JPH11185291A - 記録媒体及びその製造方法、製造装置 - Google Patents
記録媒体及びその製造方法、製造装置Info
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- JPH11185291A JPH11185291A JP10022306A JP2230698A JPH11185291A JP H11185291 A JPH11185291 A JP H11185291A JP 10022306 A JP10022306 A JP 10022306A JP 2230698 A JP2230698 A JP 2230698A JP H11185291 A JPH11185291 A JP H11185291A
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
らには、かかる記録媒体を生産性良く製造することが可
能な製造方法、製造装置を提供する 【解決手段】 表面に凹凸パターンが形成された厚さ
0.3mm以下のシート状基板上に記録層が形成されて
なる記録媒体である。この記録媒体は、いわゆるフレキ
シブルディスクとしてもよいし、剛性を有する基板に貼
り合わてもよい。この記録媒体は、表面に凹凸パターン
を有するスタンパと圧着ロールにより厚さ0.3mm以
下のシート状基板を挟み込み、加熱圧着により上記凹凸
パターンをシート状基板に転写することにより形成する
ことができる。記録層は凹凸パターンを転写した後に成
膜してもよいし、転写前に予めシート状基板に成膜して
おいてもよい。
Description
状の基板に記録層を形成した記録媒体に関するものであ
り、さらにはその製造方法、製造装置に関するものであ
る。
その他の各種情報を記録する記録媒体として、光記録媒
体や磁気記録媒体が知られている。
コンパクトディスクや書き換え型の光磁気ディスク、相
変化ディスク、さらにはいわゆるディスクリート型ハー
ドディスク等においては、データ情報やトラッキングサ
ーボ信号等が位相ピットやプリグルーブ等の微細凹凸パ
ターンを情報記録層に形成することにより記録されてい
る。
情報記録層の形成方法として、例えば光ディスクでは射
出成形法が広く行われている。
分野では、高密度化が急速に進められており、トラック
ピッチを狭くすること、光の記録波長を短くして最短ピ
ット長を短くすること、情報を記録又は読み取るための
光学レンズの開口数を大きくすること、情報記録層を重
ね合わせて多層構造とすること、ディスク同士を貼り合
わせて両面構造とすること、等が検討されている。
材料の開発、生産技術の向上等の結果具現化されるもの
であるが、反面、個々の精度は厳しいものが要求される
ようになってきている。
て記録波長を短波長化した青レーザによる記録・再生技
術や、光学系のレンズ開口数の増大等があるが、光のス
ポット径を小さく絞らなければならず、対物レンズを情
報記録層に近づけなくてはならない。
録媒体を提供することを目的とし、さらには、高密度化
に対応した特性を有する記録媒体を生産性良く製造する
ことが可能な製造方法、製造装置を提供することを目的
とする。
めに、本発明の記録媒体は、表面に凹凸パターンが形成
された厚さ0.3mm以下のシート状基板上に記録層が
形成されてなることを特徴とする。
や開口数の増大が必要であり、結果として信号の記録・
再生は記録媒体の表面近くで行う必要がある。
厚さの関係、及び記録・再生に用いるレーザ光の波長λ
と開口数NAの関係からも明らかである。
口数0.75以上でも対物レンズが基板とぶつからない
ようにするためには、基板の厚さを0.3mm以下とす
ればよいことがわかる。
のシート状基板上に記録層が形成されてなることを特徴
としているので、例えば光記録媒体の場合には、高NA
化に対応可能である。
と同時に、薄型化、軽量化が可能である。
関係にあり、基板の厚さを高NA化に伴って薄くしたと
きに、例えば射出成形法により成形しようとすると、ピ
ットやグルーブの転写不良、樹脂の分子配向歪による複
屈折の増大、配向歪や熱応力歪による変形等、様々な問
題が発生する。
及び製造装置である。すなわち、本発明の記録媒体の製
造方法は、表面に凹凸パターンを有するスタンパと圧着
ロールにより厚さ0.3mm以下のシート状基板を挟み
込み、加熱圧着により上記凹凸パターンをシート状基板
に転写することを特徴とするものである。
を連続的に供給するシート状基板送り出し手段と、表面
に凹凸パターンを有するスタンパと、上記スタンパが載
置され、これを加熱する加熱ステージと、上記スタンパ
に対して上記シート状基板を圧着する圧着ロールとを備
えたことを特徴とするものである。
で、0.3mm以下のシート状基板を用いた場合にも、
転写性、複屈折等の特性を満足し得る記録媒体を生産性
良く製造することが可能となる。
体、及びその製造方法、製造装置について、図面を参照
しながら詳細に説明する。
すように、厚さ0.3mm以下のシート状基板1上に記
録層2を形成してなるものである。
の面には、ピット、グルーブ等の凹凸パターンが形成さ
れており、結果として記録層2の表面にも凹凸パターン
が形成されている。
反射膜、光磁気記録層、相変化記録層、有機色素層等、
あるいはこれらの組み合わせであり、磁気記録媒体の場
合には、磁性合金薄膜等である。
護膜3を形成してもよく、例えば光記録媒体の場合に
は、紫外線硬化樹脂膜等が保護膜3として記録層2を覆
って形成される。磁気記録媒体の場合には、潤滑剤層や
カーボン膜等が保護膜3として形成される。
き形成することで、いわばフレキシブル光ディスク、フ
レキシブルディスクリートディスクとして取り扱うこと
ができる。
ずれからも行うことができ、例えば光記録媒体の場合、
シート状基板1側からレーザ光を照射して記録・再生す
るような構成としても、基板1の厚さが0.3mm以下
と非常に薄いため、高NA化等に十分に対応可能であ
る。
射して記録・再生を行う場合、これまで以上の高密度記
録を目指すことを考えると、光透過層となるシート状基
板1は、記録や再生に使用するレーザ波長域において光
の透過率が高いことが望まれる。
の光記録媒体においては、シート状基板1にポリカーボ
ネートシートを用いることが好ましい。
等により純度を高めることで、広い波長域において良好
な光透過性を示す。
トシートの透過率の波長依存性を示すもので、波長30
0nm以上において光透過率80%以上を示す。
打ちになっているが、これは空気とポリカーボネートシ
ート、及びポリカーボネートシートと空気の界面におけ
る表面反射によるもので、それぞれ約4%、トータルで
約8%のロスとなっている。
過率を波長700nm付近で100%とすると、波長3
00nmでは読み取り値が82%であるから、82/9
2=89.1%になる。この数値は、厚さ100μmで
の値であり、厚さが半分の50μmでは、その平方根
(94.4%)になる。
値300μmDの光透過率は、94.4%の6乗、すな
わち70.8%となる。光ディスクとして使用する場
合、光透過率は往復分になるので、光透過率はトータル
で50.1%得られることになる。この数値は、実用に
十分耐え得る値である。
は、そのまま記録媒体として用いても良いが、剛性を有
する基板と貼り合わせて記録媒体としても良い。
支持基板4に記録層2を形成したシート状基板1を接着
し、貼り合わせ構造とした記録媒体を示すものである。
り、記録や再生は記録層2側から行われる。したがっ
て、例えば磁気記録媒体とする場合には、記録層2の表
面にカーボン保護膜を形成したり、シリコーンオイル等
の潤滑剤層を形成する。
持基板4と対向するように貼り合わせ、シート状基板1
を通してレーザ光を照射し、記録・再生するような構成
とすることもできる。
ることも可能である。この多層光ディスクは、射出成
形、あるいは2P法等により凹凸パターンが形成された
支持基板11上に光記録層12を形成し、この上に記録
層(光記録層)2を形成したシート状基板1を光学的に
透明な接着剤層13を介して貼り合わせてなるものであ
る。
線硬化型接着剤等が用いられ、その厚さは20〜70μ
m程度である。なお、中間層としては、光学的に干渉し
ない厚さの半硬化透明プラスチックフィルム等を介在さ
せることも可能である。
粘着剤シートも好適である。感圧性粘着シートは、例え
ばアクリル系粘着剤からなり、透明性、厚みの均一性に
優れた両面粘着シートであり、例えば日東電工社製の商
品名DA−8320、DA−8310等がある。
製の商品名DA−8310の光透過率について、分光光
度計(Jasco V750)を用いて測定した結果、300
nmまでの波長域で90%以上の光透過率を示し、ガラ
ス板並の良好な透明性を有することがわかった。
る接着剤層13の複屈折はできるだけ小さいことが好ま
しい。複屈折が大きいと、読み取りレーザ光の焦点を絞
ろうとしても非点収差が増加し、絞りきれなくなる。上
記感圧性粘着シートの複屈折を測定した結果、測定誤差
範囲内(ほぼゼロ)であった。
学特性の面から接着剤層13として問題ないと言える。
1.2mm、あるいは0.6mmのポリカーボネート基
板等が用いられる。また、記録層2上には、紫外線樹脂
からなる保護膜3が形成されている。
を有するシート状基板の成形を考えた場合、従来の射出
成形や圧縮成型等、樹脂ペレットを溶融成形する方法で
は成形が難しく、仮に成形できたとしても、転写性、複
屈折、チルト等、光ディスクに要求される諸特性を満足
させることはできない。
やロール圧縮成形法(シートエンボス法)等も検討され
ているが、生産性、製造コスト、信頼性、品質等の問題
からほとんど利用されていないのが実情である。
5−16230号公報や特開平6−68527号公報等
には、ロール状スタンパを用いたりロールにスタンパを
固定して溶融樹脂を挟圧するシート成形法が開示されて
いるが、鏡面ロールに微細凹凸をエッチングや電鋳でパ
ターン形成したり、ロールに凹凸無くスタンパを固定し
なければならない等、複雑な工程や機械精度を必要とす
る。
では、圧延時の樹脂配向による複屈折ムラや圧延方向の
搬送張力(樹脂の流れの方向)の違いによる樹脂の収縮
差等により真円度ズレやピット、グルーブの変形が起こ
りやすく、トラッキングエラーやRF信号の乱れ等を起
こし易い。
し出ししたシートは、鏡面ロールを使用してもT−ダイ
の筋目跡(ダイライン)が厚さムラとして残存し、屈折
率の違いによる収差が大きな問題となり、このためにロ
ール温度、回転速度、回転ムラ等を厳しく管理する必要
がある。
するシートをプリピットやグルーブが刻まれたスタンパ
に圧着ロールで加熱圧着し、直接エンボス加工すること
により、所望のレプリカを生産性良く作成する。
説明する。
は市販の透明シートを用いてもよいし、押し出し機によ
り連続押し出しして形成した透明シートを用いても良
い。
とするのが好ましい。シートの材質は問わないが、例え
ばポリカーボネート、ポリエステル、アモルファスポリ
オレフィン等が好適である。なお、磁気ディスクの場合
には、必ずしも光学的に透明でなくともよい。
ステージと圧着ロール(金属製またはゴムライニングし
たもの。)間にシートをセットし、加熱圧着してスタン
パの凹凸パターンを転写する。
パ)の温度は、シートのガラス転移点よりも5〜60℃
高い温度、好ましくは10〜40℃高い温度に設定す
る。
点よりも5〜80℃低い温度、好ましくは5〜40℃低
い温度に設定する。
写されたシートをガラス転移点以下まで冷却し、スタン
パからシートを引き剥がす。シートの冷却には、エアの
吹き付けや冷却ロールを用いてもよい。
護膜を形成した後、例えば円形に切り抜いて光ディス
ク、磁気ディスクとする。
の場合、アルミニウム等からなる反射膜を成膜する。光
磁気ディスクや相変化ディスク、追記型ディスク等の場
合にも、所定の記録膜を蒸着やスパッタ等の手法により
形成する。
合、ロールコートあるいはスピンコートにより塗布した
後、紫外線を照射して硬化する。
ミングするには、プレスまたはレーザーカッター等を用
いればよい。
行う製造装置の一例を示すものである。
出しロール22から連続的に供給され、巻き取りロール
23に巻き取られる。
ス転写部、記録層成膜部、保護膜形成部、打ち抜き部が
順次配列されている。
タンパ25から構成され、これらによってシート21を
挟み込み、スタンパ25に形成されたプリピット、グル
ーブ等のエンボス(凹凸パターン)をシート21に転写
する部分である。
26によって圧着ロール24に所定の抱き角で巻き付け
られた状態で走行するような構成とされているが、例え
ば熱膨張によるタルミを防止するために、予備加熱ロー
ルにより張力をかけながら予備加熱するような構成とし
てもよい。
ムが所定の厚さ(例えば6mm程度)でライニングされ
研磨されたロール等が用いられ、その内部に加熱した温
水等を循環することにより、シート21のガラス転移点
よりも5〜80℃低い温度、好ましくは5〜40℃低い
温度とする。従って、シート21にポリカーボネートシ
ート(ガラス転移点145℃)を用いた場合には、圧着
ロール24の温度は、65〜140℃、好ましくは10
5〜140℃とする。
導加熱コイル等を組み込んだ加熱ステージ27上に載置
されており、この加熱ステージ27を加熱することでス
タンパ25も加熱される。このとき、加熱ステージ27
(すなわちスタンパ25)の加熱温度は、シートのガラ
ス転移点よりも5〜60℃高い温度、好ましくは10〜
40℃高い温度とする。なお、加熱ステージ27の加熱
手段としては、前記電磁誘導加熱コイルの他、ヒーター
や油温による加熱等も採用可能である。
8上に載っており、上記スタンパ25が上記シート21
を圧着ロール24との間で挟み込みを開始した後、後述
の冷却ユニットと対向する位置に移動するまで、上記シ
ート21の送りと連動して移動可能とされている。
アー吹き付け等によりシート21を冷却するもので、こ
の位置でシート21はスタンパ25から剥離される。こ
の冷却ユニット29としては、断熱膨張を利用した低温
エアー発生装置による急冷却離型装置(例えばマール社
製、商品名コールドピストル)を備えたもの等も使用可
能である。
の冷却ユニット29のシート送り方向の後方には、記録
層成膜部、保護膜形成部、打ち抜き部が順次配列されて
おり、シート21への凹凸パターンの形成から、記録層
や保護膜の成膜、ディスク化までの一連の工程が、いわ
ゆるイン・ラインで行われるようになっている。
スパッタ装置30が、保護膜形成部には例えば紫外線硬
化樹脂供給ノズル31a、塗布ロール31b、紫外線照
射ランプ31c等を備えた塗布装置31が、打ち抜き部
には例えば打ち抜きプレス32がそれぞれ用いられ、記
録層のスパッタによる成膜や保護膜の塗布形成、ディス
ク形状への打ち抜きが行われる。
を移動可能とし、1枚のスタンパ25で順次エンボス転
写するような構成としたが、例えば図6に示すように、
加熱ステージ27を固定状態とし、複数枚のスタンパ2
5を循環させ、効率アップを図ることも可能である。
7aを内蔵した加熱ステージ27にスタンパ取付ユニッ
ト33を収容する凹部27bを設け、スタンパ25をこ
のスタンパ取付ユニット33に保持した状態で順次移動
させ、シート21の圧着から冷却ユニット29での冷
却、スタンパ25からのシート21の剥離を行う。この
とき、スタンパ取付ユニット33は、スタンパ25より
も0.3〜0.5mm程度、高さを低くする。
り方向の前方、あるいは後方を面取りして若干のテーパ
27c、27dを付けることにより、シート21の送り
を円滑にすることができる。
いたシステムとすることもできる。すなわち、例えばス
テンレスベルト等のような鏡面ベルト34を一対のロー
ル35,36間に掛け渡し、シート21と同じ速度で走
行するようにする。そして、この鏡面ベルト34上に複
数のスタンパ25を固定配列する。これにより、スタン
パ25加熱ステージ27上から冷却ユニット29位置ま
で次々と繰り返し送り込まれる。
に搬送ガイド孔21aやディスク打ち抜きガイド孔21
b等を予めプレス等の手法によって形成しておけば、ス
タンパ25に対する位置決めや打ち抜きプレス32等に
対する位置決めが確実なものとなり、精度の高いプロセ
スを確立することが可能となる。
護膜の形成、ディスクへの打ち抜きまでを一貫して行う
製造方法、製造装置について説明したが、例えばエンボ
ス転写工程は、シート上に予め記録層を形成した後に行
うこともできる。この場合には、図10に示すように、
記録層を成膜するための連続スパッタ装置30をエンボ
ス転写部の前に配置すればよい。
ば押し出し機〜T−ダイによる直接エンボスの場合のよ
うに、T−ダイの精度やT−ダイに付着したポリマーか
すによるダイラインと称される流れムラによる光学歪み
が発生することはなく、また多少のダイラインはエンボ
ス時の熱と圧力により消滅し、歩留まり良く所望のディ
スクが得られる。
3mm以下のディスクを10nm以下の複屈折で反り変
形が少ない状態で製造することができ、いわゆるフロッ
ピータイプの光ディスクや表面読み出しの高NA対応高
密度光ディスクが製造可能である。
ートの送り速度を速くすることで、一般的な射出成形で
は達成不可能な生産性を確保することができる。
て凹凸パターン(ピット及びグルーブ)の転写を行っ
た。
0μm、100μm、125μm、200μmの4種類
であり、そのガラス転移点は145℃、複屈折は20n
m以下である。
ール圧、シートの送り速度を変え、転写性の良否を調べ
た。結果を表1に示す。
の温度を適正な温度とすることにより良好な転写性を得
ることができた。
レフィンシート(日本ゼオン社製、商品名ゼオネックス
シート)を用い、実施例1と同様に凹凸パターンの転写
を行った。使用したアモルファスポリオレフィンシート
の厚さは125μm、ガラス転移点は140℃、複屈折
は10nm以下である。結果を表2に示す。
レフィンシート(日本合成ゴム社製、商品名アートンシ
ート)を用い、実施例1と同様に凹凸パターンの転写を
行った。使用したアモルファスポリオレフィンシートの
厚さは100μm、ガラス転移点は170℃、複屈折は
10nm以下である。結果を表3に示す。
タレートシート(厚さ70μm、ガラス転移点125
℃、複屈折30nm以下)を用い、実施例1と同様に凹
凸パターンの転写を行った。結果を表4に示す。
合、分解ガスによる表面荒れ等により、良好な転写状態
を得ることは難しかった。
ターンを転写し、光ディスクの作製を試みた。
モルファスポリオレフィンシートであり、厚さ20nm
のカルコゲナイド系記録膜をスパッタにより成膜した。
カルコゲナイド系記録膜の組成は、Ge:Sb:Te=
2:2:5である。
イド系記録膜を成膜したアモルファスポリオレフィンシ
ートに対して凹凸パターンを転写した。結果を表5に示
す。
成膜した場合にも、良好な転写性が得られた。
た。
と同様のアモルファスポリオレフィンシートであり、下
記の各層を蒸着またはスパッタで成膜して磁性合金層
(記録層)とした。
様に凹凸パターンの転写を行った。結果を表6に示す。
良好な転写性が得られた。
クの作製を試みた。
して一般に用いられている厚さ0.3mmの円板状アル
ミニウム板に紫外線硬化樹脂をスピンコートした。な
お、このアルミニウム板は、鏡面研磨されたものであ
り、内外径が所望の形状に加工されたものである。
転写を行ったエンボス済みシートをアルミニウム基板と
同じ大きさにトリミングし、凹凸転写面(磁性合金層形
成面)を上にして紫外線硬化樹脂を塗布したアルミニウ
ム基板に重ねた。
rpm)させ、余分な紫外線硬化樹脂を振り切った後、
回転中に紫外線を照射してシートをアルミニウム基板に
接着した。
シートを接着し、両面に信号面が形成されたディスクを
得た。
剤を塗布してハードディスクを完成した。
シートに記録膜として下記の有機色素記録層をスピンコ
ートあるいは蒸着により形成した。
実施例5と同様に凹凸パターンの転写を行った。結果を
表7に示す。
が高い場合、内部ガスによる表面凹凸が観察された。有
機色素の分解温度は、260〜270℃と高いことか
ら、内部からのガスは、シート中の低分子化合物か吸湿
水分によるものと考えられる。
明によれば、高密度化に容易に対応することができ、且
ついわゆるフロッピーディスクのように取り扱いの簡便
な記録媒体を提供することが可能である。
ば、シートに対して凹凸パターンを良好な転写性で効率
良く形成することができ、したがって高密度化に対応し
た特性を有する記録媒体を生産性良く製造することが可
能である。
面図である。
特性図である。
断面図である。
す概略断面図である。
う製造装置の一例を示す模式図である。
順次移動させて凹凸転写を行う製造装置の一例を示す模
式図である。
す概略断面図である。
凹凸転写を行う製造装置の一例を示す模式図である。
略平面図である。
一例を示す模式図である。
圧着ロール、25 スタンパ、27 加熱ステージ、2
9 冷却ユニット
Claims (18)
- 【請求項1】 表面に凹凸パターンが形成された厚さ
0.3mm以下のシート状基板上に記録層が形成されて
なる記録媒体。 - 【請求項2】 上記記録層が光記録層であり、上記シー
ト状基板の光透過率が波長300nm〜800nmの領
域において70%以上であることを特徴とする請求項1
記載の記録媒体。 - 【請求項3】 上記シート状基板がポリカーボネートよ
りなることを特徴とする請求項2記載の記録媒体。 - 【請求項4】 上記シート状基板が剛性を有する基板に
貼り合わされてなる請求項1記載の記録媒体。 - 【請求項5】 上記剛性を有する基板が光記録層が形成
された光ディスク基板であり、 光記録層が形成されたシート状基板が光学的に透明な中
間層を介して貼り合わされ、多層構造とされていること
を特徴とする請求項4記載の記録媒体。 - 【請求項6】 上記中間層が感圧性粘着シートであるこ
とを特徴とする請求項5記載の記録媒体。 - 【請求項7】 表面に凹凸パターンを有するスタンパと
圧着ロールにより厚さ0.3mm以下のシート状基板を
挟み込み、加熱圧着により上記凹凸パターンをシート状
基板に転写することを特徴とする記録媒体の製造方法。 - 【請求項8】 凹凸パターンを転写した後、シート状基
板上に記録層を形成することを特徴とする請求項7記載
の記録媒体の製造方法。 - 【請求項9】 予めシート状基板上に記録層を形成して
おくことを特徴とする請求項7記載の記録媒体の製造方
法。 - 【請求項10】 上記スタンパをシート状基板のガラス
転移点よりも5〜60℃高い温度に加熱することを特徴
とする請求項7記載の記録媒体の製造方法。 - 【請求項11】 上記圧着ロールの温度をシート状基板
のガラス転移点よりも5〜80℃低い温度に設定するこ
とを特徴とする請求項7記載の記録媒体の製造方法。 - 【請求項12】 シート状基板を連続的に供給するシー
ト状基板送り出し手段と、 表面に凹凸パターンを有するスタンパと、 上記スタンパが載置され、これを加熱する加熱ステージ
と、 上記スタンパに対して上記シート状基板を圧着する圧着
ロールとを備えたことを特徴とする記録媒体製造装置。 - 【請求項13】 上記加熱ステージには電磁誘導加熱コ
イルが組み込まれていることを特徴とする請求項12記
載の記録媒体製造装置。 - 【請求項14】 上記加熱ステージの後段にシート状基
板をガラス転移点以下に冷却する冷却ユニットが設けら
れていることを特徴とする請求項12記載の記録媒体製
造装置。 - 【請求項15】 上記スタンパを複数備え、これらスタ
ンパを加熱ステージ設置位置から冷却ユニット設置位置
まで順次搬送する搬送手段が設けられていることを特徴
とする請求項14記載の記録媒体製造装置。 - 【請求項16】 上記搬送手段が搬送ベルトであること
を特徴とする請求項15記載の記録媒体製造装置。 - 【請求項17】 記録層成膜装置及び打ち抜きプレスが
冷却ユニットの後方に設けられ、凹凸パターンの転写か
ら打ち抜きまでの一連の工程が連続的に行われることを
特徴とする請求項14記載の記録媒体製造装置。 - 【請求項18】 記録層成膜装置が加熱ステージの前方
に設けられ、シート状基板に記録層が形成された後に凹
凸パターンの転写が行われることを特徴とする請求項1
4記載の記録媒体製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP02230698A JP4066489B2 (ja) | 1997-10-14 | 1998-02-03 | 光記録媒体及びその製造方法 |
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JP28082397 | 1997-10-14 | ||
JP02230698A JP4066489B2 (ja) | 1997-10-14 | 1998-02-03 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH11185291A true JPH11185291A (ja) | 1999-07-09 |
JP4066489B2 JP4066489B2 (ja) | 2008-03-26 |
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ID=26359503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP02230698A Expired - Fee Related JP4066489B2 (ja) | 1997-10-14 | 1998-02-03 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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