JP2000021318A - プラズマディスプレイパネル用誘電体層およびプラズマディスプレイパネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 誘電体層と蛍光体層との密着性を向上させ、
製品の品質および歩留の向上が図れるプラズマディスプ
レイパネル用誘電体層およびそれを用いたプラズマディ
スプレイパネルを提供する。 【解決手段】 隔壁を所定配置して立設形成する基盤層
となるとともに、蛍光体層が被着されるプラズマディス
プレイパネル用誘電体層であって、焼成後の誘電体層表
面のグロス値が、１〜５０の範囲内にあるように構成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル用誘電体層およびそれを用いたプラズマディ
スプレイパネルに関する。

【０００２】

【従来の技術】ガス放電パネルであるプラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）は、２枚の対向するガラス基板に
それぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、その間に
Ｎｅ、Ｈｅ、Ｘｅ等を主体とする希ガスを封入した構造
となっている。そして、これらの電極間に電圧を印加
し、電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることに
より、各セルを発光させて表示を行うようにしている。
情報を表示するためには、規則的に並んだセルを選択的
に放電発光させる。このＰＤＰには、電極が放電空間に
露出している直流型（ＤＣ型）と絶縁層で覆われている
交流型（ＡＣ型）の２タイプがあり、双方とも表示機能
や駆動方式の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方
式とメモリー駆動方式に分類される。

【０００３】ＤＣ型のＰＤＰおよびＡＣ型のＰＤＰにお
いて、各セルは２枚のガラス基板が隔壁により対向保持
されて形成されている。このような隔壁は、表示放電空
間をできるだけ大きくして高輝度の発光を得るために、
ガラス基板に対して垂直に切り立ち、かつ、幅が狭く十
分な高さを有することが要求される。特に高精細のＰＤ
Ｐでは、例えば、高さ１００μｍに対して幅が３０〜５
０μｍであるような高アスペクト比の隔壁が必要とされ
る。

【０００４】このような隔壁は、通常、誘電体層の上に
所定配置して立設形成され、しかる後、この隔壁により
区画された誘電体層の上（隔壁と隔壁との間）に蛍光体
層が形成される（蛍光体層は隔壁の側面部にも部分的に
被着される）。蛍光体層は、フォトリソプロセス、すな
わち隔壁の形成後に感光性の蛍光体層塗布組成物を塗
布、露光、現像することによって所定の位置に配置形成
される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな蛍光体層の形成においては、誘電体層と蛍光体層と
の密着性が十分とは言えず、誘電体層の部分的な浮き、
剥れ等が生じ、さらに密着性が極端に悪い場合には、蛍
光体層そのものがそっくりと脱落してしまうことがあっ
た。

【０００６】このような実状のもとに本発明は創案され
たものであり、その目的は、誘電体層と蛍光体層との密
着性を向上させ、製品の品質および歩留の向上が図れる
プラズマディスプレイパネル用誘電体層およびそれを用
いたプラズマディスプレイパネルを提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために、本発明は、隔壁を所定配置して立設形成する
基盤層となるとともに、蛍光体層が被着されるプラズマ
ディスプレイパネル用誘電体層であって、焼成後の誘電
体層表面のグロス値が、１〜５０の範囲内にあるように
構成される。

【０００８】また、本発明は、プラズマディスプレイパ
ネル用誘電体層と、この誘電体層に被着される蛍光体層
と、放電空間を区画する隔壁とを有するプラズマディス
プレイパネルにおいて、焼成後の誘電体層表面のグロス
値が、１〜５０の範囲内にあるように構成される。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明のプラズマディスプ
レイパネル用誘電体層の組成の説明をする前に、プラズ
マディスプレイパネル全体の構成を簡単に説明してお
く。

【００１０】図１は、ＡＣ型ＰＤＰの一構成例を示す斜
視図である。この図において、符号１は前面板、符号２
は背面板、符号３は隔壁、符号４は維持電極、符号５は
バス電極、符号６は誘電体層、符号７はＭｇＯ層、符号
８はアドレス電極、符号９は蛍光体層を示している。

【００１１】図１は、ＰＤＰの構成が理解しやすいよう
に、前面板１と背面板２を離した状態で示してある。図
１に示されるようにＡＣ型ＰＤＰは、ガラス板からなる
前面板１と背面板２とが互いに平行に対峙され、背面板
２に立設された隔壁３によって前面板１と背面板２とが
密封されたセルを構成するように一定間隔で固着されて
いる。

【００１２】前面板１の背面側には、透明電極である維
持電極４と金属電極であるバス電極５とからなる複合電
極が互いに平行に形成され、これを覆うように誘電体層
６、およびＭｇＯ層７が順次形成されている。

【００１３】また、背面板２の前面側（図面において上
側）には、複合電極と直交するとともに隔壁３の間に位
置するようにアドレス電極８がストライプ状に互いに平
行に形成され、また、アドレス電極８上のセル底面上に
蛍光体層９が設けられている。

【００１４】また、図２にその断面の詳細構造が示され
ており、この図によれば、ガラス基板２に下地層１０を
形成した後にアドレス電極８が設けられ、さらに誘電体
層６’が積層された後、隔壁３、蛍光体層９が設けられ
る。

【００１５】このようなＡＣ型ＰＤＰは面放電型であ
り、前面板１における複合電極間に交流電源から所定の
電圧を印加して電場を形成することにより、前面板１と
背面板２と隔壁３とで区画される表示要素としての各セ
ル内で放電が行われる。

【００１６】そして、この放電により生じる紫外線によ
り蛍光体９を発光させることで、前面板１を透過する光
を観察者が視認できるようになっている。

【００１７】図３はＤＣ型ＰＤＰの一構成例を示したも
のであり、そのなかで、図３（ａ）は平面図、図３
（ｂ）は図３（ａ）におけるＸ−Ｘ線での断面図であ
る。図中、符号１１は前面板、符号１２は背面板、符号
１３は陰極、符号１４は電極体、符号１５は表示陽極、
符号１６は隔壁、符号１７は放電セル、符号１８は端子
部、符号１９は抵抗体、符号２０は補助電極、符号２１
は電極体、符号２２は蛍光体層、符号２３はプライミン
グスリットをそれぞれ示している。

【００１８】ＤＣ型ＰＤＰは、図３に示されるように、
前面板１１と背面板１２の２枚のガラス基板を合わせて
パネル化され、また、前面板１１上には陰極１３からな
る第１の電極群が形成され、背面板１２上には電気的に
接続した電極４本と表示陽極１５とからなる第２の電極
群が形成されている。陰極１３と表示陽極１５が略直交
するように前面板１１と背面板１２とが隔壁１６により
対向保持されて放電セル１７が形成されている。放電セ
ル１７内の陰極１３と電極体１４とによって単位放電電
極対が構成されている。

【００１９】そして、表示陽極１５は線状部１５ａとこ
の線状部１５ａから横向きに突き出た突起部１５ｂとを
備え、電極体１４からは端子部１８が表示陽極１５と平
行に伸びており、表示陽極１５の突起部１５ｂと電極体
１４の端子部１８との間は抵抗体１９により電気的に接
続されている。また、隣接する表示陽極１５の間にはそ
れと平行に補助陽極２０が設けられており、陰極１３と
交差する箇所には補助陽極２０上にも電極体２１が設け
られている。

【００２０】ＤＣ型ＰＤＰでは、陰極１３と表示陽極１
５の間に所定の電圧を印加すると、抵抗体１９を介して
電極体１４に電流が流れ、放電セル１７内にて陰極１３
と電極体１４との間で放電が起こり、この放電により発
生する紫外線で、例えばＲ，Ｇ，Ｂ，各３色の蛍光体層
２２を発光させるようになっている。この発光は前面板
１１を通して外部に放射され、フルカラーの画像表示が
行われる。この場合、補助陽極１８は放電セル１７内に
放電の種火となる荷電粒子をプライミングスリット２３
を通して供給する役目を持つ。なお、符号２４は誘電体
層で、表示陽極１５、端子部１８、抵抗体１９及び補助
陽極２０を放電空間から電気的に隔絶せしめ、放電発生
箇所を電極体１４、２１のみに限定する。

【００２１】本発明におけるＰＤＰ用の誘電体層６’お
よび誘電体層２４（以下誘電体層６’を代表として取り
あげて説明する）は、例えば、誘電体層形成用塗布組成
物を、スクリーン印刷にて塗布、乾燥し、それをピーク
温度５７５℃、保持時間２０ｍｉｎ、全焼成時間２時間
で形成される。誘電体層６’の厚さは、５〜２０μｍ程
度とされる。

【００２２】誘電体層形成用塗布組成物は、通常、ガラ
スフリット、骨材、顔料および有機バインダー成分を含
有している。

【００２３】誘電体層形成用のガラスフリットとして
は、例えば、軟化温度が３５０〜６５０℃であり、熱膨
張係数α₃₀₀ が、６０×１０^-7〜１００×１０^-7／℃で
あるガラスフリットを使用することができる。ガラスフ
リットの軟化温度が６５０℃を超えると焼成温度を高く
する必要があり、例えば、被パターン形成体の耐熱性が
低い場合には、焼成段階で熱変形を生じることになり好
ましくない。また、ガラスフリットの軟化温度が３５０
℃未満では、焼成により有機成分が完全に分解、揮発し
て除去される前に、ガラスフリットが融着するために、
空隙を生じ易く、好ましくない。さらに、ガラスフリッ
トの熱膨張係数α₃₀₀ が、６０×１０^-7／℃未満、ある
いは、１００×１０^-7／℃を超えると、被パターン形成
体の熱膨張係数との差が大きくなりすぎる場合があり、
歪み等を生じることとなり好ましくない。このようなガ
ラスフリットの平均粒径は０．１〜１０μｍの範囲が好
ましい。このようなガラスフリットとしては、例えば、
Ｂｉ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＯ、ＰｂＯまたは、Ｂｉ₂ Ｏ₃ −Ｚｎ
Ｏ−Ｂ₂ Ｏ₃ 等を主成分とするガラスフリットを使用す
ることができる。

【００２４】また、誘電体層形成用の骨材としては、ジ
ルコニア、ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化ホウ
素、シリカ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化カル
シウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム等の無機粉
体を使用することができる。このような無機粉体は、平
均粒径が、０．１〜１０μｍの範囲が望ましく、骨材と
して、焼成時のパターン流延防止の作用をなし、また、
反射率や誘電率を制御する作用をなすものである。

【００２５】なお、形成したパターンの外光反射率を低
減するために、無機成分として、耐火性の黒色顔料ある
いは、白色顔料を誘電体層に含有させることができる。
耐火性の黒色顔料としては、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−
Ｍｎ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃ
ｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ
−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ−
Ｓｉ等を挙げることができる。また、耐火性の白色顔料
としては、酸化チタン、酸化アルミニウム、シリカ、炭
酸カルシウム等が挙げられる。

【００２６】また、有機バインダー成分としては、エチ
ルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチル
セルロース、ニトロセルロース等のセルロース誘導体、
ポリアクリルエステル、アルキッド樹脂等のポリエステ
ル系樹脂、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マ
レイン酸、フマル酸、クロトン酸、ビニル酢酸、メチル
メタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレ
ート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレー
ト、プロピルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレー
ト、イソブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメ
タクリレート、２−ヘキシルアクリレート、ラウリルメ
タクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルメタ
クリレート、ステアリルアクリレート、ドデシルメタク
リレート、ドデシルアクリレート、ヘキシルメタクリレ
ート、ヘキシルアクリレート、オクチルメタクリレー
ト、オクチルアクリレート、セチルメタクリレート、セ
チルアクリレート、ノニルメタクリレート、ノニルアク
リレート、デシルメタクリレート、デシルアクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、グリシジルメタクリレート、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、２−メトキシアクリレート、
２（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート、ダイアセトンアクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、イソプロピル
アクリルアミド、ジエチルアミノエチルメタクリレー
ト、ｔ−ブチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアク
リルアミド、α−メチルスチレン、スチレン、ビニルト
ルエン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン等のモノマーから
なるホモポリマーおよび上記モノマーから選択された２
種以上のモノマーからなる共重合体、エチレン−アクリ
ル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン系樹脂、
ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等が例示
される。

【００２７】溶剤としては、α−、β−、γ−テルピネ
オールのようなテルペン類、エチレングリコールモノア
ルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエー
テル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル
類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、エチ
レングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エ
チレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、ジ
エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート
類、ジエチレングリコールジアルキルエーテルアセテー
ト類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、
プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレ
ングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロ
ピレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール、２−エチル
ヘキサノール、１−ブトキシ−２−プロパノール等のア
ルコール類等が例示され、これらを単独または、２種類
以上を混合して使用してもよい。

【００２８】さらに、可塑剤、沈降防止剤、分散剤等を
必要に応じて適宜使用することができる。

【００２９】本発明における誘電体層６’は、焼成後の
誘電体層表面のグロス値（光沢度）が、１〜５０の範囲
内、好ましくは、１〜４５の範囲内、さらにより好まし
くは、１〜４０の範囲内に設定される。このグロス値が
５０を超えると、誘電体層と蛍光体層との密着性の向上
が図れなくなってしまう。また、グロス値が１未満とな
ると、未露光部の蛍光体が現像により除去しにくくな
り、地汚れとして残ってしまうという不都合が生じる。
本発明における誘電体層表面のグロス値は、日本電色工
業（株）製グロスメーターＶＧＳ−１００１を用いて角
度７５°で測定した値である。

【００３０】焼成後の誘電体層表面のグロス値を本発明
の範囲内に調整する手法は特に限定されるものではない
が、取り分け、好適な調整手法を例示すれば以下のとお
りである。

【００３１】（１）誘電体層に含有されるガラスフリッ
トの成分を、Ｂｉ系ガラス１００％とする。

【００３２】（２）誘電体層に含有されるガラスフリッ
トの成分を、Ｐｂ系ガラスを主体としてＢｉ系ガラスの
含有率を、３５〜１００ｗｔ％の範囲で適宜変えてグロ
ス値を調整する。

【００３３】（３）誘電体層の形成プロセスにおいてグ
ロス値を適宜調整する。

【００３４】例えば、誘電体層の焼成温度条件を調整し
たり、誘電体層にブラスト処理を施したり、誘電体層中
に適当な骨材（例えば、ジルコニア、ジルコン等）を適
量入れることにより、誘電体層のグロス値を適宜調整す
ることができる。

【００３５】このような誘電体層を基盤層として、この
上に隔壁３が所定の配置状態で立設形成される。このよ
うな隔壁３は、隔壁形成用塗布組成物をスクリーン印刷
により隔壁形状にパターン印刷する方法や、隔壁形成用
塗布組成物をスクリーン印刷、ブレードコート、ダイコ
ート等により塗布、乾燥しベタ膜を形成した後、ベタ膜
上に耐サンドブラスト性を有するマスクをパターン状に
形成し、サンドブラスト加工を行い、マスクを剥離した
後焼成する方法等により形成される。

【００３６】隔壁３は、隔壁の溶融母体となるガラスフ
リットと、主として隔壁の形態および強度を維持するた
めの骨材とを主成分として含有する。

【００３７】隔壁３に含有される骨材としては、例え
ば、ジルコニア、ジルコン、チタニア、アルミナ、シリ
カ、酸化チタン、マグネシア、ムライト、コージェライ
ト、炭化珪素、チタン酸バリウム、ジルコン酸バリウ
ム、ガラス等の隔壁の焼成温度以下の温度で安定に存在
するものが使用される。

【００３８】隔壁３に含有されるガラスフリットは、バ
インダー（接着剤）として役割をなすものであり、その
ガラス転移点（Ｔｇ）は、塗布組成物中、ペーストとし
て用いる樹脂が焼成により完全に消失する温度以上であ
ることが望ましい。さらに、ガラスフリットの軟化点は
ガラス基板が変形する温度以下でなければならない。具
体的には、Ｔｇが３５０〜５００℃、軟化点が４００〜
６００℃の間で適宜選択される。さらに、残留歪を極力
小さくし、基板の反りや誘電体層のクラックの発生を抑
えるために、ガラスフリットの熱膨張係数（α）をガラ
ス基板、下地層、誘電体層の熱膨張係数にできるだけ合
わせる必要がある。従って、具体的には、α＝６０〜９
０×１０^-7／℃程度のものを使用するのが望ましいが、
骨材、着色剤を添加することでαが変化するため、最終
的に隔壁３とした時のαが６０〜９０×１０^-7／℃程度
となるよう適宜選択すればよい。ガラスフリットの平均
粒径は、０．１〜１０μｍ、好ましくは、１〜５μｍの
範囲とすることができる。ガラスフリットの隔壁３中の
含有率は、４０〜９５ｗｔ％、好ましくは６０〜９０ｗ
ｔ％程度とされる。

【００３９】上記隔壁３に用いられる骨材は、その材料
の選定の仕方次第では、着色剤としての機能をも併用さ
せることができるが、さらに、積極的に着色を要す場合
が多々あり、その場合には隔壁３中に顔料（着色剤）が
含有される。

【００４０】顔料（着色剤）としては、耐熱性があるも
のが用いられる。本発明の場合、基板の作製工程中の焼
成温度以上の耐熱性があればよい。このような着色剤と
しては、複合酸化物系顔料（Ｃｒ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｆｅ，
Ｍｎ，Ｃｕ，Ｓｂ，Ａｓ，Ｂｉ，Ｔｉ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｃ
ａ，Ｓｉ，Ｍｇ，Ｂａ等の２種以上の金属の酸化物から
なる顔料）、酸化チタン、アルミナ、ジルコン、ジルコ
ニア、シリカ、マグネシア、チタン酸鉛、チタン酸カリ
ウム、硫セレン化カドミウム、弁柄（Ｆｅ₂ Ｏ₃ ）、亜
酸化銅、カドミウム水銀赤（ＣｄＳ＋ＨｇＳ）、クロム
バーミリオン、銀朱、アンチモン赤ヨード赤、ジンクア
イアンレッド、モリブデン赤、鉛丹、カドミウムレッ
ド、クロムグリーン、亜鉛緑、コバルトグリーン、酸化
クロム、ビリジアン、エメラルドグリーン群青、紺青、
コバルトブルー、セルリアンブルー、硫化銅、チタンイ
エロー、チタンブラック、黒色酸化鉄（Ｆｅ₃ Ｏ₄ ）、
黄色酸化鉄、カドミウムイエロー、黄鉛などが挙げら
れ、これらは適宜目的に応じ選択して用いれば良い。

【００４１】上述してきたような隔壁３を形成するため
に、隔壁形成用塗布組成物（ペースト）が作られる。隔
壁形成用塗布組成物は、最終的に焼成して隔壁３を形成
した時の固形分組成が、上記の範囲内に納まるように骨
材、ガラスフリット等の含有量が調製される。これらの
固形分は混合された後、有機ビヒクルを加え三本ロー
ル、ビーズミル等により混練、分散してペースト状の塗
布組成物とされる。

【００４２】次に、図２を参照しつつ、誘電体層６’、
隔壁３および蛍光体層９を備える背面板の作製方法につ
いて簡単に説明する。

【００４３】まず、ガラス基板２の上に下地層１０を介
して、アドレス電極８をパターン形成する。電極８の形
成方法としては、（１）スパッタ法、真空蒸着法等の薄
膜形成プロセスとフォトプロセスを組み合わせる方法、
（２）スクリーン印刷法によるパターン印刷による方
法、（３）スクリーン印刷やブレードコート、ダイコー
ト、ロールコート、リバースコート等のコーティング法
とフォトプロセスを組み合わせる方法等が挙げられる。
フォトプロセスとしては、フォトレジストを塗布して乾
燥させた後、露光及び現像工程によりパターニングする
方法、あるいは、ドライフィルムレジストを用いて同様
にパターニングする方法などがある。電極の膜厚として
は、例えば、電極材料としてＣｒを用い、スパッタ法に
より成膜を行った場合には、０．０５〜０．２μｍ程度
であり、成膜されたＣｒ薄膜をフォトレジストを用いて
パターニングして電極が形成される。なお、電極材料及
びパターニング方法は必ずしもこれらの方法に限定され
るものではない。

【００４４】上記いずれかの方法を使用して所定パター
ンのアドレス電極８を形成した後、誘電体層６’を成膜
し、この上に隔壁３を形成する。誘電体層６’の形成方
法は上述の方法に従えばよい。隔壁３の形成方法として
は、前述したように前記隔壁形成用塗布組成物を用い、
スクリーン印刷により隔壁形状にパターン印刷する方法
や、スクリーン印刷、ブレードコート、ダイコート等に
よりベタ膜を作製した後、ベタ膜上に耐サンドブラスト
性を有するマスクをパターン状に形成し、サンドブラス
トにより隔壁形成材の不要部分を除去して所定の隔壁形
状にする方法が例示できる。またさらには、ペーストを
予めフィルムにコーティングした後、基板にラミネート
し同様にサンドブラスト加工を行う方法等が例示され
る。上記何れかの方法によって隔壁を形成した後、焼成
を行い所定の隔壁３を得る。形成する隔壁３の高さは、
５０μｍ〜２５０μｍ程度である。このようにして形成
された隔壁３と隔壁３との間であって、誘電体層６’の
上には、蛍光体層９が形成される。蛍光体層９の形成に
は、通常、フォトリソ工程が用いられ、感光性の蛍光体
層形成用塗料が塗布乾燥された後、露光及び現像処理を
行うことにより隔壁３と隔壁３との間に蛍光体層９が形
成される。蛍光体層９は図示のごとく隔壁３の側面上端
部まで密着されることが一般的である。

【００４５】また、この作製方法は、図３に示すＤＣ型
構造のＰＤＰにも応用できることは勿論である。

【００４６】

【実施例】以下に具体的実施例を示し、本発明をさらに
詳細に説明する。なお、実施例中「部」は重量部、
「％」は「重量％」を示す。 ［実験例Ｉ］ （試料１〜６）フリット混合物１〜６の作製 ガラスフリットとしてＰｂ系ガラスにＢｉ系ガラスを含
有させてものを用い、誘電体層のグロス値を変えるため
に、上記ガラスフリット中のＢｉ系ガラスの含有量を種
々変えて（Ｂｉ系ガラス１００ｗｔ％を含む）、種々の
フリット混合物１〜６の原料を作製した。

【００４７】これらを弗素樹脂製の容器に入れ、ペイン
トコンディショナーＲＣ−５０００（レッドデビル社
製）により１５分間混合し、フリット混合物１〜６を作
製した。

【００４８】誘電体層形成材（ペースト）の作製 次いで、下記の要領で上記フリット混合物に下記の添加
物を加えて誘電体層形成材（ペースト）１〜６を作製し
た。

【００４９】 ・上記フリット混合物１〜６（個別） … ８０部 ・エトセルＳＴＤ−１００ＦＰ（ダウ・ケミカル社製） … ２部 ・ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（純正化学製） … ９部 ・スクリーンオイル７５９（奥野製薬工業製） … ９部 これらを均一に混合した後、三本ロールミル（井上製作
所製、Ｃ−４・３／４×１０）にて混練しペースト１〜
６を作製した。

【００５０】誘電体層形成材（ペースト）を用いての板
状サンプルの作製 ３００×４５０ｍｍのガラス基板上に、上記誘電体層形
成材（ペースト）１〜６をスクリーンオイル７５９（奥
野製薬工業製）で希釈しシェアーレート１５［１／ｓｅ
ｃ］、２２℃で６００ポイズに粘度調整し、スクリーン
印刷により印刷、乾燥をそれぞれ１０回繰り返し、乾燥
膜厚２００μｍのベタ膜を作製した。その後、ピーク温
度５７５℃、保持時間２０分、全焼成時間２時間で焼成
を行い目的とする誘電体層の組成と同一の板状サンプル
１〜６（試料１〜６）を作製した。これらの板状サンプ
ル１〜６のグロス値を測定したところ下記表１に示すと
おりであった。

【００５１】これらの板状サンプル１〜６を、焼成表面
をアセトンを用いて洗浄した後、８０℃の温度条件で３
０分間乾燥させた。

【００５２】蛍光体層形成用ペーストの作製 下記の要領で、３種類の蛍光体層形成用ペーストＧ(Gre
en) ，Ｂ(Blue)，およびＲ(Red) を準備した。 （ペーストＧ） ・蛍光体（ＮＰ−２００；日亜化学工業製） … ５５部 ・ヒドロキシプロピルセルロース … ６部 ・ペンタエリスリトールトリアクリレート … １５部 ・イルガキュアーＩ９０７（チバガイギー製） … ２部 ・３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール … ５０部 （ペーストＢ） ・蛍光体（ＮＰ−１０７；日亜化学工業製） … ５５部 ・ヒドロキシプロピルセルロース … ６部 ・ペンタエリスリトールトリアクリレート … １０部 ・イルガキュアーＩ９０７（チバガイギー製） … ３部 ・３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール … ５０部 （ペーストＲ） ・蛍光体（ＮＰ−３６０；日亜化学工業製） … ５５部 ・ヒドロキシプロピルセルロース … ６部 ・ペンタエリスリトールトリアクリレート … １５部 ・イルガキュアーＩ９０７（チバガイギー製） … ２部 ・３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール … ５０部蛍光体層の密着性試験 前記隔壁組成からなる板状サンプル１〜６（試料１〜
６）の上に、上記の各蛍光体層形成用ペーストＧ，Ｂ，
およびＲをそれぞれ、塗布、乾燥、露光（４０μｍ開口
のマスクを利用）、現像して所定の蛍光体層パターンを
形成させた。そして、パターンを形成する現像時に、蛍
光体層パターンの剥離が生じない状態での最低必要露光
量（最低必要照射量）を求めた。この最低必要露光量が
少ないほど、密着性は良好であり、密着性の基準は以下
のとおりとした。

【００５３】 ◎…最低必要露光量が４００ｍＪ以下で密着した蛍光体
層パターンが形成できる ○…最低必要露光量が４００ｍＪを超え、２５６０ｍＪ
以下で密着した蛍光体層パターンが形成できる ×…最低必要露光量が２５６０ｍＪを超えても、現像に
より蛍光体層パターンが残存しないか、あるいはパター
ンがペロリと剥れてしまう蛍光体層現像後の未露光部地汚れの状態 蛍光体層現像後の未露光部地汚れの状態を確認し、下記
の判断基準に従ってランク分けをおこなった。

【００５４】 ◎…全く問題なく良好なレベルである ○…使用可能なレベルである ×…使用不可のレベルである 各サンプルについての試験結果を下記表１に示した。

【００５５】

【表１】 ［実験例ＩＩ］パネル背面板の作製 実際に以下の要領でパネル背面板を作製し、プラズマデ
ィスプレイパネルでの本発明の効果を確認した。

【００５６】まず、３００×４５０ｍｍのガラス基板上
に下地層としてＥＬＤ−１１５５（奥野製薬工業製）を
スクリーン印刷にて印刷し、乾燥、焼成して膜厚１０μ
ｍの下地層を形成した後、この下地層の上にアドレス電
極としてＤ−５９０−ＨＶ−ＭＯＤ（イー・エス・エル
日本製）をスクリーン印刷にて電極パターン状に印刷、
焼成し、膜厚８μｍ、線幅４０μｍ、ピッチ２４０μｍ
の電極を形成した。

【００５７】次に、このアドレス電極上に誘電体層をス
クリーン印刷にて印刷し、乾燥、焼成して膜厚１２μｍ
の誘電体層を形成した。

【００５８】次いで、隔壁形成のための塗布組成物（ペ
ースト）をスクリーンオイル７５９（奥野製薬工業製）
で希釈しシェアーレート１５［１／ｓｅｃ］、２２℃で
６００ポイズに粘度調整し、スクリーン印刷により印
刷、乾燥をそれぞれ１０回繰り返し、乾燥膜厚２００μ
ｍのベタ膜を作製した。ベタ膜が形成された基板を８０
℃に加熱しベタ膜上にドライフィルムレジスト（東京応
化工業製、ＯＳＢＲフィルムＢＦ−６０５）をラミネー
トした後、超高圧水銀灯を光源とする平行光プリンター
を使用し、線幅１００μｍ、ピッチ２４０μｍのライン
パターンマスクを介して露光を行った。露光条件は、波
長３６５ｎｍで測定した時に強度２００μＷ／ｃｍ² 、
照射量８０ｍＪ／ｃｍ² であった。

【００５９】次に、無水炭酸ナトリウム０．２％水溶液
を用い、液温３５℃でスプレー現像を行いサンドブラス
ト用マスクを作製し、乾燥した後、溶融アルミナＡ−＃
８００（不二見研磨材工業製）を切削材としてサンドブ
ラスト加工により不要部分を除去した。

【００６０】次いで、水酸化ナトリウム０．７％水溶液
を用い、液温３０℃にてサンドブラスト用マスクを剥離
し、乾燥した後、ピーク温度５７５℃、保持時間２０
分、全焼成時間２時間で焼成を行い線幅６５μｍ、高さ
１５０μｍの隔壁を得た。

【００６１】この上に、上記の各蛍光体層形成用塗料
Ｇ，Ｂ，およびＲをそれぞれ、塗布、乾燥、露光、現像
して所定の蛍光体層パターンを形成させた。その結果、
本発明の範囲内であるグロス値をもつ誘電体層と蛍光体
層の密着性は極めて良好であることが確認できた。

【００６２】

【発明の効果】上記の結果より本発明の効果は明らかで
ある。すなわち、本発明は、隔壁を所定配置して立設形
成する基盤層となるとともに、蛍光体層が被着されるプ
ラズマディスプレイパネル用誘電体層であって、焼成後
の誘電体層表面のグロス値が、１〜５０の範囲内にある
ように構成されているので、誘電体層と蛍光体層との密
着性を向上させることができ、製品の品質および歩留の
向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ＡＣ型ＰＤＰの一構成例を示す斜視図である。

【図２】図１の背面板の構造を説明するための断面図で
ある

【図３】ＤＣ型ＰＤＰの一構成例を示したものであり、
そのなかで、図３（ａ）は平面図、図３（ｂ）は図３
（ａ）におけるＸ−Ｘ線での断面図である。

【符号の説明】

１…前面板 ２…背面板 ３…隔壁 ４…維持電極 ５…バス電極 ６’，２４…誘電体層 ７…ＭｇＯ層 ８…アドレス電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三山 貴司 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 5C040 AA04 DD06 DD07

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 隔壁を所定配置して立設形成する基盤層
   となるとともに、蛍光体層が被着されるプラズマディス
   プレイパネル用誘電体層であって、 焼成後の誘電体層表面のグロス値が、１〜５０の範囲内
   にあることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用
   誘電体層。
2. 【請求項２】 プラズマディスプレイパネル用誘電体層
   と、この誘電体層に被着される蛍光体層と、放電空間を
   区画する隔壁とを有するプラズマディスプレイパネルに
   おいて、 焼成後の誘電体層表面のグロス値が、１〜５０の範囲内
   にあることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。