JPH11201944A - レーザーアブレーション装置 - Google Patents
レーザーアブレーション装置Info
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- JPH11201944A JPH11201944A JP281598A JP281598A JPH11201944A JP H11201944 A JPH11201944 A JP H11201944A JP 281598 A JP281598 A JP 281598A JP 281598 A JP281598 A JP 281598A JP H11201944 A JPH11201944 A JP H11201944A
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- laser light
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/04—Arrangements for introducing or extracting samples to be analysed, e.g. vacuum locks; Arrangements for external adjustment of electron- or ion-optical components
- H01J49/0459—Arrangements for introducing or extracting samples to be analysed, e.g. vacuum locks; Arrangements for external adjustment of electron- or ion-optical components for solid samples
- H01J49/0463—Desorption by laser or particle beam, followed by ionisation as a separate step
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/105—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation, Inductively Coupled Plasma [ICP]
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 取り込み画像に基づいた測定希望範囲の設定
ができ、また、全体画像と部分画像の位置対応が明確な
レーザーアブレーション装置を提供する。 【解決手段】ＸＹＺステージの可動範囲を試料画像上に
表示する手段と、ＸＹＺステージの可動範囲内に測定希
望位置を設定するための位置指定手段と、設定された測
定希望位置の情報に基づいて、測定希望位置がレーザー
光照射位置に配置されるようにＸＹＺステージを制御す
るステージ制御部と、ＩＣＰを用いた分析手段による分
析結果をレーザー光照射位置に対応させて記憶する手段
を備えた。
ができ、また、全体画像と部分画像の位置対応が明確な
レーザーアブレーション装置を提供する。 【解決手段】ＸＹＺステージの可動範囲を試料画像上に
表示する手段と、ＸＹＺステージの可動範囲内に測定希
望位置を設定するための位置指定手段と、設定された測
定希望位置の情報に基づいて、測定希望位置がレーザー
光照射位置に配置されるようにＸＹＺステージを制御す
るステージ制御部と、ＩＣＰを用いた分析手段による分
析結果をレーザー光照射位置に対応させて記憶する手段
を備えた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高周波誘導結合型
プラズマ質量分析装置（ＩＣＰ−ＭＳ）等において用い
られるレーザーアブレーション装置に関する。
プラズマ質量分析装置（ＩＣＰ−ＭＳ）等において用い
られるレーザーアブレーション装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザーアブレーション装置は、試料セ
ル内に置かれた試料にパルス状のレーザー光を照射する
ことによって、試料から気化する微粒子をＩＣＰ−ＭＳ
等の分析手段に供給することを目的とする試料供給装置
である。
ル内に置かれた試料にパルス状のレーザー光を照射する
ことによって、試料から気化する微粒子をＩＣＰ−ＭＳ
等の分析手段に供給することを目的とする試料供給装置
である。
【０００３】図１は、従来のレーザーアブレーション装
置を表わしたものである。図中、パルスレーザー１は、
近赤外光（波長１０６４ｎｍ）のＹＡＧレーザー光を１
０Ｈｚの周期で発振する。発振されたレーザー光は、集
光光学系２で２０ミクロン程度のスポットに絞られて、
試料セル３中に収納されている試料の表面に照射され
る。試料セル３には、レーザー光入射用のガラス窓が設
けられていると共に、試料から気化した微粒子をＩＣＰ
−ＭＳ等の分析機器に搬送するためのキャリアガス（ア
ルゴン）が流されている。
置を表わしたものである。図中、パルスレーザー１は、
近赤外光（波長１０６４ｎｍ）のＹＡＧレーザー光を１
０Ｈｚの周期で発振する。発振されたレーザー光は、集
光光学系２で２０ミクロン程度のスポットに絞られて、
試料セル３中に収納されている試料の表面に照射され
る。試料セル３には、レーザー光入射用のガラス窓が設
けられていると共に、試料から気化した微粒子をＩＣＰ
−ＭＳ等の分析機器に搬送するためのキャリアガス（ア
ルゴン）が流されている。
【０００４】試料セル３に収納された試料に対して、レ
ーザー光の照射位置を適時移動できるようにするため
に、試料セル３はＸＹＺステージ４上に載置されてい
る。このＸＹＺステージ４による水平方向、及び垂直方
向の位置調整は、自動ステージ制御部５により制御され
ている。自動ステージ制御部５には、水平方向及び垂直
方向の位置情報を入力できるように、キーボード、マウ
ス等の入力装置６が備えられている。
ーザー光の照射位置を適時移動できるようにするため
に、試料セル３はＸＹＺステージ４上に載置されてい
る。このＸＹＺステージ４による水平方向、及び垂直方
向の位置調整は、自動ステージ制御部５により制御され
ている。自動ステージ制御部５には、水平方向及び垂直
方向の位置情報を入力できるように、キーボード、マウ
ス等の入力装置６が備えられている。
【０００５】試料の表面を観察するための拡大画像は、
集光光学系２を介して、ＣＣＤカメラ７によって撮像さ
れる。この画像は、ディスプレイ８に直接表示されると
共に、ビデオテープレコーダ９によって録画される。
集光光学系２を介して、ＣＣＤカメラ７によって撮像さ
れる。この画像は、ディスプレイ８に直接表示されると
共に、ビデオテープレコーダ９によって録画される。
【０００６】レーザー光の照射位置は、アブレーション
用レーザーと光軸を同じくする、赤色レーザースポット
を発振する案内用レーザー１０によって示される。
用レーザーと光軸を同じくする、赤色レーザースポット
を発振する案内用レーザー１０によって示される。
【０００７】測定は、スタート信号を、自動ステージ制
御部５の入力装置６からＩＣＰ−ＭＳデータシステム１
１に送ることによって開始される。
御部５の入力装置６からＩＣＰ−ＭＳデータシステム１
１に送ることによって開始される。
【０００８】レーザー光の照射によってアブレーション
された試料の微粒子は、キャリアガスの気流に乗ってプ
ラズマトーチ１２に運ばれ、プラズマトーチ１２の外周
に巻回されたワークコイル１３を流れる高周波によって
キャリアガスと共にプラズマ化され、質量分析計１４に
おいて質量分析される。質量分析計１４の制御と分析結
果の処理は、ＩＣＰ−ＭＳデータシステム１１とその入
力装置（マウス、キーボード等）１５によって行なわれ
る。
された試料の微粒子は、キャリアガスの気流に乗ってプ
ラズマトーチ１２に運ばれ、プラズマトーチ１２の外周
に巻回されたワークコイル１３を流れる高周波によって
キャリアガスと共にプラズマ化され、質量分析計１４に
おいて質量分析される。質量分析計１４の制御と分析結
果の処理は、ＩＣＰ−ＭＳデータシステム１１とその入
力装置（マウス、キーボード等）１５によって行なわれ
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】このような構成におい
て、ＣＣＤカメラ７による撮像結果は、従来、ビデオデ
ィスプレイ８に直接表示されると共に、ビデオテープレ
コーダ９によって録画されていたため、単なる画像表示
機能としては問題がないものの、取り込み画像に基づい
た制御、例えば、レーザー光の照射希望範囲の設定等は
できなかった。また、全体画像と部分画像の位置対応関
係や、レーザー光の照射位置とＩＣＰ−ＭＳの測定結果
との対応関係も不明確であった。
て、ＣＣＤカメラ７による撮像結果は、従来、ビデオデ
ィスプレイ８に直接表示されると共に、ビデオテープレ
コーダ９によって録画されていたため、単なる画像表示
機能としては問題がないものの、取り込み画像に基づい
た制御、例えば、レーザー光の照射希望範囲の設定等は
できなかった。また、全体画像と部分画像の位置対応関
係や、レーザー光の照射位置とＩＣＰ−ＭＳの測定結果
との対応関係も不明確であった。
【００１０】本発明の目的は、上述した点に鑑み、取り
込み画像に基づいてレーザー光の照射希望範囲の設定等
ができ、また、全体画像と部分画像の位置対応関係や、
レーザー光照射位置とＩＣＰ−ＭＳの測定結果との対応
関係が明確なレーザーアブレーション装置を提供するこ
とにある。
込み画像に基づいてレーザー光の照射希望範囲の設定等
ができ、また、全体画像と部分画像の位置対応関係や、
レーザー光照射位置とＩＣＰ−ＭＳの測定結果との対応
関係が明確なレーザーアブレーション装置を提供するこ
とにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明のレーザーアブレーション装置は、アブレー
ション用レーザーと、レーザー光を絞って試料表面に照
射する集光光学系と、レーザー光入射用の窓を持ち、か
つ、試料を収納する試料セルと、試料セルを通って、レ
ーザー光照射によって気化した試料をＩＣＰを用いた分
析手段まで搬送するキャリアガス流路と、試料セルを載
置して、試料のレーザー光照射位置を適時移動させ得る
ＸＹＺステージと、試料表面の拡大画像を撮像表示する
試料画像撮像表示手段とから成るレーザーアブレーショ
ン装置において、ＸＹＺステージの可動範囲を試料画像
上に表示する手段と、ＸＹＺステージの可動範囲内に測
定希望位置を設定するための位置指定手段と、設定され
た測定希望位置の情報に基づいて、測定希望位置がレー
ザー光照射位置に配置されるようにＸＹＺステージを制
御するステージ制御部と、ＩＣＰを用いた分析手段によ
る分析結果をレーザー光照射位置に対応させて記憶する
手段を備えたことを特徴としている。
め、本発明のレーザーアブレーション装置は、アブレー
ション用レーザーと、レーザー光を絞って試料表面に照
射する集光光学系と、レーザー光入射用の窓を持ち、か
つ、試料を収納する試料セルと、試料セルを通って、レ
ーザー光照射によって気化した試料をＩＣＰを用いた分
析手段まで搬送するキャリアガス流路と、試料セルを載
置して、試料のレーザー光照射位置を適時移動させ得る
ＸＹＺステージと、試料表面の拡大画像を撮像表示する
試料画像撮像表示手段とから成るレーザーアブレーショ
ン装置において、ＸＹＺステージの可動範囲を試料画像
上に表示する手段と、ＸＹＺステージの可動範囲内に測
定希望位置を設定するための位置指定手段と、設定され
た測定希望位置の情報に基づいて、測定希望位置がレー
ザー光照射位置に配置されるようにＸＹＺステージを制
御するステージ制御部と、ＩＣＰを用いた分析手段によ
る分析結果をレーザー光照射位置に対応させて記憶する
手段を備えたことを特徴としている。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図２は、本発明のレーザーアブレ
ーション装置を表わしたものである。図中、パルスレー
ザー１は、近赤外光（波長１０６４ｎｍ）のＹＡＧレー
ザー光を１０Ｈｚの周期で発振する。発振されたレーザ
ー光は、集光光学系２で２０ミクロン程度のスポットに
絞られて、試料セル３中に収納されている試料の表面に
照射される。試料セル３には、レーザー光入射用のガラ
ス窓が設けられていると共に、試料から気化した微粒子
をＩＣＰ−ＭＳ等の分析機器に搬送するためのキャリア
ガス（アルゴン）が流されている。
施の形態を説明する。図２は、本発明のレーザーアブレ
ーション装置を表わしたものである。図中、パルスレー
ザー１は、近赤外光（波長１０６４ｎｍ）のＹＡＧレー
ザー光を１０Ｈｚの周期で発振する。発振されたレーザ
ー光は、集光光学系２で２０ミクロン程度のスポットに
絞られて、試料セル３中に収納されている試料の表面に
照射される。試料セル３には、レーザー光入射用のガラ
ス窓が設けられていると共に、試料から気化した微粒子
をＩＣＰ−ＭＳ等の分析機器に搬送するためのキャリア
ガス（アルゴン）が流されている。
【００１３】試料セル３に収納された試料に対して、レ
ーザー光の照射位置を適時移動できるようにするため
に、試料セル３はＸＹＺステージ４上に載置されてい
る。このＸＹＺステージ４による水平方向、及び垂直方
向の位置調整は、自動ステージ制御部５により制御され
ている。自動ステージ制御部５には、水平方向及び垂直
方向の位置情報を入力できるように、キーボード、マウ
ス等の入力装置６が備えられている。これらの技術は、
従来と同じである。
ーザー光の照射位置を適時移動できるようにするため
に、試料セル３はＸＹＺステージ４上に載置されてい
る。このＸＹＺステージ４による水平方向、及び垂直方
向の位置調整は、自動ステージ制御部５により制御され
ている。自動ステージ制御部５には、水平方向及び垂直
方向の位置情報を入力できるように、キーボード、マウ
ス等の入力装置６が備えられている。これらの技術は、
従来と同じである。
【００１４】試料の表面を観察するための拡大画像は、
集光光学系２を介して、ＣＣＤカメラ７によって撮像さ
れ、画像取り込み装置１６を経由した後、パーソナルコ
ンピュータ１７内でデジタル化されて、メモリに取り込
まれる。パーソナルコンピュータ１７のディスプレイ８
上には、試料の表面画像と共に、ＸＹＺステージ４の機
械原点と可動範囲が表示される。この可動範囲は、試料
画像におけるレーザー光の照射可能範囲を示すものであ
る。例えば、図３で示すように、Ｚ0で表わされる点が
ＸＹＺステージの機械原点、Ｚ1で表わされる範囲が試
料画像範囲、Ｚ2で表わされる範囲がＸＹＺステージの
可動範囲、即ち、レーザー光の照射可能範囲である。
集光光学系２を介して、ＣＣＤカメラ７によって撮像さ
れ、画像取り込み装置１６を経由した後、パーソナルコ
ンピュータ１７内でデジタル化されて、メモリに取り込
まれる。パーソナルコンピュータ１７のディスプレイ８
上には、試料の表面画像と共に、ＸＹＺステージ４の機
械原点と可動範囲が表示される。この可動範囲は、試料
画像におけるレーザー光の照射可能範囲を示すものであ
る。例えば、図３で示すように、Ｚ0で表わされる点が
ＸＹＺステージの機械原点、Ｚ1で表わされる範囲が試
料画像範囲、Ｚ2で表わされる範囲がＸＹＺステージの
可動範囲、即ち、レーザー光の照射可能範囲である。
【００１５】測定者は、ＸＹＺステージ４の可動範囲Ｚ
2において、マウス、キーボード等の入力手段１８を用
いて、任意に複数箇所の測定希望範囲を設定できる。そ
の設定結果もまたディスプレイ上に表示される。これに
よって、測定者は、ＸＹＺステージの可動範囲と測定希
望範囲の位置関係を簡単に把握することができる。例え
ば、図３で言えば、レーザー光の可動範囲Ｚ2内に設定
された領域Ｐ1、Ｐ2、Ｐ3、及びＰ4がそれに相当する。
2において、マウス、キーボード等の入力手段１８を用
いて、任意に複数箇所の測定希望範囲を設定できる。そ
の設定結果もまたディスプレイ上に表示される。これに
よって、測定者は、ＸＹＺステージの可動範囲と測定希
望範囲の位置関係を簡単に把握することができる。例え
ば、図３で言えば、レーザー光の可動範囲Ｚ2内に設定
された領域Ｐ1、Ｐ2、Ｐ3、及びＰ4がそれに相当する。
【００１６】測定希望範囲Ｐ1〜Ｐnを設定すると、ディ
スプレイ８上には、ＸＹＺステージの可動範囲Ｚ2と測
定希望範囲Ｐ1〜Ｐnとの位置関係が表示されると共に、
測定希望範囲Ｐ1〜Ｐnの拡大図が表示される。この拡大
図は、例えば図３のように、試料画像範囲Ｚ1の右側
に、画像Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、及びＱ4として表示される。
スプレイ８上には、ＸＹＺステージの可動範囲Ｚ2と測
定希望範囲Ｐ1〜Ｐnとの位置関係が表示されると共に、
測定希望範囲Ｐ1〜Ｐnの拡大図が表示される。この拡大
図は、例えば図３のように、試料画像範囲Ｚ1の右側
に、画像Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、及びＱ4として表示される。
【００１７】レーザー光の照射を希望する測定希望範囲
Ｐ1〜Ｐnが設定されると、パーソナルコンピュータ１７
は、その表示画像の座標系に基づいて、レーザー光照射
位置の移動行程を計算し、その計算結果を自動ステージ
制御部５に送る。
Ｐ1〜Ｐnが設定されると、パーソナルコンピュータ１７
は、その表示画像の座標系に基づいて、レーザー光照射
位置の移動行程を計算し、その計算結果を自動ステージ
制御部５に送る。
【００１８】パーソナルコンピュータ１７におけるマウ
ス、キーボード等の入力装置１８から測定開始信号を入
力すると、パーソナルコンピュータ１７は、設定された
複数の測定希望範囲Ｐ1〜Ｐnの順番に基づいてレーザー
光の照射を開始する。このとき、レーザー光照射位置の
移動行程についての計算結果を受け取った自動ステージ
制御部５は、計算結果に基づきながら、ＸＹＺステージ
４上の試料セル３を逐次移動させて、測定希望範囲Ｐ1
〜Ｐnに順次レーザー光を当てる。また同時に、パーソ
ナルコンピュータ１７は、ＩＣＰ−ＭＳを起動して、Ｉ
ＣＰ−ＭＳデータシステム１１にＩＣＰ−ＭＳの測定デ
ータの取り込みを開始する。
ス、キーボード等の入力装置１８から測定開始信号を入
力すると、パーソナルコンピュータ１７は、設定された
複数の測定希望範囲Ｐ1〜Ｐnの順番に基づいてレーザー
光の照射を開始する。このとき、レーザー光照射位置の
移動行程についての計算結果を受け取った自動ステージ
制御部５は、計算結果に基づきながら、ＸＹＺステージ
４上の試料セル３を逐次移動させて、測定希望範囲Ｐ1
〜Ｐnに順次レーザー光を当てる。また同時に、パーソ
ナルコンピュータ１７は、ＩＣＰ−ＭＳを起動して、Ｉ
ＣＰ−ＭＳデータシステム１１にＩＣＰ−ＭＳの測定デ
ータの取り込みを開始する。
【００１９】パーソナルコンピュータ１７のディスプレ
イ８上には、試料表面のレーザー光照射跡と照射位置の
移動過程が表示されると共に、ビデオ信号と測定の諸条
件は、ＩＣＰ−ＭＳデータシステム１１に取り込まれた
ＩＣＰ−ＭＳの測定データと対応づけて、パーソナルコ
ンピュータ１７内のメモリに記憶される。
イ８上には、試料表面のレーザー光照射跡と照射位置の
移動過程が表示されると共に、ビデオ信号と測定の諸条
件は、ＩＣＰ−ＭＳデータシステム１１に取り込まれた
ＩＣＰ−ＭＳの測定データと対応づけて、パーソナルコ
ンピュータ１７内のメモリに記憶される。
【００２０】記憶されたビデオ信号、測定条件等は、パ
ーソナルコンピュータ１７によって、随時再生、プリン
トさせることができる。また、記憶されたＩＣＰ−ＭＳ
の測定データは、試料画像上のレーザー光照射位置に関
するデータと対応させながら、随時プロットアウトさせ
ることができる。
ーソナルコンピュータ１７によって、随時再生、プリン
トさせることができる。また、記憶されたＩＣＰ−ＭＳ
の測定データは、試料画像上のレーザー光照射位置に関
するデータと対応させながら、随時プロットアウトさせ
ることができる。
【００２１】
【発明の効果】以上述べたごとく、本発明のレーザーア
ブレーション装置を用いれば、試料画像撮像表示装置に
よってパーソナルコンピュータに試料画像を取り込むこ
とができるので、試料表面の画像の記憶、再生、及びプ
リントが随時可能になる。また、ＸＹＺステージの可動
範囲と測定希望範囲との位置関係を簡単に把握できるよ
うになる。また、測定希望範囲を随時設定でき、設定
後、随時測定を開始できるようになる。また、試料画像
上におけるレーザー光照射位置とＩＣＰを用いた分析手
段による分析結果との対応関係を、簡単に把握できるよ
うになる。
ブレーション装置を用いれば、試料画像撮像表示装置に
よってパーソナルコンピュータに試料画像を取り込むこ
とができるので、試料表面の画像の記憶、再生、及びプ
リントが随時可能になる。また、ＸＹＺステージの可動
範囲と測定希望範囲との位置関係を簡単に把握できるよ
うになる。また、測定希望範囲を随時設定でき、設定
後、随時測定を開始できるようになる。また、試料画像
上におけるレーザー光照射位置とＩＣＰを用いた分析手
段による分析結果との対応関係を、簡単に把握できるよ
うになる。
【図１】 従来の実施例を示す図である。
【図２】 本発明の一実施例を示す図である。
【図３】 本発明における表示画像の一例を示す図であ
る。
る。
１・・・パルスレーザー、２・・・集光光学系、３・・・試料セ
ル、４・・・ＸＹＺステージ、５・・・自動ステージ制御部、
６・・・入力装置、７・・・ＣＣＤカメラ、８・・・ディスプレ
イ、９・・・ビデオテープレコーダ、１０・・・案内用レーザ
ー、１１・・・ＩＣＰ−ＭＳデータシステム、１２・・・プラ
ズマトーチ、１３・・・ワークコイル、１４・・・質量分析
計、１５・・・入力装置、１６・・・画像取り込み装置、１７
・・・パーソナルコンピュータ、１８・・・入力装置、Ｚ0・・・
機械原点、Ｚ1・・・試料画像範囲、Ｚ2・・・ＸＹＺステージ
の可動範囲、Ｐ1〜Ｐ4・・・測定希望範囲、Ｑ1〜Ｑ4・・・測
定希望範囲の拡大図。
ル、４・・・ＸＹＺステージ、５・・・自動ステージ制御部、
６・・・入力装置、７・・・ＣＣＤカメラ、８・・・ディスプレ
イ、９・・・ビデオテープレコーダ、１０・・・案内用レーザ
ー、１１・・・ＩＣＰ−ＭＳデータシステム、１２・・・プラ
ズマトーチ、１３・・・ワークコイル、１４・・・質量分析
計、１５・・・入力装置、１６・・・画像取り込み装置、１７
・・・パーソナルコンピュータ、１８・・・入力装置、Ｚ0・・・
機械原点、Ｚ1・・・試料画像範囲、Ｚ2・・・ＸＹＺステージ
の可動範囲、Ｐ1〜Ｐ4・・・測定希望範囲、Ｑ1〜Ｑ4・・・測
定希望範囲の拡大図。
Claims (3)
- 【請求項１】アブレーション用レーザーと、レーザー光
を絞って試料表面に照射する集光光学系と、レーザー光
入射用の窓を持ち、かつ、試料を収納する試料セルと、
試料セルを通って、レーザー光照射によって気化した試
料を高周波誘導結合型プラズマ（ＩＣＰ）を用いた分析
手段まで搬送するキャリアガス流路と、試料セルを載置
して、試料のレーザー光照射位置を適時移動させ得るＸ
ＹＺステージと、試料表面の拡大画像を撮像表示する試
料画像撮像表示手段とから成るレーザーアブレーション
装置において、ＸＹＺステージの可動範囲を試料画像上
に表示する手段と、ＸＹＺステージの可動範囲内に測定
希望位置を設定するための位置指定手段と、設定された
測定希望位置の情報に基づいて、測定希望位置がレーザ
ー光照射位置に配置されるようにＸＹＺステージを制御
するステージ制御部と、ＩＣＰを用いた分析手段による
分析結果をレーザー光照射位置に対応させて記憶する手
段を備えたことを特徴とするレーザーアブレーション装
置。 - 【請求項２】前記試料画像撮像表示手段は、ＸＹＺステ
ージ制御ソフトウェア、試料画像取り込みソフトウェ
ア、試料画像表示ソフトウェア、及び試料画像処理ソフ
トウェアを搭載したパーソナルコンピュータである請求
項１記載のレーザーアブレーション装置。 - 【請求項３】前記ＩＣＰを用いた分析手段はＩＣＰ−質
量分析計（ＭＳ）である請求項１及び２記載のレーザー
アブレーション装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP281598A JPH11201944A (ja) | 1998-01-09 | 1998-01-09 | レーザーアブレーション装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP281598A JPH11201944A (ja) | 1998-01-09 | 1998-01-09 | レーザーアブレーション装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11201944A true JPH11201944A (ja) | 1999-07-30 |
Family
ID=11539911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP281598A Withdrawn JPH11201944A (ja) | 1998-01-09 | 1998-01-09 | レーザーアブレーション装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11201944A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006153660A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Tdk Corp | レーザーアブレーション装置及び方法、試料分析装置及び方法 |
| JP2015187554A (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-29 | 三菱重工業株式会社 | 放射性物質分析装置および分析方法 |
| JP2016519289A (ja) * | 2013-03-15 | 2016-06-30 | エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド | 画像認識に基づくアブレーションパターン位置の再現 |
| US11607750B2 (en) | 2019-06-14 | 2023-03-21 | Kioxia Corporation | Analysis apparatus and analysis method |
| US11640903B2 (en) | 2021-02-26 | 2023-05-02 | Kioxia Corporation | Analysis apparatus and analysis method |
-
1998
- 1998-01-09 JP JP281598A patent/JPH11201944A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
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