JPH11236467A - 増大した表面耐久性を有するポリオレフィン材料および放射線への暴露によるその製造方法 - Google Patents
増大した表面耐久性を有するポリオレフィン材料および放射線への暴露によるその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 増大した表面耐久性を有するポリオレフィン
材料およびその製造方法を提供する。 【解決手段】（１）（ａ）熱可塑性ポリオレフィンベー
ス成分、（ｂ）少なくとも１種の放射線重合性成分、お
よび（ｃ）少なくとも１種の光開始剤からなる混合物を
製造すること、および （２）熱可塑性ポリオレフィン組成物の表面を放射線に
暴露し、それにより増大した表面耐久性を有する熱可塑
性ポリオレフィン組成物を提供することからなる増大し
た表面耐久性を有する熱可塑性ポリオレフィン組成物を
提供する方法。
材料およびその製造方法を提供する。 【解決手段】（１）（ａ）熱可塑性ポリオレフィンベー
ス成分、（ｂ）少なくとも１種の放射線重合性成分、お
よび（ｃ）少なくとも１種の光開始剤からなる混合物を
製造すること、および （２）熱可塑性ポリオレフィン組成物の表面を放射線に
暴露し、それにより増大した表面耐久性を有する熱可塑
性ポリオレフィン組成物を提供することからなる増大し
た表面耐久性を有する熱可塑性ポリオレフィン組成物を
提供する方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、優れた耐擦傷性、
耐引掻性、耐摩滅性および耐摩耗性を有する熱可塑性ポ
リオレフィン材料（“ポリオレフィン”）、およびその
中の不飽和ポリオレフィンを架橋するための放射線への
暴露による該ポリオレフィン材料の製造方法に関する。
耐引掻性、耐摩滅性および耐摩耗性を有する熱可塑性ポ
リオレフィン材料（“ポリオレフィン”）、およびその
中の不飽和ポリオレフィンを架橋するための放射線への
暴露による該ポリオレフィン材料の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリオレフィンは、その強度、耐環境性
および成形適性のために、広範囲の用途において有用で
ある。多くのポリオレフィンは、それらの表面上につい
て、引掻、擦傷、摩耗または他の方法で容易に損傷され
過ぎる。これらの表面性質は、様々な方法において測定
され得る。例えば、耐引掻性は、球状チップを有する引
掻針をポリオレフィンまたは他の材料表面中に一定の荷
重下で垂直に針入れすることによって測定され得る。針
は、その後、一定速度で水平に移動され、そしてあらゆ
る形成された引掻傷の幅および／または深さが測定され
る（例えば、Ｔ．Ｎｏｍｕｒａ等、Ｊ． Ａｐｐｌｉｅ
ｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ． ５５：１３０７−１３
１５（１９９５）を見よ。）。一般に、これらの表面性
質を改良し、引掻、擦傷、摩滅、摩耗等を減少させるこ
とによって、ポリオレフィンの実用寿命を増大すること
が望ましい。
および成形適性のために、広範囲の用途において有用で
ある。多くのポリオレフィンは、それらの表面上につい
て、引掻、擦傷、摩耗または他の方法で容易に損傷され
過ぎる。これらの表面性質は、様々な方法において測定
され得る。例えば、耐引掻性は、球状チップを有する引
掻針をポリオレフィンまたは他の材料表面中に一定の荷
重下で垂直に針入れすることによって測定され得る。針
は、その後、一定速度で水平に移動され、そしてあらゆ
る形成された引掻傷の幅および／または深さが測定され
る（例えば、Ｔ．Ｎｏｍｕｒａ等、Ｊ． Ａｐｐｌｉｅ
ｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ． ５５：１３０７−１３
１５（１９９５）を見よ。）。一般に、これらの表面性
質を改良し、引掻、擦傷、摩滅、摩耗等を減少させるこ
とによって、ポリオレフィンの実用寿命を増大すること
が望ましい。
【０００３】表面性質を増大するための一つの慣用の方
法は、無機粒状材料、例えば様々なシリカを使用するこ
とである。しかしながら、これらの粒子の均一な分散を
達成することは困難であり、そしてこれはそのような生
成物において不均一な表面特性を生じる。これらの粒子
の使用は、また、ポリオレフィンの他の望ましい物理的
特性に損害を与える傾向があり、衝撃強度、靭性、加工
性等の損失を生じる。
法は、無機粒状材料、例えば様々なシリカを使用するこ
とである。しかしながら、これらの粒子の均一な分散を
達成することは困難であり、そしてこれはそのような生
成物において不均一な表面特性を生じる。これらの粒子
の使用は、また、ポリオレフィンの他の望ましい物理的
特性に損害を与える傾向があり、衝撃強度、靭性、加工
性等の損失を生じる。
【０００４】あるポリオレフィンに増大した表面性質を
与えるより有効な慣用の方法は、合衆国特許第４９２１
６６９号において開示されている。この特許は、艶出し
ロールスタックを通して押出された熱可塑性合成樹脂の
ウェブを通すことであって、該ロールの少なくとも一つ
は、ロールからウェブ表面に転写される耐引掻性被覆を
形成する材料のフィルムをその上に有することを開示す
る。ポリオレフィンの表面性質を増大することのそのよ
うな慣用の方法は、高価で大型であり、またポリオレフ
ィン生成物の加工時間を増加する装置を必要とする。
与えるより有効な慣用の方法は、合衆国特許第４９２１
６６９号において開示されている。この特許は、艶出し
ロールスタックを通して押出された熱可塑性合成樹脂の
ウェブを通すことであって、該ロールの少なくとも一つ
は、ロールからウェブ表面に転写される耐引掻性被覆を
形成する材料のフィルムをその上に有することを開示す
る。ポリオレフィンの表面性質を増大することのそのよ
うな慣用の方法は、高価で大型であり、またポリオレフ
ィン生成物の加工時間を増加する装置を必要とする。
【０００５】ポリオレフィンの表面特性を増大する他の
方法は、合衆国特許第４０００２１６号において記載さ
れ、熱可塑性ポリマーと少なくとも１種のモノエチレン
性不飽和モノマーからなる該熱可塑性ポリマーのための
表面改変剤との押出可能な、成形可能なまたは熱形成可
能なブレンドであって、該表面改変剤は１ないし３０ミ
クロンの平均寸法を有する架橋ポリマー粒子を有するブ
レンドを開示する。表面改変剤は、好ましくはエンド重
合によって製造され、改変される相溶性ポリオレフィン
と共に使用される。
方法は、合衆国特許第４０００２１６号において記載さ
れ、熱可塑性ポリマーと少なくとも１種のモノエチレン
性不飽和モノマーからなる該熱可塑性ポリマーのための
表面改変剤との押出可能な、成形可能なまたは熱形成可
能なブレンドであって、該表面改変剤は１ないし３０ミ
クロンの平均寸法を有する架橋ポリマー粒子を有するブ
レンドを開示する。表面改変剤は、好ましくはエンド重
合によって製造され、改変される相溶性ポリオレフィン
と共に使用される。
【０００６】様々な成形物の表面性質を増大するための
他の慣用の方法は、成形物にアクリルポリマーまたは被
覆を塗布し、そして引き続いてポリマーまたは被覆を放
射線源、例えば紫外線（“ＵＶ”）で硬化することであ
る。以下の特許は、そのような慣用の“被覆の塗布およ
び硬化”法および組成物の様々な例を記載している。
他の慣用の方法は、成形物にアクリルポリマーまたは被
覆を塗布し、そして引き続いてポリマーまたは被覆を放
射線源、例えば紫外線（“ＵＶ”）で硬化することであ
る。以下の特許は、そのような慣用の“被覆の塗布およ
び硬化”法および組成物の様々な例を記載している。
【０００７】合衆国特許第４１５３５２６号および第４
０３９７２０号は、飽和ポリビニルアセタールフィルム
および光開始剤をガラスの層に積層し、そしてフィルム
をＵＶで照射し、架橋を開始し、そして改良された溶媒
耐摩耗性を与えることによって製造される安全ガラスを
開示している。
０３９７２０号は、飽和ポリビニルアセタールフィルム
および光開始剤をガラスの層に積層し、そしてフィルム
をＵＶで照射し、架橋を開始し、そして改良された溶媒
耐摩耗性を与えることによって製造される安全ガラスを
開示している。
【０００８】合衆国特許第４２２７９７９号は、１種ま
たはそれ以上のアミドアクリレート化合物を含む放射線
硬化性被覆組成物であって、耐擦傷性保護用かつ化粧用
のフィルム被覆を形成する組成物を開示している。
たはそれ以上のアミドアクリレート化合物を含む放射線
硬化性被覆組成物であって、耐擦傷性保護用かつ化粧用
のフィルム被覆を形成する組成物を開示している。
【０００９】合衆国特許第４２５５３０３号は、エチレ
ンポリマーおよびポリマー１００重量部当りタルク少な
くとも１０重量部を含む被覆電子用途のための組成物で
あって、該タルクが８ないし２０個の炭素原子を有する
脂肪酸の金属塩の少なくとも１種で被覆されている組成
物を開示している。エチレンポリマーは、高エネルギー
電子線での照射または化学硬化剤、例えば有機過酸化物
によって硬化され得る。
ンポリマーおよびポリマー１００重量部当りタルク少な
くとも１０重量部を含む被覆電子用途のための組成物で
あって、該タルクが８ないし２０個の炭素原子を有する
脂肪酸の金属塩の少なくとも１種で被覆されている組成
物を開示している。エチレンポリマーは、高エネルギー
電子線での照射または化学硬化剤、例えば有機過酸化物
によって硬化され得る。
【００１０】合衆国特許第４３７１５６６号は、多くの
基材への塗布のための化学線硬化性被覆組成物であっ
て、ペンタエリトリトールベースのポリアクリレートま
たはポリメタクリレート、例えばペンタエリトリトール
テトラアクリレート、塩化ビニル−酢酸ビニル含有ポリ
マー、および光開始剤を有し、好ましくは溶液の噴霧に
よって基材上に塗布される組成物を開示している。
基材への塗布のための化学線硬化性被覆組成物であっ
て、ペンタエリトリトールベースのポリアクリレートま
たはポリメタクリレート、例えばペンタエリトリトール
テトラアクリレート、塩化ビニル−酢酸ビニル含有ポリ
マー、および光開始剤を有し、好ましくは溶液の噴霧に
よって基材上に塗布される組成物を開示している。
【００１１】合衆国特許第４４７８８７６号は、固体基
材を、耐摩耗性シリコン硬質被覆であって、ＵＶ暴露で
不活性雰囲気、例えば大気下で硬化可能な被覆で塗布す
る方法を開示している。該組成物は、ＵＶ架橋性多官能
性アクリレートモノマー、コロイドシリカの形態でのＳ
ｉＯ2 、およびアクリルオキシ官能性シラン並びにケト
ン型と光開始剤との選択されたブレンドを含む。
材を、耐摩耗性シリコン硬質被覆であって、ＵＶ暴露で
不活性雰囲気、例えば大気下で硬化可能な被覆で塗布す
る方法を開示している。該組成物は、ＵＶ架橋性多官能
性アクリレートモノマー、コロイドシリカの形態でのＳ
ｉＯ2 、およびアクリルオキシ官能性シラン並びにケト
ン型と光開始剤との選択されたブレンドを含む。
【００１２】合衆国特許第４８１４２０７号は、耐引掻
性および耐候性フィルム被覆を成形された成形物に塗布
する方法であって、成形物に、少なくとも二つの重合成
オレフィン結合を有する遊離ラジカル重合性モノマー
と、１００℃で２分より短い半減期を有する過酸化物開
始剤と、紫外線安定剤との混合物の薄いフィルムを塗布
し、そしてフィルムを７０℃より高い温度への加熱によ
って硬化することによる方法を開示している。
性および耐候性フィルム被覆を成形された成形物に塗布
する方法であって、成形物に、少なくとも二つの重合成
オレフィン結合を有する遊離ラジカル重合性モノマー
と、１００℃で２分より短い半減期を有する過酸化物開
始剤と、紫外線安定剤との混合物の薄いフィルムを塗布
し、そしてフィルムを７０℃より高い温度への加熱によ
って硬化することによる方法を開示している。
【００１３】合衆国特許第４９０２５７８号は、熱可塑
性基材のための放射線硬化性被覆であって、多官能性ア
クリルモノマー、モノ−、ジ−またはトリ官能性アクリ
ルモノマー、熱可塑性またはエラストマーポリマー、お
よび光開始剤を有する被覆を開示している。
性基材のための放射線硬化性被覆であって、多官能性ア
クリルモノマー、モノ−、ジ−またはトリ官能性アクリ
ルモノマー、熱可塑性またはエラストマーポリマー、お
よび光開始剤を有する被覆を開示している。
【００１４】合衆国特許第５００６４３６号は、ＵＶ硬
化性で水性アルカリ現像可能なハンダマスク組成物であ
って、熱で遊離ラジカルを発生させることができる熱遊
離ラジカル開始剤、および遊離ラジカルによって熱架橋
され、実質的に完全に硬化した被覆を与えることができ
る多不飽和化合物を有する組成物を開示している。
化性で水性アルカリ現像可能なハンダマスク組成物であ
って、熱で遊離ラジカルを発生させることができる熱遊
離ラジカル開始剤、および遊離ラジカルによって熱架橋
され、実質的に完全に硬化した被覆を与えることができ
る多不飽和化合物を有する組成物を開示している。
【００１５】合衆国特許第５３１６７９１号は、被覆さ
れたプラスチック基材の耐衝撃性を改良する方法であっ
て、下塗層として水性ポリウレタン分散液を塗布するこ
と、該層を風乾によって部分的に硬化すること、該下塗
層の上に被覆組成物を塗布すること、および該被覆組成
物を硬化し、耐摩耗性硬質被膜を形成することによる方
法を開示している。
れたプラスチック基材の耐衝撃性を改良する方法であっ
て、下塗層として水性ポリウレタン分散液を塗布するこ
と、該層を風乾によって部分的に硬化すること、該下塗
層の上に被覆組成物を塗布すること、および該被覆組成
物を硬化し、耐摩耗性硬質被膜を形成することによる方
法を開示している。
【００１６】合衆国特許第５３８２６０４号は、架橋接
着組成物であって、少なくともいくつかのエポキシ官能
基を通してＵＶ線によって架橋されたエポキシ化ジオレ
フィンブロックコポリマーを有する組成物を開示してい
る。
着組成物であって、少なくともいくつかのエポキシ官能
基を通してＵＶ線によって架橋されたエポキシ化ジオレ
フィンブロックコポリマーを有する組成物を開示してい
る。
【００１７】合衆国特許第５５５８９１１号は、成形物
を、被覆される基材に塗布されるポリマーを有する粉体
塗料で塗布する方法であって、ポリマーを融解するこ
と、およびＵＶ線によって架橋することの方法を開示し
ている。
を、被覆される基材に塗布されるポリマーを有する粉体
塗料で塗布する方法であって、ポリマーを融解するこ
と、およびＵＶ線によって架橋することの方法を開示し
ている。
【００１８】合衆国特許第５５９１５５１号は、リソグ
ラフィー被覆およびその方法であって、成形物の表面の
少なくとも一部を放射線架橋性ポリマーで被覆するこ
と、およびそれを画像を形成するための放射線の型に暴
露する方法を開示している。ポリマーは炭素原子数４な
いし７のイソオレフィンおよびパラアルキルスチレンの
コポリマーであることが開示されている。
ラフィー被覆およびその方法であって、成形物の表面の
少なくとも一部を放射線架橋性ポリマーで被覆するこ
と、およびそれを画像を形成するための放射線の型に暴
露する方法を開示している。ポリマーは炭素原子数４な
いし７のイソオレフィンおよびパラアルキルスチレンの
コポリマーであることが開示されている。
【００１９】合衆国特許第５６１８５８６号は、被覆と
しての自己架橋性フィルム形成組成物並びに着色ベース
コートおよび透明トップコートを有する多層被覆された
成形物を製造する方法であって、該組成物は、Ｎ−アル
コキシメチル（メタ）アクリルアミドと少なくとも１種
の他のエチレン性不飽和モノマーとの遊離ラジカル開始
された反応生成物である非ゲル化添加ポリマーを含むと
ころの方法を開示している。
しての自己架橋性フィルム形成組成物並びに着色ベース
コートおよび透明トップコートを有する多層被覆された
成形物を製造する方法であって、該組成物は、Ｎ−アル
コキシメチル（メタ）アクリルアミドと少なくとも１種
の他のエチレン性不飽和モノマーとの遊離ラジカル開始
された反応生成物である非ゲル化添加ポリマーを含むと
ころの方法を開示している。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】これらの慣用の硬化性
生成物は、一般に、いくつかの工程、特に製造された生
成物をＵＶ硬化性被覆で被覆または有効に積層すること
が必要とされる。しかしながら、さらなる処理工程、例
えば成形物を硬化性組成物で被覆または積層することな
しに硬化されることができる独立したポリオレフィン組
成物を提供することが有利である。従って、そのような
生成物、好ましくは増大した表面耐久性を有するものを
生成することが望まれる。本発明は、この必要を満足す
る新規ポリオレフィン組成物を提供する。
生成物は、一般に、いくつかの工程、特に製造された生
成物をＵＶ硬化性被覆で被覆または有効に積層すること
が必要とされる。しかしながら、さらなる処理工程、例
えば成形物を硬化性組成物で被覆または積層することな
しに硬化されることができる独立したポリオレフィン組
成物を提供することが有利である。従って、そのような
生成物、好ましくは増大した表面耐久性を有するものを
生成することが望まれる。本発明は、この必要を満足す
る新規ポリオレフィン組成物を提供する。
【００２１】
【課題を解決するための手段】本発明は、（ａ）熱可塑
性ポリオレフィンからなるベース成分、（ｂ）放射線硬
化されたとき熱可塑性ポリオレフィンベース成分の表面
耐久性を増大する量で存在する、少なくとも１種の放射
線重合性成分、および（ｃ）熱可塑性ポリオレフィン組
成物の放射線への暴露で放射線重合性成分の架橋を開始
するに十分な量で存在する、少なくとも１種の光開始剤
を含む、増大した表面耐久性を有する熱可塑性ポリオレ
フィン組成物に関する。
性ポリオレフィンからなるベース成分、（ｂ）放射線硬
化されたとき熱可塑性ポリオレフィンベース成分の表面
耐久性を増大する量で存在する、少なくとも１種の放射
線重合性成分、および（ｃ）熱可塑性ポリオレフィン組
成物の放射線への暴露で放射線重合性成分の架橋を開始
するに十分な量で存在する、少なくとも１種の光開始剤
を含む、増大した表面耐久性を有する熱可塑性ポリオレ
フィン組成物に関する。
【００２２】ある態様において、ポリオレフィン組成物
は、また、０．１ないし３０重量％の量の充填剤（ｄ）
をも含む。好ましい態様において、充填剤は炭酸カルシ
ウム、クレイ、タルク、雲母、ガラス、酸化亜鉛、ウォ
ラストナイト、シリカ、二酸化チタン、またはそれらの
混合物を含む。
は、また、０．１ないし３０重量％の量の充填剤（ｄ）
をも含む。好ましい態様において、充填剤は炭酸カルシ
ウム、クレイ、タルク、雲母、ガラス、酸化亜鉛、ウォ
ラストナイト、シリカ、二酸化チタン、またはそれらの
混合物を含む。
【００２３】他の態様において、熱可塑性ポリオレフィ
ンベース成分は、放射線暴露の前にまたは続いて熱処理
される。熱処理は、強度において２５℃ないし１５０℃
に変化することができ、また期間において数分ないし数
日（例えば、２分ないし４８時間）に温度および所望の
硬化度に依存して変化し得る。さもなくば、ベース成分
は、期間の長さが所望の物理的特性に依存して変化し得
る、一連の熱および放射線に交互に供されることができ
る。
ンベース成分は、放射線暴露の前にまたは続いて熱処理
される。熱処理は、強度において２５℃ないし１５０℃
に変化することができ、また期間において数分ないし数
日（例えば、２分ないし４８時間）に温度および所望の
硬化度に依存して変化し得る。さもなくば、ベース成分
は、期間の長さが所望の物理的特性に依存して変化し得
る、一連の熱および放射線に交互に供されることができ
る。
【００２４】組成物は、熱可塑性ポリオレフィンベース
成分の環境崩壊を予防し、光開始された表面架橋と実質
的に干渉することのない光酸化安定剤を含み得る。
成分の環境崩壊を予防し、光開始された表面架橋と実質
的に干渉することのない光酸化安定剤を含み得る。
【００２５】熱可塑性ポリオレフィンベース成分（ａ）
は、結晶性または半結晶性ポリ−α−オレフィンと非晶
質ポリ−α−オレフィンとのブレンドを含み得る。好ま
しい態様において、熱可塑性ポリオレフィンベース成分
は、半結晶性ポリプロピレンと、ポリ−α−オレフィン
との共重合された非晶質エチレンとのブレンドを含む。
他の態様において、非晶質ポリ−α−オレフィンは、非
晶質エチレンおよび少なくとも１種のジエンを含む。一
般に、熱可塑性ポリオレフィンベース成分は、組成物の
約９９ないし５５重量％の量で存在する。好ましい態様
において、熱可塑性ポリオレフィンベース成分は、組成
物の約９５ないし６５重量％で存在する。
は、結晶性または半結晶性ポリ−α−オレフィンと非晶
質ポリ−α−オレフィンとのブレンドを含み得る。好ま
しい態様において、熱可塑性ポリオレフィンベース成分
は、半結晶性ポリプロピレンと、ポリ−α−オレフィン
との共重合された非晶質エチレンとのブレンドを含む。
他の態様において、非晶質ポリ−α−オレフィンは、非
晶質エチレンおよび少なくとも１種のジエンを含む。一
般に、熱可塑性ポリオレフィンベース成分は、組成物の
約９９ないし５５重量％の量で存在する。好ましい態様
において、熱可塑性ポリオレフィンベース成分は、組成
物の約９５ないし６５重量％で存在する。
【００２６】放射線重合性成分（ｂ）は、不飽和ポリオ
レフィンを含み得る。好ましい態様において、不飽和ポ
リオレフィンは、エチレン、プロピレンおよびジエンタ
ーポリマー、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレ
ン性ポリマー、エチレンおよびプロピレンコポリマー、
またはそれらの混合物を含む。典型的に、放射線重合性
成分は、熱可塑性ポリオレフィン組成物の約１ないし３
０重量％の量で存在する。
レフィンを含み得る。好ましい態様において、不飽和ポ
リオレフィンは、エチレン、プロピレンおよびジエンタ
ーポリマー、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレ
ン性ポリマー、エチレンおよびプロピレンコポリマー、
またはそれらの混合物を含む。典型的に、放射線重合性
成分は、熱可塑性ポリオレフィン組成物の約１ないし３
０重量％の量で存在する。
【００２７】光開始剤（ｃ）は、ベンゾインおよびベン
ゾインエーテル誘導体、ベンジルケタール誘導体、α，
α−ジアルキルオキシアセトフェノン誘導体、α−アミ
ノアルキルフェノン誘導体、α−ヒドロキシアルキルフ
ェノン誘導体、モノ−、ビス−またはトリスアシルホス
フィンオキシド、モノ−、ビス−またはトリスアシルホ
スホスフィンスルフィド、フェニルグリオキサレート誘
導体、Ｏ−アシル−２−オキシイミノケトン誘導体、ベ
ンゾフェノンおよびその誘導体、ミヒラーケトンおよび
その誘導体、チオキサントンおよびその誘導体、並びに
それらの混合物、および上記の型のポリマー結合化合物
の全てのうちのいずれか１種であり得る。好ましい態様
において、光開始剤は、ベンジルケタール誘導体および
モノ−またはビスアシルホスフィンオキシドから選択さ
れる。光開始剤は、典型的に、組成物の０．０１ないし
５重量％の量で存在する。１種の光開始剤を単独で使用
することが可能であるが、しかしまた光開始剤の混合物
も、所望により素早い架橋を容易にする促進剤と共に使
用され得る。
ゾインエーテル誘導体、ベンジルケタール誘導体、α，
α−ジアルキルオキシアセトフェノン誘導体、α−アミ
ノアルキルフェノン誘導体、α−ヒドロキシアルキルフ
ェノン誘導体、モノ−、ビス−またはトリスアシルホス
フィンオキシド、モノ−、ビス−またはトリスアシルホ
スホスフィンスルフィド、フェニルグリオキサレート誘
導体、Ｏ−アシル−２−オキシイミノケトン誘導体、ベ
ンゾフェノンおよびその誘導体、ミヒラーケトンおよび
その誘導体、チオキサントンおよびその誘導体、並びに
それらの混合物、および上記の型のポリマー結合化合物
の全てのうちのいずれか１種であり得る。好ましい態様
において、光開始剤は、ベンジルケタール誘導体および
モノ−またはビスアシルホスフィンオキシドから選択さ
れる。光開始剤は、典型的に、組成物の０．０１ないし
５重量％の量で存在する。１種の光開始剤を単独で使用
することが可能であるが、しかしまた光開始剤の混合物
も、所望により素早い架橋を容易にする促進剤と共に使
用され得る。
【００２８】本発明はまた、（１）（ａ）熱可塑性ポリ
オレフィンベース成分、（ｂ）放射線硬化されたとき熱
可塑性ポリオレフィン成分の表面耐久性を増大するに十
分な量における、少なくとも１種の放射線重合性成分、
および（ｃ）熱可塑性ポリオレフィン組成物が放射線に
暴露されるとき放射線重合性成分の架橋を容易にするに
十分な量における、少なくとも１種の光開始剤からなる
混合物を製造すること、および（２）少なくとも暴露さ
れた表面で放射線重合性成分を架橋するに十分な量にお
いて、熱可塑性ポリオレフィン組成物の表面を放射線に
暴露し、それによって増大した表面耐久性を有する熱可
塑性ポリオレフィン組成物を提供することによる、増大
した表面耐久性を有する硬化した熱可塑性ポリオレフィ
ン組成物を提供する方法に関する。
オレフィンベース成分、（ｂ）放射線硬化されたとき熱
可塑性ポリオレフィン成分の表面耐久性を増大するに十
分な量における、少なくとも１種の放射線重合性成分、
および（ｃ）熱可塑性ポリオレフィン組成物が放射線に
暴露されるとき放射線重合性成分の架橋を容易にするに
十分な量における、少なくとも１種の光開始剤からなる
混合物を製造すること、および（２）少なくとも暴露さ
れた表面で放射線重合性成分を架橋するに十分な量にお
いて、熱可塑性ポリオレフィン組成物の表面を放射線に
暴露し、それによって増大した表面耐久性を有する熱可
塑性ポリオレフィン組成物を提供することによる、増大
した表面耐久性を有する硬化した熱可塑性ポリオレフィ
ン組成物を提供する方法に関する。
【００２９】ある態様において、放射線は、紫外線、電
子線、ガンマ線、可視光線、マイクロ波、赤外線、もし
くは熱放射線、またはそれらの混合に選択される。他の
態様において、放射線は、０．１Ｊ／ｃｍ2 およびそれ
以上の出力でかつ２００ないし５００ｎｍの波長で与え
られる。
子線、ガンマ線、可視光線、マイクロ波、赤外線、もし
くは熱放射線、またはそれらの混合に選択される。他の
態様において、放射線は、０．１Ｊ／ｃｍ2 およびそれ
以上の出力でかつ２００ないし５００ｎｍの波長で与え
られる。
【００３０】好ましい態様において、熱可塑性ポリオレ
フィンベース成分（ａ）は、結晶性または半結晶性ポリ
−α−オレフィンと非晶質ポリ−α−オレフィンとのブ
レンドに選択され、放射線重合性成分（ｂ）は、組成物
の約０．０１ないし２０重量％で存在する不飽和ポリオ
レフィンに選択され、光開始剤（ｃ）は、組成物の約
０．１ないし５重量％で存在するモノ−、ビス−または
トリスアシルホスフィンオキシドに選択され、そして充
填剤（ｄ）が混合物に添加される。方法は、さらに、組
成物の表面を放射線に暴露する前に、熱可塑性ポリオレ
フィン組成物を所望の形状に成形することを含む。
フィンベース成分（ａ）は、結晶性または半結晶性ポリ
−α−オレフィンと非晶質ポリ−α−オレフィンとのブ
レンドに選択され、放射線重合性成分（ｂ）は、組成物
の約０．０１ないし２０重量％で存在する不飽和ポリオ
レフィンに選択され、光開始剤（ｃ）は、組成物の約
０．１ないし５重量％で存在するモノ−、ビス−または
トリスアシルホスフィンオキシドに選択され、そして充
填剤（ｄ）が混合物に添加される。方法は、さらに、組
成物の表面を放射線に暴露する前に、熱可塑性ポリオレ
フィン組成物を所望の形状に成形することを含む。
【００３１】本発明は、また、上記の方法によって形成
された増大した表面耐久性を有する熱可塑性ポリオレフ
ィン組成物にも関する。ある態様において、組成物は、
照射後の表面耐引掻性が、硬化後、ソルベイ（Ｓｏｌｖ
ａｙ）尺度（以下の定義を見よ。）に基づいて１．５ま
たはそれより低い等級を有するように重合した成分を含
む外側表面を有する。
された増大した表面耐久性を有する熱可塑性ポリオレフ
ィン組成物にも関する。ある態様において、組成物は、
照射後の表面耐引掻性が、硬化後、ソルベイ（Ｓｏｌｖ
ａｙ）尺度（以下の定義を見よ。）に基づいて１．５ま
たはそれより低い等級を有するように重合した成分を含
む外側表面を有する。
【００３２】増大した表面耐久性を有するポリオレフィ
ン組成物、およびその製造方法は、今や有利に発見され
た。本発明のポリオレフィン組成物は、（ａ）熱可塑性
ポリオレフィンベース成分、（ｂ）放射線重合性成分、
および（ｃ）光開始剤を、望ましい性質を有する最終生
成物を作り出すために使用される１種またはそれ以上の
所望による充填剤（ｄ）と一緒に含む。本発明は、ポリ
オレフィン組成物から製造される成形された成形物の表
面の近傍に架橋を優先的に導入することにより、表面変
形および回復の機構に影響を与えると考えられている。
従って、本発明に従うポリオレフィン組成物は、優れた
耐久性および擦傷、引掻、摩滅、摩耗およびその他の表
面損傷への耐性を、扱いにくい被覆型方法の必要なく示
す。
ン組成物、およびその製造方法は、今や有利に発見され
た。本発明のポリオレフィン組成物は、（ａ）熱可塑性
ポリオレフィンベース成分、（ｂ）放射線重合性成分、
および（ｃ）光開始剤を、望ましい性質を有する最終生
成物を作り出すために使用される１種またはそれ以上の
所望による充填剤（ｄ）と一緒に含む。本発明は、ポリ
オレフィン組成物から製造される成形された成形物の表
面の近傍に架橋を優先的に導入することにより、表面変
形および回復の機構に影響を与えると考えられている。
従って、本発明に従うポリオレフィン組成物は、優れた
耐久性および擦傷、引掻、摩滅、摩耗およびその他の表
面損傷への耐性を、扱いにくい被覆型方法の必要なく示
す。
【００３３】用語“熱可塑性ポリオレフィン組成物”ま
たは“ポリオレフィン組成物”は、１種またはそれ以上
の結晶性または半結晶性オレフィンポリマー、例えばポ
リエチレン、ポリプロピレンまたは他の炭素原子数５な
いし２０のオレフィンを含むあらゆる組成物を含むこと
を意図する。そのようなオレフィンの結晶性は、３０な
いし１００％の範囲で変化することができる。これらの
ポリマーの混合物は、同様に本発明の一部として考慮さ
れる。そのようなポリオレフィン組成物中に典型的に含
まれることができる他の成分は、炭素原子数３ないし２
０の非晶質ポリマーであって、単独でまたは２種の異な
るオレフィンのコポリマーもしくは３種の異なるオレフ
ィンのターポリマーとして使用されるものを含むことが
できる。そのような非結晶成分は、典型的に、ポリオレ
フィン組成物の低温耐衝撃性または彩色適性特定を増大
するために添加される。例えば、合衆国特許第４９４５
００５号、第４９９７７２０号および第５４９８６７１
号のポリマー組成物が、本発明におけるポリオレフィン
成分（ａ）として使用されることができる。
たは“ポリオレフィン組成物”は、１種またはそれ以上
の結晶性または半結晶性オレフィンポリマー、例えばポ
リエチレン、ポリプロピレンまたは他の炭素原子数５な
いし２０のオレフィンを含むあらゆる組成物を含むこと
を意図する。そのようなオレフィンの結晶性は、３０な
いし１００％の範囲で変化することができる。これらの
ポリマーの混合物は、同様に本発明の一部として考慮さ
れる。そのようなポリオレフィン組成物中に典型的に含
まれることができる他の成分は、炭素原子数３ないし２
０の非晶質ポリマーであって、単独でまたは２種の異な
るオレフィンのコポリマーもしくは３種の異なるオレフ
ィンのターポリマーとして使用されるものを含むことが
できる。そのような非結晶成分は、典型的に、ポリオレ
フィン組成物の低温耐衝撃性または彩色適性特定を増大
するために添加される。例えば、合衆国特許第４９４５
００５号、第４９９７７２０号および第５４９８６７１
号のポリマー組成物が、本発明におけるポリオレフィン
成分（ａ）として使用されることができる。
【００３４】本発明のポリオレフィン組成物は、照射下
で架橋できる１種またはそれ以上の不飽和ポリオレフィ
ンと架橋しないが、相溶性を有する１種またはそれ以上
のポリオレフィンからなるあらゆる熱可塑性ポリオレフ
ィンベース成分を含み得るけれども、ポリオレフィンベ
ース成分は好ましくはポリオレフィン、より好ましくは
結晶性または半結晶性ポリ−α−オレフィンと非晶質ポ
リ−α−オレフィンとのブレンド、そして最も好ましく
は半結晶性プロピレンホモポリマーまたは他のポリ−α
−オレフィンとのコポリマーと、エチレンの他のポリ−
α−オレフィンまたはジエンとの非晶質コポリマーまた
はターポリマーとのブレンドである。あらゆるジエンが
コ−またはターポリマーにおける使用のために適してい
るけれども、好ましくはジエンはエチリジンノルボルネ
ン、ジシクロペンタジエン、またはヘキサジエンであ
る。最も好ましいポリオレフィンベース成分は、ポリ−
α−オレフィンのエチレンコポリマーとブレンドされた
半結晶性ポリプロピレンを含む。
で架橋できる１種またはそれ以上の不飽和ポリオレフィ
ンと架橋しないが、相溶性を有する１種またはそれ以上
のポリオレフィンからなるあらゆる熱可塑性ポリオレフ
ィンベース成分を含み得るけれども、ポリオレフィンベ
ース成分は好ましくはポリオレフィン、より好ましくは
結晶性または半結晶性ポリ−α−オレフィンと非晶質ポ
リ−α−オレフィンとのブレンド、そして最も好ましく
は半結晶性プロピレンホモポリマーまたは他のポリ−α
−オレフィンとのコポリマーと、エチレンの他のポリ−
α−オレフィンまたはジエンとの非晶質コポリマーまた
はターポリマーとのブレンドである。あらゆるジエンが
コ−またはターポリマーにおける使用のために適してい
るけれども、好ましくはジエンはエチリジンノルボルネ
ン、ジシクロペンタジエン、またはヘキサジエンであ
る。最も好ましいポリオレフィンベース成分は、ポリ−
α−オレフィンのエチレンコポリマーとブレンドされた
半結晶性ポリプロピレンを含む。
【００３５】本発明において使用される用語“ポリ−α
−オレフィン”は、１ないし２０個の炭素原子、好まし
くは１ないし１０個の炭素原子からなり、第一と第二炭
素原子の間に二重結合を有するアルケンを意図する。ポ
リオレフィン成分は、ベース成分、即ち、組成物中で支
配的な成分であり、また本明細書で記載される放射線下
で架橋できないものである。ベース成分は、典型的に、
組成物の約９９ないし５５重量％、好ましくは組成物の
約９５ないし６５重量％、そしてより好ましくは組成物
の約９０ないし７０重量％の量で存在する。ポリオレフ
ィン成分、またはポリオレフィンベース成分は、一般
に、放射線重合性成分、光開始剤およびあらゆる所望に
よる充填剤を組み合わせた後のポリオレフィン組成物の
残余である。
−オレフィン”は、１ないし２０個の炭素原子、好まし
くは１ないし１０個の炭素原子からなり、第一と第二炭
素原子の間に二重結合を有するアルケンを意図する。ポ
リオレフィン成分は、ベース成分、即ち、組成物中で支
配的な成分であり、また本明細書で記載される放射線下
で架橋できないものである。ベース成分は、典型的に、
組成物の約９９ないし５５重量％、好ましくは組成物の
約９５ないし６５重量％、そしてより好ましくは組成物
の約９０ないし７０重量％の量で存在する。ポリオレフ
ィン成分、またはポリオレフィンベース成分は、一般
に、放射線重合性成分、光開始剤およびあらゆる所望に
よる充填剤を組み合わせた後のポリオレフィン組成物の
残余である。
【００３６】ポリオレフィンベース成分のポリオレフィ
ンは、少なくとも約３０％の結晶性を有するとき半結晶
性であると考慮され、一方、Ｘ線回折によって決定され
る７０ないし１００％の結晶化度を有する完全な結晶性
材料もまた適している。ポリプロピレンが選択されたオ
レフィンであるとき、３０ないし９８％の結晶化度が十
分な結晶性挙動を達成するために満足であるけれども、
６０ないし７０％が好まれ、非晶質ポリオレフィンは、
典型的に、３０％以下の結晶化度を有する。ポリオレフ
ィンの平均分子量は、典型的に、１００００ないし３０
０００、より典型的に、５００００ないし１５００００
である。異なる分子量のポリマーのブレンドは、所望に
より利用され得る。
ンは、少なくとも約３０％の結晶性を有するとき半結晶
性であると考慮され、一方、Ｘ線回折によって決定され
る７０ないし１００％の結晶化度を有する完全な結晶性
材料もまた適している。ポリプロピレンが選択されたオ
レフィンであるとき、３０ないし９８％の結晶化度が十
分な結晶性挙動を達成するために満足であるけれども、
６０ないし７０％が好まれ、非晶質ポリオレフィンは、
典型的に、３０％以下の結晶化度を有する。ポリオレフ
ィンの平均分子量は、典型的に、１００００ないし３０
０００、より典型的に、５００００ないし１５００００
である。異なる分子量のポリマーのブレンドは、所望に
より利用され得る。
【００３７】増大された表面耐久性のポリオレフィン組
成物は、また、放射線重合性成分（ｂ）および光開始剤
（ｃ）をも含む。放射線重合性成分（ｂ）は、典型的に
不飽和ポリオレフィンである。不飽和ポリオレフィン
は、その共有結合の少なくとも約１％が不飽和であるべ
きであることを除いて、ポリオレフィン成分について本
明細書で記載されたあらゆる適したポリオレフィンであ
り得る。放射線重合性成分においてより大きな不飽和度
を有することが好ましく、それは放射線に暴露されたと
きより多くかつより素早い架橋を生じ、またポリオレフ
ィン組成物の表面性質をより大きな程度で最大限に増大
する。不飽和ポリオレフィンは、例えば、エチレン、プ
ロピレンおよびジエンターポリマー、ポリブタジエン、
ポリイソプレン、スチレン性ポリマー、またはそれらの
混合物等である。しかしながら、好ましくは、放射線重
合性成分はエチレンα−オレフィンコポリマー、そして
より好ましくはエチレンおよびプロピレンのコポリマー
である。放射線重合性成分は、放射線硬化されたときポ
リオレフィン組成物の表面耐久性を増大させるに十分な
量で存在する。放射線重合性成分は、ポリオレフィン組
成物の好ましくは約１ないし３０重量％、より好ましく
は約５ないし２０重量％、そして最も好ましくは約１０
ないし１５重量％において存在する。
成物は、また、放射線重合性成分（ｂ）および光開始剤
（ｃ）をも含む。放射線重合性成分（ｂ）は、典型的に
不飽和ポリオレフィンである。不飽和ポリオレフィン
は、その共有結合の少なくとも約１％が不飽和であるべ
きであることを除いて、ポリオレフィン成分について本
明細書で記載されたあらゆる適したポリオレフィンであ
り得る。放射線重合性成分においてより大きな不飽和度
を有することが好ましく、それは放射線に暴露されたと
きより多くかつより素早い架橋を生じ、またポリオレフ
ィン組成物の表面性質をより大きな程度で最大限に増大
する。不飽和ポリオレフィンは、例えば、エチレン、プ
ロピレンおよびジエンターポリマー、ポリブタジエン、
ポリイソプレン、スチレン性ポリマー、またはそれらの
混合物等である。しかしながら、好ましくは、放射線重
合性成分はエチレンα−オレフィンコポリマー、そして
より好ましくはエチレンおよびプロピレンのコポリマー
である。放射線重合性成分は、放射線硬化されたときポ
リオレフィン組成物の表面耐久性を増大させるに十分な
量で存在する。放射線重合性成分は、ポリオレフィン組
成物の好ましくは約１ないし３０重量％、より好ましく
は約５ないし２０重量％、そして最も好ましくは約１０
ないし１５重量％において存在する。
【００３８】ポリオレフィン組成物はまた、照射された
ときポリオレフィン組成物の硬化を容易にするための光
開始剤（ｃ）、または遊離ラジカル開始剤をも含む。光
開始剤は、放射線重合性成分を架橋するために遊離ラジ
カル開裂を開始することができるあらゆる化合物を含み
得る。適した光開始剤は典型的に、ベンゾインおよびベ
ンゾインエーテル誘導体、ベンジルケタールおよびその
誘導体、α、α−ジアルキルオキシアセトフェノン誘導
体、α−アミノアルキルケトン誘導体、α−ヒドロキシ
アルキルケトン誘導体、モノ−またはビス−またはトリ
スアシルホスフィンオキシド、モノ−またはビス−また
はトリスアシルホスフィンスルフィド、フェニルグリオ
キシレート誘導体、Ｏ−アシル−２−オキシイミノケト
ン誘導体、ベンゾフェノンおよびその誘導体、ミヒラー
ケトンおよびその誘導体、チオキサントンおよびその誘
導体、および上記の型のポリマー結合化合物の全て等を
含む。特別な光開始剤は、例えば、２，２−ジメトキシ
−２−フェニルアセトフェノン、ビス（２，６−ジメト
キシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルフェニルホ
スフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイ
ル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキ
シド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フ
ェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，
４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジペントキ
シフェニルホスフィンオキシド、２−ベンジル−２−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−１−（４−モルホリノフ
ェニル）−１−ブタノン、２−メチル−１−（４−メチ
ルチオフェニル）−２−モルホリノプロパノ−１−オ
ン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロ
パノンおよび１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニル
ケトンを含むことができる。好ましい光開始剤は、ベン
ジルケタール誘導体およびアシルホスフィンオキシドの
型のものまたはそれらの混合物である。光開始剤は、典
型的に、ポリオレフィン組成物が放射線に暴露されたと
き、放射線重合性成分の架橋を開始するに十分な量で存
在する。好ましくは、光開始剤は、ポリオレフィン組成
物の約０．０１ないし５重量％、より好ましくは約０．
０５ないし４重量％、そして最も好ましくは約０．１な
いし３重量％の量で存在する。好ましくは、十分素早い
挙動においてポリオレフィン組成物を硬化するに必要な
最小の光開始剤の量が用いられる。
ときポリオレフィン組成物の硬化を容易にするための光
開始剤（ｃ）、または遊離ラジカル開始剤をも含む。光
開始剤は、放射線重合性成分を架橋するために遊離ラジ
カル開裂を開始することができるあらゆる化合物を含み
得る。適した光開始剤は典型的に、ベンゾインおよびベ
ンゾインエーテル誘導体、ベンジルケタールおよびその
誘導体、α、α−ジアルキルオキシアセトフェノン誘導
体、α−アミノアルキルケトン誘導体、α−ヒドロキシ
アルキルケトン誘導体、モノ−またはビス−またはトリ
スアシルホスフィンオキシド、モノ−またはビス−また
はトリスアシルホスフィンスルフィド、フェニルグリオ
キシレート誘導体、Ｏ−アシル−２−オキシイミノケト
ン誘導体、ベンゾフェノンおよびその誘導体、ミヒラー
ケトンおよびその誘導体、チオキサントンおよびその誘
導体、および上記の型のポリマー結合化合物の全て等を
含む。特別な光開始剤は、例えば、２，２−ジメトキシ
−２−フェニルアセトフェノン、ビス（２，６−ジメト
キシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルフェニルホ
スフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイ
ル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキ
シド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フ
ェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，
４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジペントキ
シフェニルホスフィンオキシド、２−ベンジル−２−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−１−（４−モルホリノフ
ェニル）−１−ブタノン、２−メチル−１−（４−メチ
ルチオフェニル）−２−モルホリノプロパノ−１−オ
ン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロ
パノンおよび１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニル
ケトンを含むことができる。好ましい光開始剤は、ベン
ジルケタール誘導体およびアシルホスフィンオキシドの
型のものまたはそれらの混合物である。光開始剤は、典
型的に、ポリオレフィン組成物が放射線に暴露されたと
き、放射線重合性成分の架橋を開始するに十分な量で存
在する。好ましくは、光開始剤は、ポリオレフィン組成
物の約０．０１ないし５重量％、より好ましくは約０．
０５ないし４重量％、そして最も好ましくは約０．１な
いし３重量％の量で存在する。好ましくは、十分素早い
挙動においてポリオレフィン組成物を硬化するに必要な
最小の光開始剤の量が用いられる。
【００３９】充填剤（ｄ）は、所望により、本発明のポ
リオレフィン組成物に含まれ得る。炭酸カルシウム、ク
レイ、タルク、雲母、ウォラストナイト、ガラス、シリ
カ、酸化亜鉛、二酸化チタン等は、全て、ポリオレフィ
ンと共に使用するために適した充填剤である。最も適当
な充填剤は、典型的に、最終ポリオレフィン生成物にお
ける所望の特質に依存して選択され、そしてそのような
充填剤の選択は当業者によって容易に達成される。充填
剤は、典型的に、ポリオレフィン組成物の約１ないし３
０重量％、そして好ましくは５ないし１５重量％の量で
存在する。
リオレフィン組成物に含まれ得る。炭酸カルシウム、ク
レイ、タルク、雲母、ウォラストナイト、ガラス、シリ
カ、酸化亜鉛、二酸化チタン等は、全て、ポリオレフィ
ンと共に使用するために適した充填剤である。最も適当
な充填剤は、典型的に、最終ポリオレフィン生成物にお
ける所望の特質に依存して選択され、そしてそのような
充填剤の選択は当業者によって容易に達成される。充填
剤は、典型的に、ポリオレフィン組成物の約１ないし３
０重量％、そして好ましくは５ないし１５重量％の量で
存在する。
【００４０】ポリオレフィン組成物を製造するために、
（ａ）ポリオレフィン成分、（ｂ）少なくとも１種の放
射線重合性成分、（ｃ）少なくとも１種の光開始剤、お
よび（ｄ）あらゆる所望による充填剤が、硬化性組成物
を形成するために組み合わされる。様々な成分が典型的
に混合され、そして放射線重合性成分、光開始剤、およ
びポリオレフィン成分は、好ましくは、実質的に均一に
分散される。
（ａ）ポリオレフィン成分、（ｂ）少なくとも１種の放
射線重合性成分、（ｃ）少なくとも１種の光開始剤、お
よび（ｄ）あらゆる所望による充填剤が、硬化性組成物
を形成するために組み合わされる。様々な成分が典型的
に混合され、そして放射線重合性成分、光開始剤、およ
びポリオレフィン成分は、好ましくは、実質的に均一に
分散される。
【００４１】ポリオレフィン組成物は、また、混合の
間、機械的処理の間および意図される最終使用用途の間
であって、高められた温度への暴露または太陽光または
その双方を含むものへの安定性を組成物に与えるため
に、１種またはそれ以上の安定剤を含むこともできる。
本発明の安定剤は、例えば、以下のものから選択され
る。
間、機械的処理の間および意図される最終使用用途の間
であって、高められた温度への暴露または太陽光または
その双方を含むものへの安定性を組成物に与えるため
に、１種またはそれ以上の安定剤を含むこともできる。
本発明の安定剤は、例えば、以下のものから選択され
る。
【００４２】１． 酸化防止剤 １．１． アルキル化モノフェノール、例えば、２，６
−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブ
チル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三
ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペン
チル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロ
ヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ
オクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−ト
リシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル
−４−メトキシメチルフェノール、直鎖または側鎖にお
いて分岐鎖であるノニルフェノール、例えば、２，６−
ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル
−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノー
ル、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ
−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−
（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよ
びそれらの混合物。
−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブ
チル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三
ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペン
チル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロ
ヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ
オクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−ト
リシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル
−４−メトキシメチルフェノール、直鎖または側鎖にお
いて分岐鎖であるノニルフェノール、例えば、２，６−
ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル
−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノー
ル、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ
−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−
（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよ
びそれらの混合物。
【００４３】１．２． アルキルチオメチルフェノー
ル、例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三
ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６
−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−
６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチ
ル−４−ノニルフェノール。
ル、例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三
ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６
−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−
６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチ
ル−４−ノニルフェノール。
【００４４】１．３． ヒドロキノンおよびアルキル化
ヒドロキノン、例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−
メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキ
ノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，
６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
アジペート。
ヒドロキノン、例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−
メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキ
ノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，
６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
アジペート。
【００４５】１．４． トコフェロール、例えば、α−
トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロ
ール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタ
ミンＥ）。 １．５． ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例
えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチ
ルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフ
ェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３
−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三
ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス
（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビ
ス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジス
ルフィド。
トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロ
ール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタ
ミンＥ）。 １．５． ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例
えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチ
ルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフ
ェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３
−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三
ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス
（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビ
ス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジス
ルフィド。
【００４６】１．６． アルキリデンビスフェノール、
例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４
−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，
２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第
三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メ
チレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニル
フェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α
−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，
４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−
メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６
−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
ベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビ
ス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブ
チレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２
−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチ
ルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］
テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２
−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブ
タン、１，１，５，５−テトラキス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４
−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，
２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第
三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メ
チレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニル
フェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α
−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，
４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−
メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６
−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
ベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビ
ス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブ
チレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２
−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチ
ルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］
テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２
−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブ
タン、１，１，５，５−テトラキス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００４７】１．７． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル
化合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブ
チル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オ
クタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジ
ルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ
−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテー
ト、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロ
キシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレー
ト、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテー
ト。
化合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブ
チル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オ
クタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジ
ルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ
−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテー
ト、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロ
キシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレー
ト、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテー
ト。
【００４８】１．８． ヒドロキシベンジル化マロネー
ト、例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−
ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネー
ト、ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシル
メルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４
−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］
−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）マロネート。
ト、例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−
ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネー
ト、ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシル
メルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４
−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］
−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）マロネート。
【００４９】１．９． 芳香族ヒドロキシベンジル化合
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００５０】１．１０． トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，
５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビ
ス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリ
ノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプ
ト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，
４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，
５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４
−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン
ジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−
１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，
５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキ
シベンジル）イソシアヌレート。
２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，
５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビ
ス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリ
ノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプ
ト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，
４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，
５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４
−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン
ジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−
１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，
５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキ
シベンジル）イソシアヌレート。
【００５１】１．１１． ベンジルホスホネート、例え
ば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオク
タデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル
−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。 １．１２． アシルアミノフェノール、例えば、４−ヒ
ドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリ
ド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）カルバメート。
ば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオク
タデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル
−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。 １．１２． アシルアミノフェノール、例えば、４−ヒ
ドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリ
ド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）カルバメート。
【００５２】１．１３． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一
価または多価アルコールとのエステル、アルコール例、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オク
タノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一
価または多価アルコールとのエステル、アルコール例、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オク
タノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
【００５３】１．１４． β−（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の以下
の一価または多価アルコールとのエステル、アルコール
例、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−
オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジ
オール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコー
ル、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，
Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チア
ウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチ
ルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒ
ドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキ
サビシクロ［２．２．２］オクタン。
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の以下
の一価または多価アルコールとのエステル、アルコール
例、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−
オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジ
オール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコー
ル、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，
Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チア
ウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチ
ルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒ
ドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキ
サビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００５４】１．１５． β−（３，５−ジシクロヘキ
シル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の
一価または多価アルコールとのエステル、アルコール
例、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデ
カノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナン
ジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエ
チル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホス
ファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］
オクタン。
シル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の
一価または多価アルコールとのエステル、アルコール
例、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデ
カノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナン
ジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエ
チル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チア
ペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホス
ファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］
オクタン。
【００５５】１．１６． ３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価または多価アル
コールとのエステル、アルコール例、メタノール、エタ
ノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘ
キサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレング
リコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−
チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリ
メチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４
−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリ
オキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
−ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価または多価アル
コールとのエステル、アルコール例、メタノール、エタ
ノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘ
キサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレング
リコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−
チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリ
メチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４
−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリ
オキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００５６】１．１７． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。 １．１８． アスコルビン酸またはその誘導体、例えば
アスコルビン酸の塩またはエステル、例えば、アスコル
ビルパルミテート、ジパルミテートＬ−アスコルベー
ト、ナトリウムＬ−アスコルベート−２−スルフェー
ト、またはナトリウム、カリウムおよびカルシウムのよ
うなアスコルビン塩、またはそれらの混合物。
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。 １．１８． アスコルビン酸またはその誘導体、例えば
アスコルビン酸の塩またはエステル、例えば、アスコル
ビルパルミテート、ジパルミテートＬ−アスコルベー
ト、ナトリウムＬ−アスコルベート−２−スルフェー
ト、またはナトリウム、カリウムおよびカルシウムのよ
うなアスコルビン塩、またはそれらの混合物。
【００５７】１．１９． アミン酸化防止剤、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ
−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−
３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）
−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１
−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイ
ル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’
−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニ
ルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロ
ポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチル
アミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフ
チルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オク
チル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三オ
クチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノ
ール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイル
アミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノー
ル、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４
−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル
−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジ
アミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニ
ルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，
４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２
−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フ
ェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、
ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］
アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルア
ミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オク
チルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキ
ル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジ
アルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−
およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェ
ニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブ
チルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−
３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フ
ェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／
第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジ
アルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−
アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフ
ェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−イ
ル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−
テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。
Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ
−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−
３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）
−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１
−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイ
ル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’
−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニ
ルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロ
ポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチル
アミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフ
チルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オク
チル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三オ
クチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノ
ール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイル
アミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノー
ル、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４
−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル
−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジ
アミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニ
ルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，
４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２
−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フ
ェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、
ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］
アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルア
ミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オク
チルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキ
ル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジ
アルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−
およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェ
ニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブ
チルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−
３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フ
ェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／
第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジ
アルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−
アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフ
ェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−イ
ル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−
テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。
【００５８】２． ＵＶ吸収剤および光安定剤 ２．１． ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブ
チル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５
−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチ
ル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オ
クチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス
（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−
２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボ
ニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾ
ール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エ
チルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒ
ドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾー
ル、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’
−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−
クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル
−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチル
オキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチ
ルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデ
シル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、および２−（３’−第三ブチル−２’
−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボ
ニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’
−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル）−６−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェノー
ル］、２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２
Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３０
０とのエステル交換生成物、次式［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −
ＣＯＯ−ＣＨ2 ＣＨ2 −］2 −［式中、Ｒは３’−第三
ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾリ−２−イルフェニル基を表す。］で表されるもの。
リアゾール、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブ
チル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５
−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチ
ル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オ
クチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス
（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−
２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボ
ニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾ
ール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エ
チルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒ
ドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾー
ル、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’
−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−
クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル
−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチル
オキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチ
ルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデ
シル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、および２−（３’−第三ブチル−２’
−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボ
ニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’
−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル）−６−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェノー
ル］、２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２
Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３０
０とのエステル交換生成物、次式［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −
ＣＯＯ−ＣＨ2 ＣＨ2 −］2 −［式中、Ｒは３’−第三
ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾリ−２−イルフェニル基を表す。］で表されるもの。
【００５９】２．２． ２−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オク
チルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、
４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ
および２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導
体。
ン、例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オク
チルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、
４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ
および２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導
体。
【００６０】２．３． 置換および未置換安息香酸のエ
ステル、例えば、４−第三ブチル−フェニルサリチレー
ト、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレ
ート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブ
チルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシ
ノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシ
ル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチ
ルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンゾエート。
ステル、例えば、４−第三ブチル−フェニルサリチレー
ト、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレ
ート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブ
チルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシ
ノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシ
ル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチ
ルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンゾエート。
【００６１】２．４． アクリレート、例えば、エチル
α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、
メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シ
アノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチル
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、
メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート
およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）
−２−メチルインドリン。
α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、
メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シ
アノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチル
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、
メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート
およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）
−２−メチルインドリン。
【００６２】２．５． ニッケル化合物、例えば、２，
２’−チオ−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル）フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１
または１：２錯体であって、ｎ−ブチルアミン、トリエ
タノールアミンまたはＮ−シクロヘキシルジエタノール
アミンのようなさらなる配位子を伴うまたは伴わないも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のモ
ノアルキルエステル、例えばメチルまたはエチルエステ
ルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体、例えば２
−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシ
ム、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって、さらなる配位子を伴
うまたは伴わないもの。
２’−チオ−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル）フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１
または１：２錯体であって、ｎ−ブチルアミン、トリエ
タノールアミンまたはＮ−シクロヘキシルジエタノール
アミンのようなさらなる配位子を伴うまたは伴わないも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のモ
ノアルキルエステル、例えばメチルまたはエチルエステ
ルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体、例えば２
−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシ
ム、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって、さらなる配位子を伴
うまたは伴わないもの。
【００６３】２．６． 立体障害アミン、例えば、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロ
ネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンおよびコ
ハク酸の縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジア
ミンおよび４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ
−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、トリス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロ
トリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−
テトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタン
ジイル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジ
ノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−
（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）
マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テト
ラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカ
ン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビ
ス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメ
チレンジアミンおよび４−モルホリノ−２，６−ジクロ
ロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、２−クロロ
−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジ
ンおよび１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エ
タンの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ
−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピ
ペリジル）−１，３，５−トリアジンおよび１，２−ビ
ス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、
８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラ
メチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン
−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，
５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５
−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−および４−ステア
リルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン
の混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび
４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，
３，５−トリアジンの縮合生成物、１，２−ビス（３−
アミノプロピルアミノ）エタンおよび２，４，６−トリ
クロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミ
ノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合生
成物（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ． ［１３６５０４−９
６−６］）、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−
７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−
ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカン、７，７，
９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デ
カンおよびエピクロロヒドリンの反応生成物。
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロ
ネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンおよびコ
ハク酸の縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジア
ミンおよび４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ
−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、トリス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロ
トリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−
テトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタン
ジイル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジ
ノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−
（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）
マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テト
ラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカ
ン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビ
ス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメ
チレンジアミンおよび４−モルホリノ−２，６−ジクロ
ロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、２−クロロ
−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジ
ンおよび１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エ
タンの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ
−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピ
ペリジル）−１，３，５−トリアジンおよび１，２−ビ
ス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、
８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラ
メチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン
−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，
５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５
−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−および４−ステア
リルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン
の混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび
４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，
３，５−トリアジンの縮合生成物、１，２−ビス（３−
アミノプロピルアミノ）エタンおよび２，４，６−トリ
クロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミ
ノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合生
成物（ＣＡＳ Ｒｅｇ． Ｎｏ． ［１３６５０４−９
６−６］）、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−
７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−
ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカン、７，７，
９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オ
キサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デ
カンおよびエピクロロヒドリンの反応生成物。
【００６４】２．７． オキサミド、例えば、４，４’
−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキ
シオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，
５’−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシル
オキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エト
キシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３
−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ
−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド、およびその
２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブト
キサニリドとの混合物、およびｏ−およびｐ−メトキシ
−二置換オキサニリドの混合物、およびｏ−およびｐ−
エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキ
シオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，
５’−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシル
オキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エト
キシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３
−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ
−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド、およびその
２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブト
キサニリドとの混合物、およびｏ−およびｐ−メトキシ
−二置換オキサニリドの混合物、およびｏ−およびｐ−
エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００６５】２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、例えば、２，４，６−
トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ
−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，
４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２
−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェ
ニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フ
ェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２
−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）
フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／ト
リデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒ
ドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒド
ロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−
プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメ
チルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−
ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−
ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル
−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−
ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プ
ロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−
（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェ
ニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン。
ル）−１，３，５−トリアジン、例えば、２，４，６−
トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ
−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，
４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２
−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェ
ニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フ
ェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２
−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）
フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／ト
リデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒ
ドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒド
ロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−
プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメ
チルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−
ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−
ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル
−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−
ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プ
ロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−
（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェ
ニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン。
【００６６】３． 金属奪活剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ
フェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロ
イルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒド
ラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−
サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス
（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリ
ド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェ
ニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒ
ドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリル
ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプ
ロピオニルジヒドラジド。
フェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロ
イルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒド
ラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−
サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス
（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリ
ド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェ
ニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒ
ドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリル
ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプ
ロピオニルジヒドラジド。
【００６７】４． ホスフィットおよびホスホナイト、
例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホ
スフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステア
リルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジ
イソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリト
ールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−
４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィ
ット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホス
フィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチル
フェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエ
リトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビト
ールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三
ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイ
ト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テト
ラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，
３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，
８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベン
ズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス
（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチ
ルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−
メチルフェニル）エチルホスフィット。
例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホ
スフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステア
リルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジ
イソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリト
ールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−
４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィ
ット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホス
フィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチル
フェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエ
リトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビト
ールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三
ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイ
ト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テト
ラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，
３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，
８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベン
ズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス
（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチ
ルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−
メチルフェニル）エチルホスフィット。
【００６８】５． ヒドロキシルアミン、例えば、Ｎ，
Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル
ヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシル
アミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘ
キサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシ
ルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタ
デシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オ
クタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンから
誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル
ヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシル
アミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘ
キサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシ
ルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタ
デシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オ
クタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンから
誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００６９】６． ニトロン、例えば、Ｎ−ベンジル−
α−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニ
トロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−
ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシ
ル−α−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α
−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘ
プタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタ
デシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシ
ル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−
ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニト
ロン、水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアル
キルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
α−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニ
トロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−
ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシ
ル−α−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α
−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘ
プタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタ
デシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシ
ル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−
ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニト
ロン、水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアル
キルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【００７０】７． チオ相乗剤、例えば、ジラウリルチ
オジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピネ
ート。 ８． 過酸化物捕捉剤、例えば、β−チオジプロピオン
酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリス
チルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミ
ダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜
鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシ
ルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β
−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
オジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピネ
ート。 ８． 過酸化物捕捉剤、例えば、β−チオジプロピオン
酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリス
チルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミ
ダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜
鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシ
ルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β
−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００７１】９． 塩基性補助安定剤、例えば、メラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウム
ステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネ
ート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレ
ートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピロカテ
コレートまたは錫ピロカテコレート。
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウム
ステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネ
ート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレ
ートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピロカテ
コレートまたは錫ピロカテコレート。
【００７２】１０． その他の添加剤、例えば、可塑
剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、流動添加剤、触媒、流れ調
整剤、蛍光増白剤、難燃剤、帯電防止剤および発泡剤。
剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、流動添加剤、触媒、流れ調
整剤、蛍光増白剤、難燃剤、帯電防止剤および発泡剤。
【００７３】１１． ベンゾフラノンおよびインドリノ
ン、例えば、ＵＳ−Ａ−４３２５８６３、ＵＳ−Ａ−４
３３８２４４、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２、ＵＳ−Ａ−
５２１６０５２、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３、ＤＥ−Ａ
−４３１６６１１、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−
Ａ−４３１６８７６、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９もしく
はＥＰ−Ａ−０５９１１０２において開示されるもの、
または３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニ
ル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オ
ン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステロ
イルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オ
ン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−
（４−［ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ
−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エ
トキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−
アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ
−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５
−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７
−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン。
ン、例えば、ＵＳ−Ａ−４３２５８６３、ＵＳ−Ａ−４
３３８２４４、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２、ＵＳ−Ａ−
５２１６０５２、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３、ＤＥ−Ａ
−４３１６６１１、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−
Ａ−４３１６８７６、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９もしく
はＥＰ−Ａ−０５９１１０２において開示されるもの、
または３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニ
ル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オ
ン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステロ
イルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オ
ン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−
（４−［ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ
−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エ
トキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−
アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ
−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５
−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７
−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン。
【００７４】熱可塑性ポリオレフィン組成物中の補助安
定剤の濃度は、通常、組成物の０．１ないし５重量％で
ある。ポリオレフィン組成物は、その後、例えば射出成
形、補助射出成形、吹込成形、押出等のような様々な慣
用の手段のによって所望の生成物に好ましく成形され
る。当業者は、本発明によって容易に製造される広範囲
の有用で望ましい生成物であって、電極製造または絶縁
材のような電気部品、様々な材料の表面処理、および自
動車部品を含む生成物を計画することができる。様々な
用途は単に自動車分野において有用であることができる
けれども、それらは様々な他の分野の試みに適用され
る。内装および外装の自動車用途、例えばインストルメ
ントパネル、熱成形スキン、バンパーフェイシア、クラ
ッド、並びに他の内装および外装トリム部品は、本発明
のための優れた耐久性を有して容易に製造されることが
できる。
定剤の濃度は、通常、組成物の０．１ないし５重量％で
ある。ポリオレフィン組成物は、その後、例えば射出成
形、補助射出成形、吹込成形、押出等のような様々な慣
用の手段のによって所望の生成物に好ましく成形され
る。当業者は、本発明によって容易に製造される広範囲
の有用で望ましい生成物であって、電極製造または絶縁
材のような電気部品、様々な材料の表面処理、および自
動車部品を含む生成物を計画することができる。様々な
用途は単に自動車分野において有用であることができる
けれども、それらは様々な他の分野の試みに適用され
る。内装および外装の自動車用途、例えばインストルメ
ントパネル、熱成形スキン、バンパーフェイシア、クラ
ッド、並びに他の内装および外装トリム部品は、本発明
のための優れた耐久性を有して容易に製造されることが
できる。
【００７５】その未硬化状態においてポリオレフィン組
成物は、組成物を照射に供することによって硬化され
る。放射線重合性成分架橋は、遊離ラジカルを生成する
ことができる電離線、例えばガンマ線、ＵＶ、電子線、
可視光線、マイクロ波または赤外線の放射線源により開
始される。１種以上の型の放射線が使用され得るけれど
も、これは、典型的には、費用問題のために避けられ
る。好ましくは、ＵＶまたは電子線が硬化処理のために
使用される。
成物は、組成物を照射に供することによって硬化され
る。放射線重合性成分架橋は、遊離ラジカルを生成する
ことができる電離線、例えばガンマ線、ＵＶ、電子線、
可視光線、マイクロ波または赤外線の放射線源により開
始される。１種以上の型の放射線が使用され得るけれど
も、これは、典型的には、費用問題のために避けられ
る。好ましくは、ＵＶまたは電子線が硬化処理のために
使用される。
【００７６】例えば、放射線源としてＵＶ線が使用され
るとき、硬化処理は、ＵＶ光を配合された生成物上に向
ける少なくとも一つのＵＶランプを必要とする。これら
のＵＶランプは、アーク光であって、中圧水銀ランプお
よび高圧キセノンランプを含むもの、またはレーザー光
のいずれかを与え得る。使用される光開始剤および光開
始剤混合物は、光開始剤がＵＶエネルギーを吸収できる
ように、ＵＶランプの発光スペクトルと少なくとも部分
的に重なる吸収スペクトルを有しなければならない。光
開始剤は、樹脂または放射線重合性成分を、硬化した
（架橋した）形態に急速に転換する化学反応を素早く開
始する。この光開始された硬化は、典型的に、１秒より
短い時間で起こるけれども、これはＵＶエネルギー伝達
の比率に依存する。例えば、ＵＶエネルギーは約２００
ないし６００ｎｍ、例えば３００ないし５００ｎｍ、好
ましくは３００ないし４００ｎｍの波長を有する。本発
明に従う組成物を照射するために適した放射線源は、典
型的に、約０．１Ｊ／ｃｍ2およびそれ以上、例えば
０．１ないし１５Ｊ／ｃｍ2 、例えば１ないし１５Ｊ／
ｃｍ2 または２ないし１５Ｊ／ｃｍ2 、または１ないし
６Ｊ／ｃｍ2 の比率でエネルギーを与える。例えば、約
１ないし６Ｊ／ｃｍ2 のランプは、典型的に、熱可塑性
ポリオレフィン組成物を硬化するために１秒より短い時
間を要する。当然、他の硬化機構（例えば、熱または湿
分誘発性硬化）を、光開始された架橋が完了した後に、
十分に続けることが可能である。
るとき、硬化処理は、ＵＶ光を配合された生成物上に向
ける少なくとも一つのＵＶランプを必要とする。これら
のＵＶランプは、アーク光であって、中圧水銀ランプお
よび高圧キセノンランプを含むもの、またはレーザー光
のいずれかを与え得る。使用される光開始剤および光開
始剤混合物は、光開始剤がＵＶエネルギーを吸収できる
ように、ＵＶランプの発光スペクトルと少なくとも部分
的に重なる吸収スペクトルを有しなければならない。光
開始剤は、樹脂または放射線重合性成分を、硬化した
（架橋した）形態に急速に転換する化学反応を素早く開
始する。この光開始された硬化は、典型的に、１秒より
短い時間で起こるけれども、これはＵＶエネルギー伝達
の比率に依存する。例えば、ＵＶエネルギーは約２００
ないし６００ｎｍ、例えば３００ないし５００ｎｍ、好
ましくは３００ないし４００ｎｍの波長を有する。本発
明に従う組成物を照射するために適した放射線源は、典
型的に、約０．１Ｊ／ｃｍ2およびそれ以上、例えば
０．１ないし１５Ｊ／ｃｍ2 、例えば１ないし１５Ｊ／
ｃｍ2 または２ないし１５Ｊ／ｃｍ2 、または１ないし
６Ｊ／ｃｍ2 の比率でエネルギーを与える。例えば、約
１ないし６Ｊ／ｃｍ2 のランプは、典型的に、熱可塑性
ポリオレフィン組成物を硬化するために１秒より短い時
間を要する。当然、他の硬化機構（例えば、熱または湿
分誘発性硬化）を、光開始された架橋が完了した後に、
十分に続けることが可能である。
【００７７】試験は、相対的表面耐引掻性を測定するた
めにソルベイエンジニアードポリマー（Ｓｏｌｖａｙ
Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ）によって開発
された。この試験について、試験試料は少なくとも４”
×４”（１００ｍｍ×１００ｍｍ）の寸法であり、中心
に取り付けのための穿孔を有する。ターバーアブレイジ
ョン（Ｔａｂｅｒ Ａｂｒａｓｉｏｎ）試験機（ＡＳＴ
Ｍ Ｄ１０４４において詳細に記載される。）を、試料
の表面を引掻くためのサンディング輪の代わりに、鋭い
チップ（半径≒０．２５ｍｍ）を有するステンレス鋼ス
ライダーを用いることによって改装した。回転の中心か
らのチップの距離３４ｍｍおよびターンテーブル回転７
２ｒｐｍで、実際のスライド速度は２５ｍｍ／秒に等し
く、それは人が表面を通常の速度で指の爪で引っ掻く条
件と同様である。試験は一回転後に終了させる。この試
験に使用する通常の荷重は、１Ｌｂ（４５３．６ｇ）で
ある。試験が完了したとき、試料を、その後、目測で１
ないし５の数字の尺度（１＝優、ほとんど何の擦傷も目
測されない。５＝不良に引っ掻かれる。）について等級
付けする。弱い溝の幅および損傷された表面の性質は、
また、光学顕微鏡またはより複雑な装置、例えば表面プ
ロファイル計（ｓｕｒｆａｃｅ ｐｒｏｆｉｌｏｍｅｔ
ｅｒ）および走査型力顕微鏡（ｓｃａｎｎｉｎｇ ｆｏ
ｒｃｅ ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）でさらに研究すること
もできる。擦傷等級に従う弱い摩滅痕の典型的な大きさ
は、以下のとおりである。
めにソルベイエンジニアードポリマー（Ｓｏｌｖａｙ
Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ）によって開発
された。この試験について、試験試料は少なくとも４”
×４”（１００ｍｍ×１００ｍｍ）の寸法であり、中心
に取り付けのための穿孔を有する。ターバーアブレイジ
ョン（Ｔａｂｅｒ Ａｂｒａｓｉｏｎ）試験機（ＡＳＴ
Ｍ Ｄ１０４４において詳細に記載される。）を、試料
の表面を引掻くためのサンディング輪の代わりに、鋭い
チップ（半径≒０．２５ｍｍ）を有するステンレス鋼ス
ライダーを用いることによって改装した。回転の中心か
らのチップの距離３４ｍｍおよびターンテーブル回転７
２ｒｐｍで、実際のスライド速度は２５ｍｍ／秒に等し
く、それは人が表面を通常の速度で指の爪で引っ掻く条
件と同様である。試験は一回転後に終了させる。この試
験に使用する通常の荷重は、１Ｌｂ（４５３．６ｇ）で
ある。試験が完了したとき、試料を、その後、目測で１
ないし５の数字の尺度（１＝優、ほとんど何の擦傷も目
測されない。５＝不良に引っ掻かれる。）について等級
付けする。弱い溝の幅および損傷された表面の性質は、
また、光学顕微鏡またはより複雑な装置、例えば表面プ
ロファイル計（ｓｕｒｆａｃｅ ｐｒｏｆｉｌｏｍｅｔ
ｅｒ）および走査型力顕微鏡（ｓｃａｎｎｉｎｇ ｆｏ
ｒｃｅ ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）でさらに研究すること
もできる。擦傷等級に従う弱い摩滅痕の典型的な大きさ
は、以下のとおりである。
【００７８】 本試験において１．５またはそれ以下の値が、非常に良
いまたは優秀な性能を示す。
いまたは優秀な性能を示す。
【００７９】本発明は、より詳細に本発明の組成物の製
造を記載する以下の実施例を参照することによって、さ
らに明確にされる。材料および方法の双方に関する多く
の変法が、本発明の目的および意図から逸脱することな
く行われ得ることは、当業者に明白である。光開始剤Ａ
は２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンで
ある。光開始剤Ｂは２−メチル−１−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルホリノプロパノ−１−オンで
ある。
造を記載する以下の実施例を参照することによって、さ
らに明確にされる。材料および方法の双方に関する多く
の変法が、本発明の目的および意図から逸脱することな
く行われ得ることは、当業者に明白である。光開始剤Ａ
は２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンで
ある。光開始剤Ｂは２−メチル−１−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルホリノプロパノ−１−オンで
ある。
【００８０】実施例１ないし２：光開始剤を有するおよ
び有しないＵＶ照射 実施例１ないし２は、以下の表Ｉに示されるように、ポ
リオレフィン成分と放射線硬化性成分からなる試料で、
光開始剤を有するものと有しないものの双方を、水銀ラ
ンプによるＵＶ線に受けさせて比較するものである。光
開始剤を有する配合物は、照射によってショアー硬度に
おいて顕著な増加を表すが、光開始剤を有しない配合物
は、ショアー硬度において変化を示さなかった。双方の
配合物をキシレン中に４時間浸漬した後、光開始剤を有
する試料はより少ない重量増加を示し、これは５個の試
料プラック中へのキシレンの拡散の速度を低下させると
ころの架橋が表面に存在することを示す。従って、ＵＶ
硬化プロセスが可能なことが確証された。ＤＩＮ ５３
５０５に従うショアー硬度、ＡＳＴＭ Ｄ ７８５に従
うロックウェル硬度の決定。“ショアー”および“ロッ
クウェル”値がより高ければ高いほど、硬化した配合物
はより硬い。ソルベイ尺度の値の決定は上記したとおり
である。値がより低ければ低いほど、硬化した配合物は
より硬い。
び有しないＵＶ照射 実施例１ないし２は、以下の表Ｉに示されるように、ポ
リオレフィン成分と放射線硬化性成分からなる試料で、
光開始剤を有するものと有しないものの双方を、水銀ラ
ンプによるＵＶ線に受けさせて比較するものである。光
開始剤を有する配合物は、照射によってショアー硬度に
おいて顕著な増加を表すが、光開始剤を有しない配合物
は、ショアー硬度において変化を示さなかった。双方の
配合物をキシレン中に４時間浸漬した後、光開始剤を有
する試料はより少ない重量増加を示し、これは５個の試
料プラック中へのキシレンの拡散の速度を低下させると
ころの架橋が表面に存在することを示す。従って、ＵＶ
硬化プロセスが可能なことが確証された。ＤＩＮ ５３
５０５に従うショアー硬度、ＡＳＴＭ Ｄ ７８５に従
うロックウェル硬度の決定。“ショアー”および“ロッ
クウェル”値がより高ければ高いほど、硬化した配合物
はより硬い。ソルベイ尺度の値の決定は上記したとおり
である。値がより低ければ低いほど、硬化した配合物は
より硬い。
【００８１】 注：1 アイソタクチックポリプロピレン、Ｍw ＝２４００００、Ｍw ／Ｍn ＝４ ．１ 2 非晶質シス−１，４−ポリブタジエン、ムーニー粘度ＭＬ（１＋４、１０ ０℃）＝４０ 3 酸化防止剤＝１：１テトラキス［メチレン（３，５−ジ−第三ブチル−４ −ヒドロキシヒドロシンナメート）］メタン／トリス（２，４−ジ−第三ブチル フェニル）ホスフィット
【００８２】実施例３ないし５：光開始に基づく表面性
質 実施例３ないし５は、以下の表ＩＩに示さされるよう
に、代表的なエンジニアポリオレフィンブレンドの表面
硬度および耐擦傷性性能を光開始の前および後で比較す
るものである。この実験において、水銀“Ｄ”バルブを
放射線源として使用した。このバルブは、水銀“Ｈ”バ
ルブと比較したとき、短波長でより低い発光および長波
長でより増大された発光を有する。光開始剤“Ａ”およ
び光開始剤“Ｂ”をそれぞれ使用する実施例４および５
は、実施例３における光開始剤を有さない試料よりも、
硬度における顕著により大きな増加および大幅に改良さ
れた耐擦傷性を示す。
質 実施例３ないし５は、以下の表ＩＩに示さされるよう
に、代表的なエンジニアポリオレフィンブレンドの表面
硬度および耐擦傷性性能を光開始の前および後で比較す
るものである。この実験において、水銀“Ｄ”バルブを
放射線源として使用した。このバルブは、水銀“Ｈ”バ
ルブと比較したとき、短波長でより低い発光および長波
長でより増大された発光を有する。光開始剤“Ａ”およ
び光開始剤“Ｂ”をそれぞれ使用する実施例４および５
は、実施例３における光開始剤を有さない試料よりも、
硬度における顕著により大きな増加および大幅に改良さ
れた耐擦傷性を示す。
【００８３】 注：1 アイソタクチックポリプロピレン、Ｍw ＝２４００００、Ｍw ／Ｍn ＝４ ．１ 2 ポリ（エチレン−コ−オクタン）、Ｍw ＝１０００００、Ｍw ／Ｍn ＝２ 3 メタクリル化ポリブタジエン、ブルックフィールド粘度＝６００００ｃｐ ｓ＠３５℃ 4 酸化防止剤＝１：１テトラキス［メチレン（３，５−ジ−第三ブチル−４ −ヒドロキシヒドロシンナメート）］メタン／トリス（２，４−ジ−第三ブチル フェニル）ホスフィット
【００８４】実施例６ないし９：より大きな不飽和度を
有する放射線硬化性成分 実施例６ないし９は、以下の表ＩＩＩに示されるよう
に、配合したとき、放射線重合性成分がより高い不飽和
度を有するように（よりメタクリレートグラフトしたポ
リブタジエン）製造され、そして表ＩＩ（実施例３ない
し５）における配合物と比較するものである。ＵＶ硬化
後の実施例６ないし９の耐擦傷性は、放射線重合性成分
中でより低い不飽和度を有するポリオレフィン組成物を
超えるさらなる改良を表した。
有する放射線硬化性成分 実施例６ないし９は、以下の表ＩＩＩに示されるよう
に、配合したとき、放射線重合性成分がより高い不飽和
度を有するように（よりメタクリレートグラフトしたポ
リブタジエン）製造され、そして表ＩＩ（実施例３ない
し５）における配合物と比較するものである。ＵＶ硬化
後の実施例６ないし９の耐擦傷性は、放射線重合性成分
中でより低い不飽和度を有するポリオレフィン組成物を
超えるさらなる改良を表した。
【００８５】 注：1 アイソタクチックポリプロピレン、Ｍw ＝２４００００、Ｍw ／Ｍn ＝４ ．１ 2 ポリ（エチレン−コ−オクタン）、Ｍw ＝１０００００、Ｍw ／Ｍn ＝２ 3 メタクリル化ポリブタジエン、ブルックフィールド粘度＝６００００ｃｐ ｓ＠３５℃、１５％アクリレート含有量 4 酸化防止剤＝１：１テトラキス［メチレン（３，５−ジ−第三ブチル−４ −ヒドロキシヒドロシンナメート）］メタン／トリス（２，４−ジ−第三ブチル フェニル）ホスフィット
【００８６】実施例１０：表面耐久性についてのＵＶ線
および熱処理の効果 実施例１０は、以下の表ＩＶに示されるように、ＵＶ線
およびそれに続く熱硬化でプラスチック成分を処理する
効果を試験するものである。ＵＶ線および引き続く熱処
理に暴露されたとき、同一のＵＶ照射であるが熱硬化な
しに暴露されたプラスチック成分と比較して、改良され
た耐擦傷性を有する表面を生じた。
および熱処理の効果 実施例１０は、以下の表ＩＶに示されるように、ＵＶ線
およびそれに続く熱硬化でプラスチック成分を処理する
効果を試験するものである。ＵＶ線および引き続く熱処
理に暴露されたとき、同一のＵＶ照射であるが熱硬化な
しに暴露されたプラスチック成分と比較して、改良され
た耐擦傷性を有する表面を生じた。
【００８７】 注：1 アイソタクチックポリプロピレン、Ｍw ＝２４００００、Ｍw ／Ｍn ＝４ ．１ 2 メタクリル化ポリブタジエン、ブルックフィールド粘度＝６００００ｃｐ ｓ＠３５℃、１５％アクリレート含有量 3 酸化防止剤＝１：１テトラキス［メチレン（３，５−ジ−第三ブチル−４ −ヒドロキシヒドロシンナメート）］メタン／トリス（２，４−ジ−第三ブチル フェニル）ホスフィット
【００８８】実施例１１：安定剤の混入 実施例１０に従い、２０００より小さい分子量を有する
立体障害アミン、好ましくは４００ないし１０００の分
子量を有する立体障害アミン、２０００より大きい分子
量を有する立体障害アミン、好ましくは２０００ないし
４０００の分子量を有する立体障害アミン、ヒドロキシ
フェニルベンゾトリアゾール類のＵＶ吸収剤またはその
混合物をさらに含んで製造された成形物は、改良された
耐擦傷性およびＵＶ光および熱暴露の劣化効果に対する
安定性を示した。
立体障害アミン、好ましくは４００ないし１０００の分
子量を有する立体障害アミン、２０００より大きい分子
量を有する立体障害アミン、好ましくは２０００ないし
４０００の分子量を有する立体障害アミン、ヒドロキシ
フェニルベンゾトリアゾール類のＵＶ吸収剤またはその
混合物をさらに含んで製造された成形物は、改良された
耐擦傷性およびＵＶ光および熱暴露の劣化効果に対する
安定性を示した。
【００８９】本発明の好ましい態様は、上記において記
載されるけれども、本発明は本明細書に開示された特定
の態様に限定されず、当業者によって多くの変法が可能
であると理解される。使用された材料および化学的な詳
細は、本発明によって開示および教示された方法および
組成物から逸脱することなく、わずかに異なるまたは変
化されることができると理解される。
載されるけれども、本発明は本明細書に開示された特定
の態様に限定されず、当業者によって多くの変法が可能
であると理解される。使用された材料および化学的な詳
細は、本発明によって開示および教示された方法および
組成物から逸脱することなく、わずかに異なるまたは変
化されることができると理解される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エドモンド クウォーク−リューング ラ ウ アメリカ国，テキサス州 76006，アーリ ントン，リンカーン ドライブ 604 (72)発明者 サトチット スリニバサン アメリカ国，テキサス州 75007，カロル トン，ブランチハロー 1921 (72)発明者 ピーター ジェームス ペロン アメリカ国，テキサス州 76006，アーリ ントン，ロイヤル ドミニオン コート 1121 (72)発明者 ピーター シェルシー ソレラ アメリカ国，ニューヨーク州 10901，サ ファーン，イースト マイヤー ドライブ 20 (72)発明者 アンソニー デビット デベリス アメリカ国，ニューヨーク州 10923，ガ ーナービル，フレデリック ストリート 29 (72)発明者 チア−フー チャン アメリカ国，ニューヨーク州 10994，ウ エスト ニアック，パロット ロード 169 (72)発明者 ジェラルド アンソニー カポッチ アメリカ国，コネチカット州 06831，グ リーンウィッチ，グリーンウェイ ドライ ブ 25 (72)発明者 ジョセフ スティーブン プグリシ アメリカ国，ニューヨーク州 10562，オ シニング，ミスチック ドライブ ９ (72)発明者 ダグラス ワイネ ホージー アメリカ国，ニューヨーク州 10510，ブ リアークリフ マナー，シンプソン ロー ド ５
Claims (17)
- 【請求項１】 （ａ）熱可塑性ポリオレフィンからなる
ベース成分、（ｂ）少なくとも１種の放射線重合性成
分、および（ｃ）少なくとも１種の光開始剤からなる増
大した表面耐久性を有する熱可塑性ポリオレフィン組成
物。 - 【請求項２】 さらに０．１ないし３０重量％の量の充
填剤（ｄ）を含んでなる、請求項１記載の組成物。 - 【請求項３】 熱可塑性ポリオレフィンベース成分
（ａ）は、結晶性または半結晶性ポリ−α−オレフィン
と非晶質ポリ−α−オレフィンとのブレンドからなると
ころの、請求項１記載の組成物。 - 【請求項４】 熱可塑性ポリオレフィンベース成分
（ａ）は、組成物の９９ないし５５重量％の量で存在す
るところの、請求項１記載の組成物。 - 【請求項５】 放射線重合性成分（ｂ）は、不飽和ポリ
オレフィンからなるところの、請求項１記載の組成物。 - 【請求項６】 不飽和ポリオレフィン（ｂ）は、エチレ
ン／プロピレン／ジエンコポリマー、ポリブタジエン、
ポリイソプレン、スチレン性ポリマー、エチレン／プロ
ピレンコポリマー、またはそれらの混合物からなるとこ
ろの、請求項５記載の組成物。 - 【請求項７】 放射線重合性成分（ｂ）は、熱可塑性ポ
リオレフィン組成物の１ないし３０重量％の量で存在す
るところの、請求項１記載の組成物。 - 【請求項８】 光開始剤（ｃ）は、組成物の０．０１な
いし５重量％の量で存在するところの、請求項１記載の
組成物。 - 【請求項９】 （１）（ａ）熱可塑性ポリオレフィンベ
ース成分、（ｂ）少なくとも１種の放射線重合性成分、
および（ｃ）少なくとも１種の光開始剤からなる混合物
を製造すること、および （２）熱可塑性ポリオレフィン組成物の表面を放射線に
暴露し、それにより増大した表面耐久性を有する熱可塑
性ポリオレフィン組成物を提供することからなる増大し
た表面耐久性を有する硬化した熱可塑性ポリオレフィン
組成物を提供する方法。 - 【請求項１０】 放射線は、紫外線、電子線、ガンマ
線、可視光線、マイクロ波、赤外線もしくは熱放射線、
またはそれらの混合線であるところの、請求項９記載の
方法。 - 【請求項１１】 放射線は、０．１Ｊ／ｃｍ2 およびそ
れ以上の出力でかつ２００ないし５００ｎｍの波長で与
えられるところの、請求項１０記載の方法。 - 【請求項１２】 熱可塑性ポリオレフィンベース成分
（ａ）は、結晶性または半結晶性ポリ−α−オレフィン
と非晶質ポリ−α−オレフィンとのブレンドに選択さ
れ、放射線重合性成分（ｂ）は、組成物の０．０１ない
し２０重量％の量で存在する不飽和ポリオレフィンに選
択され、光開始剤（ｃ）は、組成物の０．１ないし５重
量％の量で存在する２，２−ジメトキシ−２−フェニル
アセトフェノンまたは２−メチル−１−（４−メチルチ
オフェニル）−２−モルホリノ−プロパノ−１−オン、
またはビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，
２，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシドと１−
ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトンとの混合物
であり、そして所望により充填剤（ｄ）が混合物に添加
されるところの、請求項９記載の方法。 - 【請求項１３】 さらに、組成物の表面を放射線に暴露
する前に、熱可塑性ポリオレフィン組成物を所望の形状
に成形することからなる、請求項９記載の方法。 - 【請求項１４】 請求項９記載の方法によって成形され
た増大した表面耐久性を有する熱可塑性ポリオレフィン
組成物。 - 【請求項１５】 放射線重合性成分（ｂ）は重合され
て、増大した表面耐久性を提供し、同時に組成物の外側
表面はソルベイ尺度に基づいて２またはそれより低い引
掻等級を与えるに十分な量の重合した成分を含むところ
の、請求項１記載の熱可塑性ポリオレフィン組成物。 - 【請求項１６】 フェノール性酸化防止剤、ホスフィッ
ト、ヒドロキシルアミン、立体障害アミン、ＵＶ吸収剤
およびそれらの組み合わせからなる群より選択される少
なくとも１種の安定剤（ｅ）をさらに含む、請求項１記
載の組成物。 - 【請求項１７】 組成物は、フェノール性酸化防止剤、
ホスフィット、ヒドロキシルアミン、立体障害アミン、
ＵＶ吸収剤およびそれらの組み合わせからなる群より選
択される少なくとも１種の安定剤（ｅ）をさらに含むと
ころの、請求項９記載の方法。
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