JPH11221403A - 脱気装置 - Google Patents
脱気装置Info
- Publication number
- JPH11221403A JPH11221403A JP2708498A JP2708498A JPH11221403A JP H11221403 A JPH11221403 A JP H11221403A JP 2708498 A JP2708498 A JP 2708498A JP 2708498 A JP2708498 A JP 2708498A JP H11221403 A JPH11221403 A JP H11221403A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solvent
- resistance
- gas
- purge
- closed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】密閉加圧式ヘリウムパージ脱気装置において、
溶媒ビンの圧力抜きを忘れて脱気装置を止めた場合に溶
媒の逆流を防止する。 【解決手段】バブリングするガスの供給流路３４と、容
器３の上部空間３３、またはこれに通じるガス排出管路
中に設けたバルブ２４までの管路との間に、抵抗２６を
持つバイパス流路を設けた。
溶媒ビンの圧力抜きを忘れて脱気装置を止めた場合に溶
媒の逆流を防止する。 【解決手段】バブリングするガスの供給流路３４と、容
器３の上部空間３３、またはこれに通じるガス排出管路
中に設けたバルブ２４までの管路との間に、抵抗２６を
持つバイパス流路を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば液体クロ
マトグラフの脱ガス装置として好適な脱気装置に関す
る。
マトグラフの脱ガス装置として好適な脱気装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】液体クロマトグラフでは、移動相溶媒を
脱気して使用する。これは、移動相溶媒中に溶存する空
気が、気泡となってポンプの送液精度を低下させたり、
検出器にノイズやベースライン変動などの悪影響をもた
らすことを予め防止して、安定な分析を行うためであ
る。
脱気して使用する。これは、移動相溶媒中に溶存する空
気が、気泡となってポンプの送液精度を低下させたり、
検出器にノイズやベースライン変動などの悪影響をもた
らすことを予め防止して、安定な分析を行うためであ
る。
【０００３】脱気するにはいくつかの方法があるが、現
在、一般に最も効果が高いとされるのは、密閉加圧方式
によるヘリウム・パージ法である。これは、溶媒に溶存
する空気を溶解度の小さいヘリウムで置換する方法で、
ボンベから供給されるヘリウムガスを調圧し、ガスや液
の入出管路を除いて密閉された容器（溶媒ビン）に入れ
た溶媒中に送り込んで、無数の細かい気泡として噴出さ
せる（バブリング）ことによって溶存空気をパージする
ものである。
在、一般に最も効果が高いとされるのは、密閉加圧方式
によるヘリウム・パージ法である。これは、溶媒に溶存
する空気を溶解度の小さいヘリウムで置換する方法で、
ボンベから供給されるヘリウムガスを調圧し、ガスや液
の入出管路を除いて密閉された容器（溶媒ビン）に入れ
た溶媒中に送り込んで、無数の細かい気泡として噴出さ
せる（バブリング）ことによって溶存空気をパージする
ものである。
【０００４】図１によってさらに詳しく説明すると、ヘ
リウムガスはボンベ１からガス供給バルブ１１を通って
制御装置２（一般にこれを脱気装置と呼ぶ）に供給さ
れ、その中の調圧器２１で圧力２０〜５０ｋｐａに調圧
され、圧力計２２、パージ抵抗２３を経てパージチュー
ブ３４で溶媒ビン３に導入され、チューブ先端の多孔質
フィルタ３５から無数の気泡となって溶媒３２中に噴出
する。なお、パージ抵抗２３は、溶媒液量の変動に対し
てパージガスの流量を安定化するために設けられてい
る。液中を通り抜けたヘリウムガスは、溶媒３２から追
い出された空気、及び溶媒ビン３の上部空間３３の空気
と共にベントチューブ３１、ベントバルブ２４を通って
大気に放出される。バブリングは、約１ｌの溶媒に対し
毎分２００〜３００ｍｌの流量で２０〜３０分間行い、
溶存空気と上部空間３３の空気が全てヘリウムに置き換
わった頃合にベントバルブ２４を閉じる。以後、ビン内
上部空間３３はヘリウムで満たされ、且つ加圧状態にあ
るので外部から空気が侵入することもないので、溶媒に
空気が再溶解することもない。
リウムガスはボンベ１からガス供給バルブ１１を通って
制御装置２（一般にこれを脱気装置と呼ぶ）に供給さ
れ、その中の調圧器２１で圧力２０〜５０ｋｐａに調圧
され、圧力計２２、パージ抵抗２３を経てパージチュー
ブ３４で溶媒ビン３に導入され、チューブ先端の多孔質
フィルタ３５から無数の気泡となって溶媒３２中に噴出
する。なお、パージ抵抗２３は、溶媒液量の変動に対し
てパージガスの流量を安定化するために設けられてい
る。液中を通り抜けたヘリウムガスは、溶媒３２から追
い出された空気、及び溶媒ビン３の上部空間３３の空気
と共にベントチューブ３１、ベントバルブ２４を通って
大気に放出される。バブリングは、約１ｌの溶媒に対し
毎分２００〜３００ｍｌの流量で２０〜３０分間行い、
溶存空気と上部空間３３の空気が全てヘリウムに置き換
わった頃合にベントバルブ２４を閉じる。以後、ビン内
上部空間３３はヘリウムで満たされ、且つ加圧状態にあ
るので外部から空気が侵入することもないので、溶媒に
空気が再溶解することもない。
【０００５】この時点で、ビン内の溶媒３２は分析に使
える状態になり、ポンプ４１に吸引されて、サクション
チューブ３６を経て液体クロマトグラフ装置４に入り、
試料導入部４２、カラム４３、検出器４４を通って流
れ、分析が行われる。
える状態になり、ポンプ４１に吸引されて、サクション
チューブ３６を経て液体クロマトグラフ装置４に入り、
試料導入部４２、カラム４３、検出器４４を通って流
れ、分析が行われる。
【０００６】この状態では、液体クロマトグラフに消費
された溶媒の体積相当分のヘリウムガスが僅かに溶媒ビ
ン３に流入するほか、リーク抵抗２５を通って毎分１０
ｍｌ程度の微小量を大気に流出させることによって圧力
制御を維持している。このリーク抵抗２５を特に設け
ず、装置内の配管に有機質材料を用いて、ヘリウムガス
がその管壁を透過して漏れ出る性質を利用する場合もあ
る。
された溶媒の体積相当分のヘリウムガスが僅かに溶媒ビ
ン３に流入するほか、リーク抵抗２５を通って毎分１０
ｍｌ程度の微小量を大気に流出させることによって圧力
制御を維持している。このリーク抵抗２５を特に設け
ず、装置内の配管に有機質材料を用いて、ヘリウムガス
がその管壁を透過して漏れ出る性質を利用する場合もあ
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】以上に述べた従来の密
閉加圧式ヘリウムパージ脱気装置では、運転を停止する
ときは、まずベントバルブ２４を開いて溶媒ビン３の圧
力を解放し、次いで入り口側のガス供給バルブ１１を閉
めなければならない。この手順を間違えて、ベントバル
ブ２４を閉じたままガス供給バルブ１１を閉めると、溶
媒ビン３内に残留する加圧されたガスはパージチューブ
３４からパージ抵抗２３、リーク抵抗２５を通って抜け
ようとして、ビン内の溶媒３２を押し上げて脱気装置２
内に逆流させ、数分間の内に装置内の調圧器２１やパー
ジ抵抗２３の内部に入り込み、その機能を損なわせる。
閉加圧式ヘリウムパージ脱気装置では、運転を停止する
ときは、まずベントバルブ２４を開いて溶媒ビン３の圧
力を解放し、次いで入り口側のガス供給バルブ１１を閉
めなければならない。この手順を間違えて、ベントバル
ブ２４を閉じたままガス供給バルブ１１を閉めると、溶
媒ビン３内に残留する加圧されたガスはパージチューブ
３４からパージ抵抗２３、リーク抵抗２５を通って抜け
ようとして、ビン内の溶媒３２を押し上げて脱気装置２
内に逆流させ、数分間の内に装置内の調圧器２１やパー
ジ抵抗２３の内部に入り込み、その機能を損なわせる。
【０００８】従来、このような事態に対処するために、
図２に示すように、ビン内のパージチューブ３４にチェ
ックバルブ３７を経てビン内上部空間３３に開口する分
岐路を設けた例がある。
図２に示すように、ビン内のパージチューブ３４にチェ
ックバルブ３７を経てビン内上部空間３３に開口する分
岐路を設けた例がある。
【０００９】図２では溶媒ビン３以外の部分は図１と同
じであるから省略してある。バブリング中、及び分析中
は、パージチューブ３４に圧力がかかっているため、チ
ェックバルブ３７が閉じているので動作は図１のものと
変わらない。その後、ベントバルブ２４を閉じたままガ
ス供給バルブ１１を閉じたときは、ガスの上流側から次
第に圧力が低下し、ビン内上部空間の方が圧力が高くな
ったときにチェックバルブ３７が開いて圧力を逃がし、
溶媒の逆流を防ぐという考えである。しかし実際には、
一般にチェックバルブはこのような僅かな差圧では十分
に機能しないので、液の逆流を許してしまうことが多
い。その上、逆流した溶媒がチェックバルブ３７内に入
り、さらに一層の動作不良を起こすという悪循環も生じ
る。
じであるから省略してある。バブリング中、及び分析中
は、パージチューブ３４に圧力がかかっているため、チ
ェックバルブ３７が閉じているので動作は図１のものと
変わらない。その後、ベントバルブ２４を閉じたままガ
ス供給バルブ１１を閉じたときは、ガスの上流側から次
第に圧力が低下し、ビン内上部空間の方が圧力が高くな
ったときにチェックバルブ３７が開いて圧力を逃がし、
溶媒の逆流を防ぐという考えである。しかし実際には、
一般にチェックバルブはこのような僅かな差圧では十分
に機能しないので、液の逆流を許してしまうことが多
い。その上、逆流した溶媒がチェックバルブ３７内に入
り、さらに一層の動作不良を起こすという悪循環も生じ
る。
【００１０】本発明は、このような従来装置の問題点を
考慮し、溶媒ビンの圧力抜きを忘れて脱気装置を止めた
場合でも、溶媒の逆流を防止する手段を備えた脱気装置
を提供することを目的とする。
考慮し、溶媒ビンの圧力抜きを忘れて脱気装置を止めた
場合でも、溶媒の逆流を防止する手段を備えた脱気装置
を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、ガスや液の入出管路を備え、ガスの排出
管路中に設けたバルブを閉じることによって密閉される
容器内の液中にガスを送り込んでバブリングを行う装置
において、ガスの供給流路と、容器内の上部空間、また
はこれに通じるガス排出管路であって前記バルブまでの
管路との間に、抵抗を持つバイパス流路を設けたもの
で、極めて簡単な構造でありながら確実な機能が期待で
きるものである。
に、本発明は、ガスや液の入出管路を備え、ガスの排出
管路中に設けたバルブを閉じることによって密閉される
容器内の液中にガスを送り込んでバブリングを行う装置
において、ガスの供給流路と、容器内の上部空間、また
はこれに通じるガス排出管路であって前記バルブまでの
管路との間に、抵抗を持つバイパス流路を設けたもの
で、極めて簡単な構造でありながら確実な機能が期待で
きるものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】図３に本発明の一実施例を示す。
図３において、２６以外は全て図１における同番号のも
のと同一であるから、ここでは重複説明を避ける。２６
は、以下バイパス抵抗と呼ぶ流路抵抗であって、適度な
長さと内径を持つ毛細管、または微細な粒子を充填した
適度なサイズのパイプ等で構成されるものである。図３
の構成で、脱気を行うとき、即ち２つのバルブ１１、２
４が共に開いている時は、ヘリウムガスが１１から２
１、２３、３４、３５を通って溶媒３２の液中でバブリ
ングが行われることは図１の場合と同様であるが、この
とき装置内に設けられたバイパス抵抗２６からベントバ
ルブ２４を経て少量のヘリウムガスが放出される。この
バイパス抵抗２６を通って放出されるガスの量は、過大
である（バイパス抵抗２６が過小である）とパージガス
の流量が減ってバブリングが起こらなくなるので、パー
ジガス流量の１割前後になるように設定する。典型的な
数値例を示すと、パージガスの流量は毎分３００ｍｌ、
リーク抵抗２５を通って放出されるガス流量は毎分５〜
１０ｍｌ、これに対しバイパス抵抗２６を通って逃げる
ガスは毎分３０〜５０ｍｌ程度となるよう抵抗を調整し
ておく。
図３において、２６以外は全て図１における同番号のも
のと同一であるから、ここでは重複説明を避ける。２６
は、以下バイパス抵抗と呼ぶ流路抵抗であって、適度な
長さと内径を持つ毛細管、または微細な粒子を充填した
適度なサイズのパイプ等で構成されるものである。図３
の構成で、脱気を行うとき、即ち２つのバルブ１１、２
４が共に開いている時は、ヘリウムガスが１１から２
１、２３、３４、３５を通って溶媒３２の液中でバブリ
ングが行われることは図１の場合と同様であるが、この
とき装置内に設けられたバイパス抵抗２６からベントバ
ルブ２４を経て少量のヘリウムガスが放出される。この
バイパス抵抗２６を通って放出されるガスの量は、過大
である（バイパス抵抗２６が過小である）とパージガス
の流量が減ってバブリングが起こらなくなるので、パー
ジガス流量の１割前後になるように設定する。典型的な
数値例を示すと、パージガスの流量は毎分３００ｍｌ、
リーク抵抗２５を通って放出されるガス流量は毎分５〜
１０ｍｌ、これに対しバイパス抵抗２６を通って逃げる
ガスは毎分３０〜５０ｍｌ程度となるよう抵抗を調整し
ておく。
【００１３】脱気が終われば、前述のようにベントバル
ブ２４を閉じるが、その後、誤ってベントバルブ２４を
閉じたまま入口バルブ１１を閉じた場合は、溶媒ビン３
内の圧力は、バイパス抵抗２６、パージ抵抗２３、リー
ク抵抗２５を通って徐々に解放されるから、溶媒が逆流
することはない。ここでリーク抵抗２５を通って大気に
流出するガス量がごく少量であること、言い換えれば装
置内の圧力の低下は緩やかであることが重要で、もし急
激に圧力が低下すると、溶媒ビン内の上部空間３３のガ
スがバイパス抵抗２６を通って抜けるのが追いつかず、
溶媒の逆流を許すことになるからである。
ブ２４を閉じるが、その後、誤ってベントバルブ２４を
閉じたまま入口バルブ１１を閉じた場合は、溶媒ビン３
内の圧力は、バイパス抵抗２６、パージ抵抗２３、リー
ク抵抗２５を通って徐々に解放されるから、溶媒が逆流
することはない。ここでリーク抵抗２５を通って大気に
流出するガス量がごく少量であること、言い換えれば装
置内の圧力の低下は緩やかであることが重要で、もし急
激に圧力が低下すると、溶媒ビン内の上部空間３３のガ
スがバイパス抵抗２６を通って抜けるのが追いつかず、
溶媒の逆流を許すことになるからである。
【００１４】バブリング時にバイパス抵抗２６を通って
放出されるガスの量は、パージ流量の１割程度とはいえ
無駄な消費である。これを抑えるために、図４に示した
ように、ベントバルブ２４を三方弁にする方法がある。
図４は脱気装置２の部分のみを示し、それ以外は図３と
同じであるから省略してあるが、バブリング時は図中の
矢印Ａで示す流路が開いて、矢印Ｂが閉じているので、
バイパス抵抗２６側からガスが無駄に放出されることは
なくなる。ベントバルブ２４を閉じる（矢印Ａの流路が
閉じ、矢印Ｂが流通する）とバイパス抵抗２６が溶媒ビ
ン３内の空間につながり、万一の時のガス抜きの役を果
たす。
放出されるガスの量は、パージ流量の１割程度とはいえ
無駄な消費である。これを抑えるために、図４に示した
ように、ベントバルブ２４を三方弁にする方法がある。
図４は脱気装置２の部分のみを示し、それ以外は図３と
同じであるから省略してあるが、バブリング時は図中の
矢印Ａで示す流路が開いて、矢印Ｂが閉じているので、
バイパス抵抗２６側からガスが無駄に放出されることは
なくなる。ベントバルブ２４を閉じる（矢印Ａの流路が
閉じ、矢印Ｂが流通する）とバイパス抵抗２６が溶媒ビ
ン３内の空間につながり、万一の時のガス抜きの役を果
たす。
【００１５】また、バイパス抵抗２６は脱気装置２の内
部に設けるものに限らず、図５に示す２６ａのように装
置の外に付加することもでき、あるいは同図２６ｂのよ
うに溶媒ビン３の中に設けることも可能であるから、既
存の従来装置に簡単に追加して、その操作性と安全性を
改善できる。図５では、ガスボンベ１、脱気装置２、及
び液体クロマトグラフ４は図３と同じであるから略記し
てある。バイパス抵抗２６をビン内に設ける場合、抵抗
のベント側の端はベントチューブ３１につなぐ必要はな
く、ビン内上部空間３３に開放しておくだけでよい。図
中に点線で示すように、ビン内の空間が流路の一部を形
成するからである。
部に設けるものに限らず、図５に示す２６ａのように装
置の外に付加することもでき、あるいは同図２６ｂのよ
うに溶媒ビン３の中に設けることも可能であるから、既
存の従来装置に簡単に追加して、その操作性と安全性を
改善できる。図５では、ガスボンベ１、脱気装置２、及
び液体クロマトグラフ４は図３と同じであるから略記し
てある。バイパス抵抗２６をビン内に設ける場合、抵抗
のベント側の端はベントチューブ３１につなぐ必要はな
く、ビン内上部空間３３に開放しておくだけでよい。図
中に点線で示すように、ビン内の空間が流路の一部を形
成するからである。
【００１６】ビン内にバイパス抵抗を設けた場合の具体
的な構造を例示したのが図６、図７である。
的な構造を例示したのが図６、図７である。
【００１７】図６の例では、ステンレス、または合成樹
脂など耐食性材料から成るブロック５１の内部にＴ字に
分岐したガス流路が設けられ、上下はジョイント５３で
パージチューブ３４が連結されている。側方に分岐した
流路の先は、多孔質のフィルタ５２が圧入され、これ
が、図５における２６ｂに相当するバイパス抵抗として
機能する。フィルタは金属の細粒を焼結したもの、また
はスポンジ状の合成樹脂などから成り、抵抗の大きさは
フィルタのメッシュを適当に選定することで設定でき
る。通常、メッシュは２〜１０μｍ程度である。この実
施例は、構造が簡単で、可動部がないので動作が安定で
あり、抵抗の大きさもフィルタのメッシュを選ぶだけで
広範囲に設定できるという優れたものである。
脂など耐食性材料から成るブロック５１の内部にＴ字に
分岐したガス流路が設けられ、上下はジョイント５３で
パージチューブ３４が連結されている。側方に分岐した
流路の先は、多孔質のフィルタ５２が圧入され、これ
が、図５における２６ｂに相当するバイパス抵抗として
機能する。フィルタは金属の細粒を焼結したもの、また
はスポンジ状の合成樹脂などから成り、抵抗の大きさは
フィルタのメッシュを適当に選定することで設定でき
る。通常、メッシュは２〜１０μｍ程度である。この実
施例は、構造が簡単で、可動部がないので動作が安定で
あり、抵抗の大きさもフィルタのメッシュを選ぶだけで
広範囲に設定できるという優れたものである。
【００１８】図７の例は、図６におけるブロック５１全
体をフィルタ材で製作したもので、ブロックを貫通する
流路の内壁全面が図６におけるＴ字分岐路に相当する。
分岐路を加工したりフィルタ材を圧入する工程が不要
で、図６のものより一段と簡単な構造でありながら同等
の機能を有するものである。
体をフィルタ材で製作したもので、ブロックを貫通する
流路の内壁全面が図６におけるＴ字分岐路に相当する。
分岐路を加工したりフィルタ材を圧入する工程が不要
で、図６のものより一段と簡単な構造でありながら同等
の機能を有するものである。
【００１９】なお、以上の説明中にあげたガス流量など
の数値は一例であって、本発明の適用をこれに限定する
ものではない。
の数値は一例であって、本発明の適用をこれに限定する
ものではない。
【００２０】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
密閉加圧式ヘリウムパージ脱気装置の運転を止める際
に、溶媒ビンの圧抜きを忘れてガス供給バルブを閉止し
た場合でも、溶媒の逆流を確実に防ぐことができ、これ
によって装置の損傷を防止できるだけでなく、運転停止
時の一連の操作手順から溶媒ビンの圧抜き操作を省くこ
とができるので、操作が簡単になり、初心者にも扱いや
すい装置を提供することができる。
密閉加圧式ヘリウムパージ脱気装置の運転を止める際
に、溶媒ビンの圧抜きを忘れてガス供給バルブを閉止し
た場合でも、溶媒の逆流を確実に防ぐことができ、これ
によって装置の損傷を防止できるだけでなく、運転停止
時の一連の操作手順から溶媒ビンの圧抜き操作を省くこ
とができるので、操作が簡単になり、初心者にも扱いや
すい装置を提供することができる。
【図１】従来の脱気装置の構成を示す。
【図２】従来の脱気装置の他の例の一部を示す。
【図３】本発明の一実施例の構成を示す。
【図４】本発明の他の実施例を示す。
【図５】本発明の他の実施例を示す。
【図６】本発明の他の実施例を示す。
【図７】本発明の他の実施例を示す。
１ ヘリウムガスボンベ ２ 脱気装置 ３ 溶媒ビン ４ 液体クロマトグラフ １１ ガス供給バルブ ２１ 調圧器 ２４ ベントバルブ ２６ バイパス抵抗 ３２ 移動相溶媒 ３４ パージチューブ ３５ 多孔質フィルタ ４１ ポンプ ４２ 試料導入部 ４３ カラム ４４ 検出器
Claims (1)
- 【請求項１】ガスや液の入出管路を備え、ガスの排出管
路中に設けたバルブを閉じることによって密閉される容
器内の液中にガスを送り込んでバブリングを行う装置に
おいて、ガスの供給流路と、容器内の上部空間、または
これに通じるガス排出管路であって前記バルブまでの管
路との間に、抵抗を持つバイパス流路を設けたことを特
徴とする脱気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02708498A JP3346260B2 (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | 脱気装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02708498A JP3346260B2 (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | 脱気装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11221403A true JPH11221403A (ja) | 1999-08-17 |
| JP3346260B2 JP3346260B2 (ja) | 2002-11-18 |
Family
ID=12211222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02708498A Expired - Lifetime JP3346260B2 (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | 脱気装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3346260B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016132526A1 (ja) * | 2015-02-20 | 2016-08-25 | 株式会社島津製作所 | 試料前処理装置及びこれを備えた分析装置、並びに、試料前処理方法 |
-
1998
- 1998-02-09 JP JP02708498A patent/JP3346260B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016132526A1 (ja) * | 2015-02-20 | 2016-08-25 | 株式会社島津製作所 | 試料前処理装置及びこれを備えた分析装置、並びに、試料前処理方法 |
| JPWO2016132526A1 (ja) * | 2015-02-20 | 2017-07-20 | 株式会社島津製作所 | 試料前処理装置及びこれを備えた分析装置、並びに、試料前処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3346260B2 (ja) | 2002-11-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5111476B2 (ja) | 液体試料分析装置及び液体試料導入装置 | |
| JP2007519007A5 (ja) | ||
| EP0552258A1 (en) | LIQUID COOLING SYSTEM WITH AIR EXHAUST MECHANISM. | |
| CN106799894A (zh) | 供墨系统 | |
| JP2009102069A (ja) | オイルタンクを充填するための装置 | |
| JP3346260B2 (ja) | 脱気装置 | |
| EP1820652A3 (en) | Method of detecting liquid residual quantity, failure detection device, liquid consuming apparatus, and liquid container | |
| JP2000350902A (ja) | 脱気方法 | |
| JPS5837558A (ja) | ガスクロマトグラフイ−用サンプラ− | |
| JP2014062827A (ja) | 脱気送液装置及び分析装置 | |
| JP2004518049A (ja) | 二重チャンバ液体ポンプ | |
| JP2006043584A (ja) | 塗布装置および塗布方法 | |
| JP2884909B2 (ja) | 薬品供給装置 | |
| JP2000128108A (ja) | 液体充填装置における充填液通路内エア抜き方法 | |
| US6933233B2 (en) | Liquid material supply system and method for semiconductor manufacturing | |
| JP2006136838A (ja) | 捕集物採取用ノズル | |
| JP4822641B2 (ja) | 配管用簡易バルブ | |
| JP3023568B2 (ja) | ガス抜き装置 | |
| JPH11121422A (ja) | 薬液供給装置 | |
| JPH10339267A (ja) | 送液機構、並びに該送液機構を用いたサンプリング機構及びカラムクロマトグラフ装置 | |
| JP5142464B2 (ja) | フォトレジスト供給装置 | |
| JP3283190B2 (ja) | レジスト処理装置及びレジスト処理方法 | |
| JPS6238721Y2 (ja) | ||
| CN117706008A (zh) | 液相色谱自动进样装置、液相色谱系统及控制方法 | |
| JPS58200161A (ja) | 液体クロマトグラフ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080906 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080906 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090906 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090906 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100906 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110906 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110906 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120906 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120906 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130906 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |