JPH1121619A - 軸状部材の高周波無酸化焼入方法及びその装置 - Google Patents
軸状部材の高周波無酸化焼入方法及びその装置Info
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- JPH1121619A JPH1121619A JP9175541A JP17554197A JPH1121619A JP H1121619 A JPH1121619 A JP H1121619A JP 9175541 A JP9175541 A JP 9175541A JP 17554197 A JP17554197 A JP 17554197A JP H1121619 A JPH1121619 A JP H1121619A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P10/25—Process efficiency
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 理想的な高周波無酸化焼入を施すことがで
き、しかも大きな容積の容器を必要とすることがないよ
うな軸状部材の高周波無酸化焼入方法及びその装置を提
供する。 【解決手段】 高周波誘導加熱コイル３にて軸状部材
（ねじ軸２等）の表面を移動加熱する際に、移動加熱を
行なうべき軸状部材の表面に向かって所要の圧力及び流
量の不活性ガス、又は還元性ガス、或いは不活性ガス及
び還元性ガスの混合ガスを噴射すると共に、噴射されて
軸状部材の表面上を流れたガスを軸状部材のガス噴射箇
所の上方近傍部分に充満させてこの充満したガスを排気
する一方、移動加熱された軸状部材の表面に冷却液を噴
射して冷却し、これにより軸状部材の表面を無酸素状態
の下で焼入を施す。
き、しかも大きな容積の容器を必要とすることがないよ
うな軸状部材の高周波無酸化焼入方法及びその装置を提
供する。 【解決手段】 高周波誘導加熱コイル３にて軸状部材
（ねじ軸２等）の表面を移動加熱する際に、移動加熱を
行なうべき軸状部材の表面に向かって所要の圧力及び流
量の不活性ガス、又は還元性ガス、或いは不活性ガス及
び還元性ガスの混合ガスを噴射すると共に、噴射されて
軸状部材の表面上を流れたガスを軸状部材のガス噴射箇
所の上方近傍部分に充満させてこの充満したガスを排気
する一方、移動加熱された軸状部材の表面に冷却液を噴
射して冷却し、これにより軸状部材の表面を無酸素状態
の下で焼入を施す。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ねじ軸等の如き軸
状部材の表面を無酸化状態で焼入するための高周波無酸
化焼入方法及びその装置に関するものである。
状部材の表面を無酸化状態で焼入するための高周波無酸
化焼入方法及びその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来において高周波無酸化焼入を行なう
に際しては、次のような方法を採用している。すなわ
ち、開放された下端部分が冷却槽の冷却液中に浸積され
ている容器、或いは、冷却槽が内部に配置された密閉容
器を用いると共に、この容器の内部を不活性ガス或いは
還元性ガスを充満した状態とし、この状態の下で前記容
器内に配設された高周波誘導加熱コイルにてワーク（軸
状部材）を下降移動させながら加熱し、しかる後に冷却
槽の冷却液中に浸積し、冷却液中に設けた冷却ジャケッ
トから冷却液をワークに噴射させることにより焼入を行
っている。
に際しては、次のような方法を採用している。すなわ
ち、開放された下端部分が冷却槽の冷却液中に浸積され
ている容器、或いは、冷却槽が内部に配置された密閉容
器を用いると共に、この容器の内部を不活性ガス或いは
還元性ガスを充満した状態とし、この状態の下で前記容
器内に配設された高周波誘導加熱コイルにてワーク（軸
状部材）を下降移動させながら加熱し、しかる後に冷却
槽の冷却液中に浸積し、冷却液中に設けた冷却ジャケッ
トから冷却液をワークに噴射させることにより焼入を行
っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の高周波無酸化焼入方法及びこの方法を実施す
る装置にあっては、次のような問題点がある。まず、冷
却槽を密閉容器内に収容するようにした場合には、大き
な容積の密閉容器を用いる必要があるため、密閉容器内
へ充満させるガスの量も必然的に多くなり、容器内に残
存する酸素（焼入処理の弊害となる空気）を容器外に排
出するのに時間を要するという問題点がある。また、特
に軸長が長い軸状部材をワークとする場合には、このワ
ークの全体を収容し得る大きな密閉容器若しくは冷却槽
が必要となり、装置が大型化してしまう不具合がある。
うな従来の高周波無酸化焼入方法及びこの方法を実施す
る装置にあっては、次のような問題点がある。まず、冷
却槽を密閉容器内に収容するようにした場合には、大き
な容積の密閉容器を用いる必要があるため、密閉容器内
へ充満させるガスの量も必然的に多くなり、容器内に残
存する酸素（焼入処理の弊害となる空気）を容器外に排
出するのに時間を要するという問題点がある。また、特
に軸長が長い軸状部材をワークとする場合には、このワ
ークの全体を収容し得る大きな密閉容器若しくは冷却槽
が必要となり、装置が大型化してしまう不具合がある。
【０００４】本発明は、このような問題点の鑑みてなさ
れたものであって、その目的は、理想的な高周波無酸化
焼入を施すことができ、しかも大きな容積の容器を必要
とすることがないような軸状部材の高周波無酸化焼入方
法及びその装置を提供することにある。
れたものであって、その目的は、理想的な高周波無酸化
焼入を施すことができ、しかも大きな容積の容器を必要
とすることがないような軸状部材の高周波無酸化焼入方
法及びその装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、軸状部材を下降移動させつつ加熱した後に冷却し
て前記軸状部材の表面に焼入処理を施す高周波移動焼入
方法において、高周波誘導加熱コイルにて前記軸状部材
の表面を移動加熱する際に、移動加熱を行なうべき軸状
部材の表面に向かって所要の圧力及び流量の不活性ガ
ス、又は還元性ガス、或いは不活性ガス及び還元性ガス
の混合ガスを噴射すると共に、噴射されて前記軸状部材
の表面上を流れたガスを前記軸状部材のガス噴射箇所の
上方近傍部分に充満させてこの充満したガスを排気する
一方、移動加熱された前記軸状部材の表面に冷却液を噴
射して冷却し、これにより前記軸状部材の表面を無酸素
状態の下で焼入を施すようにしている。
めに、軸状部材を下降移動させつつ加熱した後に冷却し
て前記軸状部材の表面に焼入処理を施す高周波移動焼入
方法において、高周波誘導加熱コイルにて前記軸状部材
の表面を移動加熱する際に、移動加熱を行なうべき軸状
部材の表面に向かって所要の圧力及び流量の不活性ガ
ス、又は還元性ガス、或いは不活性ガス及び還元性ガス
の混合ガスを噴射すると共に、噴射されて前記軸状部材
の表面上を流れたガスを前記軸状部材のガス噴射箇所の
上方近傍部分に充満させてこの充満したガスを排気する
一方、移動加熱された前記軸状部材の表面に冷却液を噴
射して冷却し、これにより前記軸状部材の表面を無酸素
状態の下で焼入を施すようにしている。
【０００６】また、本発明に係る高周波無酸化焼入方法
では、前記ガスの噴射圧力より前記冷却液の噴射圧力を
大きく設定している。
では、前記ガスの噴射圧力より前記冷却液の噴射圧力を
大きく設定している。
【０００７】また、本発明に係る高周波無酸化焼入装置
では、軸状部材を下降移動させつつ加熱した後に冷却し
て前記軸状部材の表面に焼入処理を施す高周波移動焼入
装置において、軸状部材の表面を高周波誘導加熱する高
周波誘導加熱コイルと、この高周波誘導加熱コイルの近
傍位置に配設されかつ不活性ガス又は還元性ガス、或い
は、不活性ガス及び還元性ガスを混合して成る混合ガス
を噴射するガス噴射環と、このガス噴射環の下部近傍位
置に配設された冷却液噴射環と、前記ガス噴射環上部近
傍位置に配設されたハウジングと、このハウジングに設
けられたガス排出手段とをそれぞれ具備し、移動加熱を
行なうべき軸状部材の表面に向かって前記ガス噴射環か
ら不活性ガス、又は還元性ガス、或いは不活性ガス及び
還元性ガスの混合ガスを噴射させながら前記高周波誘導
加熱コイルにて前記軸部材の表面を加熱し、前記軸状部
材の表面に噴射されてこの表面上を流れる噴射ガスを前
記ハウジング内に充満させると共に、充填されたガスを
前記ガス排出手段を介して前記ハウジングの外部へ排出
し、前記軸状部材の表面を無酸素状態の下で焼入するよ
うにしている。
では、軸状部材を下降移動させつつ加熱した後に冷却し
て前記軸状部材の表面に焼入処理を施す高周波移動焼入
装置において、軸状部材の表面を高周波誘導加熱する高
周波誘導加熱コイルと、この高周波誘導加熱コイルの近
傍位置に配設されかつ不活性ガス又は還元性ガス、或い
は、不活性ガス及び還元性ガスを混合して成る混合ガス
を噴射するガス噴射環と、このガス噴射環の下部近傍位
置に配設された冷却液噴射環と、前記ガス噴射環上部近
傍位置に配設されたハウジングと、このハウジングに設
けられたガス排出手段とをそれぞれ具備し、移動加熱を
行なうべき軸状部材の表面に向かって前記ガス噴射環か
ら不活性ガス、又は還元性ガス、或いは不活性ガス及び
還元性ガスの混合ガスを噴射させながら前記高周波誘導
加熱コイルにて前記軸部材の表面を加熱し、前記軸状部
材の表面に噴射されてこの表面上を流れる噴射ガスを前
記ハウジング内に充満させると共に、充填されたガスを
前記ガス排出手段を介して前記ハウジングの外部へ排出
し、前記軸状部材の表面を無酸素状態の下で焼入するよ
うにしている。
【０００８】また、本発明に係る高周波無酸化焼入装置
では、軸状部材を下降移動させつつ加熱した後に冷却し
て前記軸状部材の表面に焼入処理を施す高周波移動焼入
装置において、ガス噴射孔及び冷却液噴射孔を有する管
状部材から構成された高周波誘導加熱コイルと、この高
周波誘導加熱コイルの上部近傍位置に配設されたハウジ
ングと、このハウジングに設けられたガス排出手段とを
それぞれ具備し、移動加熱を行なうべき軸状部材の表面
に向かって前記高周波誘導加熱コイルのガス噴射孔から
不活性ガス、又は還元性ガス、或いは不活性ガス及び還
元性ガスの混合ガスを噴射させながら前記高周波誘導加
熱コイルにて前記軸部材の表面を加熱し、前記軸状部材
の表面に噴射されてこの表面上を流れる噴射ガスを前記
ハウジング内に充満させると共に、充填されたガスを前
記ガス排出手段を介して前記ハウジングの外部へ排出
し、前記軸状部材の表面を無酸素状態の下で焼入するよ
うにしている。
では、軸状部材を下降移動させつつ加熱した後に冷却し
て前記軸状部材の表面に焼入処理を施す高周波移動焼入
装置において、ガス噴射孔及び冷却液噴射孔を有する管
状部材から構成された高周波誘導加熱コイルと、この高
周波誘導加熱コイルの上部近傍位置に配設されたハウジ
ングと、このハウジングに設けられたガス排出手段とを
それぞれ具備し、移動加熱を行なうべき軸状部材の表面
に向かって前記高周波誘導加熱コイルのガス噴射孔から
不活性ガス、又は還元性ガス、或いは不活性ガス及び還
元性ガスの混合ガスを噴射させながら前記高周波誘導加
熱コイルにて前記軸部材の表面を加熱し、前記軸状部材
の表面に噴射されてこの表面上を流れる噴射ガスを前記
ハウジング内に充満させると共に、充填されたガスを前
記ガス排出手段を介して前記ハウジングの外部へ排出
し、前記軸状部材の表面を無酸素状態の下で焼入するよ
うにしている。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施態様について
図１及び図２を参照して説明する。なお、図１及び図２
にそれぞれ示す高周波無酸化焼入装置は、ねじ軸とナッ
トとが硬球を介して作動する機械部品であるボールねじ
のねじ軸１の移動焼入に適用した例である。
図１及び図２を参照して説明する。なお、図１及び図２
にそれぞれ示す高周波無酸化焼入装置は、ねじ軸とナッ
トとが硬球を介して作動する機械部品であるボールねじ
のねじ軸１の移動焼入に適用した例である。
【００１０】図１は、本発明の第１実施形態に係る高周
波無酸化焼入装置１を示すものであって、この装置１は
ねじ軸（ワーク）２の表面を高周波無酸化移動焼入する
ための装置１である。図１に示すように、本例の高周波
無酸化焼入装置１は、ねじ軸２の表面のねじ溝２ａを高
周波誘導加熱する高周波誘導加熱コイル３と、この高周
波誘導加熱コイル３の加熱部３ａを取り囲むように配設
されたガス噴射環４と、このガス噴射環４の上部近傍位
置に配設されたハウジング５と、前記ガス噴射環４の下
部近傍位置に配設された冷却液噴射環６とをそれぞれ具
備している。
波無酸化焼入装置１を示すものであって、この装置１は
ねじ軸（ワーク）２の表面を高周波無酸化移動焼入する
ための装置１である。図１に示すように、本例の高周波
無酸化焼入装置１は、ねじ軸２の表面のねじ溝２ａを高
周波誘導加熱する高周波誘導加熱コイル３と、この高周
波誘導加熱コイル３の加熱部３ａを取り囲むように配設
されたガス噴射環４と、このガス噴射環４の上部近傍位
置に配設されたハウジング５と、前記ガス噴射環４の下
部近傍位置に配設された冷却液噴射環６とをそれぞれ具
備している。
【００１１】ワークとしてのねじ軸２は、その軸端面に
形成されたセンター孔（図示せず）を介して図外のワー
ク移動機構の上下センターに載置固定されるようになっ
ている。そして、この上下センターは、図外のワーク回
転機構及びワーク昇降機構に接続されている。
形成されたセンター孔（図示せず）を介して図外のワー
ク移動機構の上下センターに載置固定されるようになっ
ている。そして、この上下センターは、図外のワーク回
転機構及びワーク昇降機構に接続されている。
【００１２】また、高周波誘導加熱コイル３は、内部に
冷却水が通される水冷式銅管にて構成されており、ねじ
軸２のねじ溝２ａの表面を加熱すべくねじ軸２の軸線方
向に沿って被加熱面と所要の間隙をもつように鞍型半開
放の形状に成形された加熱部３ａと、この加熱部３ａに
高周波電源７から高周波電流を供給するためのリード部
３ｂとをそれぞれ備えている。そして、この高周波誘導
加熱コイル３を取り囲むように円筒状のガス噴射環４が
配置されている。なお、図１に示すように、このガス噴
射環４の内周面には多数のガス噴射孔８が形成され、そ
の外周面にはガス導入管９が接続されている。しかし
て、図外のガス供給部からガス導入管９を介してガス噴
射環４内に不活性ガス、又は還元性ガス、或いは不活性
ガス及び還元性ガスの混合ガスが供給され、ガス噴射環
４のガス噴射孔８から所要圧力，流量の不活性ガス，還
元性ガス或いはそれらの混合ガスがねじ軸２の移動加熱
面（表面）に噴射され、これによりねじ軸２の加熱表面
の酸化を防ぐように構成されている。
冷却水が通される水冷式銅管にて構成されており、ねじ
軸２のねじ溝２ａの表面を加熱すべくねじ軸２の軸線方
向に沿って被加熱面と所要の間隙をもつように鞍型半開
放の形状に成形された加熱部３ａと、この加熱部３ａに
高周波電源７から高周波電流を供給するためのリード部
３ｂとをそれぞれ備えている。そして、この高周波誘導
加熱コイル３を取り囲むように円筒状のガス噴射環４が
配置されている。なお、図１に示すように、このガス噴
射環４の内周面には多数のガス噴射孔８が形成され、そ
の外周面にはガス導入管９が接続されている。しかし
て、図外のガス供給部からガス導入管９を介してガス噴
射環４内に不活性ガス、又は還元性ガス、或いは不活性
ガス及び還元性ガスの混合ガスが供給され、ガス噴射環
４のガス噴射孔８から所要圧力，流量の不活性ガス，還
元性ガス或いはそれらの混合ガスがねじ軸２の移動加熱
面（表面）に噴射され、これによりねじ軸２の加熱表面
の酸化を防ぐように構成されている。
【００１３】また、移動加熱表面を移動冷却するための
冷却液噴射環６は、内周面に多数の冷却液噴射孔１０が
形成され、外周面に冷却液導入管１１が接続されてい
る。かくして、図外の冷却水供給部から冷却液導入管１
１を介して冷却液噴射環６内に供給され、冷却液噴射環
６の冷却液噴射孔１０から所要の圧力，流量の冷却液が
移動加熱表面に所要の下向き角度をもって噴射されるよ
うになっている。なお、本例においては、移動加熱され
たねじ軸２の表面上に噴射される冷却液に噴射ガスが巻
き込まれるのを防止するために、ガスの噴射圧力より冷
却液の噴射圧力を大きく設定するようにしている。
冷却液噴射環６は、内周面に多数の冷却液噴射孔１０が
形成され、外周面に冷却液導入管１１が接続されてい
る。かくして、図外の冷却水供給部から冷却液導入管１
１を介して冷却液噴射環６内に供給され、冷却液噴射環
６の冷却液噴射孔１０から所要の圧力，流量の冷却液が
移動加熱表面に所要の下向き角度をもって噴射されるよ
うになっている。なお、本例においては、移動加熱され
たねじ軸２の表面上に噴射される冷却液に噴射ガスが巻
き込まれるのを防止するために、ガスの噴射圧力より冷
却液の噴射圧力を大きく設定するようにしている。
【００１４】一方、ハウジング５は、ガス噴射環４のガ
ス噴射孔８から噴射されたガスをガス噴射環４の上部近
傍部分に充満させておくための枠体から成り、その上壁
の中央箇所にはねじ軸２の直径よりも僅かに大きな直径
を有するねじ軸挿通用開口１２が設けられている。さら
に、前記ハウジング５にはガス排出管１３（ガス排気手
段）が連結されており、このガス排出管１３には排出ガ
ス流量調整弁１４及び電磁弁１５が直列接続されてい
る。しかして、排出ガス流量調整弁１４の機能により、
ハウジング５内に導入されて充満された充満ガス１６の
ガス量、及び、前記ねじ軸挿通用開口１２とねじ軸２と
の間の隙間から排出されるガス量に応じた量のガスが、
前記排出ガス流量調整弁１４を介してハウジング５の外
部へ排出されるように構成されている。
ス噴射孔８から噴射されたガスをガス噴射環４の上部近
傍部分に充満させておくための枠体から成り、その上壁
の中央箇所にはねじ軸２の直径よりも僅かに大きな直径
を有するねじ軸挿通用開口１２が設けられている。さら
に、前記ハウジング５にはガス排出管１３（ガス排気手
段）が連結されており、このガス排出管１３には排出ガ
ス流量調整弁１４及び電磁弁１５が直列接続されてい
る。しかして、排出ガス流量調整弁１４の機能により、
ハウジング５内に導入されて充満された充満ガス１６の
ガス量、及び、前記ねじ軸挿通用開口１２とねじ軸２と
の間の隙間から排出されるガス量に応じた量のガスが、
前記排出ガス流量調整弁１４を介してハウジング５の外
部へ排出されるように構成されている。
【００１５】このような構成の高周波無酸化焼入装置１
を用いてボールねじのねじ軸２を高周波無酸化焼入する
場合には、その手順は下記の如く行われる。
を用いてボールねじのねじ軸２を高周波無酸化焼入する
場合には、その手順は下記の如く行われる。
【００１６】（１） まず、図外のワーク移動機構の上
下センターにより、ねじ軸２の上下端面に開口されたセ
ンター穴を介してねじ軸２が位置決めされて固定支持さ
れる。 （２） 次いで、図外のワーク昇降機構によりねじ軸２
が図１において矢印Ａ方向に下降移動され、このねじ軸
２が所定の焼入開始位置すなわち高周波誘導加熱コイル
３に対応する高さ位置で停止される。 （３） この状態の下で、電磁弁１５が閉じられ、これ
に応じてガス排出管１３と外気との間の連通が遮断され
る。これに伴い、ハウジング５内の空気がガス排出管１
３を通って外部へ排出されると共に、ハウジング５内に
噴射ガスが充満された状態となる。 （４） この後、冷却液噴射環６より所要の圧力，流量
の冷却液が噴射されると共に、ガス導入管９から導入さ
れた所要の圧力（正圧），流量の不活性ガス、又は還元
性ガス、或いは不活性ガス及び還元性ガスの混合ガスが
ねじ軸２に向かってガス噴射環４のガス噴射孔８から噴
射される。 （５） 次いで、所要時間に亘ってガスを噴射した後に
電磁弁１５が開かれ、これに応じてガス排出管１３が外
気に連通される。 （６） このような状態の下で、ねじ軸２が図外のワー
ク回転機構によりその軸線を中心に図１において矢印Ｂ
方向に回転駆動されると共に、図外のワーク昇降機構に
より所要の移動速度で下降移動され、高周波電源７から
高周波誘導加熱コイル３に所要周波数の高周波電流が供
給されてねじ軸２の被加熱面（ねじ溝２ａ部分の表面）
の移動加熱が開始される。 （７） 次いで、所要の焼入温度まで加熱されたねじ軸
２の被焼入部分が、冷却液噴射環６のガス噴射孔１０か
ら噴射されている冷却液中に突入され、焼入冷却が開始
される。 （８） ねじ軸２の所定範囲の焼入が完了されるのに応
じて、高周波誘導加熱コイル３への通電、ガス噴射環６
からのガスの噴射、及び、冷却液噴射環６からの冷却液
の噴射が停止されると共に、ねじ軸２の下降移動及び回
転駆動が停止される。 （９） しかる後に、ねじ軸２は所定位置まで上昇移動
され、その位置においてねじ軸２が前記ワーク移動機構
の上下センター間より取り外され、焼入完了品として次
工程に送られる。
下センターにより、ねじ軸２の上下端面に開口されたセ
ンター穴を介してねじ軸２が位置決めされて固定支持さ
れる。 （２） 次いで、図外のワーク昇降機構によりねじ軸２
が図１において矢印Ａ方向に下降移動され、このねじ軸
２が所定の焼入開始位置すなわち高周波誘導加熱コイル
３に対応する高さ位置で停止される。 （３） この状態の下で、電磁弁１５が閉じられ、これ
に応じてガス排出管１３と外気との間の連通が遮断され
る。これに伴い、ハウジング５内の空気がガス排出管１
３を通って外部へ排出されると共に、ハウジング５内に
噴射ガスが充満された状態となる。 （４） この後、冷却液噴射環６より所要の圧力，流量
の冷却液が噴射されると共に、ガス導入管９から導入さ
れた所要の圧力（正圧），流量の不活性ガス、又は還元
性ガス、或いは不活性ガス及び還元性ガスの混合ガスが
ねじ軸２に向かってガス噴射環４のガス噴射孔８から噴
射される。 （５） 次いで、所要時間に亘ってガスを噴射した後に
電磁弁１５が開かれ、これに応じてガス排出管１３が外
気に連通される。 （６） このような状態の下で、ねじ軸２が図外のワー
ク回転機構によりその軸線を中心に図１において矢印Ｂ
方向に回転駆動されると共に、図外のワーク昇降機構に
より所要の移動速度で下降移動され、高周波電源７から
高周波誘導加熱コイル３に所要周波数の高周波電流が供
給されてねじ軸２の被加熱面（ねじ溝２ａ部分の表面）
の移動加熱が開始される。 （７） 次いで、所要の焼入温度まで加熱されたねじ軸
２の被焼入部分が、冷却液噴射環６のガス噴射孔１０か
ら噴射されている冷却液中に突入され、焼入冷却が開始
される。 （８） ねじ軸２の所定範囲の焼入が完了されるのに応
じて、高周波誘導加熱コイル３への通電、ガス噴射環６
からのガスの噴射、及び、冷却液噴射環６からの冷却液
の噴射が停止されると共に、ねじ軸２の下降移動及び回
転駆動が停止される。 （９） しかる後に、ねじ軸２は所定位置まで上昇移動
され、その位置においてねじ軸２が前記ワーク移動機構
の上下センター間より取り外され、焼入完了品として次
工程に送られる。
【００１７】このような高周波無酸化焼入装置１を用い
た高周波無酸化焼入方法によれば、高周波誘導加熱コイ
ル３に対応する箇所において、すなわち、ねじ軸２が高
周波誘導加熱コイル３にて移動加熱が開始される箇所に
おいて、所要の圧力及び流量の不活性ガス、又は還元性
ガス、或いは不活性ガス及び還元性ガスの混合ガスをね
じ軸２の表面（被焼入面）に噴射するようにしているの
で、この噴射ガスの噴射によってねじ軸２の移動加熱表
面近傍の酸素（空気）はハウジング５及びガス排出管１
３を順次介して外部へ排出され、ねじ軸２の被加熱面は
移動加熱中に前記ガスと常時接触しているため無酸化状
態を保ちつつ焼入が施されることとなる。また、ハウジ
ング５内の充満ガス１６は継続的に排気状態となってい
るので、後続のねじ軸２の焼入に際してハウジング５内
の空気（酸素）抜き作業は必要がなく、従って作業能率
良く焼入を行なうことができる。
た高周波無酸化焼入方法によれば、高周波誘導加熱コイ
ル３に対応する箇所において、すなわち、ねじ軸２が高
周波誘導加熱コイル３にて移動加熱が開始される箇所に
おいて、所要の圧力及び流量の不活性ガス、又は還元性
ガス、或いは不活性ガス及び還元性ガスの混合ガスをね
じ軸２の表面（被焼入面）に噴射するようにしているの
で、この噴射ガスの噴射によってねじ軸２の移動加熱表
面近傍の酸素（空気）はハウジング５及びガス排出管１
３を順次介して外部へ排出され、ねじ軸２の被加熱面は
移動加熱中に前記ガスと常時接触しているため無酸化状
態を保ちつつ焼入が施されることとなる。また、ハウジ
ング５内の充満ガス１６は継続的に排気状態となってい
るので、後続のねじ軸２の焼入に際してハウジング５内
の空気（酸素）抜き作業は必要がなく、従って作業能率
良く焼入を行なうことができる。
【００１８】しかも、本例の場合には、ねじ軸２の加熱
面に噴射されたガスはねじ軸２の表面に沿って上下方向
（図１において矢印α及びβで示す方向）に流れ、上方
に流れたガス、及び、下方（ガス噴射位置と冷却液噴射
位置との間）に流れたガスは、ハウジング５内に充満さ
れて加熱前のねじ軸２の表面に常時接触した状態とな
る。従って、この充満ガス１６（図１参照）の存在によ
り、ねじ軸２の下降に伴い前記充満ガス１６がねじ軸２
の表面に連れ添ってこれを覆うため、ハウジング５の下
部においてガス噴射がなされた場合、この箇所において
噴射ガスに紛れて空気（酸素）が入り込んでねじ軸２の
加熱面に接触するようなことは回避され、その結果、移
動冷却により焼入されたねじ軸２の表面は無酸化状態に
仕上がることとなる。
面に噴射されたガスはねじ軸２の表面に沿って上下方向
（図１において矢印α及びβで示す方向）に流れ、上方
に流れたガス、及び、下方（ガス噴射位置と冷却液噴射
位置との間）に流れたガスは、ハウジング５内に充満さ
れて加熱前のねじ軸２の表面に常時接触した状態とな
る。従って、この充満ガス１６（図１参照）の存在によ
り、ねじ軸２の下降に伴い前記充満ガス１６がねじ軸２
の表面に連れ添ってこれを覆うため、ハウジング５の下
部においてガス噴射がなされた場合、この箇所において
噴射ガスに紛れて空気（酸素）が入り込んでねじ軸２の
加熱面に接触するようなことは回避され、その結果、移
動冷却により焼入されたねじ軸２の表面は無酸化状態に
仕上がることとなる。
【００１９】さらに、ガスの噴射圧力より冷却液の噴射
圧力を大きく設定するようにしているので、冷却液への
噴射ガスの巻き込まれるのが防止され、冷却むらひいて
は焼入むらの発生が防止され、均一な焼入パターンを得
ることができる。従って、本例によれば、理想的な無酸
化状態の下で極めて良好な焼入を施すことができる。
圧力を大きく設定するようにしているので、冷却液への
噴射ガスの巻き込まれるのが防止され、冷却むらひいて
は焼入むらの発生が防止され、均一な焼入パターンを得
ることができる。従って、本例によれば、理想的な無酸
化状態の下で極めて良好な焼入を施すことができる。
【００２０】以下に、本発明に係る具体的な実施例を示
す。実施例 ［ア］ ワーク寸法 ＜ａ＞ 全 長 ： １０１５ ｍｍ ＜ｂ＞ ねじ軸長さ ： ７５０ ｍｍ ＜ｃ＞ ねじ軸外径 ： ４０ ｍｍ ＜ｄ＞ ボールピッチ円径 ： ４０．５ ｍｍ ＜ｅ＞ 谷 径 ： ３７．２ ｍｍ ［イ］ 高周波焼入条件 （１） 加熱条件 ＜ａ＞ 周波数 ： ３０ ｋＨZ ＜ｂ＞ 入力 ： ９５ ｋＷ ＜ｃ＞ 移動速度 ： １６ ｍｍ／ｓｅｃ ＜ｄ＞ 停止加熱時間 ： ０．６ ｓｅｃ （２） 冷却条件 ＜ａ＞ 冷却液 ： ユーコンクエンチャントＡ（１０％水溶液） ＜ｂ＞ 流量 ： ４０ １／ｍｉｎ ＜ｃ＞ 液温 ： ３０ ℃ （３） 雰囲気条件 ＜ａ＞ 噴射ガス ： 窒素＋一酸化炭素（１０％） ＜ｂ＞ ガス圧力 ： ２ ｋｇｆ／ｃｍ2 ＜ｃ＞ 流量 ： ２８０ ｌ／ｍｉｎ 上記加工条件にて上記加工手順にしたがって移動焼入加
工することにより、焼入表面は無酸化状態で焼入され
た。
す。実施例 ［ア］ ワーク寸法 ＜ａ＞ 全 長 ： １０１５ ｍｍ ＜ｂ＞ ねじ軸長さ ： ７５０ ｍｍ ＜ｃ＞ ねじ軸外径 ： ４０ ｍｍ ＜ｄ＞ ボールピッチ円径 ： ４０．５ ｍｍ ＜ｅ＞ 谷 径 ： ３７．２ ｍｍ ［イ］ 高周波焼入条件 （１） 加熱条件 ＜ａ＞ 周波数 ： ３０ ｋＨZ ＜ｂ＞ 入力 ： ９５ ｋＷ ＜ｃ＞ 移動速度 ： １６ ｍｍ／ｓｅｃ ＜ｄ＞ 停止加熱時間 ： ０．６ ｓｅｃ （２） 冷却条件 ＜ａ＞ 冷却液 ： ユーコンクエンチャントＡ（１０％水溶液） ＜ｂ＞ 流量 ： ４０ １／ｍｉｎ ＜ｃ＞ 液温 ： ３０ ℃ （３） 雰囲気条件 ＜ａ＞ 噴射ガス ： 窒素＋一酸化炭素（１０％） ＜ｂ＞ ガス圧力 ： ２ ｋｇｆ／ｃｍ2 ＜ｃ＞ 流量 ： ２８０ ｌ／ｍｉｎ 上記加工条件にて上記加工手順にしたがって移動焼入加
工することにより、焼入表面は無酸化状態で焼入され
た。
【００２１】また、図２は本発明の第２実施形態に係る
高周波無酸化焼入装置１８を示すものであって、本例の
装置１８は、円筒状外周面を有する軸状部材１９の表面
を焼入処理するためのものである。図２に示すように、
本例においては、高周波誘導加熱コイル３を構成する銅
管にガス噴射孔２０及び冷却液噴射孔２１をそれぞれ設
けるようにしている。この場合には、高周波誘導加熱コ
イル３にガス通路２２及び冷却液通路２３を設けると共
に、ガス通路２２に噴射ガスを導入するガス導入管２４
及び冷却液通路２３に冷却液を供給する冷却液導入管２
５を前記コイル３に接続するようにしている。しかし
て、本例においては、、ガス導入管２４及びガス通路２
３を順次通って供給されるガスがガス噴射孔２０からね
じ軸２の移動加熱開始面に噴射される一方、冷却液導入
管２５及び冷却液通路２３を順次通って供給される冷却
液が冷却液噴射孔２１からねじ軸２の移動加熱面に向け
て噴射されるように構成されている。
高周波無酸化焼入装置１８を示すものであって、本例の
装置１８は、円筒状外周面を有する軸状部材１９の表面
を焼入処理するためのものである。図２に示すように、
本例においては、高周波誘導加熱コイル３を構成する銅
管にガス噴射孔２０及び冷却液噴射孔２１をそれぞれ設
けるようにしている。この場合には、高周波誘導加熱コ
イル３にガス通路２２及び冷却液通路２３を設けると共
に、ガス通路２２に噴射ガスを導入するガス導入管２４
及び冷却液通路２３に冷却液を供給する冷却液導入管２
５を前記コイル３に接続するようにしている。しかし
て、本例においては、、ガス導入管２４及びガス通路２
３を順次通って供給されるガスがガス噴射孔２０からね
じ軸２の移動加熱開始面に噴射される一方、冷却液導入
管２５及び冷却液通路２３を順次通って供給される冷却
液が冷却液噴射孔２１からねじ軸２の移動加熱面に向け
て噴射されるように構成されている。
【００２２】このような構成の高周波用度加熱コイル３
を備えた高周波無酸化焼入装置を用いて焼入を施すよう
にした場合には、既述の場合と同様に無酸化焼入を行な
うことができることに加えて次のような利点がある。す
なわち、高周波用度加熱コイル３がガス噴射環４及び冷
却液噴射環６を兼ねた機能を有することとなるため、ガ
ス噴射環４及び冷却液噴射環６を省略でき、ひいては装
置の備品点数の削減を図り得ると共に、装置の簡素化並
びにコストダウンを図ることが可能となる。
を備えた高周波無酸化焼入装置を用いて焼入を施すよう
にした場合には、既述の場合と同様に無酸化焼入を行な
うことができることに加えて次のような利点がある。す
なわち、高周波用度加熱コイル３がガス噴射環４及び冷
却液噴射環６を兼ねた機能を有することとなるため、ガ
ス噴射環４及び冷却液噴射環６を省略でき、ひいては装
置の備品点数の削減を図り得ると共に、装置の簡素化並
びにコストダウンを図ることが可能となる。
【００２３】
【発明の効果】以上の如く、本発明の係る軸状部材の高
周波無酸化焼入方法は、高周波誘導加熱コイルにて前記
軸状部材の表面を移動加熱する際に、移動加熱を行なう
べき軸状部材の表面に向かって所要の圧力及び流量の不
活性ガス、又は還元性ガス、或いは不活性ガス及び還元
性ガスの混合ガスを噴射すると共に、噴射されて前記軸
状部材の表面上を流れたガスを前記軸状部材のガス噴射
箇所の上方近傍部分に充満させてこの充満したガスを排
気する一方、移動加熱された前記軸状部材の表面に冷却
液を噴射して冷却し、これにより前記軸状部材の表面を
無酸素状態の下で焼入を施すようにしたものであるか
ら、本発明によれば、軸状部材に直接的に噴射されるガ
ス及びこのガス噴射箇所の上部近傍に充満されたガスの
存在、並びに、軸状部材の被加熱部の表面上を流れるガ
スの存在により、移動加熱すべき軸状部材の表面（被加
熱面）への空気の巻き込み、ひいてはこの表面に酸素
（空気）が接触するのを極めて効果的に防止することが
でき、従って軸状部材を理想的な無酸素状態の下で焼入
することが可能となる。
周波無酸化焼入方法は、高周波誘導加熱コイルにて前記
軸状部材の表面を移動加熱する際に、移動加熱を行なう
べき軸状部材の表面に向かって所要の圧力及び流量の不
活性ガス、又は還元性ガス、或いは不活性ガス及び還元
性ガスの混合ガスを噴射すると共に、噴射されて前記軸
状部材の表面上を流れたガスを前記軸状部材のガス噴射
箇所の上方近傍部分に充満させてこの充満したガスを排
気する一方、移動加熱された前記軸状部材の表面に冷却
液を噴射して冷却し、これにより前記軸状部材の表面を
無酸素状態の下で焼入を施すようにしたものであるか
ら、本発明によれば、軸状部材に直接的に噴射されるガ
ス及びこのガス噴射箇所の上部近傍に充満されたガスの
存在、並びに、軸状部材の被加熱部の表面上を流れるガ
スの存在により、移動加熱すべき軸状部材の表面（被加
熱面）への空気の巻き込み、ひいてはこの表面に酸素
（空気）が接触するのを極めて効果的に防止することが
でき、従って軸状部材を理想的な無酸素状態の下で焼入
することが可能となる。
【００２４】また、本発明によれば、前記ガスの噴射圧
力より前記冷却液の噴射圧力を大きく設定するようにし
ているので、軸状部材の加熱表面に噴射された冷却液に
前記ガスが巻き込まれて焼入パターンにむらを生じるよ
うな不具合の発生を回避することができ、良好な冷却効
率にて均一な焼入パターンを得ることが可能となる。
力より前記冷却液の噴射圧力を大きく設定するようにし
ているので、軸状部材の加熱表面に噴射された冷却液に
前記ガスが巻き込まれて焼入パターンにむらを生じるよ
うな不具合の発生を回避することができ、良好な冷却効
率にて均一な焼入パターンを得ることが可能となる。
【００２５】また、本発明の係る軸状部材の高周波無酸
化焼入装置によれば、軸状部材の表面を高周波誘導加熱
する高周波誘導加熱コイルと、この高周波誘導加熱コイ
ルの近傍位置に配設されかつ不活性ガス又は還元性ガ
ス、或いは不活性ガス、又は還元性ガス、或いは不活性
ガス及び還元性ガスの混合ガスを噴射するガス噴射環
と、このガス噴射環の下部近傍位置に配設された冷却液
噴射環と、前記ガス噴射環上部近傍位置に配設されたハ
ウジングと、このハウジングに設けられたガス排出手段
とをそれぞれ設けるだけの簡単な構成のもので済む上
に、冷却液噴射環の下方は開放（何らの部材も配置しな
い開放口）にすることが可能であり、軸長が長い軸状部
材であっても大型の容器等を用いることなく軸状部材の
高周波無酸化焼入を容易に行なうことができる。
化焼入装置によれば、軸状部材の表面を高周波誘導加熱
する高周波誘導加熱コイルと、この高周波誘導加熱コイ
ルの近傍位置に配設されかつ不活性ガス又は還元性ガ
ス、或いは不活性ガス、又は還元性ガス、或いは不活性
ガス及び還元性ガスの混合ガスを噴射するガス噴射環
と、このガス噴射環の下部近傍位置に配設された冷却液
噴射環と、前記ガス噴射環上部近傍位置に配設されたハ
ウジングと、このハウジングに設けられたガス排出手段
とをそれぞれ設けるだけの簡単な構成のもので済む上
に、冷却液噴射環の下方は開放（何らの部材も配置しな
い開放口）にすることが可能であり、軸長が長い軸状部
材であっても大型の容器等を用いることなく軸状部材の
高周波無酸化焼入を容易に行なうことができる。
【００２６】また、本発明の係る軸状部材の高周波無酸
化焼入装置は、ガス噴射孔及び冷却液噴射孔を有する管
状部材から構成された高周波誘導加熱コイルと、この高
周波誘導加熱コイルの上部近傍位置に配設されたハウジ
ングと、このハウジングに設けられたガス排出手段とを
それぞれ設けるようにしたものであるから、軸状部材の
形状や寸法，焼入仕様に応じて上述の如くガス噴射孔及
び冷却液噴射孔を有する高周波誘導加熱コイルすなわち
ガス噴射孔及び冷却液噴射孔が一体化された一体型コイ
ルを用いることにより、ガス噴射環及び冷却液噴射環を
別個に設ける必要がなくなり、装置の部品点数の削減に
よる構造のより一層の簡素化並びにコストダウンを図る
ことができる。
化焼入装置は、ガス噴射孔及び冷却液噴射孔を有する管
状部材から構成された高周波誘導加熱コイルと、この高
周波誘導加熱コイルの上部近傍位置に配設されたハウジ
ングと、このハウジングに設けられたガス排出手段とを
それぞれ設けるようにしたものであるから、軸状部材の
形状や寸法，焼入仕様に応じて上述の如くガス噴射孔及
び冷却液噴射孔を有する高周波誘導加熱コイルすなわち
ガス噴射孔及び冷却液噴射孔が一体化された一体型コイ
ルを用いることにより、ガス噴射環及び冷却液噴射環を
別個に設ける必要がなくなり、装置の部品点数の削減に
よる構造のより一層の簡素化並びにコストダウンを図る
ことができる。
【図１】本発明に係る高周波無酸化焼入装置の第１の実
施形態を示すものであって、加熱コイル，ガス噴射環，
冷却液噴射環がそれぞれ別体として配設されるタイプの
高周波無酸化焼入装置の構成を示す断面図である。
施形態を示すものであって、加熱コイル，ガス噴射環，
冷却液噴射環がそれぞれ別体として配設されるタイプの
高周波無酸化焼入装置の構成を示す断面図である。
【図２】本発明に係る高周波無酸化焼入装置の第２の実
施形態を示すものであって、高周波誘導加熱コイルにガ
ス噴射環及び冷却液噴射環をそれぞれ設けたタイプの高
周波無酸化焼入装置の構成を示す断面図である。
施形態を示すものであって、高周波誘導加熱コイルにガ
ス噴射環及び冷却液噴射環をそれぞれ設けたタイプの高
周波無酸化焼入装置の構成を示す断面図である。
１，１８ 高周波無酸化焼入装置 ２ 軸状部材（ワーク） ３ 高周波誘導加熱コイル ４ ガス噴射環 ５ ハウジング ６ 冷却液噴射環 ７ 高周波電源 ８，２０ ガス噴射孔 １０，２１ 冷却液噴射孔 １３ ガス排出管（ガス排気手段） １６ 充満ガス １９ 軸状部材 ２２ ガス通路 ２３ 冷却液通
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ２１Ｄ 9/28 Ｃ２１Ｄ 9/28 Ｂ
Claims (4)
- 【請求項１】 軸状部材を下降移動させつつ加熱した後
に冷却して前記軸状部材の表面に焼入処理を施す高周波
移動焼入方法において、高周波誘導加熱コイルにて前記
軸状部材の表面を移動加熱する際に、移動加熱を行なう
べき軸状部材の表面に向かって所要の圧力及び流量の不
活性ガス、又は還元性ガス、或いは不活性ガス及び還元
性ガスの混合ガスを噴射すると共に、噴射されて前記軸
状部材の表面上を流れたガスを前記軸状部材のガス噴射
箇所の上方近傍部分に充満させてこの充満したガスを排
気する一方、移動加熱された前記軸状部材の表面に冷却
液を噴射して冷却し、これにより前記軸状部材の表面を
無酸素状態の下で焼入を施すようにしたことを特徴とす
る軸状部材の高周波無酸化焼入方法。 - 【請求項２】 前記ガスの噴射圧力より前記冷却液の噴
射圧力を大きく設定したことを特徴とする請求項１に記
載の軸状部材の高周波無酸化焼入方法。 - 【請求項３】 軸状部材を下降移動させつつ加熱した後
に冷却して前記軸状部材の表面に焼入処理を施す高周波
移動焼入装置において、軸状部材の表面を高周波誘導加
熱する高周波誘導加熱コイルと、この高周波誘導加熱コ
イルの近傍位置に配設されかつ不活性ガス、又は還元性
ガス、或いは不活性ガス及び還元性ガスの混合ガスを噴
射するガス噴射環と、このガス噴射環の下部近傍位置に
配設された冷却液噴射環と、前記ガス噴射環上部近傍位
置に配設されたハウジングと、このハウジングに設けら
れたガス排出手段とをそれぞれ具備し、移動加熱を行な
うべき軸状部材の表面に向かって前記ガス噴射環から不
活性ガス、還元性ガス又はこれらの混合ガスを噴射させ
ながら前記高周波誘導加熱コイルにて前記軸部材の表面
を加熱し、前記軸状部材の表面に噴射されてこの表面上
を流れる噴射ガスを前記ハウジング内に充満させると共
に、充填されたガスを前記ガス排出手段を介して前記ハ
ウジングの外部へ排出し、前記軸状部材の表面を無酸素
状態の下で焼入するようにしたことを特徴とする軸状部
材の高周波無酸化焼入装置。 - 【請求項４】 軸状部材を下降移動させつつ加熱した後
に冷却して前記軸状部材の表面に焼入処理を施す高周波
移動焼入装置において、ガス噴射孔及び冷却液噴射孔を
有する管状部材から構成された高周波誘導加熱コイル
と、この高周波誘導加熱コイルの上部近傍位置に配設さ
れたハウジングと、このハウジングに設けられたガス排
出手段とをそれぞれ具備し、移動加熱を行なうべき軸状
部材の表面に向かって前記高周波誘導加熱コイルのガス
噴射孔から不活性ガス、又は還元性ガス、或いは不活性
ガス及び還元性ガスの混合ガスを噴射させながら前記高
周波誘導加熱コイルにて前記軸部材の表面を加熱し、前
記軸状部材の表面に噴射されてこの表面上を流れる噴射
ガスを前記ハウジング内に充満させると共に、充填され
たガスを前記ガス排出手段を介して前記ハウジングの外
部へ排出し、前記軸状部材の表面を無酸素状態の下で焼
入するようにしたことを特徴とする軸状部材の高周波無
酸化焼入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17554197A JP3899162B2 (ja) | 1997-07-01 | 1997-07-01 | 軸状部材の高周波無酸化焼入方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17554197A JP3899162B2 (ja) | 1997-07-01 | 1997-07-01 | 軸状部材の高周波無酸化焼入方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1121619A true JPH1121619A (ja) | 1999-01-26 |
| JP3899162B2 JP3899162B2 (ja) | 2007-03-28 |
Family
ID=15997888
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17554197A Expired - Lifetime JP3899162B2 (ja) | 1997-07-01 | 1997-07-01 | 軸状部材の高周波無酸化焼入方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3899162B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1207089A2 (en) | 2000-11-16 | 2002-05-22 | Fuji Jukogyo Kabushiki Kaisha | Road friction coefficients estimating apparatus for vehicle |
| EP1369337A1 (en) * | 2002-06-06 | 2003-12-10 | Toyoda Koki Kabushiki Kaisha | Rack bar and method of heat-treating a rack bar |
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| JP2008240101A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Jtekt Corp | 移動焼入装置 |
| WO2009033527A1 (de) * | 2007-09-11 | 2009-03-19 | Voestalpine Krems Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum härten von profilen |
| KR100969397B1 (ko) | 2007-11-26 | 2010-07-14 | 한전케이피에스 주식회사 | 버켓 팁 유도가열기 |
| WO2017170608A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 新日鐵住金株式会社 | 熱処理装置、鋼材の熱処理方法及び鋼材の熱間曲げ加工方法 |
-
1997
- 1997-07-01 JP JP17554197A patent/JP3899162B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2017170608A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 新日鐵住金株式会社 | 熱処理装置、鋼材の熱処理方法及び鋼材の熱間曲げ加工方法 |
| JPWO2017170608A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2018-04-05 | 新日鐵住金株式会社 | 熱処理装置、鋼材の熱処理方法及び鋼材の熱間曲げ加工方法 |
| CN108884511A (zh) * | 2016-03-31 | 2018-11-23 | 新日铁住金株式会社 | 热处理装置、钢材的热处理方法及钢材的热弯曲加工方法 |
| EP3438294A4 (en) * | 2016-03-31 | 2019-02-06 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | THERMAL TREATMENT APPARATUS, HEAT TREATMENT METHOD FOR STEEL MATERIAL, AND HOT BENDING METHOD FOR STEEL MATERIAL |
| US10626475B2 (en) | 2016-03-31 | 2020-04-21 | Nippon Steel Corporation | Heat treatment apparatus, heat treatment method for steel workpiece, and hot bending method for steel workpiece |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3899162B2 (ja) | 2007-03-28 |
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