JPH11209147A - プラズマディスプレーパネル用誘電体ペースト - Google Patents
プラズマディスプレーパネル用誘電体ペーストInfo
- Publication number
- JPH11209147A JPH11209147A JP10025135A JP2513598A JPH11209147A JP H11209147 A JPH11209147 A JP H11209147A JP 10025135 A JP10025135 A JP 10025135A JP 2513598 A JP2513598 A JP 2513598A JP H11209147 A JPH11209147 A JP H11209147A
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- Glass Compositions (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 良好な表面状態の誘電体層を安定して形成す
ることが可能なプラズマディスプレーパネル用誘電体ペ
ーストを提供する。 【解決手段】 ガラス粉末を含むプラズマディスプレー
パネル用誘電体ペーストにおいて、ペースト中の水分量
が３重量％以下であることを特徴とする。
ることが可能なプラズマディスプレーパネル用誘電体ペ
ーストを提供する。 【解決手段】 ガラス粉末を含むプラズマディスプレー
パネル用誘電体ペーストにおいて、ペースト中の水分量
が３重量％以下であることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレー
パネル用誘電体ペーストに関するものである。
パネル用誘電体ペーストに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレーパネルの前面ガラ
ス板には、プラズマ放電用の電極が形成され、その上に
放電維持のための誘電体層が形成される。この誘電体層
には、高い耐電圧を有すること及び透明性に優れている
ことが要求される。
ス板には、プラズマ放電用の電極が形成され、その上に
放電維持のための誘電体層が形成される。この誘電体層
には、高い耐電圧を有すること及び透明性に優れている
ことが要求される。
【０００３】従来、このような誘電体層を形成する方法
として、ガラス粉末をペースト化した誘電体形成材料を
スクリーン印刷し、焼成する方法が知られている。
として、ガラス粉末をペースト化した誘電体形成材料を
スクリーン印刷し、焼成する方法が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の誘
電体ペーストは、印刷によって平滑で均一な膜厚を有す
る塗布層を形成し難く、焼成後に表面に亀裂が生じる
等、良好な表面状態の誘電体層が得難いという欠点があ
る。
電体ペーストは、印刷によって平滑で均一な膜厚を有す
る塗布層を形成し難く、焼成後に表面に亀裂が生じる
等、良好な表面状態の誘電体層が得難いという欠点があ
る。
【０００５】本発明の目的は、良好な表面状態の誘電体
層を安定して形成することが可能なプラズマディスプレ
ーパネル用誘電体ペーストを提供することである。
層を安定して形成することが可能なプラズマディスプレ
ーパネル用誘電体ペーストを提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は種々の検討
を行った結果、ガラス粉末の粉砕時やペースト作製時に
混入する水分がペーストの粘度特性や挙動に関与してお
り、塗布層の表面状態に影響を与えること、及びこの水
分量を一定値以下に調整することにより、上記目的が達
成できることを見いだし、本発明として提案するもので
ある。
を行った結果、ガラス粉末の粉砕時やペースト作製時に
混入する水分がペーストの粘度特性や挙動に関与してお
り、塗布層の表面状態に影響を与えること、及びこの水
分量を一定値以下に調整することにより、上記目的が達
成できることを見いだし、本発明として提案するもので
ある。
【０００７】即ち、本発明のプラズマディスプレーパネ
ル用誘電体ペーストは、ガラス粉末を含むプラズマディ
スプレーパネル用誘電体ペーストにおいて、ペースト中
の水分量が３重量％以下であることを特徴とする。
ル用誘電体ペーストは、ガラス粉末を含むプラズマディ
スプレーパネル用誘電体ペーストにおいて、ペースト中
の水分量が３重量％以下であることを特徴とする。
【０００８】
【作用】本発明のプラズマディスプレーパネル用誘電体
ペーストは、水分量が３重量％以下、好ましくは１重量
％以下に調整されているため、ペーストの粘度特性や挙
動に悪影響を与えることがなく、平滑で均一な膜厚を有
する塗布層を形成することができる。なおペースト中の
水分量の測定は、カールフィッシャー滴定法により行う
ことができる。また水分量は、ガラス粉末の製造工程や
ペースト作製工程における水分管理を厳密に行うことに
よって調整すればよい。特にペースト作製工程における
湿度管理が重要であり、湿度を６０％以下、好ましくは
５０％以下に管理することが好ましい。
ペーストは、水分量が３重量％以下、好ましくは１重量
％以下に調整されているため、ペーストの粘度特性や挙
動に悪影響を与えることがなく、平滑で均一な膜厚を有
する塗布層を形成することができる。なおペースト中の
水分量の測定は、カールフィッシャー滴定法により行う
ことができる。また水分量は、ガラス粉末の製造工程や
ペースト作製工程における水分管理を厳密に行うことに
よって調整すればよい。特にペースト作製工程における
湿度管理が重要であり、湿度を６０％以下、好ましくは
５０％以下に管理することが好ましい。
【０００９】また本発明のペーストは、主成分としてガ
ラス粉末、熱可塑性樹脂、可塑剤、溶剤等からなる。
ラス粉末、熱可塑性樹脂、可塑剤、溶剤等からなる。
【００１０】ガラス粉末は、高い耐電圧を有する誘電体
層を形成するための成分であり、その含有量は３０〜９
０重量％、特に５０〜７０重量％の範囲にあることが好
ましい。ガラス粉末としては、重量百分率でＰｂＯ ５
０〜７５％（好ましくは５５〜７０％）、Ｂ2 Ｏ3 ２
〜３０％（好ましくは５〜２５％）、ＳｉＯ2 ２〜３
５％（好ましくは３〜３１％）、ＺｎＯ＋ＣａＯ ０〜
２０％（好ましくは０〜１０％）の組成を有するガラス
や、重量百分率でＰｂＯ ３０〜５５％（好ましくは４
０〜５０％）、Ｂ2 Ｏ3 １０〜４０％（好ましくは１
５〜３５％）、ＳｉＯ2 １〜１５％（好ましくは２〜
１０％）、ＺｎＯ ０〜３０％（好ましくは１０〜３０
％）、ＢａＯ＋ＣａＯ＋Ｂｉ2 Ｏ3 ０〜３０％（好ま
しくは３〜２０％）の組成を有するガラスや、重量百分
率でＺｎＯ ２５〜４５％（好ましくは３０〜４０
％）、Ｂｉ2 Ｏ3 １５〜３５％（好ましくは２０〜３
０％）、Ｂ2 Ｏ3 １０〜３０％（好ましくは１７〜２
５％）、ＳｉＯ2 ０．５〜８％（好ましくは３〜７
％）、ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ８〜２４％（好ましく
は１０〜２０％）の組成を有するガラスが、５００〜６
００℃の焼成で良好な流動性を示し、また絶縁特性に優
れるとともに安定であるために好適である。
層を形成するための成分であり、その含有量は３０〜９
０重量％、特に５０〜７０重量％の範囲にあることが好
ましい。ガラス粉末としては、重量百分率でＰｂＯ ５
０〜７５％（好ましくは５５〜７０％）、Ｂ2 Ｏ3 ２
〜３０％（好ましくは５〜２５％）、ＳｉＯ2 ２〜３
５％（好ましくは３〜３１％）、ＺｎＯ＋ＣａＯ ０〜
２０％（好ましくは０〜１０％）の組成を有するガラス
や、重量百分率でＰｂＯ ３０〜５５％（好ましくは４
０〜５０％）、Ｂ2 Ｏ3 １０〜４０％（好ましくは１
５〜３５％）、ＳｉＯ2 １〜１５％（好ましくは２〜
１０％）、ＺｎＯ ０〜３０％（好ましくは１０〜３０
％）、ＢａＯ＋ＣａＯ＋Ｂｉ2 Ｏ3 ０〜３０％（好ま
しくは３〜２０％）の組成を有するガラスや、重量百分
率でＺｎＯ ２５〜４５％（好ましくは３０〜４０
％）、Ｂｉ2 Ｏ3 １５〜３５％（好ましくは２０〜３
０％）、Ｂ2 Ｏ3 １０〜３０％（好ましくは１７〜２
５％）、ＳｉＯ2 ０．５〜８％（好ましくは３〜７
％）、ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ８〜２４％（好ましく
は１０〜２０％）の組成を有するガラスが、５００〜６
００℃の焼成で良好な流動性を示し、また絶縁特性に優
れるとともに安定であるために好適である。
【００１１】熱可塑性樹脂は、乾燥後の膜強度を高め、
また柔軟性を付与する成分であり、その含有量は０．１
〜４０重量％、特に１〜２０重量％の範囲にあることが
好ましい。熱可塑性樹脂としてはポリブチルメタアクリ
レート、ポリビニルブチラール、ポリメチルメタアクリ
レート、ポリエチルメタアクリレート、エチルセルロー
ス等が使用可能であり、これらを単独あるいは混合して
使用する。
また柔軟性を付与する成分であり、その含有量は０．１
〜４０重量％、特に１〜２０重量％の範囲にあることが
好ましい。熱可塑性樹脂としてはポリブチルメタアクリ
レート、ポリビニルブチラール、ポリメチルメタアクリ
レート、ポリエチルメタアクリレート、エチルセルロー
ス等が使用可能であり、これらを単独あるいは混合して
使用する。
【００１２】可塑剤は、乾燥速度をコントロールすると
ともに、乾燥膜に柔軟性を与える成分であり、その含有
量は０〜５０重量％、特に５〜３０重量％の範囲にある
ことが好ましい。可塑剤としてはブチルベンジルフタレ
ート、ジオクチルフタレート、ジイソオクチルフタレー
ト、ジカプリルフタレート、ジブチルフタレート等が使
用可能であり、これらを単独あるいは混合して使用す
る。
ともに、乾燥膜に柔軟性を与える成分であり、その含有
量は０〜５０重量％、特に５〜３０重量％の範囲にある
ことが好ましい。可塑剤としてはブチルベンジルフタレ
ート、ジオクチルフタレート、ジイソオクチルフタレー
ト、ジカプリルフタレート、ジブチルフタレート等が使
用可能であり、これらを単独あるいは混合して使用す
る。
【００１３】溶剤は材料をペースト化するための成分で
あり、その含有量は５〜６０重量％、特に２０〜５０重
量％の範囲にあることが好ましい。溶剤としては、例え
ばターピネオール、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテルアセテート、２，２，４−トリメチル−１，３−
ペンタジオールモノイソブチレート等を単独又は混合し
て使用することができる。
あり、その含有量は５〜６０重量％、特に２０〜５０重
量％の範囲にあることが好ましい。溶剤としては、例え
ばターピネオール、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテルアセテート、２，２，４−トリメチル−１，３−
ペンタジオールモノイソブチレート等を単独又は混合し
て使用することができる。
【００１４】なお上記成分以外にも、例えばペーストの
流動性、焼結性或いは熱膨張係数を調整するためにアル
ミナ、ジルコニア等のセラミック粉末を１０重量％まで
添加することができる。
流動性、焼結性或いは熱膨張係数を調整するためにアル
ミナ、ジルコニア等のセラミック粉末を１０重量％まで
添加することができる。
【００１５】次に本発明のプラズマディスプレーパネル
用誘電体ペーストを用いて、誘電体層を形成する方法を
説明する。
用誘電体ペーストを用いて、誘電体層を形成する方法を
説明する。
【００１６】まず、プラズマディスプレーパネルに用い
られる前面ガラス板を用意する。次に本発明のペースト
をスクリーン印刷法や一括コート法等を用いて塗布し、
膜厚３０〜１００μｍの塗布層を形成する。なお前面ガ
ラス板には予め電極が形成されており、ペーストの塗布
はその上に行う。続いて塗布層を８０〜１２０℃程度の
温度で乾燥させる。その後、５００〜６００℃で５〜１
５分間焼成することにより、誘電体層を形成することが
できる。
られる前面ガラス板を用意する。次に本発明のペースト
をスクリーン印刷法や一括コート法等を用いて塗布し、
膜厚３０〜１００μｍの塗布層を形成する。なお前面ガ
ラス板には予め電極が形成されており、ペーストの塗布
はその上に行う。続いて塗布層を８０〜１２０℃程度の
温度で乾燥させる。その後、５００〜６００℃で５〜１
５分間焼成することにより、誘電体層を形成することが
できる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
する。
する。
【００１８】表１は本発明の実施例（試料Ｎｏ．１及び
２）及び比較例（試料Ｎｏ．３）を示している。
２）及び比較例（試料Ｎｏ．３）を示している。
【００１９】
【表１】
【００２０】表１の各試料は、重量％でガラス粉末５５
％、エチルセルロース５％、ジブチルフタレート１５％
及びターピネオール２５％を混練して調製した。なおガ
ラス粉末は次のようにして作製した。まず重量％でＰｂ
Ｏ ６５．０％、Ｂ2 Ｏ3５．０％、ＳｉＯ2 ２５．
０％、ＣａＯ ５．０％、軟化点５９０℃のガラスとな
るように原料を調合し、均一に混合した後、白金ルツボ
に入れ、１２５０℃で２時間溶融し、成形した。続いて
これらを粉砕、分級した後、５０％粒子径が約３μｍの
粒度分布を有するガラス粉末を得た。またペーストの調
製は、表に示す湿度に保った室内で行った。
％、エチルセルロース５％、ジブチルフタレート１５％
及びターピネオール２５％を混練して調製した。なおガ
ラス粉末は次のようにして作製した。まず重量％でＰｂ
Ｏ ６５．０％、Ｂ2 Ｏ3５．０％、ＳｉＯ2 ２５．
０％、ＣａＯ ５．０％、軟化点５９０℃のガラスとな
るように原料を調合し、均一に混合した後、白金ルツボ
に入れ、１２５０℃で２時間溶融し、成形した。続いて
これらを粉砕、分級した後、５０％粒子径が約３μｍの
粒度分布を有するガラス粉末を得た。またペーストの調
製は、表に示す湿度に保った室内で行った。
【００２１】こうして得られた各試料の水分量をカール
フィッシャー滴定法により測定したところ、試料Ｎｏ．
１が０．５重量％、Ｎｏ．２が１．５重量％、Ｎｏ．３
が３．５重量％であった。
フィッシャー滴定法により測定したところ、試料Ｎｏ．
１が０．５重量％、Ｎｏ．２が１．５重量％、Ｎｏ．３
が３．５重量％であった。
【００２２】次にソーダライムガラス板の表面に各試料
をスクリーン印刷し、乾燥後、５９０℃で１０分間焼成
することによって膜厚約４０μｍのガラス膜を形成し
た。続いて得られたガラス膜の表面粗さＲａを触針式表
面粗さ計を用いて測定し、深さ１０μｍを超える亀裂の
個数を計数した（表面粗さ計を用いて測定した試料Ｎ
ｏ．１〜３の表面形状を図１〜３にそれぞれ示す）。な
お膜厚４０μｍの誘電体層に１０μｍを超える亀裂があ
れば、耐電圧が著しく低下し、絶縁破壊が非常に起こり
易くなる。
をスクリーン印刷し、乾燥後、５９０℃で１０分間焼成
することによって膜厚約４０μｍのガラス膜を形成し
た。続いて得られたガラス膜の表面粗さＲａを触針式表
面粗さ計を用いて測定し、深さ１０μｍを超える亀裂の
個数を計数した（表面粗さ計を用いて測定した試料Ｎ
ｏ．１〜３の表面形状を図１〜３にそれぞれ示す）。な
お膜厚４０μｍの誘電体層に１０μｍを超える亀裂があ
れば、耐電圧が著しく低下し、絶縁破壊が非常に起こり
易くなる。
【００２３】その結果、本発明の実施例であるＮｏ．１
及び２の試料は、ガラス膜の表面粗さＲａが０．５４μ
ｍ及び０．５５μｍであり、深さ１０μｍを超える亀裂
は何れも認められなかった。これに対して比較例である
試料Ｎｏ．３は、表面粗さが０．８６μｍと粗く、しか
も深さ１０μｍを超える亀裂が２個も存在していた。
及び２の試料は、ガラス膜の表面粗さＲａが０．５４μ
ｍ及び０．５５μｍであり、深さ１０μｍを超える亀裂
は何れも認められなかった。これに対して比較例である
試料Ｎｏ．３は、表面粗さが０．８６μｍと粗く、しか
も深さ１０μｍを超える亀裂が２個も存在していた。
【００２４】
【発明の効果】本発明のプラズマディスプレーパネル用
誘電体ペーストは、水分量を調整することによって粘度
特性や印刷時の挙動の悪化を防止し、平滑で均一な膜厚
を有する塗布層を形成することができる。それゆえ良好
な表面状態の誘電体層を安定して形成することが可能で
ある。
誘電体ペーストは、水分量を調整することによって粘度
特性や印刷時の挙動の悪化を防止し、平滑で均一な膜厚
を有する塗布層を形成することができる。それゆえ良好
な表面状態の誘電体層を安定して形成することが可能で
ある。
【図１】表面粗さ計を用いて測定した試料Ｎｏ．１の表
面形状である。
面形状である。
【図２】表面粗さ計を用いて測定した試料Ｎｏ．２の表
面形状である。
面形状である。
【図３】表面粗さ計を用いて測定した試料Ｎｏ．３の表
面形状である。
面形状である。
Claims (1)
- 【請求項１】 ガラス粉末を含むプラズマディスプレー
パネル用誘電体ペーストにおいて、ペースト中の水分量
が３重量％以下であることを特徴とするプラズマディス
プレーパネル用誘電体ペースト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10025135A JPH11209147A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | プラズマディスプレーパネル用誘電体ペースト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10025135A JPH11209147A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | プラズマディスプレーパネル用誘電体ペースト |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006337514A Division JP2007128897A (ja) | 2006-12-14 | 2006-12-14 | プラズマディスプレーパネル用誘電体ペーストの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11209147A true JPH11209147A (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=12157534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10025135A Pending JPH11209147A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | プラズマディスプレーパネル用誘電体ペースト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11209147A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002160939A (ja) * | 2000-09-13 | 2002-06-04 | Nippon Electric Glass Co Ltd | プラズマディスプレイパネル用粉末材料 |
| US6784130B2 (en) * | 2000-09-13 | 2004-08-31 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | PDP material controlled in moisture content |
| JP2006233031A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Jsr Corp | 無機粒子含有組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
| CN102939270A (zh) * | 2010-06-14 | 2013-02-20 | 旭硝子株式会社 | 密封材料糊以及使用其的电子器件的制造方法 |
-
1998
- 1998-01-21 JP JP10025135A patent/JPH11209147A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002160939A (ja) * | 2000-09-13 | 2002-06-04 | Nippon Electric Glass Co Ltd | プラズマディスプレイパネル用粉末材料 |
| US6784130B2 (en) * | 2000-09-13 | 2004-08-31 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | PDP material controlled in moisture content |
| JP2006233031A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Jsr Corp | 無機粒子含有組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
| CN102939270A (zh) * | 2010-06-14 | 2013-02-20 | 旭硝子株式会社 | 密封材料糊以及使用其的电子器件的制造方法 |
| US9085483B2 (en) | 2010-06-14 | 2015-07-21 | Asahi Glass Company, Limited | Sealing material paste and process for producing electronic device employing the same |
| CN102939270B (zh) * | 2010-06-14 | 2015-11-25 | 旭硝子株式会社 | 密封材料糊以及使用其的电子器件的制造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051024 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061025 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061214 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070115 |