing single crystal bodies | |
EP1475464A1 (en) | Method for producing an optical fluoride crystal | |
JPH0312385A (ja) | シリコン単結晶の引上方法 | |
JPH01160891A (ja) | 単結晶引上装置 | |
JPH0310593B2 (ja) | ||
JP2724749B2 (ja) | 年輪型反射電気炉と加熱冷却制御方法 | |
JPH0312397A (ja) | ルチル単結晶の製造法 | |
JP2000247780A (ja) | 単結晶引き上げ装置 | |
JPS6369791A (ja) | 二重るつぼ | |
JPS623406Y2 (ja) | ||
JPS6012318B2 (ja) | 単結晶引上げ方法及びその装置 | |
JPH01294588A (ja) | シリコン単結晶の製造方法およびその装置 | |
JPS6136192A (ja) | 単結晶製造用るつぼ | |
KR950018696A (ko) | 단 결정 제조방법 및 이에 사용되는 장치 | |
JPS5997591A (ja) | 単結晶育成法および装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090110 Year of fee payment: 13 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090110 Year of fee payment: 13 |