JPH11221583A - Ｔｍａｈ廃液の超臨界水酸化処理方法 - Google Patents
Ｔｍａｈ廃液の超臨界水酸化処理方法Info
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- JPH11221583A JPH11221583A JP2698698A JP2698698A JPH11221583A JP H11221583 A JPH11221583 A JP H11221583A JP 2698698 A JP2698698 A JP 2698698A JP 2698698 A JP2698698 A JP 2698698A JP H11221583 A JPH11221583 A JP H11221583A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体製造工場からの廃液に含まれる難分解
性のＴＭＡＨを効率よく分解処理する。 【解決手段】 テトラ・メチル・アンモニウム・ハイド
ロオキサイドを含む廃液を、反応温度５５０〜６５０
℃、反応圧力２３〜２５ＭＰａの条件下で、酸化剤とし
て酸素又は過酸化水素水を用いて超臨界水酸化処理す
る。
性のＴＭＡＨを効率よく分解処理する。 【解決手段】 テトラ・メチル・アンモニウム・ハイド
ロオキサイドを含む廃液を、反応温度５５０〜６５０
℃、反応圧力２３〜２５ＭＰａの条件下で、酸化剤とし
て酸素又は過酸化水素水を用いて超臨界水酸化処理す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、テトラ・メチル・
アンモニウム・ハイドロオキサイドを含む廃液を分解処
理する方法、詳しくは超臨界水酸化法で処理する方法に
関するものである。
アンモニウム・ハイドロオキサイドを含む廃液を分解処
理する方法、詳しくは超臨界水酸化法で処理する方法に
関するものである。
【０００２】
【従来技術】半導体製造工場や液晶製造工場においてエ
ッチングレジスト（以下単に「レジスト」という）の洗
浄剤として使用され、排出されるテトラ・メチル・アン
モニウム・ハイドロオキサイド（以下単に「ＴＭＡＨ」
という）は強塩基性を示し、生物処理法では処理が難か
しい難分解性物質である。
ッチングレジスト（以下単に「レジスト」という）の洗
浄剤として使用され、排出されるテトラ・メチル・アン
モニウム・ハイドロオキサイド（以下単に「ＴＭＡＨ」
という）は強塩基性を示し、生物処理法では処理が難か
しい難分解性物質である。
【０００３】すなわち、このＴＭＡＨは、これ自体が難
分解性であると共に、ユースポイントにおいて約２％の
高濃度で使用されている。これに対しＴＭＡＨのみを含
む廃水を活性汚泥法で処理できるのは最高０．３〜０．
５％という低濃度のものに限られため、生物処理するに
は高倍率で希釈することが必要になって、処理量の増大
を招くからである。また、生物処理はもともと処理に時
間がかかるという欠点もある。
分解性であると共に、ユースポイントにおいて約２％の
高濃度で使用されている。これに対しＴＭＡＨのみを含
む廃水を活性汚泥法で処理できるのは最高０．３〜０．
５％という低濃度のものに限られため、生物処理するに
は高倍率で希釈することが必要になって、処理量の増大
を招くからである。また、生物処理はもともと処理に時
間がかかるという欠点もある。
【０００４】これらのことから、現在は、上記ＴＭＡＨ
廃液の処理はほとんどがエバポレータなどの濃縮設備に
よつて廃液量を減らした後、焼却処分されており、処理
に高いコストを費やしているのが現状である。
廃液の処理はほとんどがエバポレータなどの濃縮設備に
よつて廃液量を減らした後、焼却処分されており、処理
に高いコストを費やしているのが現状である。
【０００５】なお、ＴＭＡＨは高価な溶媒であるため再
利用されている事例もあるが、これは、レジストを洗浄
した高濃度のＴＭＡＨ廃液はレジストとの分離が技術的
に簡単でないという問題があるため再利用の対象とされ
ておらず、ＴＭＡＨ洗浄後の洗浄純水に含まれるＴＭＡ
Ｈだけが、エバポレータ等での濃縮を介して再利用され
ているにすぎない。
利用されている事例もあるが、これは、レジストを洗浄
した高濃度のＴＭＡＨ廃液はレジストとの分離が技術的
に簡単でないという問題があるため再利用の対象とされ
ておらず、ＴＭＡＨ洗浄後の洗浄純水に含まれるＴＭＡ
Ｈだけが、エバポレータ等での濃縮を介して再利用され
ているにすぎない。
【０００６】
【発明が解決すべき課題】上述のように、処理に時間が
かかり、大量の稀釈を要するなどの理由で、生物処理す
ることは困難とされている半導体製造工場からの廃液に
含まれるＴＭＡＨは、高いコストをかけて濃縮し焼却処
理されているが、この焼却処理においても更に検討すべ
き課題が指摘される。例えば、ＴＭＡＨの焼却に伴って
これに含まれている窒素が大気汚染を引き起こす有害な
ＮＯｘガスとなるため、大掛かりな排ガス処理（脱硝処
理）設備が必要になる。また、この設備は焼却炉の炉壁
や配管の腐食を避けるために耐酸性，耐食性の材を用い
る必要がある。
かかり、大量の稀釈を要するなどの理由で、生物処理す
ることは困難とされている半導体製造工場からの廃液に
含まれるＴＭＡＨは、高いコストをかけて濃縮し焼却処
理されているが、この焼却処理においても更に検討すべ
き課題が指摘される。例えば、ＴＭＡＨの焼却に伴って
これに含まれている窒素が大気汚染を引き起こす有害な
ＮＯｘガスとなるため、大掛かりな排ガス処理（脱硝処
理）設備が必要になる。また、この設備は焼却炉の炉壁
や配管の腐食を避けるために耐酸性，耐食性の材を用い
る必要がある。
【０００７】本発明者は以上のような半導体製造工場か
らの廃液に含まれる難分解性のＴＭＡＨの処理について
種々検討を重ね、上記問題点を解決することができる本
発明をなすに至ったものである。
らの廃液に含まれる難分解性のＴＭＡＨの処理について
種々検討を重ね、上記問題点を解決することができる本
発明をなすに至ったものである。
【０００８】すなわち、本発明者は、近年、水の臨界点
（３７４℃、２２ＭＰａ）を超えた超臨界水中で有機物
の酸化処理を行う方法として提案されている超臨界水酸
化処理法に注目した（特公平１‐３８５３２号公報、米
国特許第４１ｌ３４４６号公報、米国特許第４３３８１
９９号公報、米国特許第４５４３ｌ９０号公報）。
（３７４℃、２２ＭＰａ）を超えた超臨界水中で有機物
の酸化処理を行う方法として提案されている超臨界水酸
化処理法に注目した（特公平１‐３８５３２号公報、米
国特許第４１ｌ３４４６号公報、米国特許第４３３８１
９９号公報、米国特許第４５４３ｌ９０号公報）。
【０００９】この処理法によれば、水の臨界点（温度３
７４℃、圧力２２ＭＰａ）以上において、超臨界水の存
在下で処理対象物の理論酸素量程度の酸化剤（空気、液
体酸素、過酸化水素水、溶存酸素など）を供給するだけ
で、処理対象有機物を完全に分解できる処理方法であ
り、廃液や廃棄物中の有機物（炭素、水素）は完全に二
酸化炭素と水に分解されて、窒素化合物については窒素
ガスに、また、酸を生成するハロゲン元素については中
和剤を同時に供給することで無機塩の形まで分解され
る。
７４℃、圧力２２ＭＰａ）以上において、超臨界水の存
在下で処理対象物の理論酸素量程度の酸化剤（空気、液
体酸素、過酸化水素水、溶存酸素など）を供給するだけ
で、処理対象有機物を完全に分解できる処理方法であ
り、廃液や廃棄物中の有機物（炭素、水素）は完全に二
酸化炭素と水に分解されて、窒素化合物については窒素
ガスに、また、酸を生成するハロゲン元素については中
和剤を同時に供給することで無機塩の形まで分解され
る。
【００１０】ところで超臨界水酸化処理を工業的規模で
実施する設備においては、酸化剤として、安価であるこ
と、取扱に危険がなく簡易な設備で容易に利用できるこ
となどの理由から空気の使用が望まれるが、本発明者が
検討を重ねたところ、上記のＴＭＡＨ廃液の超臨界水酸
化処理に酸化剤として空気を用いた場合には、反応温度
にもよるが、含有窒素の相当部分が窒素ガスとならずに
処理流体中に亜硝酸，硝酸やアンモニアが多く含まれて
しまうという問題を知見した。
実施する設備においては、酸化剤として、安価であるこ
と、取扱に危険がなく簡易な設備で容易に利用できるこ
となどの理由から空気の使用が望まれるが、本発明者が
検討を重ねたところ、上記のＴＭＡＨ廃液の超臨界水酸
化処理に酸化剤として空気を用いた場合には、反応温度
にもよるが、含有窒素の相当部分が窒素ガスとならずに
処理流体中に亜硝酸，硝酸やアンモニアが多く含まれて
しまうという問題を知見した。
【００１１】この現象が現れる理由は現時点において理
論的に必ずしも明らかでないが、純酸素等を用いた場合
と空気を用いた場合の違いである空気中の窒素ガスの存
在が影響するものと推定される。しかしいずれにしてＴ
ＭＡＨ廃液の工業的な処理設備において、処理水中にア
ンモニアや硝酸等のＮ化合物が多量に含まれてしまうこ
とは問題であり、後段にアンモニアや硝酸を処理する設
備が更に必要になることの負担が大きい。
論的に必ずしも明らかでないが、純酸素等を用いた場合
と空気を用いた場合の違いである空気中の窒素ガスの存
在が影響するものと推定される。しかしいずれにしてＴ
ＭＡＨ廃液の工業的な処理設備において、処理水中にア
ンモニアや硝酸等のＮ化合物が多量に含まれてしまうこ
とは問題であり、後段にアンモニアや硝酸を処理する設
備が更に必要になることの負担が大きい。
【００１２】本発明者はこのような知見に基づいて更に
鋭意検討を重ね、以下の発明を提案するものである。
鋭意検討を重ね、以下の発明を提案するものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、超臨界水酸化
処理法を用いてＴＭＡＨを含む廃液を処理するに際し、
反応温度５５０〜６５０℃、好ましくは６００〜６５０
℃、圧力２３〜２５ＭＰａの条件下で、酸化剤として酸
素又は過酸化水素水を用いてＴＭＡＨを超臨界水酸化処
理することを特徴とする。反応温度は５５０℃未満で
は、処理水に未分解物としてＴＯＣ成分が残留する可能
性があり、６５０℃を越えると、反応器の材質の選定が
難しくなるという問題を招くため上記の範囲とすること
がよい。圧力は２３ＭＰａ未満では超臨界水の密度が低
下するため滞留時間が短くなり未分解物が生成される可
能性があり、２５ＭＰａを越えると耐圧構造を強化する
必要があるため配管や反応器の肉厚をかなり厚くするこ
とを要し、コスト的に不利になるという問題を招くため
上記の範囲とされることがよい。
処理法を用いてＴＭＡＨを含む廃液を処理するに際し、
反応温度５５０〜６５０℃、好ましくは６００〜６５０
℃、圧力２３〜２５ＭＰａの条件下で、酸化剤として酸
素又は過酸化水素水を用いてＴＭＡＨを超臨界水酸化処
理することを特徴とする。反応温度は５５０℃未満で
は、処理水に未分解物としてＴＯＣ成分が残留する可能
性があり、６５０℃を越えると、反応器の材質の選定が
難しくなるという問題を招くため上記の範囲とすること
がよい。圧力は２３ＭＰａ未満では超臨界水の密度が低
下するため滞留時間が短くなり未分解物が生成される可
能性があり、２５ＭＰａを越えると耐圧構造を強化する
必要があるため配管や反応器の肉厚をかなり厚くするこ
とを要し、コスト的に不利になるという問題を招くため
上記の範囲とされることがよい。
【００１４】ここで供給する酸化剤の量は、ＴＭＡＨを
酸化分解するのに必要な理論酸素量の約１〜１．５倍と
され、反応時間は約ｌ分程度で二酸化炭素、水、窒素ガ
スにまで完全分解することができる。
酸化分解するのに必要な理論酸素量の約１〜１．５倍と
され、反応時間は約ｌ分程度で二酸化炭素、水、窒素ガ
スにまで完全分解することができる。
【００１５】上記の超臨界水酸化処理においては、ＴＭ
ＡＨ自体の酸化熱で反応温度を持続保持することが好ま
しく、処理廃液中のＴＭＡＨの濃度が薄い場合には、超
臨界水酸化反応器に供給する前段において濃度を１０〜
２０ｗｔ％程度まで濃縮する操作を行うようにしてもよ
い。また、処理廃液中のＴＭＡＨだけでは熱量が不足す
る場合には、補助燃料を供給してもよい。この補助燃料
としては、アルコール等を用いることもできるが、半導
体や液晶工場からの廃液を処理する場合にあっては、こ
れらの工場から同時に排出されるアンモニア廃液、剥離
剤として使用されている有機溶剤（例えば、Ｎ‐メチル
−２−ピロリドン、アセトン等）、工場内で発生する汚
泥などを用いることもできる。この工場排出廃液等を補
助燃料として利用する場合には、複数の廃棄物を一括に
処理できるという効率的な処理が実現できる。補助燃料
の供給は、ＴＭＡＨ廃液に予め混合してもよいし、供給
系の途中で合流させるようにしてもよい。
ＡＨ自体の酸化熱で反応温度を持続保持することが好ま
しく、処理廃液中のＴＭＡＨの濃度が薄い場合には、超
臨界水酸化反応器に供給する前段において濃度を１０〜
２０ｗｔ％程度まで濃縮する操作を行うようにしてもよ
い。また、処理廃液中のＴＭＡＨだけでは熱量が不足す
る場合には、補助燃料を供給してもよい。この補助燃料
としては、アルコール等を用いることもできるが、半導
体や液晶工場からの廃液を処理する場合にあっては、こ
れらの工場から同時に排出されるアンモニア廃液、剥離
剤として使用されている有機溶剤（例えば、Ｎ‐メチル
−２−ピロリドン、アセトン等）、工場内で発生する汚
泥などを用いることもできる。この工場排出廃液等を補
助燃料として利用する場合には、複数の廃棄物を一括に
処理できるという効率的な処理が実現できる。補助燃料
の供給は、ＴＭＡＨ廃液に予め混合してもよいし、供給
系の途中で合流させるようにしてもよい。
【００１６】上記の処理において、ＴＭＡＨ廃液（補助
燃料を供給する場合を含む：以下において同じ）と酸素
の超臨界水酸化反応器への供給は、混合した状態で供給
してもよいし、二重管ノズル等を用いて反応器への噴霧
供給時に混合するようにしてもよい。またＴＭＡＨ廃液
は供給の途中で必要に応じて予熱してもよい。
燃料を供給する場合を含む：以下において同じ）と酸素
の超臨界水酸化反応器への供給は、混合した状態で供給
してもよいし、二重管ノズル等を用いて反応器への噴霧
供給時に混合するようにしてもよい。またＴＭＡＨ廃液
は供給の途中で必要に応じて予熱してもよい。
【００１７】
【発明の実施の形態】実施形態１ 図１は本発明方法を実施するための用いられる装置の概
要を模式図で表したものである。
要を模式図で表したものである。
【００１８】この図１において、超臨界水酸化反応器５
に対して、ＴＭＡＨ廃液の供給系は次のように構成され
ている。
に対して、ＴＭＡＨ廃液の供給系は次のように構成され
ている。
【００１９】すなわち、ＴＭＡＨ廃液は、ＴＭＡＨ廃液
供給ポンプ１により加圧されて供給配管１１を介して超
臨界水酸化反応器５に該液を供給するように接続されて
いると共に、その供給径路の途中で、同じく図示しない
加圧手段により水の臨界圧に加圧された状態の酸素（又
は過酸化水素水）が次のように混合される。すなわち、
予めボンベ等に加圧充填して準備されている酸素を、配
管２１を介して上記原液の供給配管１１の原液と合流混
合させ、合流管３を通して超臨界水酸化反応器５に供給
される。なお上記ＴＭＡＨ廃液は供給系の途中で反応器
５の処理流体の熱を用いて必要により予熱してもよい。
供給ポンプ１により加圧されて供給配管１１を介して超
臨界水酸化反応器５に該液を供給するように接続されて
いると共に、その供給径路の途中で、同じく図示しない
加圧手段により水の臨界圧に加圧された状態の酸素（又
は過酸化水素水）が次のように混合される。すなわち、
予めボンベ等に加圧充填して準備されている酸素を、配
管２１を介して上記原液の供給配管１１の原液と合流混
合させ、合流管３を通して超臨界水酸化反応器５に供給
される。なお上記ＴＭＡＨ廃液は供給系の途中で反応器
５の処理流体の熱を用いて必要により予熱してもよい。
【００２０】超臨界水酸化反応器５は、既知のベッセル
型と称される縦筒型の反応器であっても、パイプ型（管
型）と称される型式のものであってもよいが、図１中の
符号５で示しているのはパイプ型の反応器である。
型と称される縦筒型の反応器であっても、パイプ型（管
型）と称される型式のものであってもよいが、図１中の
符号５で示しているのはパイプ型の反応器である。
【００２１】超臨界水酸化反応器５に導入（供給）され
た上記ＴＭＡＨ廃液と酸素の混合物は、酸素の存在によ
り酸化反応して自燃・発熱し、超臨界水酸化反応を起こ
す。この際、酸化剤として酸素を用いた反応にあって
は、超臨界水酸化反応で生成される処理流体中にアンモ
ニアあるいは硝酸態窒素は生成されず、窒素はＮ2 ガス
となる。
た上記ＴＭＡＨ廃液と酸素の混合物は、酸素の存在によ
り酸化反応して自燃・発熱し、超臨界水酸化反応を起こ
す。この際、酸化剤として酸素を用いた反応にあって
は、超臨界水酸化反応で生成される処理流体中にアンモ
ニアあるいは硝酸態窒素は生成されず、窒素はＮ2 ガス
となる。
【００２２】超臨界水酸化反応器５から、排出系を構成
する排出管６を通して排出された処理流体は、図示しな
い減圧装置などを含んで構成される分離器７で気体と液
体に気液分離され、Ｎ2 ，ＣＯ2 の排ガスは排ガス排出
配管８を介して大気に放出され、液体（水）は水排出配
管９を介して河川，海洋等に排出される。
する排出管６を通して排出された処理流体は、図示しな
い減圧装置などを含んで構成される分離器７で気体と液
体に気液分離され、Ｎ2 ，ＣＯ2 の排ガスは排ガス排出
配管８を介して大気に放出され、液体（水）は水排出配
管９を介して河川，海洋等に排出される。
【００２３】この実施形態によれば、超臨界水酸化反応
を反応温度を５５０〜６５０℃、圧力を２２〜２５ＭＰ
ａの範囲で行うことで、廃液中のＴＭＡＨの窒素分はア
ンモニアや硝酸態窒素とならずにＮ2 ガスとなり、ＮＯ
ｘの排ガス処理設備を設けることなく所定の排出基準値
以下の良好な処理を有効に実施することができる。
を反応温度を５５０〜６５０℃、圧力を２２〜２５ＭＰ
ａの範囲で行うことで、廃液中のＴＭＡＨの窒素分はア
ンモニアや硝酸態窒素とならずにＮ2 ガスとなり、ＮＯ
ｘの排ガス処理設備を設けることなく所定の排出基準値
以下の良好な処理を有効に実施することができる。
【００２４】なお、図１には、供給系の合流管３に補助
燃料を補助燃料供給ポンプ４から供給配管４１を介して
供給できるようにしており、ＴＭＡＨ廃液の発熱量が不
足する場合にはこの補助燃料を供給することができる。
燃料を補助燃料供給ポンプ４から供給配管４１を介して
供給できるようにしており、ＴＭＡＨ廃液の発熱量が不
足する場合にはこの補助燃料を供給することができる。
【００２５】
【実施例】図１の連続処理装置を用いて、ＴＭＡＨ廃液
の超臨界水酸化を行った処理条件について下記表１に示
す。
の超臨界水酸化を行った処理条件について下記表１に示
す。
【００２６】
【表１】
【００２７】上記のＴＭＡＨ廃液を、酸化剤として酸素
を用いて超臨界水酸化処理した場合の結果について下記
表２に示す。
を用いて超臨界水酸化処理した場合の結果について下記
表２に示す。
【００２８】また比較のために酸化剤として空気を用い
た場合の結果について下記表３に示す。
た場合の結果について下記表３に示す。
【００２９】
【表２】
【００３０】
【表３】
【００３１】これらの表３から分かるように、超臨界水
酸化処理の酸化剤として空気を用いると、反応場に供給
された空気に多量の窒素が存在するため、ＴＭＡＨ中の
窒素分をＮ2 まで完全分解することを阻害する結果が生
じている。すなわち、反応温度が低い場合には、分解さ
れないアンモニアが残留し、反応温度が高い場合は硝
酸、亜硝酸が生成している。なお、表３から分かるよう
に、空気を酸化剤として用いた場合であっても、反応温
度を６００℃近傍に制御することができれば、アンモニ
ア、硝酸及び亜硝酸が生成しない処理を行うことは可能
であるが、温度制御を厳しく行う必要があり、このため
には、処理水のｐＨや処理ガスのＮＯｘなどのモニタリ
ング機構、モニタリング値によって供給側の供給量の制
御機構などが必要になる。
酸化処理の酸化剤として空気を用いると、反応場に供給
された空気に多量の窒素が存在するため、ＴＭＡＨ中の
窒素分をＮ2 まで完全分解することを阻害する結果が生
じている。すなわち、反応温度が低い場合には、分解さ
れないアンモニアが残留し、反応温度が高い場合は硝
酸、亜硝酸が生成している。なお、表３から分かるよう
に、空気を酸化剤として用いた場合であっても、反応温
度を６００℃近傍に制御することができれば、アンモニ
ア、硝酸及び亜硝酸が生成しない処理を行うことは可能
であるが、温度制御を厳しく行う必要があり、このため
には、処理水のｐＨや処理ガスのＮＯｘなどのモニタリ
ング機構、モニタリング値によって供給側の供給量の制
御機構などが必要になる。
【００３２】これに対し、表２に示すように酸化剤とし
て窒素を含まない酸素を用いている本発明の実施例によ
れば、反応温度によらず有機物、窒素分ともにＣＯ2 ，
Ｎ2まで完全分解できていることが分かる。したがっ
て、反応温度を厳しく制御するような機構は必要なく、
簡易な設備、簡易な運転が可能となる。
て窒素を含まない酸素を用いている本発明の実施例によ
れば、反応温度によらず有機物、窒素分ともにＣＯ2 ，
Ｎ2まで完全分解できていることが分かる。したがっ
て、反応温度を厳しく制御するような機構は必要なく、
簡易な設備、簡易な運転が可能となる。
【００３３】よって、本発明は難分解性物質であるＴＭ
ＡＨ廃液処理に対して、非常に有効な手段であることが
分かる。
ＡＨ廃液処理に対して、非常に有効な手段であることが
分かる。
【００３４】
【発明の効果】本発明によれば、生物処理では分解する
ことが困難なＴＭＡＨ廃液を超臨界水酸化処理を行うこ
とで、以下の効果が得られる。
ことが困難なＴＭＡＨ廃液を超臨界水酸化処理を行うこ
とで、以下の効果が得られる。
【００３５】反応時間約ｌ分と短時間で、有機物はすべ
て二酸化炭素と水に分解され、窒素分はすべて窒素ガス
にまで分解されるため、焼却処理を行った場合に発生す
るＮＯｘガスを処理するための排カス設備が不要とな
る。
て二酸化炭素と水に分解され、窒素分はすべて窒素ガス
にまで分解されるため、焼却処理を行った場合に発生す
るＮＯｘガスを処理するための排カス設備が不要とな
る。
【００３６】超臨界水酸化する際の酸化剤として空気を
用いた場合には、窒素除去率が悪くなるが、本発明にお
いては酸素あるいは過酸化水素水を用いることで有機
物、窒素分をＣＯ2 ，Ｎ2 までの完全分解が実現でき
る。
用いた場合には、窒素除去率が悪くなるが、本発明にお
いては酸素あるいは過酸化水素水を用いることで有機
物、窒素分をＣＯ2 ，Ｎ2 までの完全分解が実現でき
る。
【００３７】本発明を半導体製品の製造工場等に適用し
た場合には、ＴＭＡＨ廃液の他に同時に発生するアンモ
ニア廃液や剥離剤などの有機溶媒を補助燃料として利用
したり、あるいは補助燃料としてではなく、同時に分解
処理する対象とできるので、効率的な処理が実現され
て、半導体製造工場等の廃液処理法として極めて有益で
ある。
た場合には、ＴＭＡＨ廃液の他に同時に発生するアンモ
ニア廃液や剥離剤などの有機溶媒を補助燃料として利用
したり、あるいは補助燃料としてではなく、同時に分解
処理する対象とできるので、効率的な処理が実現され
て、半導体製造工場等の廃液処理法として極めて有益で
ある。
【図１】図１は本発明を実施するために用いる超臨界水
酸化反応装置の構成概要を示した図である。
酸化反応装置の構成概要を示した図である。
１・・・ＴＭＡＨ廃液供給ポンプ １１・・・廃液供給配管 ２１・・・酸素供給配管 ３・・・合流管 ４・・・補助燃料供給ポンプ ４１・・・補助燃料供給配管 ５・・・超臨界水酸化反応器 ６・・・排出管 ７・・・分離器 ８・・・排ガス排出管 ９・・・水排出管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大江 太郎 埼玉県戸田市川岸１丁目４番９号 オルガ ノ株式会社総合研究所内 (72)発明者 鈴垣 裕志 埼玉県戸田市川岸１丁目４番９号 オルガ ノ株式会社総合研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 テトラ・メチル・アンモニウム・ハイド
ロオキサイド（ＴＭＡＨ）を含む廃液を、反応温度５５
０〜６５０℃、反応圧力２３〜２５ＭＰａの条件下で、
酸化剤として酸素又は過酸化水素水を用いて超臨界水酸
化処理することを特徴とするＴＭＡＨ廃液の処理方法。 - 【請求項２】 請求項１において、ＴＭＡＨを含む廃液
が、半導体製品の製造に用いるエッチングレジストの洗
浄廃液であることを特徴とするＴＭＡＨ廃液の処理方
法。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、ＴＭＡＨを含
む廃液と共に、補助燃料を供給することを特徴とするＴ
ＭＡＨ廃液の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02698698A JP3495904B2 (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | Ｔｍａｈ廃液の超臨界水酸化処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02698698A JP3495904B2 (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | Ｔｍａｈ廃液の超臨界水酸化処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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