JPH11185291A - 記録媒体及びその製造方法、製造装置 - Google Patents
記録媒体及びその製造方法、製造装置Info
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- JPH11185291A JPH11185291A JP10022306A JP2230698A JPH11185291A JP H11185291 A JPH11185291 A JP H11185291A JP 10022306 A JP10022306 A JP 10022306A JP 2230698 A JP2230698 A JP 2230698A JP H11185291 A JPH11185291 A JP H11185291A
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高密度化に対応し得る記録媒体を提供し、さ
らには、かかる記録媒体を生産性良く製造することが可
能な製造方法、製造装置を提供する 【解決手段】 表面に凹凸パターンが形成された厚さ
０．３ｍｍ以下のシート状基板上に記録層が形成されて
なる記録媒体である。この記録媒体は、いわゆるフレキ
シブルディスクとしてもよいし、剛性を有する基板に貼
り合わてもよい。この記録媒体は、表面に凹凸パターン
を有するスタンパと圧着ロールにより厚さ０．３ｍｍ以
下のシート状基板を挟み込み、加熱圧着により上記凹凸
パターンをシート状基板に転写することにより形成する
ことができる。記録層は凹凸パターンを転写した後に成
膜してもよいし、転写前に予めシート状基板に成膜して
おいてもよい。
らには、かかる記録媒体を生産性良く製造することが可
能な製造方法、製造装置を提供する 【解決手段】 表面に凹凸パターンが形成された厚さ
０．３ｍｍ以下のシート状基板上に記録層が形成されて
なる記録媒体である。この記録媒体は、いわゆるフレキ
シブルディスクとしてもよいし、剛性を有する基板に貼
り合わてもよい。この記録媒体は、表面に凹凸パターン
を有するスタンパと圧着ロールにより厚さ０．３ｍｍ以
下のシート状基板を挟み込み、加熱圧着により上記凹凸
パターンをシート状基板に転写することにより形成する
ことができる。記録層は凹凸パターンを転写した後に成
膜してもよいし、転写前に予めシート状基板に成膜して
おいてもよい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、厚さの薄いシート
状の基板に記録層を形成した記録媒体に関するものであ
り、さらにはその製造方法、製造装置に関するものであ
る。
状の基板に記録層を形成した記録媒体に関するものであ
り、さらにはその製造方法、製造装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】オーディオ信号、ビデオ信号、さらには
その他の各種情報を記録する記録媒体として、光記録媒
体や磁気記録媒体が知られている。
その他の各種情報を記録する記録媒体として、光記録媒
体や磁気記録媒体が知られている。
【０００３】これらの記録媒体のうち、例えばいわゆる
コンパクトディスクや書き換え型の光磁気ディスク、相
変化ディスク、さらにはいわゆるディスクリート型ハー
ドディスク等においては、データ情報やトラッキングサ
ーボ信号等が位相ピットやプリグルーブ等の微細凹凸パ
ターンを情報記録層に形成することにより記録されてい
る。
コンパクトディスクや書き換え型の光磁気ディスク、相
変化ディスク、さらにはいわゆるディスクリート型ハー
ドディスク等においては、データ情報やトラッキングサ
ーボ信号等が位相ピットやプリグルーブ等の微細凹凸パ
ターンを情報記録層に形成することにより記録されてい
る。
【０００４】そして、これら微細凹凸パターンを有する
情報記録層の形成方法として、例えば光ディスクでは射
出成形法が広く行われている。
情報記録層の形成方法として、例えば光ディスクでは射
出成形法が広く行われている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、記録媒体の
分野では、高密度化が急速に進められており、トラック
ピッチを狭くすること、光の記録波長を短くして最短ピ
ット長を短くすること、情報を記録又は読み取るための
光学レンズの開口数を大きくすること、情報記録層を重
ね合わせて多層構造とすること、ディスク同士を貼り合
わせて両面構造とすること、等が検討されている。
分野では、高密度化が急速に進められており、トラック
ピッチを狭くすること、光の記録波長を短くして最短ピ
ット長を短くすること、情報を記録又は読み取るための
光学レンズの開口数を大きくすること、情報記録層を重
ね合わせて多層構造とすること、ディスク同士を貼り合
わせて両面構造とすること、等が検討されている。
【０００６】これらは、光学系や駆動装置等の改良、新
材料の開発、生産技術の向上等の結果具現化されるもの
であるが、反面、個々の精度は厳しいものが要求される
ようになってきている。
材料の開発、生産技術の向上等の結果具現化されるもの
であるが、反面、個々の精度は厳しいものが要求される
ようになってきている。
【０００７】例えば、高密度化のための有力な手段とし
て記録波長を短波長化した青レーザによる記録・再生技
術や、光学系のレンズ開口数の増大等があるが、光のス
ポット径を小さく絞らなければならず、対物レンズを情
報記録層に近づけなくてはならない。
て記録波長を短波長化した青レーザによる記録・再生技
術や、光学系のレンズ開口数の増大等があるが、光のス
ポット径を小さく絞らなければならず、対物レンズを情
報記録層に近づけなくてはならない。
【０００８】本発明は、前述の高密度化に対応し得る記
録媒体を提供することを目的とし、さらには、高密度化
に対応した特性を有する記録媒体を生産性良く製造する
ことが可能な製造方法、製造装置を提供することを目的
とする。
録媒体を提供することを目的とし、さらには、高密度化
に対応した特性を有する記録媒体を生産性良く製造する
ことが可能な製造方法、製造装置を提供することを目的
とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の記録媒体は、表面に凹凸パターンが形成
された厚さ０．３ｍｍ以下のシート状基板上に記録層が
形成されてなることを特徴とする。
めに、本発明の記録媒体は、表面に凹凸パターンが形成
された厚さ０．３ｍｍ以下のシート状基板上に記録層が
形成されてなることを特徴とする。
【００１０】記録密度の向上には、レーザ光の短波長化
や開口数の増大が必要であり、結果として信号の記録・
再生は記録媒体の表面近くで行う必要がある。
や開口数の増大が必要であり、結果として信号の記録・
再生は記録媒体の表面近くで行う必要がある。
【００１１】このことは、レンズの開口数ＮＡと基板の
厚さの関係、及び記録・再生に用いるレーザ光の波長λ
と開口数ＮＡの関係からも明らかである。
厚さの関係、及び記録・再生に用いるレーザ光の波長λ
と開口数ＮＡの関係からも明らかである。
【００１２】 ｆ＝Ｄ／２ＮＡ＞ＷＤ ｆ：レンズの焦点距離 Ｄ：対物レンズの有効径 ＮＡ：対物レンズの開口数 ＷＤ：対物レンズの作動距離 焦点深度 ＝λ／（ＮＡ）2 スキュー許容度 ∝λ／（ＮＡ）3 厚さムラ許容度 ∝λ／（ＮＡ）4 以上の関係式より、これまで以上の高密度化を考え、開
口数０．７５以上でも対物レンズが基板とぶつからない
ようにするためには、基板の厚さを０．３ｍｍ以下とす
ればよいことがわかる。
口数０．７５以上でも対物レンズが基板とぶつからない
ようにするためには、基板の厚さを０．３ｍｍ以下とす
ればよいことがわかる。
【００１３】本発明の記録媒体は、厚さ０．３ｍｍ以下
のシート状基板上に記録層が形成されてなることを特徴
としているので、例えば光記録媒体の場合には、高ＮＡ
化に対応可能である。
のシート状基板上に記録層が形成されてなることを特徴
としているので、例えば光記録媒体の場合には、高ＮＡ
化に対応可能である。
【００１４】また、磁気記録媒体の場合には、高密度化
と同時に、薄型化、軽量化が可能である。
と同時に、薄型化、軽量化が可能である。
【００１５】ところで、基板の強度は厚さの三乗に比例
関係にあり、基板の厚さを高ＮＡ化に伴って薄くしたと
きに、例えば射出成形法により成形しようとすると、ピ
ットやグルーブの転写不良、樹脂の分子配向歪による複
屈折の増大、配向歪や熱応力歪による変形等、様々な問
題が発生する。
関係にあり、基板の厚さを高ＮＡ化に伴って薄くしたと
きに、例えば射出成形法により成形しようとすると、ピ
ットやグルーブの転写不良、樹脂の分子配向歪による複
屈折の増大、配向歪や熱応力歪による変形等、様々な問
題が発生する。
【００１６】そこで提案されたのが、本発明の製造方法
及び製造装置である。すなわち、本発明の記録媒体の製
造方法は、表面に凹凸パターンを有するスタンパと圧着
ロールにより厚さ０．３ｍｍ以下のシート状基板を挟み
込み、加熱圧着により上記凹凸パターンをシート状基板
に転写することを特徴とするものである。
及び製造装置である。すなわち、本発明の記録媒体の製
造方法は、表面に凹凸パターンを有するスタンパと圧着
ロールにより厚さ０．３ｍｍ以下のシート状基板を挟み
込み、加熱圧着により上記凹凸パターンをシート状基板
に転写することを特徴とするものである。
【００１７】また、本発明の製造装置は、シート状基板
を連続的に供給するシート状基板送り出し手段と、表面
に凹凸パターンを有するスタンパと、上記スタンパが載
置され、これを加熱する加熱ステージと、上記スタンパ
に対して上記シート状基板を圧着する圧着ロールとを備
えたことを特徴とするものである。
を連続的に供給するシート状基板送り出し手段と、表面
に凹凸パターンを有するスタンパと、上記スタンパが載
置され、これを加熱する加熱ステージと、上記スタンパ
に対して上記シート状基板を圧着する圧着ロールとを備
えたことを特徴とするものである。
【００１８】これら製造方法、製造装置を採用すること
で、０．３ｍｍ以下のシート状基板を用いた場合にも、
転写性、複屈折等の特性を満足し得る記録媒体を生産性
良く製造することが可能となる。
で、０．３ｍｍ以下のシート状基板を用いた場合にも、
転写性、複屈折等の特性を満足し得る記録媒体を生産性
良く製造することが可能となる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した記録媒
体、及びその製造方法、製造装置について、図面を参照
しながら詳細に説明する。
体、及びその製造方法、製造装置について、図面を参照
しながら詳細に説明する。
【００２０】本発明の記録媒体の基本構成は、図１に示
すように、厚さ０．３ｍｍ以下のシート状基板１上に記
録層２を形成してなるものである。
すように、厚さ０．３ｍｍ以下のシート状基板１上に記
録層２を形成してなるものである。
【００２１】シート状基板１の記録層２が形成される側
の面には、ピット、グルーブ等の凹凸パターンが形成さ
れており、結果として記録層２の表面にも凹凸パターン
が形成されている。
の面には、ピット、グルーブ等の凹凸パターンが形成さ
れており、結果として記録層２の表面にも凹凸パターン
が形成されている。
【００２２】記録層２は、光記録媒体の場合には、金属
反射膜、光磁気記録層、相変化記録層、有機色素層等、
あるいはこれらの組み合わせであり、磁気記録媒体の場
合には、磁性合金薄膜等である。
反射膜、光磁気記録層、相変化記録層、有機色素層等、
あるいはこれらの組み合わせであり、磁気記録媒体の場
合には、磁性合金薄膜等である。
【００２３】上記記録層２の表面には、必要に応じて保
護膜３を形成してもよく、例えば光記録媒体の場合に
は、紫外線硬化樹脂膜等が保護膜３として記録層２を覆
って形成される。磁気記録媒体の場合には、潤滑剤層や
カーボン膜等が保護膜３として形成される。
護膜３を形成してもよく、例えば光記録媒体の場合に
は、紫外線硬化樹脂膜等が保護膜３として記録層２を覆
って形成される。磁気記録媒体の場合には、潤滑剤層や
カーボン膜等が保護膜３として形成される。
【００２４】上述の構成の記録媒体は、円盤状に打ち抜
き形成することで、いわばフレキシブル光ディスク、フ
レキシブルディスクリートディスクとして取り扱うこと
ができる。
き形成することで、いわばフレキシブル光ディスク、フ
レキシブルディスクリートディスクとして取り扱うこと
ができる。
【００２５】記録・再生は、記録層２側、基板１側のい
ずれからも行うことができ、例えば光記録媒体の場合、
シート状基板１側からレーザ光を照射して記録・再生す
るような構成としても、基板１の厚さが０．３ｍｍ以下
と非常に薄いため、高ＮＡ化等に十分に対応可能であ
る。
ずれからも行うことができ、例えば光記録媒体の場合、
シート状基板１側からレーザ光を照射して記録・再生す
るような構成としても、基板１の厚さが０．３ｍｍ以下
と非常に薄いため、高ＮＡ化等に十分に対応可能であ
る。
【００２６】なお、シート状基板１側からレーザ光を照
射して記録・再生を行う場合、これまで以上の高密度記
録を目指すことを考えると、光透過層となるシート状基
板１は、記録や再生に使用するレーザ波長域において光
の透過率が高いことが望まれる。
射して記録・再生を行う場合、これまで以上の高密度記
録を目指すことを考えると、光透過層となるシート状基
板１は、記録や再生に使用するレーザ波長域において光
の透過率が高いことが望まれる。
【００２７】このような観点から、上記図１に示す構造
の光記録媒体においては、シート状基板１にポリカーボ
ネートシートを用いることが好ましい。
の光記録媒体においては、シート状基板１にポリカーボ
ネートシートを用いることが好ましい。
【００２８】ポリカーボネートシートは、製法上の工夫
等により純度を高めることで、広い波長域において良好
な光透過性を示す。
等により純度を高めることで、広い波長域において良好
な光透過性を示す。
【００２９】図２は、厚さ１００μｍのポリカーボネー
トシートの透過率の波長依存性を示すもので、波長３０
０ｎｍ以上において光透過率８０％以上を示す。
トシートの透過率の波長依存性を示すもので、波長３０
０ｎｍ以上において光透過率８０％以上を示す。
【００３０】４００ｎｍ以上の波長では、光透過率が頭
打ちになっているが、これは空気とポリカーボネートシ
ート、及びポリカーボネートシートと空気の界面におけ
る表面反射によるもので、それぞれ約４％、トータルで
約８％のロスとなっている。
打ちになっているが、これは空気とポリカーボネートシ
ート、及びポリカーボネートシートと空気の界面におけ
る表面反射によるもので、それぞれ約４％、トータルで
約８％のロスとなっている。
【００３１】この分を差し引いて、材料そのものの光透
過率を波長７００ｎｍ付近で１００％とすると、波長３
００ｎｍでは読み取り値が８２％であるから、８２／９
２＝８９．１％になる。この数値は、厚さ１００μｍで
の値であり、厚さが半分の５０μｍでは、その平方根
（９４．４％）になる。
過率を波長７００ｎｍ付近で１００％とすると、波長３
００ｎｍでは読み取り値が８２％であるから、８２／９
２＝８９．１％になる。この数値は、厚さ１００μｍで
の値であり、厚さが半分の５０μｍでは、その平方根
（９４．４％）になる。
【００３２】したがって、シート状基板１の厚みの最大
値３００μｍＤの光透過率は、９４．４％の６乗、すな
わち７０．８％となる。光ディスクとして使用する場
合、光透過率は往復分になるので、光透過率はトータル
で５０．１％得られることになる。この数値は、実用に
十分耐え得る値である。
値３００μｍＤの光透過率は、９４．４％の６乗、すな
わち７０．８％となる。光ディスクとして使用する場
合、光透過率は往復分になるので、光透過率はトータル
で５０．１％得られることになる。この数値は、実用に
十分耐え得る値である。
【００３３】上記記録層２を形成したシート状基板１
は、そのまま記録媒体として用いても良いが、剛性を有
する基板と貼り合わせて記録媒体としても良い。
は、そのまま記録媒体として用いても良いが、剛性を有
する基板と貼り合わせて記録媒体としても良い。
【００３４】図３は、アルミニウムやガラス等からなる
支持基板４に記録層２を形成したシート状基板１を接着
し、貼り合わせ構造とした記録媒体を示すものである。
支持基板４に記録層２を形成したシート状基板１を接着
し、貼り合わせ構造とした記録媒体を示すものである。
【００３５】この例では、記録層２が表面に臨んでお
り、記録や再生は記録層２側から行われる。したがっ
て、例えば磁気記録媒体とする場合には、記録層２の表
面にカーボン保護膜を形成したり、シリコーンオイル等
の潤滑剤層を形成する。
り、記録や再生は記録層２側から行われる。したがっ
て、例えば磁気記録媒体とする場合には、記録層２の表
面にカーボン保護膜を形成したり、シリコーンオイル等
の潤滑剤層を形成する。
【００３６】光記録媒体の場合には、逆に記録層２が支
持基板４と対向するように貼り合わせ、シート状基板１
を通してレーザ光を照射し、記録・再生するような構成
とすることもできる。
持基板４と対向するように貼り合わせ、シート状基板１
を通してレーザ光を照射し、記録・再生するような構成
とすることもできる。
【００３７】あるいは、図４に示すような多層構造とす
ることも可能である。この多層光ディスクは、射出成
形、あるいは２Ｐ法等により凹凸パターンが形成された
支持基板１１上に光記録層１２を形成し、この上に記録
層（光記録層）２を形成したシート状基板１を光学的に
透明な接着剤層１３を介して貼り合わせてなるものであ
る。
ることも可能である。この多層光ディスクは、射出成
形、あるいは２Ｐ法等により凹凸パターンが形成された
支持基板１１上に光記録層１２を形成し、この上に記録
層（光記録層）２を形成したシート状基板１を光学的に
透明な接着剤層１３を介して貼り合わせてなるものであ
る。
【００３８】中間層である接着剤層１３は、例えば紫外
線硬化型接着剤等が用いられ、その厚さは２０〜７０μ
ｍ程度である。なお、中間層としては、光学的に干渉し
ない厚さの半硬化透明プラスチックフィルム等を介在さ
せることも可能である。
線硬化型接着剤等が用いられ、その厚さは２０〜７０μ
ｍ程度である。なお、中間層としては、光学的に干渉し
ない厚さの半硬化透明プラスチックフィルム等を介在さ
せることも可能である。
【００３９】また、光学的に透明という点では、感圧性
粘着剤シートも好適である。感圧性粘着シートは、例え
ばアクリル系粘着剤からなり、透明性、厚みの均一性に
優れた両面粘着シートであり、例えば日東電工社製の商
品名ＤＡ−８３２０、ＤＡ−８３１０等がある。
粘着剤シートも好適である。感圧性粘着シートは、例え
ばアクリル系粘着剤からなり、透明性、厚みの均一性に
優れた両面粘着シートであり、例えば日東電工社製の商
品名ＤＡ−８３２０、ＤＡ−８３１０等がある。
【００４０】この感圧性粘着シート、例えば日東電工社
製の商品名ＤＡ−８３１０の光透過率について、分光光
度計（Jasco Ｖ７５０）を用いて測定した結果、３００
ｎｍまでの波長域で９０％以上の光透過率を示し、ガラ
ス板並の良好な透明性を有することがわかった。
製の商品名ＤＡ−８３１０の光透過率について、分光光
度計（Jasco Ｖ７５０）を用いて測定した結果、３００
ｎｍまでの波長域で９０％以上の光透過率を示し、ガラ
ス板並の良好な透明性を有することがわかった。
【００４１】また、情報を読み出すに際し、中間層であ
る接着剤層１３の複屈折はできるだけ小さいことが好ま
しい。複屈折が大きいと、読み取りレーザ光の焦点を絞
ろうとしても非点収差が増加し、絞りきれなくなる。上
記感圧性粘着シートの複屈折を測定した結果、測定誤差
範囲内（ほぼゼロ）であった。
る接着剤層１３の複屈折はできるだけ小さいことが好ま
しい。複屈折が大きいと、読み取りレーザ光の焦点を絞
ろうとしても非点収差が増加し、絞りきれなくなる。上
記感圧性粘着シートの複屈折を測定した結果、測定誤差
範囲内（ほぼゼロ）であった。
【００４２】したがって、上記感圧性粘着シートは、光
学特性の面から接着剤層１３として問題ないと言える。
学特性の面から接着剤層１３として問題ないと言える。
【００４３】上記支持基板１１としては、例えば厚さ
１．２ｍｍ、あるいは０．６ｍｍのポリカーボネート基
板等が用いられる。また、記録層２上には、紫外線樹脂
からなる保護膜３が形成されている。
１．２ｍｍ、あるいは０．６ｍｍのポリカーボネート基
板等が用いられる。また、記録層２上には、紫外線樹脂
からなる保護膜３が形成されている。
【００４４】上述のような厚さが薄く且つ凹凸パターン
を有するシート状基板の成形を考えた場合、従来の射出
成形や圧縮成型等、樹脂ペレットを溶融成形する方法で
は成形が難しく、仮に成形できたとしても、転写性、複
屈折、チルト等、光ディスクに要求される諸特性を満足
させることはできない。
を有するシート状基板の成形を考えた場合、従来の射出
成形や圧縮成型等、樹脂ペレットを溶融成形する方法で
は成形が難しく、仮に成形できたとしても、転写性、複
屈折、チルト等、光ディスクに要求される諸特性を満足
させることはできない。
【００４５】これ以外に、光重合による方法（２Ｐ法）
やロール圧縮成形法（シートエンボス法）等も検討され
ているが、生産性、製造コスト、信頼性、品質等の問題
からほとんど利用されていないのが実情である。
やロール圧縮成形法（シートエンボス法）等も検討され
ているが、生産性、製造コスト、信頼性、品質等の問題
からほとんど利用されていないのが実情である。
【００４６】例えば、シートエンボス法として、特開平
５−１６２３０号公報や特開平６−６８５２７号公報等
には、ロール状スタンパを用いたりロールにスタンパを
固定して溶融樹脂を挟圧するシート成形法が開示されて
いるが、鏡面ロールに微細凹凸をエッチングや電鋳でパ
ターン形成したり、ロールに凹凸無くスタンパを固定し
なければならない等、複雑な工程や機械精度を必要とす
る。
５−１６２３０号公報や特開平６−６８５２７号公報等
には、ロール状スタンパを用いたりロールにスタンパを
固定して溶融樹脂を挟圧するシート成形法が開示されて
いるが、鏡面ロールに微細凹凸をエッチングや電鋳でパ
ターン形成したり、ロールに凹凸無くスタンパを固定し
なければならない等、複雑な工程や機械精度を必要とす
る。
【００４７】加えて、溶融樹脂の挟圧によるシート成形
では、圧延時の樹脂配向による複屈折ムラや圧延方向の
搬送張力（樹脂の流れの方向）の違いによる樹脂の収縮
差等により真円度ズレやピット、グルーブの変形が起こ
りやすく、トラッキングエラーやＲＦ信号の乱れ等を起
こし易い。
では、圧延時の樹脂配向による複屈折ムラや圧延方向の
搬送張力（樹脂の流れの方向）の違いによる樹脂の収縮
差等により真円度ズレやピット、グルーブの変形が起こ
りやすく、トラッキングエラーやＲＦ信号の乱れ等を起
こし易い。
【００４８】また、Ｔ−ダイからロール挟圧エンボス押
し出ししたシートは、鏡面ロールを使用してもＴ−ダイ
の筋目跡（ダイライン）が厚さムラとして残存し、屈折
率の違いによる収差が大きな問題となり、このためにロ
ール温度、回転速度、回転ムラ等を厳しく管理する必要
がある。
し出ししたシートは、鏡面ロールを使用してもＴ−ダイ
の筋目跡（ダイライン）が厚さムラとして残存し、屈折
率の違いによる収差が大きな問題となり、このためにロ
ール温度、回転速度、回転ムラ等を厳しく管理する必要
がある。
【００４９】そこで本発明では、例えば光学特性を満足
するシートをプリピットやグルーブが刻まれたスタンパ
に圧着ロールで加熱圧着し、直接エンボス加工すること
により、所望のレプリカを生産性良く作成する。
するシートをプリピットやグルーブが刻まれたスタンパ
に圧着ロールで加熱圧着し、直接エンボス加工すること
により、所望のレプリカを生産性良く作成する。
【００５０】以下、本発明による製造プロセスについて
説明する。
説明する。
【００５１】先ず、基板となるシートを準備する。これ
は市販の透明シートを用いてもよいし、押し出し機によ
り連続押し出しして形成した透明シートを用いても良
い。
は市販の透明シートを用いてもよいし、押し出し機によ
り連続押し出しして形成した透明シートを用いても良
い。
【００５２】シートの厚さは７０〜３００μｍの範囲内
とするのが好ましい。シートの材質は問わないが、例え
ばポリカーボネート、ポリエステル、アモルファスポリ
オレフィン等が好適である。なお、磁気ディスクの場合
には、必ずしも光学的に透明でなくともよい。
とするのが好ましい。シートの材質は問わないが、例え
ばポリカーボネート、ポリエステル、アモルファスポリ
オレフィン等が好適である。なお、磁気ディスクの場合
には、必ずしも光学的に透明でなくともよい。
【００５３】次に、スタンパを固定したフラットな加熱
ステージと圧着ロール（金属製またはゴムライニングし
たもの。）間にシートをセットし、加熱圧着してスタン
パの凹凸パターンを転写する。
ステージと圧着ロール（金属製またはゴムライニングし
たもの。）間にシートをセットし、加熱圧着してスタン
パの凹凸パターンを転写する。
【００５４】このとき、加熱ステージ（すなわちスタン
パ）の温度は、シートのガラス転移点よりも５〜６０℃
高い温度、好ましくは１０〜４０℃高い温度に設定す
る。
パ）の温度は、シートのガラス転移点よりも５〜６０℃
高い温度、好ましくは１０〜４０℃高い温度に設定す
る。
【００５５】一方、圧着ロールは、シートのガラス転移
点よりも５〜８０℃低い温度、好ましくは５〜４０℃低
い温度に設定する。
点よりも５〜８０℃低い温度、好ましくは５〜４０℃低
い温度に設定する。
【００５６】次いで、加熱圧着により凹凸パターンが転
写されたシートをガラス転移点以下まで冷却し、スタン
パからシートを引き剥がす。シートの冷却には、エアの
吹き付けや冷却ロールを用いてもよい。
写されたシートをガラス転移点以下まで冷却し、スタン
パからシートを引き剥がす。シートの冷却には、エアの
吹き付けや冷却ロールを用いてもよい。
【００５７】続いて、記録膜を成膜し、必要に応じて保
護膜を形成した後、例えば円形に切り抜いて光ディス
ク、磁気ディスクとする。
護膜を形成した後、例えば円形に切り抜いて光ディス
ク、磁気ディスクとする。
【００５８】上記記録膜は、例えば再生専用光ディスク
の場合、アルミニウム等からなる反射膜を成膜する。光
磁気ディスクや相変化ディスク、追記型ディスク等の場
合にも、所定の記録膜を蒸着やスパッタ等の手法により
形成する。
の場合、アルミニウム等からなる反射膜を成膜する。光
磁気ディスクや相変化ディスク、追記型ディスク等の場
合にも、所定の記録膜を蒸着やスパッタ等の手法により
形成する。
【００５９】保護膜は、例えば紫外線硬化樹脂膜の場
合、ロールコートあるいはスピンコートにより塗布した
後、紫外線を照射して硬化する。
合、ロールコートあるいはスピンコートにより塗布した
後、紫外線を照射して硬化する。
【００６０】また、シートを所望のサイズ、形状にトリ
ミングするには、プレスまたはレーザーカッター等を用
いればよい。
ミングするには、プレスまたはレーザーカッター等を用
いればよい。
【００６１】図５は、これら一連のプロセスを連続的に
行う製造装置の一例を示すものである。
行う製造装置の一例を示すものである。
【００６２】この製造装置において、シート２１は送り
出しロール２２から連続的に供給され、巻き取りロール
２３に巻き取られる。
出しロール２２から連続的に供給され、巻き取りロール
２３に巻き取られる。
【００６３】そして、シート２１の供給経路に、エンボ
ス転写部、記録層成膜部、保護膜形成部、打ち抜き部が
順次配列されている。
ス転写部、記録層成膜部、保護膜形成部、打ち抜き部が
順次配列されている。
【００６４】エンボス転写部は、圧着ロール２４及びス
タンパ２５から構成され、これらによってシート２１を
挟み込み、スタンパ２５に形成されたプリピット、グル
ーブ等のエンボス（凹凸パターン）をシート２１に転写
する部分である。
タンパ２５から構成され、これらによってシート２１を
挟み込み、スタンパ２５に形成されたプリピット、グル
ーブ等のエンボス（凹凸パターン）をシート２１に転写
する部分である。
【００６５】上記シート２１は、ここではガイドロール
２６によって圧着ロール２４に所定の抱き角で巻き付け
られた状態で走行するような構成とされているが、例え
ば熱膨張によるタルミを防止するために、予備加熱ロー
ルにより張力をかけながら予備加熱するような構成とし
てもよい。
２６によって圧着ロール２４に所定の抱き角で巻き付け
られた状態で走行するような構成とされているが、例え
ば熱膨張によるタルミを防止するために、予備加熱ロー
ルにより張力をかけながら予備加熱するような構成とし
てもよい。
【００６６】圧着ロール２４には、例えばシリコーンゴ
ムが所定の厚さ（例えば６ｍｍ程度）でライニングされ
研磨されたロール等が用いられ、その内部に加熱した温
水等を循環することにより、シート２１のガラス転移点
よりも５〜８０℃低い温度、好ましくは５〜４０℃低い
温度とする。従って、シート２１にポリカーボネートシ
ート（ガラス転移点１４５℃）を用いた場合には、圧着
ロール２４の温度は、６５〜１４０℃、好ましくは１０
５〜１４０℃とする。
ムが所定の厚さ（例えば６ｍｍ程度）でライニングされ
研磨されたロール等が用いられ、その内部に加熱した温
水等を循環することにより、シート２１のガラス転移点
よりも５〜８０℃低い温度、好ましくは５〜４０℃低い
温度とする。従って、シート２１にポリカーボネートシ
ート（ガラス転移点１４５℃）を用いた場合には、圧着
ロール２４の温度は、６５〜１４０℃、好ましくは１０
５〜１４０℃とする。
【００６７】一方、上記スタンパ２５は、例えば電磁誘
導加熱コイル等を組み込んだ加熱ステージ２７上に載置
されており、この加熱ステージ２７を加熱することでス
タンパ２５も加熱される。このとき、加熱ステージ２７
（すなわちスタンパ２５）の加熱温度は、シートのガラ
ス転移点よりも５〜６０℃高い温度、好ましくは１０〜
４０℃高い温度とする。なお、加熱ステージ２７の加熱
手段としては、前記電磁誘導加熱コイルの他、ヒーター
や油温による加熱等も採用可能である。
導加熱コイル等を組み込んだ加熱ステージ２７上に載置
されており、この加熱ステージ２７を加熱することでス
タンパ２５も加熱される。このとき、加熱ステージ２７
（すなわちスタンパ２５）の加熱温度は、シートのガラ
ス転移点よりも５〜６０℃高い温度、好ましくは１０〜
４０℃高い温度とする。なお、加熱ステージ２７の加熱
手段としては、前記電磁誘導加熱コイルの他、ヒーター
や油温による加熱等も採用可能である。
【００６８】この加熱ステージ２７は、移動ステージ２
８上に載っており、上記スタンパ２５が上記シート２１
を圧着ロール２４との間で挟み込みを開始した後、後述
の冷却ユニットと対向する位置に移動するまで、上記シ
ート２１の送りと連動して移動可能とされている。
８上に載っており、上記スタンパ２５が上記シート２１
を圧着ロール２４との間で挟み込みを開始した後、後述
の冷却ユニットと対向する位置に移動するまで、上記シ
ート２１の送りと連動して移動可能とされている。
【００６９】冷却ユニット２９は、冷却パッドまたはエ
アー吹き付け等によりシート２１を冷却するもので、こ
の位置でシート２１はスタンパ２５から剥離される。こ
の冷却ユニット２９としては、断熱膨張を利用した低温
エアー発生装置による急冷却離型装置（例えばマール社
製、商品名コールドピストル）を備えたもの等も使用可
能である。
アー吹き付け等によりシート２１を冷却するもので、こ
の位置でシート２１はスタンパ２５から剥離される。こ
の冷却ユニット２９としては、断熱膨張を利用した低温
エアー発生装置による急冷却離型装置（例えばマール社
製、商品名コールドピストル）を備えたもの等も使用可
能である。
【００７０】以上がエンボス転写部の構成であるが、こ
の冷却ユニット２９のシート送り方向の後方には、記録
層成膜部、保護膜形成部、打ち抜き部が順次配列されて
おり、シート２１への凹凸パターンの形成から、記録層
や保護膜の成膜、ディスク化までの一連の工程が、いわ
ゆるイン・ラインで行われるようになっている。
の冷却ユニット２９のシート送り方向の後方には、記録
層成膜部、保護膜形成部、打ち抜き部が順次配列されて
おり、シート２１への凹凸パターンの形成から、記録層
や保護膜の成膜、ディスク化までの一連の工程が、いわ
ゆるイン・ラインで行われるようになっている。
【００７１】ここで、上記記録層成膜部には例えば連続
スパッタ装置３０が、保護膜形成部には例えば紫外線硬
化樹脂供給ノズル３１ａ、塗布ロール３１ｂ、紫外線照
射ランプ３１ｃ等を備えた塗布装置３１が、打ち抜き部
には例えば打ち抜きプレス３２がそれぞれ用いられ、記
録層のスパッタによる成膜や保護膜の塗布形成、ディス
ク形状への打ち抜きが行われる。
スパッタ装置３０が、保護膜形成部には例えば紫外線硬
化樹脂供給ノズル３１ａ、塗布ロール３１ｂ、紫外線照
射ランプ３１ｃ等を備えた塗布装置３１が、打ち抜き部
には例えば打ち抜きプレス３２がそれぞれ用いられ、記
録層のスパッタによる成膜や保護膜の塗布形成、ディス
ク形状への打ち抜きが行われる。
【００７２】なお、上記の装置では、加熱ステージ２７
を移動可能とし、１枚のスタンパ２５で順次エンボス転
写するような構成としたが、例えば図６に示すように、
加熱ステージ２７を固定状態とし、複数枚のスタンパ２
５を循環させ、効率アップを図ることも可能である。
を移動可能とし、１枚のスタンパ２５で順次エンボス転
写するような構成としたが、例えば図６に示すように、
加熱ステージ２７を固定状態とし、複数枚のスタンパ２
５を循環させ、効率アップを図ることも可能である。
【００７３】具体的には、図７に示すように加熱手段２
７ａを内蔵した加熱ステージ２７にスタンパ取付ユニッ
ト３３を収容する凹部２７ｂを設け、スタンパ２５をこ
のスタンパ取付ユニット３３に保持した状態で順次移動
させ、シート２１の圧着から冷却ユニット２９での冷
却、スタンパ２５からのシート２１の剥離を行う。この
とき、スタンパ取付ユニット３３は、スタンパ２５より
も０．３〜０．５ｍｍ程度、高さを低くする。
７ａを内蔵した加熱ステージ２７にスタンパ取付ユニッ
ト３３を収容する凹部２７ｂを設け、スタンパ２５をこ
のスタンパ取付ユニット３３に保持した状態で順次移動
させ、シート２１の圧着から冷却ユニット２９での冷
却、スタンパ２５からのシート２１の剥離を行う。この
とき、スタンパ取付ユニット３３は、スタンパ２５より
も０．３〜０．５ｍｍ程度、高さを低くする。
【００７４】また、加熱ステージ２７のシート２１の送
り方向の前方、あるいは後方を面取りして若干のテーパ
２７ｃ、２７ｄを付けることにより、シート２１の送り
を円滑にすることができる。
り方向の前方、あるいは後方を面取りして若干のテーパ
２７ｃ、２７ｄを付けることにより、シート２１の送り
を円滑にすることができる。
【００７５】あるいは、図８に示すように、ベルトを用
いたシステムとすることもできる。すなわち、例えばス
テンレスベルト等のような鏡面ベルト３４を一対のロー
ル３５，３６間に掛け渡し、シート２１と同じ速度で走
行するようにする。そして、この鏡面ベルト３４上に複
数のスタンパ２５を固定配列する。これにより、スタン
パ２５加熱ステージ２７上から冷却ユニット２９位置ま
で次々と繰り返し送り込まれる。
いたシステムとすることもできる。すなわち、例えばス
テンレスベルト等のような鏡面ベルト３４を一対のロー
ル３５，３６間に掛け渡し、シート２１と同じ速度で走
行するようにする。そして、この鏡面ベルト３４上に複
数のスタンパ２５を固定配列する。これにより、スタン
パ２５加熱ステージ２７上から冷却ユニット２９位置ま
で次々と繰り返し送り込まれる。
【００７６】このとき、図９に示すように、シート２１
に搬送ガイド孔２１ａやディスク打ち抜きガイド孔２１
ｂ等を予めプレス等の手法によって形成しておけば、ス
タンパ２５に対する位置決めや打ち抜きプレス３２等に
対する位置決めが確実なものとなり、精度の高いプロセ
スを確立することが可能となる。
に搬送ガイド孔２１ａやディスク打ち抜きガイド孔２１
ｂ等を予めプレス等の手法によって形成しておけば、ス
タンパ２５に対する位置決めや打ち抜きプレス３２等に
対する位置決めが確実なものとなり、精度の高いプロセ
スを確立することが可能となる。
【００７７】以上、エンボス転写から記録層の成膜、保
護膜の形成、ディスクへの打ち抜きまでを一貫して行う
製造方法、製造装置について説明したが、例えばエンボ
ス転写工程は、シート上に予め記録層を形成した後に行
うこともできる。この場合には、図１０に示すように、
記録層を成膜するための連続スパッタ装置３０をエンボ
ス転写部の前に配置すればよい。
護膜の形成、ディスクへの打ち抜きまでを一貫して行う
製造方法、製造装置について説明したが、例えばエンボ
ス転写工程は、シート上に予め記録層を形成した後に行
うこともできる。この場合には、図１０に示すように、
記録層を成膜するための連続スパッタ装置３０をエンボ
ス転写部の前に配置すればよい。
【００７８】上述の製造方法、製造装置によれば、例え
ば押し出し機〜Ｔ−ダイによる直接エンボスの場合のよ
うに、Ｔ−ダイの精度やＴ−ダイに付着したポリマーか
すによるダイラインと称される流れムラによる光学歪み
が発生することはなく、また多少のダイラインはエンボ
ス時の熱と圧力により消滅し、歩留まり良く所望のディ
スクが得られる。
ば押し出し機〜Ｔ−ダイによる直接エンボスの場合のよ
うに、Ｔ−ダイの精度やＴ−ダイに付着したポリマーか
すによるダイラインと称される流れムラによる光学歪み
が発生することはなく、また多少のダイラインはエンボ
ス時の熱と圧力により消滅し、歩留まり良く所望のディ
スクが得られる。
【００７９】また、射出成形では達成し得ない厚さ０．
３ｍｍ以下のディスクを１０ｎｍ以下の複屈折で反り変
形が少ない状態で製造することができ、いわゆるフロッ
ピータイプの光ディスクや表面読み出しの高ＮＡ対応高
密度光ディスクが製造可能である。
３ｍｍ以下のディスクを１０ｎｍ以下の複屈折で反り変
形が少ない状態で製造することができ、いわゆるフロッ
ピータイプの光ディスクや表面読み出しの高ＮＡ対応高
密度光ディスクが製造可能である。
【００８０】さらに、シート加熱温度を高く設定し、シ
ートの送り速度を速くすることで、一般的な射出成形で
は達成不可能な生産性を確保することができる。
ートの送り速度を速くすることで、一般的な射出成形で
は達成不可能な生産性を確保することができる。
【００８１】
【実施例】以下、具体的な実験結果について説明する。
【００８２】実施例１ 図５に示す装置を用い、ポリカーボネートシートに対し
て凹凸パターン（ピット及びグルーブ）の転写を行っ
た。
て凹凸パターン（ピット及びグルーブ）の転写を行っ
た。
【００８３】用いたポリカーボネートシートは、厚さ７
０μｍ、１００μｍ、１２５μｍ、２００μｍの４種類
であり、そのガラス転移点は１４５℃、複屈折は２０ｎ
ｍ以下である。
０μｍ、１００μｍ、１２５μｍ、２００μｍの４種類
であり、そのガラス転移点は１４５℃、複屈折は２０ｎ
ｍ以下である。
【００８４】加熱ステージ温度（スタンパ温度）や、ロ
ール圧、シートの送り速度を変え、転写性の良否を調べ
た。結果を表１に示す。
ール圧、シートの送り速度を変え、転写性の良否を調べ
た。結果を表１に示す。
【００８５】
【表１】
【００８６】表１からも明らかなように、加熱ステージ
の温度を適正な温度とすることにより良好な転写性を得
ることができた。
の温度を適正な温度とすることにより良好な転写性を得
ることができた。
【００８７】実施例２ ポリカーボネートシートの代わりにアモルファスポリオ
レフィンシート（日本ゼオン社製、商品名ゼオネックス
シート）を用い、実施例１と同様に凹凸パターンの転写
を行った。使用したアモルファスポリオレフィンシート
の厚さは１２５μｍ、ガラス転移点は１４０℃、複屈折
は１０ｎｍ以下である。結果を表２に示す。
レフィンシート（日本ゼオン社製、商品名ゼオネックス
シート）を用い、実施例１と同様に凹凸パターンの転写
を行った。使用したアモルファスポリオレフィンシート
の厚さは１２５μｍ、ガラス転移点は１４０℃、複屈折
は１０ｎｍ以下である。結果を表２に示す。
【００８８】
【表２】
【００８９】実施例３ ポリカーボネートシートの代わりにアモルファスポリオ
レフィンシート（日本合成ゴム社製、商品名アートンシ
ート）を用い、実施例１と同様に凹凸パターンの転写を
行った。使用したアモルファスポリオレフィンシートの
厚さは１００μｍ、ガラス転移点は１７０℃、複屈折は
１０ｎｍ以下である。結果を表３に示す。
レフィンシート（日本合成ゴム社製、商品名アートンシ
ート）を用い、実施例１と同様に凹凸パターンの転写を
行った。使用したアモルファスポリオレフィンシートの
厚さは１００μｍ、ガラス転移点は１７０℃、複屈折は
１０ｎｍ以下である。結果を表３に示す。
【００９０】
【表３】
【００９１】実施例４ ポリカーボネートシートの代わりにポリエチレンテレフ
タレートシート（厚さ７０μｍ、ガラス転移点１２５
℃、複屈折３０ｎｍ以下）を用い、実施例１と同様に凹
凸パターンの転写を行った。結果を表４に示す。
タレートシート（厚さ７０μｍ、ガラス転移点１２５
℃、複屈折３０ｎｍ以下）を用い、実施例１と同様に凹
凸パターンの転写を行った。結果を表４に示す。
【００９２】
【表４】
【００９３】ポリエチレンテレフタレートシートの場
合、分解ガスによる表面荒れ等により、良好な転写状態
を得ることは難しかった。
合、分解ガスによる表面荒れ等により、良好な転写状態
を得ることは難しかった。
【００９４】実施例５ 本例では、予め記録層を成膜したシートに対して凹凸パ
ターンを転写し、光ディスクの作製を試みた。
ターンを転写し、光ディスクの作製を試みた。
【００９５】用いたシートは、先の実施例２と同様のア
モルファスポリオレフィンシートであり、厚さ２０ｎｍ
のカルコゲナイド系記録膜をスパッタにより成膜した。
カルコゲナイド系記録膜の組成は、Ｇｅ：Ｓｂ：Ｔｅ＝
２：２：５である。
モルファスポリオレフィンシートであり、厚さ２０ｎｍ
のカルコゲナイド系記録膜をスパッタにより成膜した。
カルコゲナイド系記録膜の組成は、Ｇｅ：Ｓｂ：Ｔｅ＝
２：２：５である。
【００９６】図１０に示す装置を用い、前記カルコゲナ
イド系記録膜を成膜したアモルファスポリオレフィンシ
ートに対して凹凸パターンを転写した。結果を表５に示
す。
イド系記録膜を成膜したアモルファスポリオレフィンシ
ートに対して凹凸パターンを転写した。結果を表５に示
す。
【００９７】
【表５】
【００９８】表５からも明らかなように、予め記録膜を
成膜した場合にも、良好な転写性が得られた。
成膜した場合にも、良好な転写性が得られた。
【００９９】実施例６ 本例では、事前に磁性合金を成膜したシートを成形し
た。
た。
【０１００】使用したシートは先の実施例２や実施例５
と同様のアモルファスポリオレフィンシートであり、下
記の各層を蒸着またはスパッタで成膜して磁性合金層
（記録層）とした。
と同様のアモルファスポリオレフィンシートであり、下
記の各層を蒸着またはスパッタで成膜して磁性合金層
（記録層）とした。
【０１０１】 下地クロム膜（Ｃｒ） ：８０ｎｍ 磁性層コバルト（Ｃｏ）：８０ｎｍ 白金（Ｐｔ） ：２０ｎｍ この磁性合金層を形成したシートに対して実施例５と同
様に凹凸パターンの転写を行った。結果を表６に示す。
様に凹凸パターンの転写を行った。結果を表６に示す。
【０１０２】
【表６】
【０１０３】磁性合金層を形成したシートにおいても、
良好な転写性が得られた。
良好な転写性が得られた。
【０１０４】そこで、このシートを用いてハードディス
クの作製を試みた。
クの作製を試みた。
【０１０５】すなわち、先ず、ハードディスクの基板と
して一般に用いられている厚さ０．３ｍｍの円板状アル
ミニウム板に紫外線硬化樹脂をスピンコートした。な
お、このアルミニウム板は、鏡面研磨されたものであ
り、内外径が所望の形状に加工されたものである。
して一般に用いられている厚さ０．３ｍｍの円板状アル
ミニウム板に紫外線硬化樹脂をスピンコートした。な
お、このアルミニウム板は、鏡面研磨されたものであ
り、内外径が所望の形状に加工されたものである。
【０１０６】次に、上記磁性合金層を形成した後に凹凸
転写を行ったエンボス済みシートをアルミニウム基板と
同じ大きさにトリミングし、凹凸転写面（磁性合金層形
成面）を上にして紫外線硬化樹脂を塗布したアルミニウ
ム基板に重ねた。
転写を行ったエンボス済みシートをアルミニウム基板と
同じ大きさにトリミングし、凹凸転写面（磁性合金層形
成面）を上にして紫外線硬化樹脂を塗布したアルミニウ
ム基板に重ねた。
【０１０７】この状態で高速回転（３０００〜４０００
ｒｐｍ）させ、余分な紫外線硬化樹脂を振り切った後、
回転中に紫外線を照射してシートをアルミニウム基板に
接着した。
ｒｐｍ）させ、余分な紫外線硬化樹脂を振り切った後、
回転中に紫外線を照射してシートをアルミニウム基板に
接着した。
【０１０８】アルミニウム基板の反対側の面にも同様に
シートを接着し、両面に信号面が形成されたディスクを
得た。
シートを接着し、両面に信号面が形成されたディスクを
得た。
【０１０９】最後に下記の保護膜を形成し、さらに潤滑
剤を塗布してハードディスクを完成した。
剤を塗布してハードディスクを完成した。
【０１１０】 カーボン保護膜 ：１２ｎｍ 潤滑剤（シリコーンオイル）： ２ｎｍ実施例７ 本例は有機色素系光ディスクに応用した例である。
【０１１１】先ず、厚さ１２５μｍのポリカーボネート
シートに記録膜として下記の有機色素記録層をスピンコ
ートあるいは蒸着により形成した。
シートに記録膜として下記の有機色素記録層をスピンコ
ートあるいは蒸着により形成した。
【０１１２】 シアニン系有機色素（溶剤希釈液をスピンコート）：１００〜２００ｎｍ フタロシアニン系有機色素（蒸着） ：１００〜２００ｎｍ 次に、この有機色素記録層を形成したシートに対して、
実施例５と同様に凹凸パターンの転写を行った。結果を
表７に示す。
実施例５と同様に凹凸パターンの転写を行った。結果を
表７に示す。
【０１１３】
【表７】
【０１１４】概ね良好な転写性が得られたが、加熱温度
が高い場合、内部ガスによる表面凹凸が観察された。有
機色素の分解温度は、２６０〜２７０℃と高いことか
ら、内部からのガスは、シート中の低分子化合物か吸湿
水分によるものと考えられる。
が高い場合、内部ガスによる表面凹凸が観察された。有
機色素の分解温度は、２６０〜２７０℃と高いことか
ら、内部からのガスは、シート中の低分子化合物か吸湿
水分によるものと考えられる。
【０１１５】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明によれば、高密度化に容易に対応することができ、且
ついわゆるフロッピーディスクのように取り扱いの簡便
な記録媒体を提供することが可能である。
明によれば、高密度化に容易に対応することができ、且
ついわゆるフロッピーディスクのように取り扱いの簡便
な記録媒体を提供することが可能である。
【０１１６】また、本発明の製造方法、製造装置によれ
ば、シートに対して凹凸パターンを良好な転写性で効率
良く形成することができ、したがって高密度化に対応し
た特性を有する記録媒体を生産性良く製造することが可
能である。
ば、シートに対して凹凸パターンを良好な転写性で効率
良く形成することができ、したがって高密度化に対応し
た特性を有する記録媒体を生産性良く製造することが可
能である。
【図１】本発明を適用した記録媒体の一例を示す概略断
面図である。
面図である。
【図２】ポリカーボネートシートの分光光学特性を示す
特性図である。
特性図である。
【図３】本発明を適用した記録媒体の他の例を示す概略
断面図である。
断面図である。
【図４】本発明を適用した記録媒体のさらに他の例を示
す概略断面図である。
す概略断面図である。
【図５】凹凸転写から打ち抜きまでの工程を一貫して行
う製造装置の一例を示す模式図である。
う製造装置の一例を示す模式図である。
【図６】スタンパ取付ユニットにより複数のスタンパを
順次移動させて凹凸転写を行う製造装置の一例を示す模
式図である。
順次移動させて凹凸転写を行う製造装置の一例を示す模
式図である。
【図７】固定状態で用いられる加熱ステージの一例を示
す概略断面図である。
す概略断面図である。
【図８】ベルトにより複数のスタンパを順次移動させて
凹凸転写を行う製造装置の一例を示す模式図である。
凹凸転写を行う製造装置の一例を示す模式図である。
【図９】シートへの位置決め孔の形成状態を示す要部概
略平面図である。
略平面図である。
【図１０】記録層の形成後に凹凸転写を行う製造装置の
一例を示す模式図である。
一例を示す模式図である。
１ シート状基板、２ 記録層、３ 支持基板、２４
圧着ロール、２５ スタンパ、２７ 加熱ステージ、２
９ 冷却ユニット
圧着ロール、２５ スタンパ、２７ 加熱ステージ、２
９ 冷却ユニット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ１１Ｂ 11/10 ５１１ Ｇ１１Ｂ 11/10 ５１１Ａ ５４１ ５４１Ｄ ５４１Ａ (72)発明者 山本 真伸 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内
Claims (18)
- 【請求項１】 表面に凹凸パターンが形成された厚さ
０．３ｍｍ以下のシート状基板上に記録層が形成されて
なる記録媒体。 - 【請求項２】 上記記録層が光記録層であり、上記シー
ト状基板の光透過率が波長３００ｎｍ〜８００ｎｍの領
域において７０％以上であることを特徴とする請求項１
記載の記録媒体。 - 【請求項３】 上記シート状基板がポリカーボネートよ
りなることを特徴とする請求項２記載の記録媒体。 - 【請求項４】 上記シート状基板が剛性を有する基板に
貼り合わされてなる請求項１記載の記録媒体。 - 【請求項５】 上記剛性を有する基板が光記録層が形成
された光ディスク基板であり、 光記録層が形成されたシート状基板が光学的に透明な中
間層を介して貼り合わされ、多層構造とされていること
を特徴とする請求項４記載の記録媒体。 - 【請求項６】 上記中間層が感圧性粘着シートであるこ
とを特徴とする請求項５記載の記録媒体。 - 【請求項７】 表面に凹凸パターンを有するスタンパと
圧着ロールにより厚さ０．３ｍｍ以下のシート状基板を
挟み込み、加熱圧着により上記凹凸パターンをシート状
基板に転写することを特徴とする記録媒体の製造方法。 - 【請求項８】 凹凸パターンを転写した後、シート状基
板上に記録層を形成することを特徴とする請求項７記載
の記録媒体の製造方法。 - 【請求項９】 予めシート状基板上に記録層を形成して
おくことを特徴とする請求項７記載の記録媒体の製造方
法。 - 【請求項１０】 上記スタンパをシート状基板のガラス
転移点よりも５〜６０℃高い温度に加熱することを特徴
とする請求項７記載の記録媒体の製造方法。 - 【請求項１１】 上記圧着ロールの温度をシート状基板
のガラス転移点よりも５〜８０℃低い温度に設定するこ
とを特徴とする請求項７記載の記録媒体の製造方法。 - 【請求項１２】 シート状基板を連続的に供給するシー
ト状基板送り出し手段と、 表面に凹凸パターンを有するスタンパと、 上記スタンパが載置され、これを加熱する加熱ステージ
と、 上記スタンパに対して上記シート状基板を圧着する圧着
ロールとを備えたことを特徴とする記録媒体製造装置。 - 【請求項１３】 上記加熱ステージには電磁誘導加熱コ
イルが組み込まれていることを特徴とする請求項１２記
載の記録媒体製造装置。 - 【請求項１４】 上記加熱ステージの後段にシート状基
板をガラス転移点以下に冷却する冷却ユニットが設けら
れていることを特徴とする請求項１２記載の記録媒体製
造装置。 - 【請求項１５】 上記スタンパを複数備え、これらスタ
ンパを加熱ステージ設置位置から冷却ユニット設置位置
まで順次搬送する搬送手段が設けられていることを特徴
とする請求項１４記載の記録媒体製造装置。 - 【請求項１６】 上記搬送手段が搬送ベルトであること
を特徴とする請求項１５記載の記録媒体製造装置。 - 【請求項１７】 記録層成膜装置及び打ち抜きプレスが
冷却ユニットの後方に設けられ、凹凸パターンの転写か
ら打ち抜きまでの一連の工程が連続的に行われることを
特徴とする請求項１４記載の記録媒体製造装置。 - 【請求項１８】 記録層成膜装置が加熱ステージの前方
に設けられ、シート状基板に記録層が形成された後に凹
凸パターンの転写が行われることを特徴とする請求項１
４記載の記録媒体製造装置。
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| JP28082397 | 1997-10-14 | ||
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