JPH11183863A - Inspection device for substrate to be measured - Google Patents

Inspection device for substrate to be measured

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JPH11183863A
JPH11183863A JP9364770A JP36477097A JPH11183863A JP H11183863 A JPH11183863 A JP H11183863A JP 9364770 A JP9364770 A JP 9364770A JP 36477097 A JP36477097 A JP 36477097A JP H11183863 A JPH11183863 A JP H11183863A
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substrate
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alignment
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state
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Shinji Fujiwara
慎治 藤原
Junichi Furukawa
順一 古川
Yutaka Kosaka
裕 小坂
Kamihito Oishi
上人 尾石
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Micronics Japan Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To lower the cost of an inspection device by providing an alignment means aligning a received substrate to be measured while selectively displacing the substrate to be measured in a horizontal state and in an inclined state to simplify the constitution of the device. SOLUTION: An air cylinder 96 is extended and a link stage 60 is rotated around the axial line of a shaft 94 and an alignment stage 54 is inclined in a state in which a substrate to be measured 12 is attracted to an attracting pad 70 and the state of the substrate 12 is changed from the horizontal state to the inclined state. In this state, the transferring of the substrate 12 to an alignment mechanism and a relay mechanism is performed. When the substrate 12 is transferred from the alignment mechanism to the relay mechanisms, the first movable body of one side of either of a first or a second relay mechanism is moved to a first position where a transfer with respect to a measuring stage is to be performed and the first movable body of the other side is moved to a second position where a transfer with respect to the alignment mechanism is to be performed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネルのよう
な被測定基板の通電試験をする検査装置に関し、特に、
被測定基板を傾斜させた状態で測定する装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inspection apparatus for conducting a current test on a substrate to be measured such as a liquid crystal panel.
The present invention relates to an apparatus for measuring a substrate to be measured in an inclined state.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶示パネル(液晶表示パネル)のよう
な被測定基板を斜めの状態で測定(検査)する検査装置
の1つとして、被測定基板を把持搬送機構により水平の
状態から傾斜した状態に及びその逆に変換させるものが
ある(特許第2549882号公報)。
2. Description of the Related Art As one of inspection apparatuses for measuring (inspection) a substrate to be measured such as a liquid crystal display panel (liquid crystal display panel) in an oblique state, the substrate to be measured is tilted from a horizontal state by a gripping / transporting mechanism. There is one that converts the state and vice versa (Japanese Patent No. 2549882).

【0003】この検査装置において、未測定(未検査)
の被測定基板は、取り出しアームによりカセットから水
平に取り出され、次いでアライメント機構によりアライ
メントをされ、次いでサブチャックにより所定の高さ位
置まで上昇され、次いで把持搬送機構により水平状態か
らから傾斜状態に変換されてその状態で測定部(検査
部)に搬送され、測定部において測定される。
In this inspection apparatus, an unmeasured (not inspected)
The substrate to be measured is taken out of the cassette horizontally by the take-out arm, then aligned by the alignment mechanism, then raised to a predetermined height position by the sub chuck, and then converted from the horizontal state to the inclined state by the gripping / transporting mechanism. Then, in that state, it is conveyed to a measuring unit (inspection unit) and measured by the measuring unit.

【0004】これに対し、測定済みの被測定基板は、測
定部において把持搬送機構に傾斜状態に受けられてその
状態でローダ部に搬送され、次いでローダ部において把
持搬送機構により水平に戻され、次いでサブチャックに
より所定の高さまで下降され、その後取り出しアームに
よりカセットに戻される。
On the other hand, the measured substrate to be measured is received in a tilted state by the gripping / transporting mechanism in the measuring section, transported to the loader in that state, and then returned horizontally by the gripping / transporting mechanism in the loader. Next, it is lowered to a predetermined height by the sub chuck and then returned to the cassette by the take-out arm.

【0005】しかし、上記の検査装置では、取り出しア
ーム、アライメントをする機構、サブチャック機構、把
持搬送機構、検査ステージ等、多種類の機構を必要と
し、構造が複雑であり、高価である。
However, the above-described inspection apparatus requires various types of mechanisms such as a take-out arm, an alignment mechanism, a sub-chuck mechanism, a gripping / transporting mechanism, and an inspection stage, and has a complicated structure and is expensive.

【0006】[0006]

【解決しようとする課題】それゆえに、構造を簡単にし
て廉価にすることは重要である。
Therefore, it is important to make the structure simple and inexpensive.

【0007】[0007]

【解決する手段、作用および効果】本発明の検査装置
は、被測定基板を第1及び第2の処理手段に受け渡すア
ライメント手段であって前記第1の処理手段に対する受
け渡しをする水平の状態及び前記第2の処理手段に対す
る受け渡しをする傾斜した状態に被測定基板を選択的に
変位させるとともに、受けた被測定基板のアライメント
をするアライメント手段を含む。
The inspection apparatus according to the present invention is an alignment means for transferring a substrate to be measured to first and second processing means, and a horizontal state for transferring the substrate to the first processing means. An alignment means is provided for selectively displacing the measured substrate in an inclined state for transfer to the second processing means and for aligning the received measured substrate.

【0008】アライメント手段が、アライメント機能の
みならず、被測定基板を水平の状態から傾斜した状態に
又はその逆に変更する機能を有すると、被測定基板の姿
勢を変更する手段と、アライメント手段とを別々に設け
る場合に比べ、両者の間での被測定基板の受け渡しをす
る手段が不要であるから、それだけ構造が簡単になり、
廉価になる。
If the alignment means has not only an alignment function but also a function of changing the substrate to be measured from a horizontal state to an inclined state or vice versa, the means for changing the posture of the substrate to be measured, the alignment means, Since the means for transferring the substrate to be measured between the two is not required as compared with the case where the
It will be cheaper.

【0009】前記アライメント手段は被測定基板を水平
の状態で前記第1の処理手段に対し受け渡しをするター
ンテーブルであって受けた被測定基板の方向合わせをす
べく上下方向へ伸びる第1の軸線の周りに回転されるタ
ーンテーブルを含むことができる。これにより、被測定
基板の長手方向をアライメント手段において変更するこ
とができるから、被測定基板の方向あわせをする手段を
特別に設ける必要がなくる。
The alignment means is a turntable for transferring the substrate to be measured to the first processing means in a horizontal state, and a first axis extending vertically to align the direction of the received substrate. Can be included around the turntable. Thereby, the longitudinal direction of the substrate to be measured can be changed by the alignment means, so that there is no need to provide a special means for aligning the direction of the substrate to be measured.

【0010】前記アライメント手段は、さらに、前記タ
ーンテーブル及び前記第1の処理手段に対する被測定基
板の受け渡しをするアライメントステージと、被測定基
板を水平の状態及び傾斜した状態に選択的に変位させる
べく前記アライメントステージを水平方向へ伸びる第2
の軸線の周りに角度的に回転させる駆動手段と、被測定
基板を前記アライメントステージに対して位置決める位
置決め手段とを含むことができる。
[0010] The alignment means further includes an alignment stage for transferring the substrate to be measured to the turntable and the first processing means, and selectively displacing the substrate to be measured into a horizontal state and an inclined state. A second extending the alignment stage horizontally.
And a positioning unit for positioning the substrate to be measured with respect to the alignment stage.

【0011】前記位置決め手段は、前記メントステージ
に配置された第1及び第2のストッパと、被測定基板の
第1の縁部を前記第1のストッパに押圧すべく前記アラ
イメントステージに配置された第1のプッシャと、被測
定基板の第2の縁部を前記第2のストッパに押圧すべく
前記アライメントステージに配置された第2のプッシャ
とを含むことができる。これにより、被測定基板の位置
決めが確実に行われる。
The positioning means is disposed on the alignment stage so as to press first and second stoppers disposed on the ment stage and a first edge of the substrate to be measured against the first stopper. The apparatus may include a first pusher and a second pusher disposed on the alignment stage so as to press a second edge of the substrate to be measured against the second stopper. This ensures that the substrate to be measured is positioned.

【0012】前記駆動手段は、前記第2の軸線の周りに
角度的に回転されるリンクステージと、該リンクステー
ジを傾斜した状態と水平の状態とに選択的に変位させる
ステージ駆動機構とを含み、前記アライメントステージ
を前記リンクステージに支持させることができる。
The driving means includes a link stage that is angularly rotated about the second axis, and a stage driving mechanism that selectively displaces the link stage between an inclined state and a horizontal state. The alignment stage can be supported by the link stage.

【0013】前記駆動手段は、さらに、前記リンクステ
ージに支持された位置調整機構であって前記アライメン
トステージに受けた被測定基板と直交する第3の軸線方
向における前記アライメントステージの位置を調整する
位置調整機構を含むことができる。
The driving means is a position adjusting mechanism supported by the link stage, the position adjusting mechanism adjusting the position of the alignment stage in a third axis direction orthogonal to the substrate to be measured received by the alignment stage. An adjustment mechanism can be included.

【0014】前記アライメント手段は、さらに、前記第
1の方向における前記駆動手段の高さ位置を変更する高
さ変更機構を含むことがで得きる。これにより、搬送手
段に対する被測定基板の受け渡しが確実に行われる。
The alignment means can be obtained by further including a height changing mechanism for changing a height position of the driving means in the first direction. This ensures that the substrate to be measured is transferred to the transporting means.

【0015】前記アライメント手段は、さらに、被測定
基板を解除可能に吸着すべく前記アライメントステージ
に配置された1以上の吸着バッドを含むことができる。
これにより、被測定基板は、傾斜した状態に確実に維持
される。
[0015] The alignment means may further include one or more suction pads disposed on the alignment stage so as to releasably suction the substrate to be measured.
This ensures that the substrate to be measured is maintained in an inclined state.

【0016】前記アライメント手段は、さらに、被測定
基板を解除可能に吸着すべく前記ターンテーブルに配置
された1以上の吸着バッドを含むことができる。これに
より、被測定基板は、確実に方向合わせをされる。
[0016] The alignment means may further include one or more suction pads arranged on the turntable to releasably suction the substrate to be measured. Thereby, the direction of the substrate to be measured is surely aligned.

【0017】第1の処理手段としては、搬送手段又は該
搬送手段の側の部材とすることができ、第2の処理手段
としては、測定ステージ又は該測定ステージの側の部材
とすることができる。
The first processing means may be a transport means or a member on the side of the transport means, and the second processing means may be a measurement stage or a member on the side of the measurement stage. .

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図1から図4を参照するに、検査
装置10は、長方形の液晶パネルを被測定基板(被検査
基板)12とする目視点灯検査装置として用いられる。
1 to 4, an inspection apparatus 10 is used as a visual lighting inspection apparatus using a rectangular liquid crystal panel as a substrate to be measured (substrate to be inspected) 12. FIG.

【0019】検査装置10は、前面上部が上向きの傾斜
面とされた本体を含む。本体は、複数のチャンネル部材
を組み立てた本体フレームと、該本体フレームに取り外
し可能に取り付けられた複数のパネルとにより筐体の形
に形成されている。
The inspection device 10 includes a main body having an upper front surface having an upwardly inclined surface. The main body is formed in a housing shape by a main body frame in which a plurality of channel members are assembled, and a plurality of panels detachably attached to the main body frame.

【0020】本体の傾斜面の中央は被測定基板の測定部
(すなわち、検査部)14とされており、測定部の左右
両側のそれぞれは被測定基板のための中継部16とされ
ている。本体の後部は、カセット設置部(すなわち、カ
セット設置台)18とされている。本体の前後方向中央
部は、中継部16とカセット設置部18との間で被測定
基板を搬送するローダ部20とされている。
The center of the inclined surface of the main body is a measurement section (ie, an inspection section) 14 of the substrate to be measured, and each of the left and right sides of the measurement section is a relay section 16 for the substrate to be measured. The rear portion of the main body is a cassette installation section (that is, a cassette installation table) 18. A central portion in the front-rear direction of the main body is a loader section 20 for transporting the substrate to be measured between the relay section 16 and the cassette installation section 18.

【0021】測定用プローブユニット22は、複数のプ
ローブブロックを矩形の基板に取り付けた公知のもので
あり、また、測定部14に配置されている。プローブユ
ニット22の基板は、その斜め下側に配置された被測定
基板12を目視により検査する矩形の開口24を有す
る。測定部14には、また、検査装置10の作動を制御
する操作パネル26と、検査部14に搬送された被測定
パネルを観察するための光学顕微鏡28とが配置されて
いる。
The measurement probe unit 22 is of a known type in which a plurality of probe blocks are mounted on a rectangular substrate, and is arranged in the measurement section 14. The substrate of the probe unit 22 has a rectangular opening 24 for visually inspecting the measured substrate 12 disposed diagonally below. The measurement unit 14 further includes an operation panel 26 for controlling the operation of the inspection device 10 and an optical microscope 28 for observing the panel to be measured transported to the inspection unit 14.

【0022】複数のカセット30は、カセット設置部1
8に配置されている。図に示す例では、複数のカセット
30を重ねた4つのカセット群が設置されている。被測
定基板は、各カセット30に収容されている。
The plurality of cassettes 30 are provided in the cassette installation section 1.
8. In the example shown in the figure, four cassette groups in which a plurality of cassettes 30 are stacked are installed. The substrate to be measured is accommodated in each cassette 30.

【0023】被測定基板の受け渡し及び搬送は、ローダ
部20に配置された搬送ロボット34により被測定基板
を水平に維持した状態で行われる。
The transfer and transfer of the substrate to be measured are performed while the substrate to be measured is kept horizontal by the transfer robot 34 disposed in the loader section 20.

【0024】搬送ロボット34は、ローダ部20を左右
方向へ平行に伸びる一対のガイドレール36に移動可能
に支持されており、また、モータ38及び該モータによ
り回転されるリードスクリュー40を備えるロボット移
動機構により左右方向の適宜な位置へ移動されて、カセ
ット30及び後に説明するアライメント機構50に対す
る被測定基板の受け渡し及び搬送をする。
The transport robot 34 is movably supported by a pair of guide rails 36 extending in parallel to the loader section 20 in the left-right direction. The transport robot 34 includes a motor 38 and a lead screw 40 rotated by the motor. The substrate is moved to an appropriate position in the left-right direction by the mechanism, and transfers and transfers the substrate to be measured to the cassette 30 and an alignment mechanism 50 described later.

【0025】搬送ロボット34は、ガイドレール36に
沿って移動されるスライダ48と、該スライダの上に取
り付けられた駆動機構44と、該駆動機構により別々に
駆動されて被測定基板の受け渡しをする一対のロボット
アーム46とを備える。被測定基板は、搬送ロボット3
4により、長手方向がロボットアーム46の長手方向と
一致した状態で水平に搬送されるとともに、受け渡しを
される。
The transfer robot 34 moves the slider 48 along the guide rail 36, the drive mechanism 44 mounted on the slider, and is separately driven by the drive mechanism to transfer the substrate to be measured. A pair of robot arms 46 is provided. The substrate to be measured is transport robot 3
By 4, the wafer is conveyed horizontally in a state where the longitudinal direction matches the longitudinal direction of the robot arm 46, and is transferred.

【0026】搬送ロボット34において、カセット30
に対する被測定基板の受け渡しは、一方のロボットアー
ムに受けている測定済みの被測定基板を適宜なカセット
群のカセットに渡すとともに、他のカセット内の未測定
の被測定基板を同じロボットアーム又は他方のロボット
アームに受け取るように、制御することができる。
In the transfer robot 34, the cassette 30
The transfer of the substrate to be measured is performed by transferring the substrate to be measured, which has been received by one of the robot arms, to a cassette of an appropriate cassette group, and transferring the unmeasured substrate to be measured in another cassette to the same robot arm or the other. Can be controlled to receive the robot arm.

【0027】アライメント機構50に対する被測定基板
の受け渡しは、測定済みの被測定基板を一方のロボット
アームに受け取るとともに、他方のロボットアームに受
けている未測定の被測定基板を同じアライメント機構5
0に渡すように、制御することができる。
The transfer of the substrate to be measured to the alignment mechanism 50 includes receiving the measured substrate to be measured by one of the robot arms, and transferring the unmeasured substrate to be received by the other robot arm to the same alignment mechanism 5.
It can be controlled to pass to zero.

【0028】アライメント機構50は、各中継部16内
にあってローダ部20の側に配置されており、また、図
示の例ではプリアライメント機構である。
The alignment mechanism 50 is disposed in each relay section 16 and on the side of the loader section 20, and is a pre-alignment mechanism in the illustrated example.

【0029】図5から図7に示すように、各アライメン
ト機構50は、搬送ロボット34に対し水平の状態で被
測定基板の受け渡しをするターンテーブル52と、ター
ンテーブル52及び後に説明する中継機構100,10
2に対し傾斜した状態で被測定基板の受け渡しをするア
ライメントステージ54と、長方形の板の形を有する昇
降ベース56と、昇降ベース56上に取り付けられたテ
ーブルベース58と、昇降ベース56上に取り付けられ
たリンクステージ60とを備える。
As shown in FIGS. 5 to 7, each alignment mechanism 50 includes a turntable 52 for transferring a substrate to be measured in a horizontal state with respect to the transfer robot 34, a turntable 52, and a relay mechanism 100 described later. , 10
2. An alignment stage 54 for transferring a substrate to be measured in a state of being inclined with respect to 2, a lifting base 56 having a rectangular plate shape, a table base 58 mounted on the lifting base 56, and a mounting on the lifting base 56. And a linked stage 60.

【0030】ターンテーブル52は、テーブルベース5
8に上下方向へ伸びる軸線の周りに回転可能にほぼ水平
に支持されており、被測定基板を解放可能に水平の状態
に真空吸着する複数の吸着パッド62を上面に有する。
ターンテーブル52は、受けた被測定基板の方向を合わ
せるべく電動機64により上下方向へ伸びる軸線の周り
に回転される。電動機64は、テーブルベース58に取
り付けられている。
The turntable 52 includes a table base 5
8 has a plurality of suction pads 62 on the upper surface which are supported substantially horizontally so as to be rotatable about an axis extending in the vertical direction, and which vacuum-sucks the substrate to be measured in a releasable horizontal state.
The turntable 52 is rotated by an electric motor 64 about an axis extending in the vertical direction so as to adjust the direction of the substrate to be received. The electric motor 64 is attached to the table base 58.

【0031】ターンテーブル52の回転位置は、テーブ
ルベース58上に取り付けられた一対のセンサ66と、
ターンテーブル52の下側に取り付けられた被感知部材
68との共同作用により感知される。センサ66は、電
動機64の回転軸線を中心に90度離されている。この
ため、ターンテーブル52の回転範囲は90度の範囲に
制限される。これにより被測定基板はその長手方向が前
後方向から左右方向に又はその逆になるように変更され
る。
The rotational position of the turntable 52 is determined by a pair of sensors 66 mounted on the table base 58,
It is sensed by the cooperative action with the sensed member 68 attached to the lower side of the turntable 52. The sensors 66 are separated by 90 degrees about the rotation axis of the electric motor 64. For this reason, the rotation range of the turntable 52 is limited to a range of 90 degrees. Thereby, the length of the substrate to be measured is changed from the front-back direction to the left-right direction or vice versa.

【0032】アライメントステージ54は、板材により
ターンテーブル52の3方を囲むコ字状に形成されてお
り、また、被測定基板を解放可能に真空吸着する複数の
吸着パッド70を上面に有する。
The alignment stage 54 is formed in a U-shape surrounding the turntable 52 by a plate material, and has a plurality of suction pads 70 on its upper surface for releasably vacuum-sucking the substrate to be measured.

【0033】アライメントステージ54は、リニアシャ
フト72とリードスクリュー74とによりリンクステー
ジ60に昇降可能に支持されている。リニアシャフト7
2はリンクステージ60に取り付けられたリニアブッシ
ュ76を上下方向に貫通しており、リードスクリュー7
4はリンクステージ60に取り付けられた電動機78の
ナット部と螺合している。このため、アライメントステ
ージ54は、電動機78の回転により、アライメントス
テージ54に受けた被測定基板と直角の軸線の方向へ移
動される。
The alignment stage 54 is supported by a link stage 60 by a linear shaft 72 and a lead screw 74 so as to be able to move up and down. Linear shaft 7
Numeral 2 penetrates a linear bush 76 attached to the link stage 60 in the up-down direction.
Reference numeral 4 is screwed with a nut of an electric motor 78 attached to the link stage 60. Therefore, the alignment stage 54 is moved in the direction of the axis perpendicular to the substrate to be measured received by the alignment stage 54 by the rotation of the electric motor 78.

【0034】アライメントステージ54には、2組のス
トッパ80と、2組のプッシャ82とが取り付けられて
いる。ストッパ80は仮想的な長方形の隣合う2つの縁
部に対応する箇所に設けられており、プッシャ82はそ
の長方形の他の隣り合う縁部に対応する箇所に設けられ
ている。
Two sets of stoppers 80 and two sets of pushers 82 are attached to the alignment stage 54. The stopper 80 is provided at a position corresponding to two adjacent edges of the virtual rectangle, and the pusher 82 is provided at a position corresponding to another adjacent edge of the rectangle.

【0035】各プッシャ82は、アクチュエータ84に
より図5において点線で示す位置と実線で示す位置とに
回転される。具体的には、各プッシャ82は、被測定基
板を搬送ロボット34に対し受け渡すとき、点線で示す
ように後退され、被測定基板を受け取った後被測定基板
を吸着パッド62に吸着する前に、実線で示す位置に回
転されて、その被測定基板を対向するストッパ80に押
圧する。これにより、被測定基板は、その縁部がストッ
パ80に接触することにより、アライメントステージ5
4上においてアライメントをされる。その後、吸着パッ
ド62に吸着される。
Each pusher 82 is rotated by an actuator 84 between a position shown by a dotted line and a position shown by a solid line in FIG. Specifically, when the pusher 82 transfers the substrate to be measured to the transfer robot 34, the pusher 82 is retracted as indicated by a dotted line, and after receiving the substrate to be measured, The substrate to be measured is rotated to the position shown by the solid line and presses the substrate to be measured against the stopper 80 facing the substrate. As a result, the edge of the substrate to be measured comes into contact with the stopper 80 so that the alignment stage 5
4 is aligned. Then, it is sucked by the suction pad 62.

【0036】昇降ベース56は、装置本体に連結された
一対のフレーム86を上下方向に滑動可能に貫通する複
数のシャフト88の下端にほぼ水平に取り付けられてお
り、また、シリンダにおいてフレーム86に取り付けら
れた一対のエアーシリンダ90のピストンロッドに連結
されている。両エアーシリンダ90は、同期して伸縮さ
れる。このため、昇降部ベース56及びこれに支持され
た各種の部材の高さ位置をエアーシリンダ90により変
更することができる。
The elevating base 56 is substantially horizontally attached to the lower ends of a plurality of shafts 88 slidably passing vertically through a pair of frames 86 connected to the apparatus main body. It is connected to the piston rods of the paired air cylinders 90. Both air cylinders 90 extend and contract in synchronization. For this reason, the height position of the elevating / lowering portion base 56 and various members supported by the same can be changed by the air cylinder 90.

【0037】リンクステージ60は、昇降ベース56上
に水平方向へ間隔をおいて取り付けられた一対のブラケ
ット92と、軸受(図示せず)を用いて両ブラケット9
2に回転可能に組み付けられたシャフト94とにより、
水平方向へ伸びる軸線の周りに回転(枢軸運動)可能に
昇降ベース56に組み付けられている。
The link stage 60 is composed of a pair of brackets 92 mounted on the elevating base 56 at intervals in the horizontal direction and a pair of brackets 9 using bearings (not shown).
2 with a shaft 94 rotatably assembled
It is mounted on a lifting base 56 so as to be able to rotate (axis movement) around an axis extending in the horizontal direction.

【0038】リンクステージ60は、エアーシリンダ9
6により昇降ベース56に連結されている。エアーシリ
ンダ96は、連結中心がブラケット98により昇降ベー
ス56に連結されており、また、シャフト94の軸線よ
りやや上方の位置になるようにリンクステージ60に枢
軸的に連結されている。
The link stage 60 is mounted on the air cylinder 9
6 is connected to the lifting base 56. The air cylinder 96 has a connection center connected to the lifting base 56 by a bracket 98 and is pivotally connected to the link stage 60 so as to be slightly above the axis of the shaft 94.

【0039】エアーシリンダ96が図7に示す収縮状態
から伸張されると、リンクステージ60及びこれに支持
された各種の部材は、図19に示すように、シャフト9
4を支点として昇降ベース56に対して回動され、それ
によりアライメントベース54に受けられている被測定
基板を水平の状態から傾斜した状態に変更する。
When the air cylinder 96 is extended from the contracted state shown in FIG. 7, the link stage 60 and various members supported by the link stage 60 are moved to the shaft 9 as shown in FIG.
The substrate 4 is rotated about the lifting base 56 with the fulcrum 4 as a fulcrum, thereby changing the substrate to be measured received by the alignment base 54 from a horizontal state to an inclined state.

【0040】第1及び第2の中継機構100,102
は、各中継部16内にあってアライメント機構50より
前方に傾斜した状態に配置されている。
First and second relay mechanisms 100 and 102
Are arranged in each relay section 16 so as to be inclined forward of the alignment mechanism 50.

【0041】図8から図11に示すように、各中継機構
100,102は、一対のベース104を本体フレーム
に支持させ、第1の可動体106を斜め上向きの仮想的
な傾斜面に沿って上下方向へ移動可能にベース104に
配置している。
As shown in FIGS. 8 to 11, each of the relay mechanisms 100 and 102 has the pair of bases 104 supported by the main body frame, and the first movable body 106 extends along an imaginary inclined surface obliquely upward. It is arranged on the base 104 so as to be movable up and down.

【0042】両ベース104は、長い板状部材から形成
されており、また、第1の可動体106の左右方向側部
を上記の傾斜面に沿って上下方向へ平行に伸びるように
本体フレームに連結されている。
The two bases 104 are formed of long plate-like members. The left and right sides of the first movable body 106 are formed on the main body frame so as to extend in the vertical direction along the inclined surface in the vertical direction. Are linked.

【0043】第1の可動体106は、処理すべき被測定
基板より大きい長方形の開口108を中央に有する長方
形の板部材から形成されている。第1の可動体106
は、リニアシャフト110とリードスクリュー112と
により両ベース104に支持されている。
The first movable body 106 is formed of a rectangular plate member having a rectangular opening 108 at the center which is larger than the substrate to be processed. First movable body 106
Are supported on both bases 104 by a linear shaft 110 and a lead screw 112.

【0044】リニアシャフト110は、一方のベース1
04に一対のブラケット114により支持されており、
また、第1の可動体106の一方の側部に取り付けられ
たリニアブッシュ116を滑動可能に貫通している。リ
ードスクリュー112は、他方のベース104に一対の
ブラケット118により回転可能に取り付けられてお
り、また、第1の可動体106の他方の側部に取り付け
られたリードナット120に螺合している。
The linear shaft 110 has one base 1
04 is supported by a pair of brackets 114,
Further, a linear bush 116 attached to one side of the first movable body 106 is slidably penetrated. The lead screw 112 is rotatably attached to the other base 104 by a pair of brackets 118, and is screwed to a lead nut 120 attached to the other side of the first movable body 106.

【0045】各リードスクリュー112は、逆転可能の
電動機122により回転されて、第1の可動体を移動さ
せる。電動機122は、ブラケット124によりフレー
ム104に取り付けられている。
Each lead screw 112 is rotated by a reversible motor 122 to move the first movable body. The electric motor 122 is attached to the frame 104 by a bracket 124.

【0046】第1の可動体106は、後述する測定ステ
ージ150に対する被測定基板の受け渡しをする第1の
位置と、アライメント機構50に対する被測定基板の受
け渡しをする第2の位置とに選択的に移動される。図8
において、第1の位置は第1の中継機構100の第1の
可動体106の位置であり、第2の位置は第2の中継機
構102の第1の可動体106の位置であり、第1の位
置は第2の位置より上方である。第1の可動体が第1及
び第2の位置のいずれにあっても、第1の可動体106
は傾斜されている。
The first movable body 106 is selectively provided between a first position for transferring a substrate to be measured to a measurement stage 150 described later and a second position for transferring a substrate to be measured to the alignment mechanism 50. Be moved. FIG.
, The first position is the position of the first movable body 106 of the first relay mechanism 100, the second position is the position of the first movable body 106 of the second relay mechanism 102, Is above the second position. Regardless of whether the first movable body is in the first or second position, the first movable body 106
Is inclined.

【0047】第1及び第2の中継機構100,102
は、一方が斜め上側となり、他方が斜め下側となるよう
に、及び、両第1の可動体106の移動路が受けた被測
定基板と直交する方向へ間隔をおくように、配置されて
いる。これにより、両第1の可動体106の移動が干渉
しない。
First and second relay mechanisms 100 and 102
Are arranged so that one is on the obliquely upper side and the other is on the obliquely lower side, and that the moving path of both first movable bodies 106 is spaced in the direction orthogonal to the substrate to be received. I have. Thus, the movements of the first movable bodies 106 do not interfere with each other.

【0048】第1の可動体106は、一対の細長い第2
の可動体(すなわち、摺動アーム)126を第1の可動
体106の移動方向へ移動可能に支持している。第2の
可動体126は、第1の可動体106の移動方向に間隔
をおいて平行に左右方向へ伸びている。
The first movable body 106 comprises a pair of elongated second
(That is, a sliding arm) 126 is supported so as to be movable in the moving direction of the first movable body 106. The second movable body 126 extends in the left-right direction in parallel with a gap in the moving direction of the first movable body 106.

【0049】各第2の可動体126は、レール128に
より一端部において第1の可動体106に支持されてお
り、また、八字状の一対のリンクアーム130により他
端部において第1の可動体106に支持されている。こ
れにより、第2の可動体126が第1の可動体106に
片持ち梁状に支持されていても、第2の可動体126は
第1の可動体106に対する移動をレール128及び両
リンクアーム130により正しく規制される。
Each of the second movable bodies 126 is supported at one end by a rail 128 on the first movable body 106, and at the other end by a pair of octagonal link arms 130. It is supported by 106. Accordingly, even if the second movable body 126 is supported by the first movable body 106 in a cantilever manner, the second movable body 126 can move with respect to the first movable body 106 by the rail 128 and the two link arms. 130 regulates correctly.

【0050】レール128に対する第2の可動体126
の位置は、第2の可動体126の一端部に螺合された止
めねじ132をゆるめることにより変更可能であるが、
測定の間は止めねじ132を締め付けることにより変位
不能に維持される。
The second movable body 126 with respect to the rail 128
Can be changed by loosening the set screw 132 screwed to one end of the second movable body 126,
During the measurement, the set screw 132 is kept immovable by tightening the set screw 132.

【0051】リンクアーム130は、一端部を第2の可
動体126に枢軸ピン134により揺動可能に連結され
ており、他端部を長穴136及び枢軸ピン138により
リンクアーム130の長手方向へ相対的に移動可能に連
結されている。これにより、両第2の可動体126は相
寄り相離れる方向へ平行に移動される。
One end of the link arm 130 is swingably connected to the second movable body 126 by a pivot pin 134, and the other end of the link arm 130 is extended in the longitudinal direction of the link arm 130 by an elongated hole 136 and a pivot pin 138. They are relatively movably connected. As a result, both the second movable bodies 126 are moved in parallel in the direction in which they move toward and away from each other.

【0052】各第2の可動体126には、被測定基板を
受ける一対のホルダ140がスライドガイド142によ
り第2の可動体126の移動方向へ平行移動可能に配置
されている。ホルダ140は、左右方向に間隔をおいて
おり、また、エアーシリンダ144と、両ホルダ140
を連結する連結アーム146とにより同時に移動され
る。
A pair of holders 140 for receiving a substrate to be measured are arranged on each second movable body 126 so as to be movable in parallel in the direction of movement of the second movable body 126 by a slide guide 142. The holder 140 is spaced apart in the left-right direction, and has an air cylinder 144 and both holders 140.
Are simultaneously moved by the connecting arm 146 connecting the.

【0053】各ホルダ140は、被測定基板の縁部を受
け入れるコ字状の凹所148(図12及び図13参照)
を有する。一方の第2の可動体126の両ホルダ140
と、他方の第2の可動体126の両ホルダ140とは、
凹所148を対向させている。両第2の可動体126の
ホルダ140は、同期して作動されるエアーシリンダ1
44により、被測定基板12を把持するとき相寄る方向
へ移動され、被測定基板を解放するとき相離れる方向へ
移動される。
Each holder 140 has a U-shaped recess 148 for receiving the edge of the substrate to be measured (see FIGS. 12 and 13).
Having. Both holders 140 of one second movable body 126
And both holders 140 of the other second movable body 126,
The recesses 148 face each other. The holder 140 of each of the second movable bodies 126 is provided with the air cylinder 1 that is operated in synchronization.
Due to the movement of the substrate to be measured 12, the substrate 12 is moved in the direction in which the substrate to be measured is approached, and when the substrate to be measured is released, the substrate is moved in the direction in which the substrate 12 is released.

【0054】測定ステージ150は、各中継部16に配
置されている。図3、図14及び図15に示すように、
各測定ステージ150は、被測定基板を解放可能に吸着
するワークテーブル152と、ワークテーブル152を
これに受けた被測定基板と直交する軸線の周りに角度的
に回転させるθステージ154と、ワークテーブル15
2をこれに受けた被測定基板と直交する軸線の方向へ移
動させるZステージ156と、ワークテーブル152を
これに受けた被測定基板と平行の面内で斜め上下方向
(Y方向)へ移動させるYステージ158と、受けた被
測定基板と平行の面内で左右方向(X方向)へ移動され
るステージベース160とを備える。
The measurement stage 150 is arranged at each relay section 16. As shown in FIGS. 3, 14 and 15,
Each of the measurement stages 150 includes a work table 152 for releasably adsorbing the substrate to be measured, a θ stage 154 for rotating the work table 152 angularly around an axis orthogonal to the substrate to be received, and a work table 152. Fifteen
2 is moved in the direction of an axis perpendicular to the substrate to be measured, and the work table 152 is moved obliquely up and down (Y direction) in a plane parallel to the substrate to be received. The stage includes a Y stage 158 and a stage base 160 that is moved in the horizontal direction (X direction) in a plane parallel to the substrate to be measured.

【0055】ワークテーブル152、θステージ15
4、Zステージ156、及び、Yステージ158は、そ
れぞれ、θステージ154、Zステージ156、Yステ
ージ158、及び、ステージベース160に支持されて
いる。
Work table 152, θ stage 15
4, the Z stage 156, and the Y stage 158 are supported by the θ stage 154, the Z stage 156, the Y stage 158, and the stage base 160, respectively.

【0056】ワークテーブル152は斜め上方に開口す
る凹所を有する直方体状の箱の形を有しており、被測定
基板を受ける受け面は長方形の形状を有する。ワークテ
ーブル152の凹所内には、被測定基板を照明するバッ
クライトユニット(図示せず)が設けられている。
The work table 152 has the shape of a rectangular parallelepiped box having a recess opening diagonally upward, and the receiving surface for receiving the substrate to be measured has a rectangular shape. In the recess of the work table 152, a backlight unit (not shown) for illuminating the substrate to be measured is provided.

【0057】ワークテーブル152は、被測定基板を真
空吸着する複数の吸着溝162を上面に有し、中継機構
100,102に対する被測定基板の受け渡し時に中継
機構100,102のホルダ140を受け入れる複数の
切り欠き部164を上面に有し、一対のストッパ166
を長方形の隣り合う2つの辺のそれぞれに有し、長方形
の隣り合う他の2つの辺のそれぞれにプッシャ168を
有する。
The work table 152 has on its upper surface a plurality of suction grooves 162 for vacuum-sucking the substrate to be measured, and a plurality of receiving grooves 162 for receiving the holders 140 of the relay mechanisms 100 and 102 when the substrate to be measured is transferred to the relay mechanisms 100 and 102. A notch 164 is provided on the upper surface, and a pair of stoppers 166 are provided.
On each of two adjacent sides of the rectangle, and a pusher 168 on each of the other two adjacent sides of the rectangle.

【0058】各プッシャ168は、アクチュエータ17
0により図14において点線で示す位置と実線で示す位
置との回転され、実線で示す位置に回転されることによ
り被測定基板を対向する縁部に設けられたストッパ16
6に押圧する。これにより、被測定基板は測定ステージ
150においてもアライメントをされる。また、被測定
基板は、その基板に形成されたアライメントマークを撮
影する図示しないテレビカメラの出力信号の画像処理を
する技術を用いて、ステージ154,158及びステー
ジベース160により精密アライメントをされる。
Each pusher 168 is connected to the actuator 17
In FIG. 14, the stopper 16 is rotated between a position indicated by a dotted line and a position indicated by a solid line in FIG.
Press 6. Thereby, the substrate to be measured is also aligned on the measurement stage 150. Further, the substrate to be measured is precisely aligned by the stages 154 and 158 and the stage base 160 by using a technique of performing image processing of an output signal of a television camera (not shown) that captures an alignment mark formed on the substrate.

【0059】測定ステージ150は、被測定基板を傾斜
した状態に支持するように、リニアレール172と、該
リニアレールに滑動可能に嵌合する1以上のリニアガイ
ド174と、スライドレール176と、該スライドレー
ルに滑動可能に嵌合する1以上のスライドガイド178
とによりフレーム180に受けられている。
The measurement stage 150 includes a linear rail 172, one or more linear guides 174 slidably fitted on the linear rail, a slide rail 176, and a linear rail 172 so as to support the substrate to be measured in an inclined state. One or more slide guides 178 that slidably fit on slide rails
And is received by the frame 180.

【0060】リニアレール170及びリニアガイド17
4は、それぞれ、リニアモータの固定子及び可動子であ
る。リニアレール172とスライドレール176とは、
測定部14と対応する中継部16との間に設けられてい
る。リニアガイド174とスライドガイド78とは、対
応する測定ステージ150のステージベース160に設
けられている。
Linear rail 170 and linear guide 17
Reference numeral 4 denotes a stator and a mover of the linear motor, respectively. The linear rail 172 and the slide rail 176 are
It is provided between the measurement unit 14 and the corresponding relay unit 16. The linear guide 174 and the slide guide 78 are provided on the stage base 160 of the corresponding measurement stage 150.

【0061】測定ステージ150及びフレーム180が
傾斜されていることから、測定ステージ150は、フレ
ーム180に設けられたスライドガイドレール182
と、該スライドレールに滑動可能に嵌合する複数のスラ
イドガイド184とにより、傾斜した状態に維持される
とともに、横転することを防止されている。スライドガ
イドガイド184は、対応するステージベース150の
側部に取り付けられている。
Since the measuring stage 150 and the frame 180 are inclined, the measuring stage 150 is provided with a slide guide rail 182 provided on the frame 180.
And a plurality of slide guides 184 which are slidably fitted to the slide rails, so that they are maintained in an inclined state and are prevented from rolling over. The slide guides 184 are attached to the corresponding side portions of the stage base 150.

【0062】レール172,176及び182は、両測
定ステージ150で共通に利用するように設けてもよい
し、測定ステージ150毎に設けてもよい。いずれの場
合も、測定ステージ150の駆動手段としてリニアモー
タを用いれば、リードスクリューのような他の駆動手段
を用いた場合に比べ、測定ステージの移動時の振動が著
しく小さいから、一方の測定ステージ上の被測定基板の
測定時に、他方の測定ステージを移動させても、一方の
測定ステージ上の被測定基板の測定が他方の測定ステー
ジの移動の影響を受けない。
The rails 172, 176 and 182 may be provided so as to be used in common by both measurement stages 150, or may be provided for each measurement stage 150. In any case, if a linear motor is used as the driving means of the measuring stage 150, compared to the case of using other driving means such as a lead screw, the vibration during the movement of the measuring stage is extremely small. Even when the other measurement stage is moved during the measurement of the upper substrate to be measured, the measurement of the substrate to be measured on one measurement stage is not affected by the movement of the other measurement stage.

【0063】検査装置10において、未測定の被測定基
板を搬送ロボット34からターンテーブル52に受け渡
すとき、アライメント機構50のアライメントベース6
0は水平の状態に維持されており、昇降ベース56はエ
アーシリンダ90により下げられている。従って、昇降
ベース56に支持された各種の部材も下げられている。
また、アライメントステージ54は、図16に示すよう
に、電動機78によりターンテーブル52より下方に下
げられている。
In the inspection apparatus 10, when the unmeasured substrate is transferred from the transfer robot 34 to the turntable 52, the alignment base 6 of the alignment mechanism 50 is used.
0 is maintained in a horizontal state, and the lifting base 56 is lowered by the air cylinder 90. Therefore, various members supported by the elevating base 56 are also lowered.
The alignment stage 54 is lowered below the turntable 52 by an electric motor 78 as shown in FIG.

【0064】上記状態で、先ず、被測定基板12がその
長手方向を前後方向とした状態で搬送ロボット34のア
ーム44によりターンテーブル52の上方に搬送され
る。
In the above state, first, the substrate to be measured 12 is transported above the turntable 52 by the arm 44 of the transport robot 34 with the longitudinal direction of the substrate 12 set in the front-back direction.

【0065】次いで、図16に示すように、搬送ロボッ
ト34のアーム44が下げられて被測定基板12がター
ンテーブル52に渡されるとともに、ターンテーブル5
2の吸着パッド62が作動して被測定基板12を吸着す
る。これにより、被測定基板12がターンテーブル52
に受けられる。この状態で、アーム34はアライメント
機構50から後退される。
Next, as shown in FIG. 16, the arm 44 of the transfer robot 34 is lowered so that the substrate 12 to be measured is transferred to the turntable 52, and the turntable 5 is turned on.
The second suction pad 62 operates to suck the substrate to be measured 12. As a result, the measured substrate 12 is
Can be received. In this state, the arm 34 is retracted from the alignment mechanism 50.

【0066】次いで、図17に示すように、ターンテー
ブル52が電動機64により回転される。ターンテーブ
ル52の回転量は、センサ66と被感知部材68とによ
り90度に制限される。これにより、被測定基板12
は、その長手方向が前後方向から左右方向となるよう
に、回転される。
Next, as shown in FIG. 17, the turntable 52 is rotated by the electric motor 64. The rotation amount of the turntable 52 is limited to 90 degrees by the sensor 66 and the sensed member 68. Thereby, the measured substrate 12
Is rotated so that its longitudinal direction is from the front-back direction to the left-right direction.

【0067】次いで、吸着パッド62が被測定基板12
を解放した状態で、アライメントステージ54が電動機
78の回転によりターンテーブル52より上方へ移動さ
れ、プッシャ82がアクチュエータ84により回転され
て、被測定基板12をストッパ80に押す。これによ
り、図18に示すように、被測定基板12は、アライメ
ントステージ54に移され、ストッパ80とプッシャ8
2とに把持されるとともに、アライメントステージ54
に対する被測定基板12のプリアライメントが行われ
る。
Next, the suction pad 62 is moved to the substrate 12 to be measured.
Is released, the alignment stage 54 is moved above the turntable 52 by the rotation of the electric motor 78, and the pusher 82 is rotated by the actuator 84 to push the substrate 12 to be measured against the stopper 80. As a result, as shown in FIG. 18, the measured substrate 12 is moved to the alignment stage 54, and the stopper 80 and the pusher 8 are moved.
2 and the alignment stage 54
Of the substrate 12 to be measured is performed.

【0068】次いで、昇降ベース56がエアシリンダ9
0により上昇され、それにより、中継機構100,10
2に対するアライメント機構50の高さ調整が行われ
る。
Next, the lifting base 56 is connected to the air cylinder 9.
0, so that the relay mechanisms 100, 10
2, the height of the alignment mechanism 50 is adjusted.

【0069】次いで、エアーシリンダ96が伸張され
る。これにより、図19に示すように、リンクステージ
60がシャフト94の軸線の周りに回転されるから、ア
ライメントステージ54は被測定基板12を吸着パッド
70に吸着した状態で傾けられ、被測定基板12は水平
状態から傾斜状態に変更される。この状態で、アライメ
ント機構50と中継機構100又は102への被測定基
板12の受け渡しが行われる。
Next, the air cylinder 96 is extended. As a result, as shown in FIG. 19, the link stage 60 is rotated around the axis of the shaft 94, so that the alignment stage 54 is tilted while the substrate to be measured 12 is attracted to the suction pad 70, and the substrate to be measured 12 Is changed from the horizontal state to the inclined state. In this state, the substrate to be measured 12 is transferred to the alignment mechanism 50 and the relay mechanism 100 or 102.

【0070】被測定基板12をアライメント機構50か
ら中継機構100(又は102)に渡すとき、図20に
示すように、第1及び第2の中継機構100,102の
いずれか一方の第1の可動体106は測定ステージ15
0に対する受け渡しをする第1の位置に移動されてお
り、他方の第1の可動体106はアライメント機構50
に対する受け渡しをする第2の位置に移動されている。
When the substrate 12 to be measured is transferred from the alignment mechanism 50 to the relay mechanism 100 (or 102), as shown in FIG. 20, the first movable mechanism of one of the first and second relay mechanisms 100 and 102 is used. The body 106 is the measurement stage 15
0 has been moved to the first position for delivery to the
Has been moved to a second position to deliver to.

【0071】図20は、第1の中継機構100の第1の
可動体106を実線で示し、第2の中継機構102の第
1の可動体106を一点差線で示す。以下の説明では、
第1の中継機構100の可動体106が第2の位置に移
動されている。被測定基板12を第1の中継機構100
の可動体106に渡すものとする。しかし、被測定基板
12を第2の中継機構102の可動体106に渡す場合
も同様に動作する。
FIG. 20 shows the first movable body 106 of the first relay mechanism 100 by a solid line, and the first movable body 106 of the second relay mechanism 102 by a dashed line. In the following description,
The movable body 106 of the first relay mechanism 100 has been moved to the second position. The substrate to be measured 12 is connected to the first relay mechanism 100.
To the movable body 106. However, the same operation is performed when the measured substrate 12 is transferred to the movable body 106 of the second relay mechanism 102.

【0072】先ず、アライメントステージ54が傾斜さ
れた状態において、図21に示すように、被測定基板1
2がこれと直角方向におけるホルダ140の位置に達す
るまで、アライメントステージ54が電動機78により
さらに突出され、その状態でホルダ140がエアーシリ
ンダ144により相寄る方向へ移動される。これによ
り、ホルダ140は、図12及び図13に点線で示すよ
うに、被測定基板12の縁部を凹所148に受け入れ
て、被測定基板12を把持する。
First, when the alignment stage 54 is tilted, as shown in FIG.
Until 2 reaches the position of holder 140 in a direction perpendicular to this, alignment stage 54 is further protruded by electric motor 78, and in this state, holder 140 is moved by air cylinder 144 in the direction approaching. As a result, the holder 140 receives the edge of the substrate to be measured 12 into the recess 148 and grips the substrate to be measured 12, as indicated by the dotted lines in FIGS.

【0073】次いで、吸着パッド70が被測定基板12
を解放した後、アライメントステージ54が電動機78
により第1の可動体106の位置より後退される。
Next, the suction pad 70 is moved to the substrate 12 to be measured.
Is released, the alignment stage 54 is driven by the electric motor 78.
As a result, it is retracted from the position of the first movable body 106.

【0074】第1の中継機構100とアライメントステ
ージ54との間における未測定の被測定基板12の受け
渡しが終了するまでに、対応する測定ステージ150
は、測定部14から対応する中継部16に移動されて、
測定済みの被測定基板を第2の中継器102に渡し終わ
っており、従ってその測定ステージ150は第1の位置
に待機している。
By the time the transfer of the unmeasured substrate 12 between the first relay mechanism 100 and the alignment stage 54 is completed, the corresponding measurement stage 150
Is moved from the measurement unit 14 to the corresponding relay unit 16,
The measured substrate to be measured has been transferred to the second repeater 102, and therefore the measurement stage 150 is waiting at the first position.

【0075】それゆえに、引き続き、第1の中継機構1
00の第1の可動体106が第1の位置へ移動され、第
2の中継器機構102の第1の可動体106が第2の位
置へ移動されて、第2の中継機構102とアライメント
機構50との間で測定済みの被測定基板の受け渡しが行
われるとともに、第1の中継機構100と対応する測定
ステージ150との間で未測定の被測定基板12の受け
渡しが行われる。
Therefore, the first relay mechanism 1
00, the first movable body 106 is moved to the first position, the first movable body 106 of the second relay mechanism 102 is moved to the second position, and the second relay mechanism 102 and the alignment mechanism are moved. The measured substrate to be measured is transferred between the first relay mechanism 100 and the corresponding measurement stage 150, and the unmeasured substrate 12 is transferred between the first relay mechanism 100 and the corresponding measurement stage 150.

【0076】第2の中継機構102からアライメント機
構50への測定済みの被測定基板の受け渡し及びアライ
メント機構50から搬送ロボット34への測定済みの被
測定基板の受け渡しは、上記と逆に行われる。
The delivery of the measured substrate from the second relay mechanism 102 to the alignment mechanism 50 and the delivery of the measured substrate from the alignment mechanism 50 to the transport robot 34 are performed in the reverse manner.

【0077】第1の中継機構100が第1の位置へ移動
されると、第1の位置に待機している測定ステージ15
0は、ワークテーブル152をZステージ156により
上昇させて、未測定の測定基板をワークテーブル152
に真空吸着することにより未測定の測定基板を第1の中
継機構100から受け、その状態で再度待機する。
When the first relay mechanism 100 is moved to the first position, the measurement stage 15 waiting at the first position
0, the work table 152 is raised by the Z stage 156, and the unmeasured measurement substrate is moved to the work table 152.
The unmeasured measurement substrate is received from the first relay mechanism 100 by being vacuum-sucked on the substrate, and then waits again in that state.

【0078】一方の系列において、搬送ロボット34か
らアライメント機構50への未測定の被測定基板の受け
渡しが行われている間、及び、アライメント機構50か
ら測定ステージへの未測定の被測定基板の受け渡しが行
われている間、他方の系列の測定ステージ上の被測定基
板の測定が行われる。
In one series, the transfer of the unmeasured substrate from the transfer robot 34 to the alignment mechanism 50 is performed, and the transfer of the unmeasured substrate from the alignment mechanism 50 to the measurement stage. During the measurement, the measurement of the substrate to be measured on the other series of measurement stages is performed.

【0079】他方の系列の測定ステージ上の被測定基板
の測定が終了すると、その測定ステーキは他方の系列の
中継部16に移動されて、測定済みの被測定基板を他方
の系列の中継機構に渡した後、未測定の被測定基板を他
方の系列の中継機構102または100から受けて他方
の系列の中継部16に待機する。また、一方の系列の測
定ステージ150は、未測定の被測定基板を把持した状
態で測定部14に移動される。
When the measurement of the substrate to be measured on the measurement stage of the other series is completed, the measurement steak is moved to the relay unit 16 of the other series, and the measured substrate to be measured is transferred to the relay mechanism of the other series. After the transfer, the unmeasured substrate is received from the other series of relay mechanisms 102 or 100 and stands by at the other series of relay units 16. In addition, one of the series of measurement stages 150 is moved to the measurement section 14 in a state where an unmeasured substrate to be measured is gripped.

【0080】測定済みの被測定基板を測定ステージ15
0から中継機構100又は102に渡すときは、測定ス
テージ150から中継機構100又は102は上記と逆
の動作をする。
The measured substrate to be measured is placed on the measuring stage 15
When passing from 0 to the relay mechanism 100 or 102, the relay mechanism 100 or 102 performs the reverse operation from the above from the measurement stage 150.

【0081】被測定基板12をアライメント機構50か
ら中継機構100(又は102)に及びその逆に渡すと
き、被測定基板12は、吸着パッド70に吸着されてい
るとともに、ストッパ80とプッシャ82とに把持され
ているから、アライメントステージ54からの落下を防
止されるとともに、アライメントステージ54に対する
移動を阻止されて、位置決められる。
When the substrate to be measured 12 is transferred from the alignment mechanism 50 to the relay mechanism 100 (or 102) and vice versa, the substrate to be measured 12 is sucked by the suction pad 70 and is moved by the stopper 80 and the pusher 82. Since it is grasped, it is prevented from dropping from the alignment stage 54, and is prevented from moving with respect to the alignment stage 54 to be positioned.

【0082】プッシャ82は、被測定基板12を搬送ロ
ボット34もしくは中継機構100(又は102)から
受けるときに、被測定基板12をストッパ80に押圧
し、被測定基板12を搬送ロボット34もしくは中継機
構100(又は102)に渡した後に待機位置に戻る。
When receiving the substrate 12 to be measured from the transfer robot 34 or the relay mechanism 100 (or 102), the pusher 82 presses the substrate 12 to be measured against the stopper 80, and pushes the substrate 12 to be measured into the transfer robot 34 or the relay mechanism. After passing to 100 (or 102), it returns to the standby position.

【0083】搬送ロボット34は、先ず一方の系列のア
ライメント機構50に対する測定済みの被測定基板及び
未測定の被測定基板の受け渡しをし、次いでカセット3
0に対する測定済みの被測定基板及び未測定の被測定基
板の受け渡しをし、次いで他方の系列のアライメント機
構50に対する測定済みの被測定基板及び未測定の被測
定基板の受け渡しをし、その後カセット30に対する測
定済みの被測定基板及び未測定の被測定基板の受け渡し
を再び行う動作を繰り返す。しかし、搬送ロボット34
は、前記の動作以外の動作をしてもよい。
The transfer robot 34 first transfers the measured substrate to be measured and the unmeasured substrate to one of the alignment mechanisms 50 of one system.
0, the measured substrate and the unmeasured substrate are transferred to the other series of alignment mechanisms 50, and then the measured substrate and the unmeasured substrate are transferred to the other alignment mechanism 50. The operation of transferring the measured substrate and the unmeasured substrate to and from each other is repeated. However, the transfer robot 34
May perform an operation other than the above operation.

【0084】検査装置10のように、アライメント機
構、中継機構及び検査ステージによる被測定基板の受け
渡し経路を2系列設けるとともに、各系列に2つの中継
機構を設けると、たとえ搬送ロボット及びプローブユニ
ットを1つずつ設けただけであっても、搬送ロボット、
受け渡し装置、測定ステージ及びプローブユニット等の
各機器を1つずつ設けた場合及び2つの測定ステージを
設けた場合に比べ、各機器の待ち時間が著しく短縮し、
単位時間当たりの処理能力が著しく高くなる。
As in the inspection apparatus 10, when two paths for transferring the substrate to be measured by the alignment mechanism, the relay mechanism, and the inspection stage are provided, and two relay mechanisms are provided for each series, even if the transfer robot and the probe unit are one, Transfer robots,
The waiting time of each device is significantly reduced as compared with a case where each device such as a delivery device, a measurement stage and a probe unit is provided one by one and a case where two measurement stages are provided,
The processing capacity per unit time is significantly increased.

【0085】本発明は上記実施例に限定されない。たと
えば、中継機構を設けなくてもよい。また、本発明は、
被測定基板の受け渡し経路の系列を複数設けた装置のみ
ならず、そのような系列を1つ設けた装置にも適用する
ことができる。さらに、本発明は、目視検査装置のみな
らず、自動検査装置にも適用することができる。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, the relay mechanism need not be provided. Also, the present invention
The present invention can be applied not only to an apparatus having a plurality of transfer paths for a substrate to be measured, but also to an apparatus having one such transfer path. Further, the present invention can be applied not only to a visual inspection device but also to an automatic inspection device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るアライメント装置を用いた検査装
置の一実施例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of an inspection device using an alignment device according to the present invention.

【図2】図1の検査装置の上部カバーを外した平面図で
ある。
FIG. 2 is a plan view of the inspection device of FIG. 1 with an upper cover removed.

【図3】図1に示す検査装置の縦断面図である。FIG. 3 is a longitudinal sectional view of the inspection device shown in FIG.

【図4】図3における4−4線に沿って得た断面図であ
る。
FIG. 4 is a sectional view taken along line 4-4 in FIG. 3;

【図5】本発明に係るアライメント機構の一実施例を示
す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing an embodiment of the alignment mechanism according to the present invention.

【図6】図5に示すアライメント機構の正面図である。FIG. 6 is a front view of the alignment mechanism shown in FIG.

【図7】図5に示すアライメント機構の側面図である。FIG. 7 is a side view of the alignment mechanism shown in FIG.

【図8】2つの中継機構の一実施例を示す平面図であ
る。
FIG. 8 is a plan view showing one embodiment of two relay mechanisms.

【図9】図8における9−9線に沿って得た断面図であ
る。
9 is a cross-sectional view taken along line 9-9 in FIG.

【図10】1つの中継機構の一実施例を示す拡大平面図
である。
FIG. 10 is an enlarged plan view showing one embodiment of one relay mechanism.

【図11】図10における11−11線に沿って得た断
面図である。
11 is a sectional view taken along line 11-11 in FIG.

【図12】ホルダの動作を説明するための断面図であ
る。
FIG. 12 is a sectional view for explaining the operation of the holder.

【図13】ホルダの動作を説明するための他の断面図で
ある。
FIG. 13 is another sectional view for explaining the operation of the holder.

【図14】測定ステージの一実施例を示す平面図であ
る。
FIG. 14 is a plan view showing one embodiment of a measurement stage.

【図15】図14に示す測定ステージの左側面図であ
る。
15 is a left side view of the measurement stage shown in FIG.

【図16】アライメント機構の動作の最初のステップを
説明するための図である。
FIG. 16 is a view for explaining the first step of the operation of the alignment mechanism.

【図17】アライメント機構の、図16のステップに続
くステップを説明するための図である。
FIG. 17 is a view for explaining a step subsequent to the step in FIG. 16 of the alignment mechanism.

【図18】アライメント機構の、図17のステップに続
くステップを説明するための図である。
FIG. 18 is a view for explaining a step subsequent to the step in FIG. 17 of the alignment mechanism.

【図19】アライメント機構の、図18のステップに続
くステップを説明するための図である。
FIG. 19 is a view for explaining a step subsequent to the step in FIG. 18 of the alignment mechanism.

【図20】アライメント機構の、図19のステップに続
くステップを説明するための図である。
FIG. 20 is a view for explaining a step subsequent to the step in FIG. 19 of the alignment mechanism.

【図21】アライメント機構の、図20のステップに続
くステップを説明するための図である。
FIG. 21 is a view for explaining a step subsequent to the step in FIG. 20 of the alignment mechanism.

【図22】アライメント機構の、図21のステップに続
くステップを説明するための図である。
FIG. 22 is a diagram for explaining a step subsequent to the step of FIG. 21 of the alignment mechanism.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 検査装置 12 被測定基板 14 測定部 16 中継部 18 カセット設置部 20 ローダ部 22 プローブユニット 34 搬送ロボット 44 ロボットアーム 50 アライメント機構 52 ターンテーブル 54 アライメントステージ 56 昇降ベース 58 ステージベース 60 リンクステージ 62,70 吸着パッド 64,78 電動機 80 ストッパ 82 プッシャ 84 アクチュエータ 86 フレーム 88,94 シャフト 90,96 エアーシリンダ 100,102 中継機構 104 ベース 106 第1の可動体 110 リニアシャフト 112 リードスクリュー 116 リニアブッシュ 120 リードナット 122 電動機 126 第2の可動体 128 レール 130 リンクアーム 140 ホルダ 144 エアーシリンダ 150 測定ステージ 172,178 スライドレール 174,180 スライドガイド 176 フレーム DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Inspection apparatus 12 Substrate to be measured 14 Measurement part 16 Relay part 18 Cassette installation part 20 Loader part 22 Probe unit 34 Transport robot 44 Robot arm 50 Alignment mechanism 52 Turntable 54 Alignment stage 56 Elevating base 58 Stage base 60 Link stage 62, 70 Suction pad 64, 78 Electric motor 80 Stopper 82 Pusher 84 Actuator 86 Frame 88, 94 Shaft 90, 96 Air cylinder 100, 102 Relay mechanism 104 Base 106 First movable body 110 Linear shaft 112 Lead screw 116 Linear bush 120 Lead nut 122 Electric motor 126 Second movable body 128 Rail 130 Link arm 140 Holder 144 Air cylinder 150 Measurement stage 72,178 slide rail 174,180 slide guide 176 frames

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 尾石 上人 東京都武蔵野市吉祥寺本町2丁目6番8号 株式会社日本マイクロニクス内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Kamito Oishi 2-6-8 Kichijoji Honcho, Musashino City, Tokyo Inside Nihon Micronics Co., Ltd.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被測定基板を第1及び第2の処理手段に
受け渡すアライメント手段であって前記第1の処理手段
に対する受け渡しをする水平の状態及び前記第2の処理
手段の側に部材に対する受け渡しをする傾斜した状態に
被測定基板を選択的に変位させるとともに、受けた被測
定基板のアライメントをするアライメント手段を含む、
被測定基板の検査装置。
1. An alignment means for transferring a substrate to be measured to first and second processing means, wherein said alignment means is in a horizontal state in which said substrate is transferred to said first processing means, and said member is provided on a side of said second processing means. While selectively displacing the substrate to be measured in an inclined state for transfer, including alignment means for aligning the substrate to be received,
Inspection device for substrate to be measured.
【請求項2】 前記アライメント手段は被測定基板を水
平の状態で前記第1の処理手段に対し受け渡しをするタ
ーンテーブルであって受けた被測定基板の方向合わせを
すべく上下方向へ伸びる第1の軸線の周りに回転される
ターンテーブルを含む、請求項1に記載の検査装置。
2. The method according to claim 1, wherein the alignment unit is a turntable that transfers the substrate to be measured to the first processing unit in a horizontal state, and the first alignment unit extends vertically to align the received substrate to be measured. The inspection device according to claim 1, comprising a turntable rotated about an axis of the inspection table.
【請求項3】 前記アライメント手段は、さらに、前記
ターンテーブル及び前記第2の処理手段に対する被測定
基板の受け渡しをするアライメントステージと、被測定
基板を水平の状態及び傾斜した状態に選択的に変位させ
るべく前記アライメントステージを水平方向へ伸びる第
2の軸線の周りに角度的に回転させる駆動手段と、被測
定基板を前記アライメントステージに対して位置決める
位置決め手段とを含む、請求項2に記載の検査装置。
3. An alignment stage for transferring a substrate to be measured to and from the turntable and the second processing unit, wherein the alignment unit selectively displaces the substrate to be measured in a horizontal state and an inclined state. 3. The apparatus according to claim 2, further comprising: a driving unit configured to angularly rotate the alignment stage about a second axis extending in a horizontal direction, and a positioning unit configured to position the substrate to be measured with respect to the alignment stage. Inspection equipment.
【請求項4】 前記位置決め手段は、前記アライメント
ステージに配置された第1及び第2のストッパと、被測
定基板の第1の縁部を前記第1のストッパに押圧すべく
前記アライメントステージに配置された第1のプッシャ
と、被測定基板の第2の縁部を前記第2のストッパに押
圧すべく前記アライメントステージに配置された第2の
プッシャとを含む、請求項3に記載の検査装置。
4. The positioning means includes first and second stoppers arranged on the alignment stage, and arranged on the alignment stage so as to press a first edge of the substrate to be measured against the first stopper. The inspection apparatus according to claim 3, further comprising: a first pusher provided and a second pusher disposed on the alignment stage so as to press a second edge of the substrate to be measured against the second stopper. .
【請求項5】 前記駆動手段は、前記第2の軸線の周り
に角度的に回転されるリンクステージと、該リンクステ
ージを傾斜した状態と水平の状態とに選択的に変位させ
るステージ駆動機構とを含み、前記アライメントステー
ジは、前記リンクステージに支持されている、請求項4
に記載の検査装置。
5. A link stage that is angularly rotated about the second axis, a stage driving mechanism that selectively displaces the link stage between an inclined state and a horizontal state. The alignment stage is supported by the link stage.
The inspection device according to item 1.
【請求項6】 前記駆動手段は、さらに、前記リンクス
テージに支持された位置調整機構であって前記アライメ
ントステージに受けた被測定基板と直交する第3の軸線
方向における前記アライメントステージの位置を調整す
る位置調整機構を含む、請求項3,4又は5に記載の検
査装置。
6. The driving unit is a position adjustment mechanism supported by the link stage, and adjusts the position of the alignment stage in a third axis direction orthogonal to the substrate to be measured received by the alignment stage. The inspection device according to claim 3, further comprising a position adjustment mechanism that performs the adjustment.
【請求項7】 前記アライメント手段は、さらに、前記
第1の方向における前記駆動手段の高さ位置を変更する
高さ変更機構を含む、請求項3,4,5又は6に記載の
検査装置。
7. The inspection apparatus according to claim 3, wherein the alignment unit further includes a height changing mechanism that changes a height position of the driving unit in the first direction.
【請求項8】 前記アライメント手段は、さらに、被測
定基板を解除可能に吸着すべく前記アライメントステー
ジに配置された1以上の吸着バッドを含む、請求項3,
4,5,6又は7に記載の検査装置。
8. The alignment unit according to claim 3, further comprising one or more suction pads disposed on the alignment stage so as to releasably suction the substrate to be measured.
The inspection device according to 4, 5, 6, or 7.
【請求項9】 前記アライメント手段は、さらに、被測
定基板を解除可能に吸着すべく前記ターンテーブルに配
置された1以上の吸着バッドを含む、請求項3,4,
5,6,7又は8に記載の検査装置。
9. The apparatus according to claim 3, wherein said alignment means further includes one or more suction pads arranged on said turntable so as to releasably suck the substrate to be measured.
The inspection apparatus according to 5, 6, 7, or 8.
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