JPH11183714A

JPH11183714A - 反射板の製造方法および反射板ならびに反射型液晶表示装置

Info

Publication number: JPH11183714A
Application number: JP9353898A
Authority: JP
Inventors: Hisakazu Nakamura; 久和中村
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1997-12-22
Filing date: 1997-12-22
Publication date: 1999-07-09
Anticipated expiration: 2017-12-22
Also published as: JP3522517B2; US5973843A

Abstract

(57)【要約】【課題】複数回の露光工程を用いても、露光の継ぎ目
が表示品質を低下しない反射板の製造方法および反射板
ならびにそれを用いた反射型液晶表示装置を提供する。【解決手段】基板表面に形成された感光性薄膜の互い
に隣接する第１領域と第２領域とをそれぞれ所定のパタ
ーンを有するマスクを用いてそれぞれ独立に露光する第
１および第２露光工程と、露光された感光性薄膜を現像
することによって、所定のパターンを有する複数の凹凸
を形成する工程とを包含する製造方法において、該第１
および該第２露光工程は、該第１領域と該第２領域との
境界において該凹凸の形状の該所定のパターンからのず
れが所定の範囲内となるように露光する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射板の製造方法
および反射板ならびに反射型液晶表示装置に関し、特
に、複数回の露光によって基板表面に凹凸を形成する工
程を含む反射板の製造方法および反射板ならびに反射型
液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ペーパーホワイト表示が可能な反射型液
晶表示装置の反射板は、入射光を拡散反射させるため
に、表面に多数の凹凸を有する。凹凸を形成する方法と
しては、サンドブラスト法やエッチング方法を用いて基
板表面に直接凹凸を形成する方法、基板表面に無機酸化
薄膜や金属薄膜を形成し、これらの薄膜をエッチングす
る方法、プラズマＣＶＤ法で無機物からなる凸部を基板
表面に形成する方法など、多様な方法がある。しかしな
がら、設計された反射特性を正確に再現性良く実現させ
るために、精密に再現性良く凹凸を形成するためには、
基板上に感光性有機薄膜を形成し、これをフォトリソグ
ラフィプロセスによってパターニングする方法が有効で
ある。露光工程では、ステッパ露光機や大型一括露光機
などの露光機が使用される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
製造方法には、下記の問題があった。大型一括露光機
は、一度で広い面積を露光することができるが、ステッ
パ露光機に比べて、光線の照射強度や平行度の面内ばら
つきが大きい。従って、大型一括露光機を用いて反射板
を製造すると、明るさが画面全体に一様でなく、例えば
露光中心付近が明るく、端部が暗い反射特性となり、実
用に供させる反射板は得られなかった。このため、反射
板の製造には、一般的には、レンズ系で光源光を平行光
に近づけ、面内ばらつきを小さくしたステッパ露光機が
使用されてきた。しかしながら、図１（ａ）に示すよう
に、ステッパ露光機で一度で露光できる領域１１は直径
６インチ程度なので、凹凸が形成される領域１０は最大
で対角６インチ程度の正方形である。

【０００４】そこで、例えば６インチ以上の大面積を露
光する場合は、図１（ｂ）に示すように、第１領域１２
ａを第１回目に露光（露光可能領域１３ａ、露光中心１
４ａ）し、その後、第２領域１２ｂを第２回目で露光
（露光可能領域１３ｂ、露光中心１４ｂ）する方法が用
いられていた。しかしながら、ステッパ露光機を用いて
も、光線の面内ばらつき（像のひずみ：中心部では光線
の平行度が高いが、端部では光線の平行度が低下する）
がどうしても存在するために、得られた反射板は干渉縞
を発生し、第１回目と第２回目の露光の「継ぎ目（境
界）」１５が観測されるという問題があった。

【０００５】ステッパ露光機における光線の面内ばらつ
きをより小さくするためには、１ショットで露光される
領域１２ａおよび１２ｂの面積を小さくすれば解決され
る。しかしながら、この方法では、より多くの露光工程
とそれに伴う位置あわせ工程が増えるため、生産効率が
著しく低下するという問題がある。

【０００６】本発明は、上記課題を鑑みてなされたもの
であり、その目的は、複数回の露光工程を用いても、露
光の継ぎ目が表示品質を低下しない反射板の製造方法お
よび反射板ならびにそれを用いた反射型液晶表示装置を
提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の反射板の製造方
法は、基板表面に感光性薄膜を形成する工程と、該感光
性薄膜の互いに隣接する第１領域と第２領域とをそれぞ
れ所定のパターンを有するマスクを用いてそれぞれ独立
に露光する第１および第２露光工程と、該露光された感
光性薄膜を現像することによって、所定のパターンを有
する複数の凹凸を形成する工程とを、包含し、該第１お
よび該第２露光工程は、該第１領域と該第２領域との境
界において、該凹凸の形状の該所定のパターンからのず
れが所定の範囲内となるように露光する工程であり、そ
のことによって上記目的が達成される。

【０００８】前記所定のパターンは円形であって、前記
第１領域と前記第２領域との境界における前記凹凸は楕
円形状であり、該境界の両側における該凹凸の該楕円形
状の長軸がなす角をθ度とし、｜θ−９０｜をβとする
と、前記凹凸の形状の前記所定のパターンからの前記ず
れである楕円率αが、１．０５+（０．００５／３）・
β以下となるように、前記第１および第２露光工程の露
光が行われることが好ましい。

【０００９】前記所定のパターンは円形であって、前記
第１領域と前記第２領域との境界における前記凹凸は楕
円形状であり、該境界の両側における該凹凸の形状の該
所定のパターンからの前記ずれが、楕円率で１．０５以
下であってもよい。

【００１０】前記第１および第２露光工程の露光中心の
少なくとも一方は、前記第１および第２領域の重心から
ずれていてもよい。

【００１１】本発明による反射板は、基板表面に複数の
凹凸を有する反射板であって、該複数の凹凸を基板に垂
直な方向から見たときの形状は円形または楕円形であっ
て、該基板表面は、互いに隣接する第１および第２領域
を有し、該第１および第２領域内において、該複数の凹
凸の該形状の楕円率は、それぞれ所定の中心位置から連
続的に変化し、該境界の両側における該凹凸の該楕円形
状の長軸がなす角をθ度とし、｜θ−９０｜をβとする
と、該楕円率αが、１．０５+（０．００５／３）・β
以下であり、そのことによって上記目的が達成される。

【００１２】前記楕円率が１．０５以下であろことが好
ましい。

【００１３】前記第１領域および第２領域の前記所定の
中心位置の少なくとも一方は、前記第１および第２領域
の重心からずれていてもよい。

【００１４】本発明の反射型液晶表示装置は上記の反射
板を有し、そのことによって上記目的が達成される。

【００１５】以下、作用について説明する。

【００１６】本発明の反射板の製造方法は、基板上に複
数の凹凸を形成するための露光工程を２回以上実施する
製造方法において、２回の露光工程の継ぎ目（第１回目
に露光される第１領域と第２回目に露光される第２領域
との境界）における露光パターンのひずみを考慮し、凹
凸形状の所定のパターンからのずれが所定の範囲内とな
るように露光するので、上記の境界において、凹凸部の
形状が不連続となることによって発生する「継ぎ目」が
観察されるという問題が起こらない。

【００１７】凹凸の基板に垂直な方向から見た形状が円
形である典型的な場合、すなわちマスクのパターンが円
形の場合、マスクの周辺部において、露光されるパター
ンはひずみ、このひずんだパターンは楕円形に近似する
ことが出来る。楕円形の凹凸の反射特性は、円形の凹凸
の反射特性と異なり、また異方性を有するので、上記マ
スクパターンの継ぎ目が観察される。本発明によると、
継ぎ目における楕円率（α）と、継ぎ目の両側における
該凹凸の該楕円形状の長軸がなす角度（θ度）とが、所
定の条件になるように設定されており、継ぎ目の両側で
の反射特性が大きく不連続に変化しないように、設定さ
れている。具体的には、｜θ−９０｜をβとすると、楕
円率αが、１．０５+（０．００５／３）・β以下とな
るように設定することにより、継ぎ目が観察されない。
この条件は、定性的には、継ぎ目の両側における楕円の
長軸のなす角が大きいほど、楕円率は１に近いことが要
求されることを示している。また、楕円率が１．０５以
下の場合には、継ぎ目の両側における楕円の長軸のなす
角に関係なく、継ぎ目が観察されない。

【００１８】露光されるパターンのひずみは、露光の中
心からほぼ放射状に発生するので、楕円の長軸は露光中
心から半径方向に延びる。従って、第１回目の露光の中
心と第２回目の露光の中心との位置関係を適切に制御す
ることにより、楕円の長軸のなす角を所定の範囲内に納
めることができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、発明の実施形態について説
明する。

【００２０】まず、ステッパ露光機の光線のひずみにつ
いて、図２（ａ）および（ｂ）を参照しながら説明す
る。ステッパ露光機の光線は完全な平行光ではないの
で、ステッパ露光機によって投影された実際の像１８
は、完全な平行光をマスクに照射して得られる理想の像
１６からひずむ。そのひずみの程度は、周辺部ほど大き
くなる。複数の円形の領域を照射するためのマスクを用
いた場合、露光領域中央部では円形のパターン１８ａが
露光されるが、周辺部では所定のパターンである円形は
得られず楕円形１８ｂ〜１８ｅとなる。

【００２１】露光機のレンズのひずみ（倍率誤差を含
む）はレンズ・ディストーションと呼ばれ、ディストー
ションは、複数の理想格子点（例えば、大きさの異なる
正方形または矩形の頂点）パターンを有するマスク（レ
チクル）を用いて露光し、露光されたパターンと理想格
子点とのずれを測定することによって求められる。レン
ズ・ディストーションの異なる露光機を用いて、数種類
の反射板を作製し、楕円化の程度と継ぎ目が観察される
か否かを検討した結果を説明する。

【００２２】基板表面に形成した感光性薄膜を２回の露
光工程で露光し現像することによって、図３（ａ）に示
すように、複数の凹凸を形成した。第１の露光工程で第
１の領域１２ａを露光し、第２の露光工程で第２の領域
１２ｂを露光した。ここでは、所定の形状として円形を
用い、それぞれの領域１２ａおよび１２ｂの重心位置を
それぞれの露光工程の中心位置とした。領域１２ａおよ
び１２ｂの重心位置とは、それぞれの領域が均一な厚さ
で均一な密度を有すると仮定した場合の重心の位置をい
う。

【００２３】露光の中心付近の領域１６ａおよび１６ｂ
では、図３（ｂ）に示すように、得られた凹凸の形状は
円形であった。しかしながら、露光の周辺部１７ａおよ
び１７ｂにおいては、図３（ｃ）および図３（ｄ）に示
すように、得られた凹凸の形状は楕円形であった。ま
た、楕円の長軸は、露光中心を中心とする円の半径方向
に配列し、外側ほど長軸の長い楕円形となった。従っ
て、隣接する第１領域１２ａと第２領域１２ｂとの境界
１５の近傍の両側における凹凸の形状は大きく円形から
ひずむ。さらに、最もひずみの大きいコーナー部１７
ａ、１７ａ’、１７ｂ、および１７ｂ’における凹凸の
楕円の長軸の方向は、境界１５に対して鏡像の関係にあ
り、境界１５の両側で不連続に大きく変化する。

【００２４】レンズ・ディストーションに起因する凹凸
の形状のひずみの程度（変化率と呼ぶ）を定量的に評価
するために、楕円率を測定した。楕円率は、図４（ａ）
に示すように、楕円の長軸の長さａと短軸の長さｂとの
比（ａ／ｂ）と定義する。

【００２５】露光領域内の位置（中心から対角線方向）
と楕円率との関係を調べた結果を図５に示した。図５中
の○、■および△は、レンズ・ディストーションの値が
それぞれ、±０．５μｍ以内、±０．５μｍ以内、±
０．２５μｍ以内の場合の結果を示す。

【００２６】図５から分かるように、レンズ・ディスト
ーションの値が±０．５μｍ以下と大きい場合の○と■
では、端部において図３（ｃ）または（ｄ）のように円
の形状が変形し、その楕円率は、端部（境界近傍）で
１．２を越える。これらの反射板では、第１露光領域１
２ａと第２露光領域１２ｂとの境界１５が継ぎ目として
観察された。これに対し、図５中の△で示したレンズ・
ディストーションの値が±０．２５μｍ以下と小さい場
合には、端部における楕円率は、１．０５以下であり、
継ぎ目が観測されなかった。図示していないが、測定点
を増やして、楕円率と継ぎ目が観察されるか否かの関係
を調べた結果、境界１５の両側における楕円率（変化
率）が１．０５以内であれば、継ぎ目が観察されないこ
とがわっかた。

【００２７】楕円率と継ぎ目が観察される現象との関係
を図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）と図７を参
照しながら説明する。凹凸の形状が円形の場合、図６
（ａ）および（ｂ）に示したように、直交する２つの方
位角方向（ａ方向とｂ方向）に視角ψを変化させた場合
の反射強度の変化は同じである。凹凸の形状が円形の場
合には、どの方位角においても、反射強度の視角依存性
は同じである（等方的）。

【００２８】一方、凹凸の形状が楕円形の場合、図６
（ｃ）および（ｄ）に示したように、直交する２つの方
位角方向（ａ方向とｂ方向）に視角ψを変化させた場合
の反射強度の変化は、大きく異なる（異方的）。凹凸の
形状が楕円形の場合には、ａ方向（楕円形の長軸方向）
において反射強度が低く、ｂ方向（楕円形の短軸方向）
において、反射強度が高い。すなわち、露光中心を中心
とする円の周方向（接線方向）における反射強度が高
く、半径方向における反射強度が低い。

【００２９】図７に境界１５付近の異方性の位置依存性
を模式的に表す。矢印１９の方向は明るく見える方向
（楕円の短軸方向）を、矢印１９の長さは異方性の度合
い（楕円率の大きさ）を表わしている。露光中心１４ａ
および１４ｂの付近では、反射強度に異方性がなく、図
７中に●で示してある。露光中心から遠ざかるに従っ
て、異方性が大きくなっている様子が図７からわかる。
露光中心から端部に向かって連続的に異方性が大きくな
る。また、露光の境界部分では、異方性が大きく、明る
く見える方向が不連続に変化するので、継ぎ目１５が観
測される。

【００３０】上述したように、継ぎ目が観察されるか否
かは、異方性の大きさと、明るく見える方向の変化の程
度に依存するので、それぞれが所定の範囲内にあること
が必要である。以下の実施例で説明するように、明るく
見える方向の変化の程度は、継ぎ目（２回の露光領域の
境界）の両側における凹凸の楕円形状の長軸がなす角度
（θ度）であらわすことができ、｜θ−９０｜をβとす
ると、楕円率αが、１．０５+（０．００５／３）・β
以下となるように設定することにより、継ぎ目が観察さ
れないことがわかった。また、楕円率が１．０５以下の
場合には、継ぎ目の両側における楕円の長軸のなす角に
関係なく、継ぎ目が観察されない。

【００３１】上記では、凹凸の所定の形状が円形の場合
について説明したが、他の形状についても同様に定義で
きる。例えば、図４（ｂ）〜（ｄ）に示すように、半円
形、扇形、長方形については、長軸と短軸の長さをそれ
ぞれ図中のａおよびｂのように定義し、変化率を測定す
ることで、同様の結果が得られた。６角形より多角にな
る正多角形（正７角形、正８角形など）については、円
形に近似することで変化率を定義できる。さらに、これ
以外の一般的な多角形の場合、三角形、扇形等の組み合
せで定義することができる。

【００３２】

【実施例】以下に実施例について説明する。

【００３３】図８（ａ）および（ｂ）に本発明により作
製した反射板１５０の一部を示す。図８（ａ）は反射板
１５０の上面図であり、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ’断面
図である。反射板１５０は、ガラス基板１０１上のゲー
トバス配線１０２、ソースバス配線１０３とＴＦＴ素子
１０４、そして、このＴＦＴ素子のドレイン電極１０９
にコンタクトホール１０７を介して接続された凹凸画素
電極１０５から構成されている。ＴＦＴ素子１０４は、
ゲート配線１０２、ゲート配線１０２を覆うデート絶縁
膜１０８、ゲート絶縁膜１０８上に形成された半導体層
１０６、半導体層１０６のソース領域およびドレイン領
域（不図示）と、それぞれをソースバス配線１０３とド
レイン電極１０９とに接続するソースコンタクト領域１
０３ａとドレインコンタクト領域１０９ａとを有する。

【００３４】反射電極である凹凸画素電極は、レジスト
層からなる凹凸１１０，平坦化層１１１と、これらを覆
う金属薄膜１０５から形成されている。その凹凸の形状
は、基板１０１に垂直な方向から見るとほぼ円形をして
いる。液晶パネルの表示面積の大きさはおよそ対角８イ
ンチである。ステッパ露光機では、一度で全面露光でき
ないので場所をかえて２回露光を行った。

【００３５】この反射板１５０の凹凸画素電極部分の製
造工程を図９（ａ）〜（ｇ）に基づいて説明する。

【００３６】まず、図９（ａ）に示すように、約１．１
ｍｍ厚のガラス基板（商品名：７０５９コーニング社
製）の一方の面にレジスト材料としてたとえばＯＦＰＲ
−８００（東京応化社製）を、好ましくは５００ｒ．
ｐ．ｍ．〜３０００ｒ．ｐ．ｍ．でスピンコートし、レ
ジスト層１１０ａを形成する。本実施例では２０００
ｒ．ｐ．ｍ．で３０秒塗布し、厚み１．０μｍのレジス
ト層１１０ａを成膜した。次に、約３０秒ホットプレー
トによりプリベークを行った。

【００３７】その後、ランダムな位置に配置された円形
の遮光部１３０ｂ（透光部１３０ａ）を有するフォトマ
スク１３０を図９（ｂ）に示すように、ガラス基板１０
１に平行に配置し、第１回目の露光を行う。次に、図９
（ｃ）に示すように、第１の露光領域と連続するように
フォトマスク１３０を配置し、第２目の露光を行う（第
２露光領域）。露光には、レンズ・ディストーションの
値が±０．２５μｍステッパ露光機を用いた。

【００３８】その後、レジスト層１１０ａを現像を行い
図７（ｄ）に示すように、円形を有する複数の凹凸１１
０ｂを形成した。なお、現像液には東京応化社製のＮＭ
Ｄ−３（２．３８％）を使用した。

【００３９】さらに、約１２０℃〜２５０℃で熱処理を
行い、熱だれによって凹凸１１０ｂの形状を滑らかにす
るとともに熱硬化し、凹凸１１０を形成する。本実施例
では、約２５０℃で約３０分の熱処理を行った（図９
（ｅ））。

【００４０】さらに好ましくは、より滑らかな形状の凹
凸面を形成するために、上記の方法で作製した基板上に
平坦化層１１１を形成すれば良い。平坦化層１１１には
レジスト材料として例えばＯＦＰＲ−８００（東京応化
社製）を、好ましくは５００ｒ．ｐ．ｍ．〜３０００
ｒ．ｐ．ｍ．でスピンコートする。本実施例では２５０
０ｒ．ｐ．ｍ．で３０秒塗布し、レジスト層を厚み０．
７μｍ成膜した後、凹凸形状形成工程と同様、２５０℃
で３０分の熱処理を行い、熱変形および熱硬化を行った
（図９（ｆ））。以上の工程を行った後、表面に金属薄
膜１０５を形成した。金属薄膜１０５の材料としては、
Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ａｇなどを使用することができる。
金属薄膜１０５の厚さは０．０１μｍ〜１．０μｍ程度
が適している。本実施例ではＡｌを真空蒸着することに
より金属薄膜１０５を形成した。以上により反射板１５
０を得ることができた（図９（ｇ））。

【００４１】この反射板１５０に配向膜１５１を塗布し
て、ラビング処理後、４．５ミクロンのスペーサーを介
して対向基板２００とはりあわせた。液晶層２１０とし
て、黒色色素の混入したゲスト・ホスト型液晶を使用し
て、図１０のように反射型液晶表示装置３００を作製し
た。対向基板２００は、ガラス基板２０１上に、Ｒ、
Ｇ、Ｂのカラーフィルタ部２０２を絵素に対応するよう
に形成されており、カラーフィルタ部２０２を覆って、
ＩＴＯ（インジウム錫酸化膜）からなる対向電極２０３
および配向膜２０４がこの順で形成されている。

【００４２】上述の製造方法において、継ぎ目が観察さ
れないように、第１および第２の露光工程の露光条件が
設定されている以外は、公知の製造工程を用いることが
出来る。

【００４３】得られた反射型液晶表示装置３００で表示
を行ったところ、パネル全体にわたって反射特性にばら
つきがなく、しかも第１および第２の露光領域間の継ぎ
目が生じることない均一な表示が実現できた。

【００４４】反射板１５０を製造する露光工程および反
射特性について、詳細に説明する。図１１に、露光工程
で用いるマスク１３０の例を示す。マスク１３０は、透
光部１３０ａと遮光部１３０ｂを有する。遮光部１３０
ｂは、２つの大きさの円形であり、遮光部１３０ｂに対
応して、凸部または凹部が形成される。レジスト層１１
０の材料として、ポジ型またはネガ型の何れを用いるか
によって、凸部または凹部を形成することが出来る。な
お、図示の例では、２つの大きさの円形を用いたが、１
つの大きさの円形を用いてもよいし、他の形状でも良
い。

【００４５】入射光を良好な状態で拡散反射して白色を
呈示するためには、凹凸部の直径を約３μｍ以上約２０
μｍ以下とすることが好ましい。約３μｍよりも小さい
とパターニング精度の限界に近づき、隣接する凹凸部同
士が癒着し平坦部が形成されることがある。平坦部が形
成されると、反射光が干渉しあって縞模様が発生する。
また、約２０μｍを越えても、平坦部が形成され易くな
り、干渉縞が発生する問題がある。本実施例では、遮光
部１３０ｂの直径を約５μｍと約８μｍとした。

【００４６】本実施例では、継ぎ目１５での変化率（楕
円率）を小さくするために、図１２に示したように、第
１回目の露光の中心および第２回目の露光の中心をそれ
ぞれ第１露光領域１２ａと第２露光領域１２ｂの重心位
置よりも継ぎ目に近い位置とした。具体的には、露光中
心１４ａおよび１４ｂから約５．６ｃｍ以内に継ぎ目１
５がくるように露光した。

【００４７】得られた凹凸形状の位置依存性を模式的に
図１３に示す。楕円率α（変化率）は露光中心部で小さ
く、周辺部で大きくなる。また、継ぎ目１５の両側にお
いて、楕円の配置関係（楕円の長軸のなす角）が場所に
よって異なることが分かる。本実施例では、全ての領域
において楕円率αが１．０５以下で、継ぎ目１５は観察
されず、パネル全体に亘り均一な反射特性が実現でき
た。

【００４８】さらに、この楕円の長軸のなす角θと楕円
率αと継ぎ目が見える現象との関係を定量的に検討し
た。図１４の示すように、継ぎ目１５の一方側の楕円の
長軸と継ぎ目１５とのなす角をθ１、継ぎ目１５の他方
の側の楕円の長軸と継ぎ目１５とのなす角をθ２、θ１
＋θ２をθとすると、継ぎ目１５の位置によって、θは
色々に変化する。θが０°や１８０°（２つの楕円が互
いに平行）な場合には、楕円率αが大きくても、異方性
は継ぎ目において変化しないので、継ぎ目として観察さ
れない。しかしながら、θが５０°、９０°、１３０°
の場合、異方性が継ぎ目において不連続に変化するの
で、楕円率αが比較的小さくても、継ぎ目１５が観察さ
れやすい。

【００４９】これらの関係を詳細に検討した結果を図１
５に示す。楕円率αが大きくなると、継ぎ目１５が観察
されないθの範囲は、０°または１８０°（楕円の長軸
が互いに平行）付近に限られることが分かった。継ぎ目
１５が観察されない条件は、｜θ−９０｜をβとする
と、楕円率αが、１．０５+（０．００５／３）・β以
下（図１５中のハッチング部全体）で表せることがわか
った。また、楕円率αが約１．２０を越えると、θがど
の様な場合でも、表示ムラが生じるので、楕円率αは約
１．２０以下であることが好ましい。

【００５０】さらに、楕円率αが１．０５以下であれ
ば、θの値に拘わらず、継ぎ目１５は観察されないこと
が分かった（図１５中のクロスハッチング部）。楕円率
αを１．０５以下に抑えるためには、レンズ・ディスト
ーション値が±０．２５μｍ以下の露光機を用いれば良
い。

【００５１】本実施例では、左右方向に第２の露光領域
を設定して画面全体の露光を行ったが、さらに大型の基
板では、上下方向に第３の露光領域を設定して同様に露
光すればよい。

【００５２】

【発明の効果】上述したように、本発明によれば、複数
回の露光工程を用いても、露光の境界が観察されず反射
特性が全面に亘って均一な反射板およびその製造方法が
提供される。また、本発明によると、表示品質の高い対
角６インチ以上の大型の反射型液晶表示装置を提供する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）は、ステッパ露光機を用いて１回で露光
できる領域を模式的に示す図であり、（ｂ）は２回の露
光で露光できる領域を模式的に示す図である。

【図２】（ａ）は、ステッパ露光機の光線のひずみを模
式的に示す図であり、（ｂ）は、円形のマスクを用いた
ときの形状の変化を模式的に示す図である。

【図３】（ａ）〜（ｄ）は、２回露光を用いて反射板を
形成した場合の、凹凸形状の位置による変化を模式的に
示す図である。

【図４】（ａ）〜（ｄ）は、マスクのパターンの変化率
を定量化するための基準となる長軸と短軸とを示す図で
ある。

【図５】楕円率の露光領域内の位置依存性を示すグラフ
である。

【図６】凹凸の形状と反射強度の異方性との関係を模式
的に示す図である。（ａ）及び（ｂ）は凹凸の形状が円
形の場合、（ｃ）及び（ｄ）は凹凸の形状が楕円の場合
をそれぞれ示す。

【図７】２回露光によって作製された反射板の継ぎ目付
近における反射特性の異方性を模式的に示す図である。

【図８】（ａ）は本願発明による反射板１５０の上面図
であり、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ’断面図である。

【図９】本願発明による反射板１５０の凹凸画素電極部
分の製造工程を模式的に示す断面図である。

【図１０】本願発明による反射型液晶表示装置の模式的
断面図である。

【図１１】本願発明による反射板の製造に用いられるマ
スクの一例を示す上面図である。

【図１２】本願発明による反射板の製造方法における露
光工程を説明するための模式図である。

【図１３】本願発明による反射板の凹凸形状の位置依存
性を模式的に示す図である。

【図１４】本願発明による反射板の継ぎ目付近における
凹凸の配置関係を模式的に示す図である。

【図１５】本願発明による反射板の凹凸の楕円率と凹凸
の配置関係と継ぎ目が観察される現象との関係を説明す
るためのグラフである。

【符号の説明】

１０、１２ａ、１２ｂ凹凸が形成される領域１１，１３ａ、１３ｂ露光可能領域１４ａ、１４ｂ露光中心１５継ぎ目（境界）１６レチクルの像１６ａ、１６ｂ、１７ａ、１７ａ’、１７ｂ、１７ｂ’
領域１８、１８ａ、１８ｂ、１８ｃ、１８ｄ、１８ｅレチ
クルの投影された像１０１、２０１ガラス基板１０２ゲートバス配線１０３ソースバス配線１０４ＴＦＴ素子１０５金属薄膜１０６半導体層１０７コンタクトホール１０８ゲート絶縁膜１０９ドレイン電極１１０、１１０ｂ凹凸１１０ａレジスト層１１１平坦化層１３０マスク１３０ａ透光部１３０ｂ遮光部１５０反射板１５１、２０４配向膜２０２カラーフィルター部２０３透明電極２１０液晶層３００液晶表示装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板表面に感光性薄膜を形成する工程
と、該感光性薄膜の互いに隣接する第１領域と第２領域とを
それぞれ所定のパターンを有するマスクを用いてそれぞ
れ独立に露光する第１および第２露光工程と、該露光された感光性薄膜を現像することによって、所定
のパターンを有する複数の凹凸を形成する工程とを、包
含し、該第１および該第２露光工程は、該第１領域と該第２領
域との境界において、該凹凸の形状の該所定のパターン
からのずれが所定の範囲内となるように、露光する工程
である、反射板の製造方法。
【請求項２】前記所定のパターンは円形であって、前
記第１領域と前記第２領域との境界における前記凹凸は
楕円形状であり、該境界の両側における該凹凸の該楕円
形状の長軸がなす角をθ度とし、｜θ−９０｜をβとす
ると、前記凹凸の形状の前記所定のパターンからの前記ずれで
ある楕円率αが、１．０５+（０．００５／３）・β以
下となるように、前記第１および第２露光工程の露光が
行われる、請求項１に記載の反射板の製造方法。
【請求項３】前記所定のパターンは円形であって、前
記第１領域と前記第２領域との境界における前記凹凸は
楕円形状であり、該境界の両側における該凹凸の形状の
該所定のパターンからの前記ずれが、楕円率で１．０５
以下である、請求項１または２に記載の反射板の製造方
法。
【請求項４】前記第１および第２露光工程の露光中心
の少なくとも一方は、前記第１および第２領域の重心か
らずれている請求項１から３のいずれかに記載の反射板
の製造方法。
【請求項５】基板表面に複数の凹凸を有する反射板で
あって、該複数の凹凸を基板に垂直な方向から見たときの形状は
円形または楕円形であって、該基板表面は、互いに隣接する第１および第２領域を有
し、該第１および第２領域内において、該複数の凹凸の該形
状の楕円率は、それぞれ所定の中心位置から連続的に変
化し、該境界の両側における該凹凸の該楕円形状の長軸がなす
角をθ度とし、｜θ−９０｜をβとすると、該楕円率α
が、１．０５+（０．００５／３）・β以下である反射
板。
【請求項６】前記楕円率が１．０５以下である、請求
項５に記載の反射板。
【請求項７】前記第１領域および第２領域の前記所定
の中心位置の少なくとも一方は、前記第１および第２領
域の重心からずれている請求項５または６に記載の反射
板。
【請求項８】請求項５から７のいずれかに記載の反射
板を有する反射型液晶表示装置。