JPH11213903A - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 - Google Patents

プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法

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JPH11213903A
JPH11213903A JP10029223A JP2922398A JPH11213903A JP H11213903 A JPH11213903 A JP H11213903A JP 10029223 A JP10029223 A JP 10029223A JP 2922398 A JP2922398 A JP 2922398A JP H11213903 A JPH11213903 A JP H11213903A
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Takashi Miyama
貴司 三山
Shinichi Sakano
真一 坂野
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 隔壁強度を維持しつつ輝度を高めてコントラ
ストをさらに向上させることができるプラズマディスプ
レイパネルおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 放電空間を区画する隔壁を有するプラズ
マディスプレイパネルにおいて、前記隔壁は、隔壁の側
面に段差を有する階段形状を備えてなるように構成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、気体放電を用いた
自発光形式の平板ディスプレイパネルであるプラズマデ
ィスプレイパネルおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ガス放電パネルであるプラズマディスプ
レイパネル(PDP)は、2枚の対向するガラス基板に
それぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、その間に
Ne、He、Xe等を主体とする希ガスを封入した構造
となっている。そして、これらの電極間に電圧を印加
し、電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることに
より、各セルを発光させて表示を行うようにしている。
情報の表示をするためには、規則的に並んだセルを選択
的に放電発光させる。このPDPには、電極が放電空間
に露出している直流型(DC型)と絶縁層で覆われてい
る交流型(AC型)の2タイプがあり、双方とも表示機
能や駆動方式の違いによって、さらにリフレッシュ駆動
方式とメモリー駆動方式に分類される。
【0003】DC型のPDPおよびAC型のPDPにお
いて、各セルは2枚のガラス基板が隔壁により対向保持
されて形成されている。このような隔壁は、表示放電空
間をできるだけ大きくして高輝度の発光を得るために、
ガラス基板に対して垂直に切り立ち、かつ、幅が狭く十
分な高さを有することが要求される。特に高精細のPD
Pでは、例えば、高さ100μmに対して幅が30〜5
0μmであるような高アスペクト比の隔壁が必要とされ
る。
【0004】従来より、PDPにおける隔壁は、ガラス
フリット、不定形のアルミナ、ジルコン、ジルコニア等
の骨材、着色剤からなる組成物と焼成により消失するエ
チルセルロース、アクリル系樹脂をターピネオール、ブ
チルカルビトール等の溶剤に溶解させた有機ビヒクルを
三本ロール等により混練したペーストをスクリーン印刷
によりパターン状に印刷、乾燥を所望の高さになるまで
繰り返し、焼成する方法、あるいはスクリーン印刷、ブ
レードコート、ダイコート等により塗布、乾燥しベタ膜
を形成した後、ベタ膜上に耐サンドブラスト性を有する
マスクをパターン状に形成し、サンドブラスト加工を行
い、マスクを剥離した後焼成する方法等により形成され
ている。
【0005】このようにして背面板(片方のガラス基
板)の上に形成された隔壁間には蛍光体が充填され、し
かる後、前面板(もう一方のガラス基板)と重ね合わせ
られ、封着される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のPD
Pにおける隔壁形状は、ストレートに切り立った板状突
起形状なしているのが一般的であるが、このような従来
の隔壁形状では、隔壁側面の蛍光体の付着量が少ない、
輝度が低くコントラストが不十分、また、輝度向上のた
めに隔壁幅を細くした場合、隔壁強度が低下してしまう
という問題があった。
【0007】このような実状のもとに本発明は創案され
たものであり、その目的は、隔壁強度を維持しつつ、輝
度を高めてコントラストをさらに向上させることができ
るプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提
供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために、本発明は、放電空間を区画する隔壁を有する
プラズマディスプレイパネルにおいて、前記隔壁は、隔
壁の側面に段差を有する階段形状を備えてなるように構
成される。
【0009】前記隔壁の階段形状は、線幅の異なる複数
の隔壁パターン印刷版を準備し、線幅の太いものから細
いものに順次変えつつ隔壁形成のための塗布組成物をス
クリーン印刷にて積層して形成されてなるように構成さ
れる。
【0010】前記隔壁の階段形状は、隔壁形成のための
樹脂量の異なった2種類以上の塗布組成物を準備し、こ
れらを順次積層塗布して塗布積層体を形成し、しかる
後、所定のマスクパターンを用いてブラスト処理して形
成されたものであって、積層体中の異なった塗布組成物
界面の上層側の無機成分に対する樹脂量B1 (wt
%)、下層側の無機成分に対する樹脂量B2 (wt%)
との関係が、B1 <B2 ,かつB2 −B1 ≧0.3wt
%の条件を満たすように構成される。
【0011】前記隔壁の階段形状は、隔壁形成のための
2種以上の塗布組成物を準備し、これらを順次積層塗布
して塗布積層体を形成し、しかる後、所定のマスクパタ
ーンを用いてブラスト処理して形成されたものであっ
て、前記塗布組成物中、2層目以降の塗布組成物の粘度
が22℃、シェアーレート10(1/sec)で400
ポイズ以下であるように構成される。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。
【0013】本発明のプラズマディスプレイパネル(P
DP)において、その特徴部分となるのは隔壁の形状お
よびその製造方法であるが、これらについての説明をす
る前に、プラズマディスプレイパネル全体の構成を簡単
に説明しておく。
【0014】図1は、AC型PDPの一構成例を示す斜
視図である。この図において、符号1は前面板、符号2
は背面板、符号3は隔壁、符号4は維持電極、符号5は
バス電極、符号6は誘電体層、符号7はMgO層、符号
8はアドレス電極、符号9は蛍光体層を示している。
【0015】図1は、PDPの構成が理解しやすいよう
に、前面板1と背面板2を離した状態で示してある。図
1に示されるようにAC型PDPは、ガラス板からなる
前面板1と背面板2とが互いに平行に対峙され、背面板
2に立設された隔壁3によって前面板1と背面板2とが
密封されたセルを構成するように一定間隔で固着されて
いる。
【0016】前面板1の背面側には、透明電極である維
持電極4と金属電極であるバス電極5とからなる複合電
極が互いに平行に形成され、これを覆うように誘電体層
6、およびMgO層7が順次形成されている。
【0017】また、背面板2の前面側には、複合電極と
直交するとともに隔壁3の間に位置するようにアドレス
電極8がストライプ状に互いに平行に形成され、また、
アドレス電極8上のセル底面上に蛍光体層9が設けられ
ている。また、図2にその断面図が示されるように、ガ
ラス基板2に下地層10を形成した後にアドレス電極8
を設け、さらに誘電体層6’を積層した後、隔壁3、蛍
光体層9を設けた構造としたものである。
【0018】このようなAC型PDPは面放電型であ
り、前面板1における複合電極間に交流電源から所定の
電圧を印加して電場を形成することにより、前面板1と
背面板2と隔壁3とで区画される表示要素としての各セ
ル内で放電が行われる。そして、この放電により生じる
紫外線により蛍光体9を発光させることで、前面板1を
透過する光を観察者が視認できるようになっている。
【0019】図3はDC型PDPの一構成例を示したも
のであり、そのなかで、図3(a)は平面図、図3
(b)は図3(a)におけるX−X線での断面図であ
る。図中、符号11は前面板、符号12は背面板、符号
13は陰極、符号14は電極体、符号15は表示陽極、
符号16は隔壁、符号17は放電セル、符号18は端子
部、符号19は抵抗体、符号20は補助電極、符号21
は電極体、符号22は蛍光体層、符号23はプライミン
グスリットをそれぞれ示している。
【0020】DC型PDPは、図3に示されるように、
前面板11と背面板12の2枚のガラス基板を合わせて
パネル化され、また、前面板11上には陰極13からな
る第1の電極群が形成され、背面板12上には電気的に
接続した電極4本と表示陽極15とからなる第2の電極
群が形成されている。陰極13と表示陽極15が略直交
するように前面板11と背面板12とが隔壁16により
対向保持されて放電セル17が形成されている。放電セ
ル17内の陰極13と電極体14とによって単位放電電
極対が構成されている。
【0021】そして、表示陽極15は線状部15aとこ
の線状部15aから横向きに突き出た突起部15bとを
備え、電極体14からは端子部18が表示陽極15と平
行に伸びており、表示陽極15の突起部15bと電極体
14の端子部18との間は抵抗体19により電気的に接
続されている。また、隣接する表示陽極15の間にはそ
れと平行に補助陽極20が設けられており、陰極13と
交差する箇所には補助陽極20上にも電極体21が設け
られている。
【0022】DC型PDPでは、陰極13と表示陽極1
5の間に所定の電圧を印加すると、抵抗体19を介して
電極体14に電流が流れ、放電セル17内にて陰極13
と電極体14との間で放電が起こり、この放電により発
生する紫外線で、例えばR,G,B,各3色の蛍光体層
22を発光させるようになっている。この発光は前面板
11を通して外部に放射され、フルカラーの画像表示が
行われる。この場合、補助陽極18は放電セル17内に
放電の種火となる荷電粒子をプライミングスリット23
を通して供給する役目を持つ。なお、符号24は誘電体
層で、表示陽極15、端子部18、抵抗体19及び補助
陽極20を放電空間から電気的に隔絶せしめ、放電発生
箇所を電極体14、21のみに限定する。
【0023】本発明におけるPDP用の隔壁3および隔
壁16(以下隔壁3を代表として取りあげて説明する)
は、上記図面に示されるようにその隔壁3が、隔壁の側
面に段差を有する階段形状を備えて構成される。このよ
うな構成とすることで放電空間が広くなり、紫外線の発
生量が増えることでPDPの輝度が向上する。また、隔
壁3の側面に蛍光体が十分に付着することによって、さ
らにPDPの輝度が向上する。階段形状は、隔壁の側面
に段差を有し、所定の強度を備えるものであれば特にそ
の形状に制限はない。このような階段形状は、以下に示
すように大きくわけて2種の製造方法、すなわちパタ
ーン印刷法、ブラスト法により形成される。
【0024】パターン印刷法 線幅の異なる複数の隔壁パターン印刷版(スクリーン印
刷版)を準備し、線幅の太いものから細いものに順次変
えつつ隔壁形成のための塗布組成物をスクリーン印刷に
て積層して形成する。この場合、積層された段数には特
に制限はないが、通常は、2〜10段程度とすることが
好ましい。図4(a)には、パターン印刷法により形成
した2段の階段形状のものが例示されており、符号31
は最初に塗設された幅広の下層部31、符号35は次い
で塗設された幅狭の上層部35を示す。
【0025】ブラスト法 さらに下記2種の方法に大別される。ブラスト法による
隔壁形成の概念図が図4(b)に示される。
【0026】(I) 隔壁形成のための樹脂量の異なった2
種類以上の塗布組成物を準備し、これらを順次積層塗布
して塗布積層体を形成し、しかる後、耐サンドブラスト
性を有するマスクをパターン状に形成し、サンドブラス
ト加工を行い、マスクを剥離した後、焼成する方法等に
より隔壁を形成する。塗布組成物の塗布方法としては、
スクリーン印刷や、ブレードコート、ダイコート、ロー
ルコート、リバースコート等が挙げられる。
【0027】階段形状の隔壁を形成するためには、積層
体中の異なった塗布組成物界面の上層側の無機成分に対
する樹脂量B1 (wt%)、下層側の無機成分に対する
樹脂量B2 (wt%)との関係が、B1 <B2 ,かつB
2 −B1 ≧0.3wt%の条件を満たすようにする必要
がある。
【0028】これらの条件を満たして初めて図4(b)
に示されるごとく階段形状の隔壁が得られる。図4
(b)において、符号41は下層塗布組成物(ペース
ト)により形成された下層部、符号45は上層塗布組成
物(ペースト)により形成された上層部、符号40はブ
ラスト処理のためのマスクである。下層部41は、同一
の組成からなる下層塗布組成物であれば、このものを何
層積層(数回の重ね塗り)して構成してもよい。上層部
45についても同様である。
【0029】図4(b)に示されるように下層部41に
対して上層部45の樹脂量を少なくすることで、層界面
43の位置までブラストされた時に、ブラストレートが
遅くなることで上層部45にサイドエッジ(例えば、矢
印で示されるようなブラスト粒子の飛散により生じる)
が入り階段形状の隔壁が得られる。なお、図4(b)
は、あくまでもサイドエッジが入る状態を分かりやすく
説明するための図面であって、階段形状はこの図の形態
に限定されるものではない。
【0030】また、上記の実施形態では、下層部41お
よび上層部45の2段の階段構成の場合について説明し
たが、下層部41および上層部45に加えてこれらとは
別の塗布組成物からなる他の層部を形成し、2段を超え
る階段構成としてもよい。この場合には、上下の位置関
係にあり塗布組成物が互いに異なる上下層部が、上記の
所定の製造要件を満たす必要がある。
【0031】もう一つのブラスト法のケース(II)とし
て、隔壁形成のための2種以上の塗布組成物を準備し、
これらを順次積層塗布して塗布積層体を形成し、しかる
後、耐サンドブラスト性を有するマスクをパターン状に
形成し、サンドブラスト加工を行い、マスクを剥離した
後焼成する方法等により隔壁を形成する。塗布組成物の
塗布方法としては、スクリーン印刷や、ブレードコー
ト、ダイコート、ロールコート、リバースコート等が挙
げられる。階段形状の隔壁を形成するためには、2層目
以降の塗布組成物(2段目を含めこれより上の段部を構
成する塗布組成物)の粘度が22℃、シェアーレート1
0(1/sec)で400ポイズ以下、特に、10〜3
00ポイズであることが必要である。これらの条件を満
たして初めて図4(b)に示されるごとく階段形状の隔
壁が得られる。2層目以降の塗布組成物の粘度を400
ポイズ以下とすることにより、当該塗布組成物の樹脂分
がその下に位置する下層部側(1段目を構成する)に滲
み込み、下層部41の樹脂量が上層部45の樹脂量より
多くなる。このような条件のもとに積層された積層体は
乾燥後、上記(I) のところで説明したように層界面43
の位置までブラストされた時に、ブラストレートが遅く
なることで上層部45にサイドエッジ(例えば、矢印で
示されるようなブラスト粒子の飛散により生じる)が入
り階段形状の隔壁が得られる。ただし、ブラスト法のケ
ース(II)の場合、1回のコーティングで30μm以上
(乾燥厚さ)をコーティングしないと、本願所望の階段
形状の隔壁を形成することが困難となる。
【0032】前記上層部45は、溶融母体となるガラス
フリットと、必要に応じて含有される骨材と顔料を備
え、また、前記下層部41は、溶融母体となるガラスフ
リットと、骨材と、必要に応じて含有される顔料を備え
て構成される。
【0033】さらに、隔壁組成物は輝度を上げるために
白色としても良く、また、コントラストを上げるために
黒色としても良い。また、下層部を白、上層部を黒とし
てもよい。色調整は顔料の添加等により行えば良い。
【0034】本発明におけるPDP用の隔壁3に含有さ
れるガラスフリットはバインダー(接着剤)として役割
をなすものであり、そのガラス転移点(Tg)は、塗布
組成物中、ペーストとして用いる樹脂が焼成により完全
に消失する温度以上であることが望ましい。さらに、ガ
ラスフリットの軟化点はガラス基板が変形する温度以下
でなければならない。具体的には、Tgが350〜50
0℃、軟化点が400〜600℃の間で適宜選択され
る。
【0035】さらに、残留歪を極力小さくし、基板の反
りや誘電体層のクラックの発生を抑えるために、ガラス
フリットの熱膨張係数(α)をガラス基板、下地層、誘
電体層の熱膨張係数にできるだけ合わせる必要がある。
従って、具体的には、α=60〜90×10-7/℃程度
のものを使用するのが望ましいが、骨材、着色剤を添加
することでαが変化するため、最終的に隔壁組成物とし
た時のαが60〜90×10-7/℃程度となるよう適宜
選択すればよい。
【0036】本発明の隔壁3に含有される骨材として
は、例えば、アルミナ、シリカ、ジルコニア、酸化チタ
ン、マグネシア、ジルコン、ムライト、コージェライ
ト、炭化珪素、チタン酸バリウム、ジルコン酸バリウ
ム、ガラス等の隔壁の焼成温度以下の温度で安定に存在
するものが使用される。
【0037】上記本発明に用いられる骨材は、その材料
の選定の仕方次第では、着色剤としての機能をも併用さ
せることができるが、さらに、積極的に着色を要す場合
が多々あり、その場合には隔壁3中に顔料(着色剤)が
含有される。
【0038】顔料(着色剤)としては、耐熱性があるも
のが用いられる。本発明の場合、基板の作製工程中の焼
成温度以上の耐熱性があればよい。このような着色剤と
しては、複合酸化物系顔料(Cr,Co,Ni,Fe,
Mn,Cu,Sb,As,Bi,Ti,Cd,Al,C
a,Si,Mg,Ba等の2種以上の金属の酸化物から
なる顔料)、酸化チタン、アルミナ、ジルコン、ジルコ
ニア、シリカ、マグネシア、チタン酸鉛、チタン酸カリ
ウム、硫セレン化カドミウム、弁柄(Fe23 )、亜
酸化銅、カドミウム水銀赤(CdS+HgS)、クロム
バーミリオン、銀朱、アンチモン赤ヨード赤、ジンクア
イアンレッド、モリブデン赤、鉛丹、カドミウムレッ
ド、クロムグリーン、亜鉛緑、コバルトグリーン、酸化
クロム、ビリジアン、エメラルドグリーン群青、紺青、
コバルトブルー、セルリアンブルー、硫化銅、チタンイ
エロー、チタンブラック、黒色酸化鉄(Fe34 )、
黄色酸化鉄、カドミウムイエロー、黄鉛などが挙げら
れ、これらは適宜目的に応じ選択して用いれば良い。
【0039】上述してきた隔壁3の組成物は、ガラスフ
リットを40〜95%、好ましくは60〜90%;骨材
を1〜60%、好ましくは5〜30%;着色剤を0〜3
0%の範囲で構成するのがよい。これらを含むパターン
形成用塗布組成物は、これらを混合した後、有機ビヒク
ルを加え三本ロール、ビーズミル等により混練、分散し
てペースト状の塗布組成物とされる。
【0040】ここで用いる有機ビヒクルの樹脂として
は、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、メチルセルロース、ニトロセルロース等のセルロー
ス誘導体、ポリアクリルエステル、アルキッド樹脂等の
ポリエステル系樹脂、アクリル酸、メタクリル酸、イタ
コン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、ビニル酢
酸、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチ
ルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタ
クリレート、プロピルアクリレート、n−ブチルメタク
リレート、イソブチルメタクリレート、2−エチルヘキ
シルメタクリレート、2−ヘキシルアクリレート、ラウ
リルメタクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリ
ルメタクリレート、ステアリルアクリレート、ドデシル
メタクリレート、ドデシルアクリレート、ヘキシルメタ
クリレート、ヘキシルアクリレート、オクチルメタクリ
レート、オクチルアクリレート、セチルメタクリレー
ト、セチルアクリレート、ノニルメタクリレート、ノニ
ルアクリレート、デシルメタクリレート、デシルアクリ
レート、シクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレート、ジメチル
アミノエチルメタクリレート、2−メトキシアクリレー
ト、2(2−エトキシエトキシ)エチルアクリレート、
2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ダイアセトンア
クリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリ
ルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、イソプロ
ピルアクリルアミド、ジエチルアミノエチルメタクリレ
ート、t−ブチルメタクリレート、N,N−ジメチルア
クリルアミド、α−メチルスチレン、スチレン、ビニル
トルエン、N−ビニル−2−ピロリドン等のモノマーか
らなるホモポリマーおよび上記モノマーから選択された
2種以上のモノマーからなる共重合体、エチレン−アク
リル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン系樹
脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等が
例示される。
【0041】溶剤としては、α−、β−、γ−テルピネ
オールのようなテルペン類、エチレングリコールモノア
ルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエー
テル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル
類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、エチ
レングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エ
チレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、ジ
エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート
類、ジエチレングリコールジアルキルエーテルアセテー
ト類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、
プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレ
ングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロ
ピレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール、2−エチル
ヘキサノール、1−ブトキシ−2−プロパノール等のア
ルコール類等が例示され、これらを単独または、2種類
以上を混合して使用してもよい。
【0042】さらに、可塑剤、沈降防止剤、分散剤等を
必要に応じて適宜使用することができる。
【0043】このような膜パターン形成用塗布組成物
(ペースト)は、膜パターンの溶融母体となるガラスフ
リットと、主として膜パターンの形態および強度を維持
するための骨材とが、有機ビヒクルと混合、分散されて
構成される。従って、当該塗布組成物には種々の粒径を
持つ多種の粒子が含有されことになる。
【0044】次に、図1を参照しつつ隔壁3を備える背
面板の作製方法について簡単に説明する。まず、ガラス
基板2の上にアドレス電極8をパターン形成する。
【0045】電極8の形成方法としては、(1)スパッ
タ法、真空蒸着法等の薄膜形成プロセスとフォトプロセ
スを組み合わせる方法、(2)スクリーン印刷法による
パターン印刷による方法、(3)スクリーン印刷やブレ
ードコート、ダイコート、ロールコート、リバースコー
ト等のコーティング法とフォトプロセスを組み合わせる
方法等が挙げられる。フォトプロセスとしては、フォト
レジストを塗布して乾燥させた後、露光及び現像工程に
よりパターニングする方法、あるいは、ドライフィルム
レジストを用いて同様にパターニングする方法などがあ
る。電極の膜厚としては、例えば、電極材料としてCr
を用い、スパッタ法により成膜を行った場合には、0.
05〜0.2μm程度であり、成膜されたCr薄膜をフ
ォトレジストを用いてパターニングして電極が形成され
る。なお、電極材料及びパターニング方法は必ずしもこ
れらの方法に限定されるものではない。
【0046】上記いずれかの方法を使用して所定パター
ンのアドレス電極8を形成した後、隔壁3を形成する。
隔壁3は、前述したパターン印刷法、ブラスト法に
より隔壁の側面に段差を有する階段形状に形成される。
このような所定形状の隔壁を形成した後、焼成を行い所
定の隔壁3を得る。形成する隔壁3の高さは、50μm
〜250μm程度である。
【0047】なお、図2に示すようなPDPにおいて
は、下地層10、誘電体層6’として隔壁3の焼成温度
以上の軟化点を有するガラスフリットを主要成分とする
ペーストを使用して形成すればよく、その膜厚は1μm
〜50μm程度とする。
【0048】また、この作製方法は、図3に示すDC型
構造のPDPにも応用できることは勿論である。
【0049】
【実施例】以下に具体的実施例を示し、本発明をさらに
詳細に説明する。なお、実施例中「部」は重量部、
「%」は「重量%」を示す。
【0050】(実施例1)下記の要領でフリット混合物
の作製を行った。
【0051】 ・ガラスフリットMB−10A(松波硝子工業製,d50=2.6μm) … 80部 ・骨材(WA#8000(フジミインコーポレーテッド製、 d50=1.0μm))… 10部 ・顔料(ダイピロキサイドブラック#9510(大日精化工業製)) … 10部 上記の配合組成物を弗素樹脂製の容器に入れ、ペイント
コンディショナーRC−5000(レッドデビル社製)
により15分間混合し、フリット混合物を作製した。
【0052】隔壁形成のための塗布組成物(ペースト)
の作製 次いで、下記の要領で上記フリット混合物に下記の添加
物を加えて隔壁形成のための塗布組成物(ペースト)を
作製した。
【0053】 ・上記フリット混合物 … 80部 ・エトセルSTD−100FP(ダウ・ケミカル社製) … 2部 ・ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(純正化学製) … 9部 ・スクリーンオイル759(奥野製薬工業製) … 9部 これらを均一に混合した後、三本ロールミル(井上製作
所製、C−4・3/4×10)にて混練しペーストを作
製した。
【0054】パネル背面板の作製 300×450mmのガラス基板上に下地層としてEL
D−1155(奥野製薬工業製)をスクリーン印刷にて
印刷し、乾燥、焼成して膜厚10μmの下地層を形成し
た後、この下地層の上にアドレス電極としてD−590
−HV−MOD(イー・エス・エル日本製)をスクリー
ン印刷にて電極パターン状に印刷、焼成し、膜厚8μ
m、線幅40μm、ピッチ240μmの電極を形成し
た。
【0055】次に、このアドレス電極上に誘電体層とし
てPLS−3232(日本電気硝子製)をスクリーン印
刷にて印刷し、乾燥、焼成して膜厚12μmの誘電体層
を形成した。
【0056】次いで、上記隔壁形成のための塗布組成物
(ペースト)をスクリーンオイル759(奥野製薬工業
製)で希釈しシェアーレート15[1/sec]、22
℃で600ポイズに粘度調整し、ピッチ240μmで線
幅100μm,80μm,60μmの3種の隔壁パター
ン印刷版(スクリーン印刷版)を準備し、線幅の太いも
のから細いものに順次変えつつ上記塗布組成物をスクリ
ーン印刷により印刷、乾燥をそれぞれ各版3回づつ合計
9回、数繰り返し、乾燥全膜厚180μmの階段状の積
層塗膜を形成した。この積層塗膜の最大幅(最下部)は
110μm、最小幅(最上部)は70μmであった。
【0057】この積層塗膜を、ピーク温度575℃、保
持時間20分、全焼成時間2時間で焼成を行い階段形状
で、高さ120μmの隔壁を得た。
【0058】このようにしてガラス基板の上に形成され
た隔壁間に蛍光体を充填し、しかる後、前面板(もう一
方のガラス基板)と重ね合わせて封着しプラズマディス
プレイパネルのサンプルを作製した。そしてこのサンプ
ルについて、輝度を測定したところ、従来のものと比べ
て30%程度向上していることが確認できた。
【0059】(実施例2)フリット混合物の作製 下記の要領でフリット混合物の作製を行った。
【0060】 ・ガラスフリットMB−10A(松波硝子工業製,d50=2.6μm) … 80部 ・骨材(α−アルミナRA−30(岩谷化学工業製、d50=1.0μm)) … 10部 ・顔料(ダイピロキサイドブラック#9510(大日精化工業製)) … 10部 これらを弗素樹脂製の容器に入れ、ペイントコンディシ
ョナーRC−5000(レッドデビル社製)により15
分間混合し、フリット混合物を作製した。
【0061】隔壁形成のための塗布組成物(ペースト)
の作製 塗布組成物P1の作製 上記フリット混合物に下記の添加物を加えて隔壁上層部
形成のための塗布組成物(ペースト)P1を作製した。
【0062】 ・上記フリット混合物 … 80部 ・エトセルSTD−100FP(ダウ・ケミカル社製) …1.44部 ・ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(純正化学製) … 9部 ・スクリーンオイル759(奥野製薬工業製) … 9部 これらを均一に混合した後、三本ロールミル(井上製作
所製、C−4・3/4×10)にて混練し塗布組成物
(ペースト)P1を作製した(塗布組成物の樹脂分B1
は1.8wt%)。
【0063】塗布組成物P2の作製 上記フリット混合物に下記の添加物を加えて隔壁下層部
形成のための塗布組成物(ペースト)P2を作製した。
【0064】 ・上記フリット混合物 … 80部 ・エトセルSTD−100FP(ダウ・ケミカル社製) … 2部 ・ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(純正化学製) … 9部 ・スクリーンオイル759(奥野製薬工業製) … 9部 これらを均一に混合した後、三本ロールミル(井上製作
所製、C−4・3/4×10)にて混練し塗布組成物
(ペースト)P2を作製した(塗布組成物P2の樹脂分
B2 は2.5wt%)。B2 −B1 =0.7wt%。
【0065】パネル背面板の作製 300×450mmのガラス基板上に下地層としてEL
D−1155(奥野製薬工業製)をスクリーン印刷にて
印刷し、乾燥、焼成して膜厚10μmの下地層を形成し
た後、この下地層の上にアドレス電極としてD−590
−HV−MOD(イー・エス・エル日本製)をスクリー
ン印刷にて電極パターン状に印刷、焼成し、膜厚8μ
m、線幅40μm、ピッチ240μmの電極を形成し
た。
【0066】次に、このアドレス電極上に誘電体層とし
てPLS−3232(日本電気硝子製)をスクリーン印
刷にて印刷し、乾燥、焼成して膜厚12μmの誘電体層
を形成した。
【0067】次いで、上記隔壁形成のための塗布組成物
(ペースト)をスクリーンオイル759(奥野製薬工業
製)で希釈しシェアーレート15[1/sec]、22
℃で500ポイズに粘度調整し、ブレードコーターによ
りP2,P1の順にそれぞれコーティング、乾燥を行
い、乾燥全膜厚180μm(下層部の厚さ=120μ
m、上層部の厚さ=60μm)のベタ膜を作製した。ベ
タ膜が形成された基板を80℃に加熱しベタ膜上にドラ
イフィルムレジスト(東京応化工業製、OSBRフィル
ムBF−605)をラミネートした後、超高圧水銀灯を
光源とする平行光プリンターを使用し、線幅80μm、
ピッチ240μmのラインパターンマスクを介して露光
を行った。露光条件は、365μmで測定した時に強度
200μW/cm2 、照射量80mJ/cm2 であっ
た。
【0068】次に、無水炭酸ナトリウム0.2%水溶液
を用い、液温35℃でスプレー現像を行いサンドブラス
ト用マスクを作製し、乾燥した後、溶融アルミナA−#
800(不二見研磨材工業製)を切削材としてサンドブ
ラスト加工により不要部分を除去した。
【0069】次いで、水酸化ナトリウム0.7%水溶液
を用い、液温30℃にてサンドブラスト用マスクを剥離
し、階段状の積層塗膜を形成した。この積層塗膜の最大
幅(最下部)は110μm、最小幅(最上部)は75μ
mとなった。
【0070】この積層塗膜を、ピーク温度575℃、保
持時間20分、全焼成時間2時間で焼成を行い階段形状
で、高さ120μmの隔壁を得た。
【0071】このようにしてガラス基板の上に形成され
た隔壁間に蛍光体を充填し、しかる後、前面板(もう一
方のガラス基板)と重ね合わせて封着しプラズマディス
プレイパネルのサンプルを作製した。そしてこのサンプ
ルについて、輝度を測定したところ、従来のものと比べ
て25%程度向上していることが確認できた。
【0072】(実施例3)フリット混合物の作製 下記の要領でフリット混合物の作製を行った。
【0073】 ・ガラスフリットMB−10A(松波硝子工業製,d50=2.6μm) … 80部 ・骨材(α−アルミナRA−30(岩谷化学工業製、d50=1.0μm)) … 10部 ・顔料(ダイピロキサイドブラック#9510(大日精化工業製)) … 10部 これらを弗素樹脂製の容器に入れ、ペイントコンディシ
ョナーRC−5000(レッドデビル社製)により15
分間混合し、フリット混合物を作製した。
【0074】隔壁形成のための塗布組成物(ペースト)
の作製 塗布組成物の作製 上記フリット混合物に下記の添加物を加えて隔壁上層部
形成のための塗布組成物(ペースト)を作製した。
【0075】 ・上記フリット混合物 … 80部 ・エトセルSTD−100FP(ダウ・ケミカル社製) … 2部 ・ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(純正化学製) … 9部 ・スクリーンオイル759(奥野製薬工業製) … 9部 これらを均一に混合した後、三本ロールミル(井上製作
所製、C−4・3/4×10)にて混練し塗布組成物
(ペースト)を作製した。
【0076】パネル背面板の作製 300×450mmのガラス基板上に下地層としてEL
D−1155(奥野製薬工業製)をスクリーン印刷にて
印刷し、乾燥、焼成して膜厚10μmの下地層を形成し
た後、この下地層の上にアドレス電極としてD−590
−HV−MOD(イー・エス・エル日本製)をスクリー
ン印刷にて電極パターン状に印刷、焼成し、膜厚8μ
m、線幅40μm、ピッチ240μmの電極を形成し
た。
【0077】次に、このアドレス電極上に誘電体層とし
てPLS−3232(日本電気硝子製)をスクリーン印
刷にて印刷し、乾燥、焼成して膜厚12μmの誘電体層
を形成した。
【0078】次いで、上記隔壁形成のための塗布組成物
(ペースト)をスクリーンオイル759(奥野製薬工業
製)で希釈しシェアーレート10[1/sec]、22
℃で300ポイズに粘度調整し、ブレードコーターによ
り1層目として乾燥膜厚120μmとなるようにコーテ
ィング、乾燥を行い、ついで2層目として乾燥膜厚60
μmとなるようにコーティング、乾燥して、乾燥全膜厚
180μm(下層部の厚さ=120μm、上層部の厚さ
=60μm)のベタ膜を作製した。
【0079】ベタ膜が形成された基板を80℃に加熱し
ベタ膜上にドライフィルムレジスト(東京応化工業製、
OSBRフィルムBF−605)をラミネートした後、
超高圧水銀灯を光源とする平行光プリンターを使用し、
線幅80μm、ピッチ240μmのラインパターンマス
クを介して露光を行った。露光条件は、365μmで測
定した時に強度200μW/cm2 、照射量80mJ/
cm2 であった。
【0080】次に、無水炭酸ナトリウム0.2%水溶液
を用い、液温35℃でスプレー現像を行いサンドブラス
ト用マスクを作製し、乾燥した後、溶融アルミナA−#
800(不二見研磨材工業製)を切削材としてサンドブ
ラスト加工により不要部分を除去した。
【0081】次いで、水酸化ナトリウム0.7%水溶液
を用い、液温30℃にてサンドブラスト用マスクを剥離
し、階段状の積層塗膜を形成した。この積層塗膜の最大
幅(最下部)は110μm、最小幅(最上部)は75μ
mとなった。
【0082】この積層塗膜を、ピーク温度575℃、保
持時間20分、全焼成時間2時間で焼成を行い階段形状
で、高さ120μmの隔壁を得た。
【0083】このようにしてガラス基板の上に形成され
た隔壁間に蛍光体を充填し、しかる後、前面板(もう一
方のガラス基板)と重ね合わせて封着しプラズマディス
プレイパネルのサンプルを作製した。そしてこのサンプ
ルについて、輝度を測定したところ、従来のものと比べ
て25%程度向上していることが確認できた。
【0084】
【発明の効果】上記の結果より本発明の効果は明らかで
ある。すなわち、本発明は放電空間を区画する隔壁を有
するプラズマディスプレイパネルにおいて、前記隔壁
は、隔壁の側面に段差を有する階段形状を備えてなるよ
うに構成されているので、本発明のプラズマディスプレ
イパネルは、隔壁強度を維持しつつ輝度を高めてコント
ラストをさらに向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】AC型PDPの一構成例を示す斜視図である。
【図2】図1の背面板の構造を説明するための断面図で
ある。
【図3】DC型PDPの一構成例を示したものであり、
そのなかで、図3(a)は平面図、図3(b)は図3
(a)におけるX−X線での断面図である。
【図4】(a)および(b)はそれぞれ、隔壁の構造お
よび製造方法を説明するための断面図である。
【符号の説明】
1…前面板 2…背面板 3…隔壁 4…維持電極 5…バス電極 6…誘電体層 7…MgO層 8…アドレス電極

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 放電空間を区画する隔壁を有するプラズ
    マディスプレイパネルにおいて、 前記隔壁は、隔壁の側面に段差を有する階段形状を備え
    てなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
  2. 【請求項2】 前記隔壁の階段形状は、線幅の異なる複
    数の隔壁パターン印刷版を準備し、線幅の太いものから
    細いものに順次変えつつ隔壁形成のための塗布組成物を
    スクリーン印刷にて積層して形成されたものである請求
    項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  3. 【請求項3】 前記隔壁の階段形状は、隔壁形成のため
    の樹脂量の異なった2種類以上の塗布組成物を準備し、
    これらを順次積層塗布して塗布積層体を形成し、しかる
    後、所定のマスクパターンを用いてブラスト処理して形
    成されたものであって、 積層体中の異なった塗布組成物界面の上層側の無機成分
    に対する樹脂量B1 (wt%)、下層側の無機成分に対
    する樹脂量B2 (wt%)との関係が、B1 <B2 ,か
    つB2 −B1 ≧0.3wt%の条件を満たす請求項1に
    記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記隔壁の階段形状は、隔壁形成のため
    の2種以上の塗布組成物を準備し、これらを順次積層塗
    布して塗布積層体を形成し、しかる後、所定のマスクパ
    ターンを用いてブラスト処理して形成されたものであっ
    て、 前記塗布組成物中、2層目以降の塗布組成物の粘度が2
    2℃、シェアーレート10(1/sec)で400ポイ
    ズ以下である請求項1に記載のプラズマディスプレイパ
    ネルの製造方法。
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