JPH11202486A - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
- Publication number
- JPH11202486A JPH11202486A JP266698A JP266698A JPH11202486A JP H11202486 A JPH11202486 A JP H11202486A JP 266698 A JP266698 A JP 266698A JP 266698 A JP266698 A JP 266698A JP H11202486 A JPH11202486 A JP H11202486A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- meth
- photosensitive composition
- polymer compound
- polymerizable monomer
- weight
- Prior art date
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- Pending
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- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】水系現像液での現像が可能であり、保存安定性
に優れ、高感度、高解像度な感光性組成物を提供する。 【解決手段】有機高分子化合物、重合性モノマー、光重
合開始剤を含有する感光性組成物において、前記有機高
分子化合物として、Ｎ，Ｎ−２置換（メタ）アクリルア
ミド、またはＮ−１置換（メタ）アクリルアミドを構成
成分とすると共に酸性官能基およびその誘導基を含有せ
ず且つ水系現像液で現像可能な高分子化合物、及びセル
ロース系水溶性高分子の群から選択される少なくとも一
種を主成分として用い、前記重合性モノマーとして、エ
ポキシ化合物の（メタ）アクリル酸付加物で水可溶性の
ものを必須成分として用いる。
に優れ、高感度、高解像度な感光性組成物を提供する。 【解決手段】有機高分子化合物、重合性モノマー、光重
合開始剤を含有する感光性組成物において、前記有機高
分子化合物として、Ｎ，Ｎ−２置換（メタ）アクリルア
ミド、またはＮ−１置換（メタ）アクリルアミドを構成
成分とすると共に酸性官能基およびその誘導基を含有せ
ず且つ水系現像液で現像可能な高分子化合物、及びセル
ロース系水溶性高分子の群から選択される少なくとも一
種を主成分として用い、前記重合性モノマーとして、エ
ポキシ化合物の（メタ）アクリル酸付加物で水可溶性の
ものを必須成分として用いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、水系現像型の感光性組
成物に関するものである。
成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】重合型の感光性組成物は、高感度である
ため、さまざまな分野で利用されている。その中でも水
現像可能なものは作業環境上好ましい。また、スルホン
酸、カルボン酸、もしくはその塩等を含むものは、基
材、充填材他と化学反応を起こす場合があり、適用範囲
が限定されるため、非イオン性（ノニオン性）の感光性
組成物がより望ましい。例を挙げるなら、特開昭63-177
125号公報、特開昭63-177127号公報、特開昭63-177128
号公報、特開昭63-177129号公報、特開昭63-177130号公
報、特開平9-134010号公報がある。しかしながら、これ
らは、実用上十分な感度を持つとは言い難い。また、PV
Aは微量のホウ酸等によってゲル化するため、用途によ
っては保存安定性に問題が出る場合がある。また、特開
昭63-124046号公報、特開平8-62841号公報に記載された
ものは、実用的な感度は確保できているが、パターニン
グ後、有機分を焼成分解する用途には残渣が多く適用で
きない。さらに、特開平6-348013号公報では実用的な感
度を得るために、特定の光重合開始剤を特徴としてお
り、実用範囲は限定される。
ため、さまざまな分野で利用されている。その中でも水
現像可能なものは作業環境上好ましい。また、スルホン
酸、カルボン酸、もしくはその塩等を含むものは、基
材、充填材他と化学反応を起こす場合があり、適用範囲
が限定されるため、非イオン性（ノニオン性）の感光性
組成物がより望ましい。例を挙げるなら、特開昭63-177
125号公報、特開昭63-177127号公報、特開昭63-177128
号公報、特開昭63-177129号公報、特開昭63-177130号公
報、特開平9-134010号公報がある。しかしながら、これ
らは、実用上十分な感度を持つとは言い難い。また、PV
Aは微量のホウ酸等によってゲル化するため、用途によ
っては保存安定性に問題が出る場合がある。また、特開
昭63-124046号公報、特開平8-62841号公報に記載された
ものは、実用的な感度は確保できているが、パターニン
グ後、有機分を焼成分解する用途には残渣が多く適用で
きない。さらに、特開平6-348013号公報では実用的な感
度を得るために、特定の光重合開始剤を特徴としてお
り、実用範囲は限定される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】これらの例では、感
度、解像度が不十分であり、分解残渣が多いなど、実用
範囲が限定されている。また、PVA系の高分子化合物を
成分とするものは、保存安定性に問題がある。
度、解像度が不十分であり、分解残渣が多いなど、実用
範囲が限定されている。また、PVA系の高分子化合物を
成分とするものは、保存安定性に問題がある。
【０００４】本発明はこのような事情に鑑み、広い適応
性を持ち、保存安定性に優れ、かつ高感度、高解像度の
感光性組成物を提供することを課題とする。
性を持ち、保存安定性に優れ、かつ高感度、高解像度の
感光性組成物を提供することを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために鋭意研究を重ねた結果、Ｎ−置換アクリルアミド
系およびＮ−置換メタアクリルアミド系（両者を、Ｎ−
置換（メタ）アクリルアミド系と標記する）、またはセ
ルロース系で、水系現像液による現像が可能な高分子化
合物と、重合性モノマーとして、エポキシ化合物の（メ
タ）アクリル酸付加物で水可溶性の物とを組み合わせる
ことにより、保存安定性に優れ、高感度、高解像度の感
光性組成物を得ることを知見し、本発明に至った。
ために鋭意研究を重ねた結果、Ｎ−置換アクリルアミド
系およびＮ−置換メタアクリルアミド系（両者を、Ｎ−
置換（メタ）アクリルアミド系と標記する）、またはセ
ルロース系で、水系現像液による現像が可能な高分子化
合物と、重合性モノマーとして、エポキシ化合物の（メ
タ）アクリル酸付加物で水可溶性の物とを組み合わせる
ことにより、保存安定性に優れ、高感度、高解像度の感
光性組成物を得ることを知見し、本発明に至った。
【０００６】本発明に用いることができる高分子化合物
は、基本的には、水系現像液で現像可能なものであり、
Ｎ，Ｎ−２置換（メタ）アクリルアミド、またはＮ−１
置換（メタ）アクリルアミドを構成成分とする高分子化
合物、またはセルロース系高分子である。具体的には、
例えば、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロ
ピルセルロース等のセルロース系高分子化合物；Ｎ−メ
チルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−
プロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルア
ミド、ダイアセトンアクリルアミド、アクリロイルモル
ホリン、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタ
クリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，
Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタク
リルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタクリルアミド等、N
−置換（メタ）アクリルアミド類の単独重合体、共重合
体、およびそれらの混合物を挙げることができる。中で
も、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタクリルアミド等の３級アミ
ド、及び、ダイアセトンアクリルアミドが好ましい。現
像性向上等の目的で、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−ビニルピロリドン等を共重合してもよい。
は、基本的には、水系現像液で現像可能なものであり、
Ｎ，Ｎ−２置換（メタ）アクリルアミド、またはＮ−１
置換（メタ）アクリルアミドを構成成分とする高分子化
合物、またはセルロース系高分子である。具体的には、
例えば、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロ
ピルセルロース等のセルロース系高分子化合物；Ｎ−メ
チルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−
プロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルア
ミド、ダイアセトンアクリルアミド、アクリロイルモル
ホリン、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタ
クリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，
Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタク
リルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタクリルアミド等、N
−置換（メタ）アクリルアミド類の単独重合体、共重合
体、およびそれらの混合物を挙げることができる。中で
も、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタクリルアミド等の３級アミ
ド、及び、ダイアセトンアクリルアミドが好ましい。現
像性向上等の目的で、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−ビニルピロリドン等を共重合してもよい。
【０００７】また、Ｎ，Ｎ−２置換（メタ）アクリルア
ミド、またはＮ−１置換（メタ）アクリルアミド系の高
分子化合物としては、塗膜物性の調整、焼成分解性向上
の目的で、メチルアクリレート、エチルアクリレート、
プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブ
チルアクリレート、ベンジルアクリレート、ヒドロキシ
エチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プ
ロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、
ブチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ヒド
ロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタ
クリレート等のアクリレート類を共重合したものを用い
ても良い。
ミド、またはＮ−１置換（メタ）アクリルアミド系の高
分子化合物としては、塗膜物性の調整、焼成分解性向上
の目的で、メチルアクリレート、エチルアクリレート、
プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブ
チルアクリレート、ベンジルアクリレート、ヒドロキシ
エチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プ
ロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、
ブチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ヒド
ロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタ
クリレート等のアクリレート類を共重合したものを用い
ても良い。
【０００８】共重合体におけるN−置換（メタ）アクリ
ルアミド類の組成比は、３０ｍｏｌ％以上が好ましい。
N−置換（メタ）アクリルアミド類の組成比が低すぎる
と、水現像性が低下し、必要なパターニングが出来なく
なる。重合体の重量平均分子量は、共重合成分、及び組
成比に大きく影響されるため一概に言えないが、４００
０〜１，０００，０００の範囲が好ましい。より好まし
くは、１０，０００〜２００，０００の範囲である。
ルアミド類の組成比は、３０ｍｏｌ％以上が好ましい。
N−置換（メタ）アクリルアミド類の組成比が低すぎる
と、水現像性が低下し、必要なパターニングが出来なく
なる。重合体の重量平均分子量は、共重合成分、及び組
成比に大きく影響されるため一概に言えないが、４００
０〜１，０００，０００の範囲が好ましい。より好まし
くは、１０，０００〜２００，０００の範囲である。
【０００９】本発明では、重合性モノマーとしてエポキ
シ化合物の（メタ）アクリル酸付加物を用いるが、好適
なものとしては、下記一般式（1）〜（3）に示すものを
挙げることができる。
シ化合物の（メタ）アクリル酸付加物を用いるが、好適
なものとしては、下記一般式（1）〜（3）に示すものを
挙げることができる。
【００１０】
【化４】
【００１１】
【化５】
【００１２】
【化６】
【００１３】本発明で重合性モノマーとして用いられる
エポキシ化合物の（メタ）アクリル酸付加物は、エポキ
シ樹脂からアクリル酸またはメタクリル酸を、常法に従
って付加することにより合成することができる。
エポキシ化合物の（メタ）アクリル酸付加物は、エポキ
シ樹脂からアクリル酸またはメタクリル酸を、常法に従
って付加することにより合成することができる。
【００１４】本発明に使用される重合性モノマーである
エポキシ化合物の（メタ）アクリル酸付加物を合成する
ためのエポキシ樹脂としては、エチレングリコールジグ
リシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピ
レングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレング
リコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコ
ールジグリシジルエーテル、テトラプロピレングリコー
ルジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジ
グリシジルエーテル、ソルビトールトリグリシジルエー
テル、グリセリントリグリシジルエーテル等が上げられ
る。好ましくは、高分子化合物との相溶性、現像性の観
点から、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ソルビトールトリグリシジルエーテルが用いられ
る。
エポキシ化合物の（メタ）アクリル酸付加物を合成する
ためのエポキシ樹脂としては、エチレングリコールジグ
リシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピ
レングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレング
リコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコ
ールジグリシジルエーテル、テトラプロピレングリコー
ルジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジ
グリシジルエーテル、ソルビトールトリグリシジルエー
テル、グリセリントリグリシジルエーテル等が上げられ
る。好ましくは、高分子化合物との相溶性、現像性の観
点から、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ソルビトールトリグリシジルエーテルが用いられ
る。
【００１５】これらのエポキシ樹脂に対して、アクリル
酸、もしくはメタクリル酸を付加させる反応方法として
は、南アフリカ国公開特許9106125号等に記載された公
知のものが適用できる。この際の付加量に制限はない
が、エポキシ基に対し、０．５以上のモル比で付加させ
ることが好ましい。０．５以下では重合性モノマーの架
橋性能が低下し、実用上十分な感度が得られない場合が
ある。
酸、もしくはメタクリル酸を付加させる反応方法として
は、南アフリカ国公開特許9106125号等に記載された公
知のものが適用できる。この際の付加量に制限はない
が、エポキシ基に対し、０．５以上のモル比で付加させ
ることが好ましい。０．５以下では重合性モノマーの架
橋性能が低下し、実用上十分な感度が得られない場合が
ある。
【００１６】このように合成された重合性モノマーに対
し、本発明による感光性組成物の性能を損なわない範囲
で、他のエポキシ化合物のアクリル酸、メタクリル酸付
加物を混合することも出来る。また、その他の公知の重
合性モノマーを混合することも出来る。例えば、ポリエ
チレングリコールジアクリレート（エチレン基の数が２
〜１４のもの）、ポリエチレングリコールジメタクリレ
ート（エチレン基の数が２〜１４のもの）、トリメチロ
ールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパン
ジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、ト
リメチロールプロパンエトキシトリメタクリレート、ト
リメチロールプロパンプロポキシトリアクリレート、ト
リメチロールプロパンプロポキシトリメタクリレート、
テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチ
ロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメ
タンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテト
ラメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリ
レート（プロピレン基の数が２〜１４のもの）、ポリプ
ロピレングリコールジメタクリレート（プロピレン基の
数が２〜１４のもの）、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ビスフ
ェノールＡポリオキシエチレンジアクリレート、ビスフ
ェノールＡポリオキシエチレンジメタクリレート、ビス
フェノールＡジオキシエチレンジアクリレート、ビスフ
ェノールＡジオキシエチレンジメタクリレート、ビスフ
ェノールＡトリオキシエチレンジアクリレート、ビスフ
ェノールＡトリオキシエチレンジメタクリレート、ビス
フェノールＡデカオキシエチレンジアクリレート、ビス
フェノールＡデカオキシエチレンジメタクリレート、多
価カルボン酸（無水フタル酸等）と水酸基及びエチレン
性不飽和基を有する化合物（β−ヒドロキシエチルアク
リレート、β−ヒドロキシエチルメタクリレート等）と
のエステル化物、アクリル酸若しくはメタクリル酸のア
ルキルエステル（アクリル酸メチルエステル、メタクリ
ル酸メチルエステル、アクリル酸エチルエステル、メタ
クリル酸エチルエステル、アクリル酸ブチルエステル、
メタクリル酸ブチルエステル、アクリル酸２−エチルヘ
キシルエステル、メタクリル酸２−エチルヘキシルエス
テル等）などが挙げられる。
し、本発明による感光性組成物の性能を損なわない範囲
で、他のエポキシ化合物のアクリル酸、メタクリル酸付
加物を混合することも出来る。また、その他の公知の重
合性モノマーを混合することも出来る。例えば、ポリエ
チレングリコールジアクリレート（エチレン基の数が２
〜１４のもの）、ポリエチレングリコールジメタクリレ
ート（エチレン基の数が２〜１４のもの）、トリメチロ
ールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパン
ジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、
トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、ト
リメチロールプロパンエトキシトリメタクリレート、ト
リメチロールプロパンプロポキシトリアクリレート、ト
リメチロールプロパンプロポキシトリメタクリレート、
テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチ
ロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメ
タンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテト
ラメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリ
レート（プロピレン基の数が２〜１４のもの）、ポリプ
ロピレングリコールジメタクリレート（プロピレン基の
数が２〜１４のもの）、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ビスフ
ェノールＡポリオキシエチレンジアクリレート、ビスフ
ェノールＡポリオキシエチレンジメタクリレート、ビス
フェノールＡジオキシエチレンジアクリレート、ビスフ
ェノールＡジオキシエチレンジメタクリレート、ビスフ
ェノールＡトリオキシエチレンジアクリレート、ビスフ
ェノールＡトリオキシエチレンジメタクリレート、ビス
フェノールＡデカオキシエチレンジアクリレート、ビス
フェノールＡデカオキシエチレンジメタクリレート、多
価カルボン酸（無水フタル酸等）と水酸基及びエチレン
性不飽和基を有する化合物（β−ヒドロキシエチルアク
リレート、β−ヒドロキシエチルメタクリレート等）と
のエステル化物、アクリル酸若しくはメタクリル酸のア
ルキルエステル（アクリル酸メチルエステル、メタクリ
ル酸メチルエステル、アクリル酸エチルエステル、メタ
クリル酸エチルエステル、アクリル酸ブチルエステル、
メタクリル酸ブチルエステル、アクリル酸２−エチルヘ
キシルエステル、メタクリル酸２−エチルヘキシルエス
テル等）などが挙げられる。
【００１７】本発明に用いることができる光重合開始剤
としては、開裂型、水素引き抜き型等、公知のもの挙げ
ることができる。具体例を挙げれば、ベンゾフェノン、
ヒドロキシベンゾフェノン、ビス−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノベンゾフェノン、ビス−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベ
ンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン等のベンゾフェノン類、チオキサントン、
２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキ
サントン、クロロチオキサントン、イソプロポキシクロ
ロチオキサントン等のチオキサントン類、エチルアント
ラキノン、ベンズアントラキノン、アミノアントラキノ
ン、クロロアントラキノン等のアントラキノン類、アセ
トフェノン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベン
ゾインエーテル類、２，４，６−トリハロメチルトリア
ジン類、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニル
イミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−
４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量
体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニル
イミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メ
トキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体、２，−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニ
ルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等、
２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体類、ベン
ジルジメチルケタール、２−ベンジル−２−ジメチルア
ミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−
オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニ
ル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ヒドロキ
シ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、
１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル〕−
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オ
ン、フェナントレンキノン、９，１０−フェナンスレン
キノン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等ベンゾ
イン類、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，
９′−アクリジニル）ヘプタン等、アクリジン誘導体、
ビスアシルフォスフィンオキサイド、およびこれらの混
合物等が挙げられる。
としては、開裂型、水素引き抜き型等、公知のもの挙げ
ることができる。具体例を挙げれば、ベンゾフェノン、
ヒドロキシベンゾフェノン、ビス−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノベンゾフェノン、ビス−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベ
ンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン等のベンゾフェノン類、チオキサントン、
２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキ
サントン、クロロチオキサントン、イソプロポキシクロ
ロチオキサントン等のチオキサントン類、エチルアント
ラキノン、ベンズアントラキノン、アミノアントラキノ
ン、クロロアントラキノン等のアントラキノン類、アセ
トフェノン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベン
ゾインエーテル類、２，４，６−トリハロメチルトリア
ジン類、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニル
イミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−
４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量
体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニル
イミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メ
トキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体、２，−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニ
ルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等、
２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体類、ベン
ジルジメチルケタール、２−ベンジル−２−ジメチルア
ミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−
オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニ
ル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ヒドロキ
シ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、
１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル〕−
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オ
ン、フェナントレンキノン、９，１０−フェナンスレン
キノン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等ベンゾ
イン類、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，
９′−アクリジニル）ヘプタン等、アクリジン誘導体、
ビスアシルフォスフィンオキサイド、およびこれらの混
合物等が挙げられる。
【００１８】また、本発明の感光性組成物には、これら
の開始剤に加え、増感剤、促進剤等を添加することも出
来る。これらの例として、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸
エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、エタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン等が挙げられる。
の開始剤に加え、増感剤、促進剤等を添加することも出
来る。これらの例として、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸
エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、エタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン等が挙げられる。
【００１９】本発明の組成物には塗布性調整のため、溶
剤を用いることが好ましい。本発明の組成物を溶解する
溶剤であれば、特に制限なく使用できるが、水溶性有機
溶媒、水、及びこれらの混合物が好ましい。
剤を用いることが好ましい。本発明の組成物を溶解する
溶剤であれば、特に制限なく使用できるが、水溶性有機
溶媒、水、及びこれらの混合物が好ましい。
【００２０】本発明の感光性組成物には、他の成分とし
て、重合禁止剤、可塑剤、顔料、染料、消泡剤、カップ
リング剤等、従来公知のものを必要に応じて配合でき
る。
て、重合禁止剤、可塑剤、顔料、染料、消泡剤、カップ
リング剤等、従来公知のものを必要に応じて配合でき
る。
【００２１】本発明の感光性組成物は、溶液、またはペ
ーストとして塗布される。塗布方法は特に制限されない
が、スクリーン印刷、カーテンコート、ブレードコー
ト、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、
スリットコート等が適用される。塗布された溶液、また
はペーストは、乾燥工程を経た後、所定のマスクを介
し、ＵＶ、もしくは電子線で露光が行われる。露光した
塗膜を湿式で現像し、パターンを形成する。
ーストとして塗布される。塗布方法は特に制限されない
が、スクリーン印刷、カーテンコート、ブレードコー
ト、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、
スリットコート等が適用される。塗布された溶液、また
はペーストは、乾燥工程を経た後、所定のマスクを介
し、ＵＶ、もしくは電子線で露光が行われる。露光した
塗膜を湿式で現像し、パターンを形成する。
【００２２】現像方法は、スプレー式、パドル式、浸漬
式等、いずれも可能であるが、残渣の少ないスプレー式
が好ましい。必要に応じて、超音波等を照射することも
できる。
式等、いずれも可能であるが、残渣の少ないスプレー式
が好ましい。必要に応じて、超音波等を照射することも
できる。
【００２３】現像液は中性の水が好ましいが、弱酸性、
弱アルカリ性であってもかまわない。現像性補助の目的
で有機溶剤、界面活性剤等を添加することも可能であ
る。以下に本発明の感光性組成物における各成分の好ま
しい配合比を述べるが、この配合比は各成分の種類、使
用目的によって異なるのであくまで目安であり、本発明
の範囲を制限するものではない。
弱アルカリ性であってもかまわない。現像性補助の目的
で有機溶剤、界面活性剤等を添加することも可能であ
る。以下に本発明の感光性組成物における各成分の好ま
しい配合比を述べるが、この配合比は各成分の種類、使
用目的によって異なるのであくまで目安であり、本発明
の範囲を制限するものではない。
【００２４】重合性モノマーの添加量は、高分子化合物
１００重量部に対し、１〜１００重量部、さらに好まし
くは、１０〜６０重量部である。重合性モノマーが少な
すぎれば、光硬化性が低下し、画像形成が出来ない場合
がある。逆に多すぎる場合には、塗膜に粘着性が生じ、
接触露光の場合には好ましくない。
１００重量部に対し、１〜１００重量部、さらに好まし
くは、１０〜６０重量部である。重合性モノマーが少な
すぎれば、光硬化性が低下し、画像形成が出来ない場合
がある。逆に多すぎる場合には、塗膜に粘着性が生じ、
接触露光の場合には好ましくない。
【００２５】光重合開始剤の添加量は、適用する開始剤
の種類、及び目的により添加される顔料、着色剤に大き
く影響されるため、一概には言えないが、一般には０．
１〜５０重量部である。
の種類、及び目的により添加される顔料、着色剤に大き
く影響されるため、一概には言えないが、一般には０．
１〜５０重量部である。
【００２６】
【実施例】以下に、本発明の実施例を説明するが、使用
目的、成分の種類により、組成、配合は異なるため、本
発明の範囲を限定するものではない。
目的、成分の種類により、組成、配合は異なるため、本
発明の範囲を限定するものではない。
【００２７】（高分子化合物の合成）Ｎ，Ｎ−ジメチル
アクリルアミド ９４ｇ、メチルメタクリレート ６０
ｇ、ＡＩＢＮ １．２５ｇを良く混合した後、窒素気流
下、７０℃に保持した２−（２−メトキシエトキシ）エ
タノール １９０ｇ中に１時間かけて滴下した。そのま
ま７０℃で３時間保持し、透明な粘凋性高分子溶液
（Ａ）を得た。
アクリルアミド ９４ｇ、メチルメタクリレート ６０
ｇ、ＡＩＢＮ １．２５ｇを良く混合した後、窒素気流
下、７０℃に保持した２−（２−メトキシエトキシ）エ
タノール １９０ｇ中に１時間かけて滴下した。そのま
ま７０℃で３時間保持し、透明な粘凋性高分子溶液
（Ａ）を得た。
【００２８】（実施例１）下記の組成に従い、混合、溶
解し、感光性組成物を得た。
解し、感光性組成物を得た。
【００２９】 高分子溶液 （Ａ） １００ 重量部 エチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート （ナガセ化成工業（株）製 ＤＭ８１１） ２０ 重量部 光重合開始剤（ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ社製 ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９） ０．１ 重量部 シランカップリング剤 （信越化学（株）製 ＫＢＭ−５０３） ８．０ 重量部 ヒドロキノンモノメチルエーテル ０．０５ 重量部
【００３０】次に、この溶液をブレードコーターで、ガ
ラス基板上に全面塗布、８０℃のクリーンオーブンで３
０分間乾燥した後、室温まで冷却、所定のパターンを備
えたマスクを介し、照度５．０ｍＷ／ｃｍ2 の超高圧水
銀灯で５ｍｊ／ｃｍ2の紫外線を照射した。続いてイオ
ン交換水で３０秒間スプレー現像し、目的のパターンを
得た。パターンの膜厚は１０μｍ、解像度は４μｍであ
った。
ラス基板上に全面塗布、８０℃のクリーンオーブンで３
０分間乾燥した後、室温まで冷却、所定のパターンを備
えたマスクを介し、照度５．０ｍＷ／ｃｍ2 の超高圧水
銀灯で５ｍｊ／ｃｍ2の紫外線を照射した。続いてイオ
ン交換水で３０秒間スプレー現像し、目的のパターンを
得た。パターンの膜厚は１０μｍ、解像度は４μｍであ
った。
【００３１】（実施例２）下記の組成に従い、混合、溶
解し、感光性組成物を得た。
解し、感光性組成物を得た。
【００３２】 高分子溶液 （Ａ） １００ 重量部 グリセロールエポキシトリアクリレート （ナガセ化成工業（株）製 ＤＡ−３１４） ２０ 重量部 光重合開始剤（ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ社製 ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９） ０．１ 重量部 シランカップリング剤 （信越化学（株）製 ＫＢＭ−５０３） ８．０ 重量部 ヒドロキノンモノメチルエーテル ０．０５ 重量部
【００３３】この溶液を用いて、実施例1と同様の操作
を行い、目的のパターンを得た。パターンの膜厚は１２
μｍ、解像度は４μｍであった。
を行い、目的のパターンを得た。パターンの膜厚は１２
μｍ、解像度は４μｍであった。
【００３４】（比較例１）下記の組成に従い、混合、溶
解し、実施例1と同様の評価を行った。
解し、実施例1と同様の評価を行った。
【００３５】 部分鹸化PVA（日本合成化学工業（株）製 ゴーセランＬ−０３０１） ４５ 重量部 ２−（２−メトキシエトキシ）エタノール １０５ 重量部 エチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート （ナガセ化成工業（株）製 ＤＭ８１１） ２０ 重量部 光重合開始剤（ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ社製 ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９） ０．１ 重量部 シランカップリング剤 （信越化学（株）製 ＫＢＭ−５０３） ８．０ 重量部 ヒドロキノンモノメチルエーテル ０．０５ 重量部
【００３６】かかる組成では、５ｍｊ／ｃｍ2の紫外線
照射でパターンはまったく残らなかった。４００ｍｊ／
ｃｍ2まで露光量を上げるとパターン形成が出来たが、
解像度は４０μｍであった。
照射でパターンはまったく残らなかった。４００ｍｊ／
ｃｍ2まで露光量を上げるとパターン形成が出来たが、
解像度は４０μｍであった。
【００３７】（比較例２）下記の組成に従い、混合、溶
解し、実施例1と同様の評価を行った。
解し、実施例1と同様の評価を行った。
【００３８】 高分子溶液 （Ａ） １００ 重量部 トリエチレングリコールジメタクリレート （新中村化学工業（株）製 ＮＫエステル３Ｇ） ２０ 重量部 光重合開始剤（ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ社製 ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９） ０．１ 重量部 シランカップリング剤 （信越化学（株）製 ＫＢＭ−５０３） ８．０ 重量部 ヒドロキノンモノメチルエーテル ０．０５ 重量部
【００３９】この組成では、塗布後に成分が分離してし
まい、パターンを形成することは出来なかった。
まい、パターンを形成することは出来なかった。
【００４０】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の感光性
組成物は高感度、高解像度であり、適応範囲の広い有用
なものである。
組成物は高感度、高解像度であり、適応範囲の広い有用
なものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 63/10 Ｃ０８Ｌ 63/10 Ｇ０３Ｆ 7/028 Ｇ０３Ｆ 7/028 // Ｃ０８Ｇ 59/17 Ｃ０８Ｇ 59/17
Claims (3)
- 【請求項１】 有機高分子化合物、重合性モノマー、光
重合開始剤を含有する感光性組成物において、前記有機
高分子化合物として、Ｎ，Ｎ−２置換（メタ）アクリル
アミド、またはＮ−１置換（メタ）アクリルアミドを構
成成分とし且つ水系現像液で現像可能な高分子化合物、
及びセルロース系水溶性高分子の群から選択される少な
くとも一種を主成分として用い、前記重合性モノマーと
して、エポキシ化合物の（メタ）アクリル酸付加物で水
可溶性のものを必須成分として用いることを特徴とする
感光性組成物。 - 【請求項２】 前記重合性モノマーとして、一般式
（1）、（2）、（3）のいずれかで示される、エポキシ
化合物の（メタ）アクリル酸付加物を必須成分とする請
求項１に記載の感光性組成物。 【化１】 【化２】 【化３】 - 【請求項３】 前記高分子化合物として、Ｎ，N−ジア
ルキル（メタ）アクリルアミドを構成単位として３０mo
l％以上含有するものを用いる請求項1又は２に記載の感
光性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP266698A JPH11202486A (ja) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP266698A JPH11202486A (ja) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | 感光性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11202486A true JPH11202486A (ja) | 1999-07-30 |
Family
ID=11535647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP266698A Pending JPH11202486A (ja) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11202486A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012086552A1 (ja) * | 2010-12-22 | 2012-06-28 | ダイセル・サイテック株式会社 | 吸水性樹脂組成物およびこれを用いた積層体 |
| KR20160117276A (ko) * | 2015-03-31 | 2016-10-10 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 드라이 에칭용 감광성 수지 조성물, 및 드라이 에칭용 레지스트 패턴의 제조 방법 |
-
1998
- 1998-01-08 JP JP266698A patent/JPH11202486A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012086552A1 (ja) * | 2010-12-22 | 2012-06-28 | ダイセル・サイテック株式会社 | 吸水性樹脂組成物およびこれを用いた積層体 |
| JP2012131913A (ja) * | 2010-12-22 | 2012-07-12 | Daicel-Cytec Co Ltd | 吸水性樹脂組成物およびこれを用いた積層体 |
| CN103339191A (zh) * | 2010-12-22 | 2013-10-02 | 大赛璐-氰特株式会社 | 吸水性树脂组合物和使用了该吸水性树脂组合物的叠层体 |
| EP2657293A1 (en) * | 2010-12-22 | 2013-10-30 | Daicel-Cytec Company, Ltd. | Water-absorbable resin composition and laminate produced using same |
| EP2657293A4 (en) * | 2010-12-22 | 2014-11-05 | Daicel Cytec Company Ltd | WATER ABSORBENT RESIN COMPOSITION AND LAMINATE MANUFACTURED THEREWITH |
| US9084982B2 (en) | 2010-12-22 | 2015-07-21 | Daicel-Allnex Ltd. | Water-absorbing resin composition and laminate produced using same |
| CN103339191B (zh) * | 2010-12-22 | 2016-08-10 | 大赛璐-湛新株式会社 | 吸水性树脂组合物和使用了该吸水性树脂组合物的叠层体 |
| KR20160117276A (ko) * | 2015-03-31 | 2016-10-10 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 드라이 에칭용 감광성 수지 조성물, 및 드라이 에칭용 레지스트 패턴의 제조 방법 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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Effective date: 20041115 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070606 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20071010 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |