JPH11180945A

JPH11180945A - スルホンアミド誘導体

Info

Publication number: JPH11180945A
Application number: JP9346815A
Authority: JP
Inventors: Motonori Miyagawa; 基則宮川; Toshi Murai; 利村井; Hirohide Ishige; 博英石毛; Masahiro Suda; 昌宏須田; Kyoko Fujimoto; 恭子藤本; Mitsuru Watanuki; 充綿貫; Tsutomu Nakamura; 中村　　勉
Original assignee: Kaken Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Kaken Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1997-12-16
Filing date: 1997-12-16
Publication date: 1999-07-06

Abstract

(57)【要約】【課題】好酸球の機能を特異的に抑制する作用を有
し、種々の好酸球関連疾患の予防および治療に有用な化
合物および医薬を提供すること。【解決手段】式（Ｉ）：【化９８】（式中、Ｘは-SO₂NH-、-CONH-、-NHCONH-または-NHCSNH
-を、ＹはＣ_1〜6アルキレン、Ｃ_2〜6アルケニレンまた
はＣ_2〜6アルキニレンを、Ｚはベンゼン環、またはＮ、
ＳおよびＯより選ばれる少なくとも１つを環の構成原子
として含有するヘテロ環を表す）で示されるスルホンア
ミド誘導体、その塩、その水和物およびその溶媒和物な
らびに前記式(I)で示される化合物、その塩、その水和
物またはその溶媒和物を有効成分として含有する医薬、
好酸球機能抑制剤、抗アレルギー剤および抗気管支喘息
剤。さらには前記化合物(I)の製造に有用な合成中間
体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なスルホンア
ミド誘導体、その製造中間体、その塩、その水和物およ
びその溶媒和物ならびに種々の好酸球関連疾患の予防お
よび治療に有用な医薬に関する。また、本発明は好酸球
機能抑制剤、抗アレルギー剤および抗気管支喘息剤に関
する。

【０００２】

【従来の技術】好酸球が関与する疾患は種々認められて
おり、その治療法としてはその疾患に応じた薬剤やステ
ロイド剤が使用されている。たとえば、好酸球の関与が
強く示唆されている気管支喘息をはじめとするアレルギ
ー性疾患の治療には、ヒスタミン受容体拮抗剤、肥満細
胞からのメディエーター遊離抑制剤、ロイコトリエン拮
抗剤、トロンボキサン拮抗・合成阻害剤などの抗アレル
ギー剤や抗炎症効果を有するステロイド剤が用いられ、
気管支喘息では、前記薬剤以外にキサンチン誘導体、β
交換神経受容体刺激剤などの気管支拡張剤が用いられて
いる。

【０００３】しかしながら、いずれの薬剤も好酸球を標
的としたものではなく、唯一抗炎症効果を有するステロ
イド剤に好酸球抑制作用が認められるだけである。

【０００４】現在ステロイド剤は、気管支喘息以外にも
好酸球増多症の患者に最も効果のある薬剤として使用さ
れている。好酸球性肺炎、好酸球性筋膜炎、アレルギー
性肉芽腫性血管炎などでは、ステロイド剤を投与し、増
多した好酸球を減少させている。

【０００５】またその他の治療法として、好酸球性肉芽
腫などでは腫瘤の摘出や放射線療法が、好酸球増多症で
は化学療法剤、抗凝血剤、抗血小板剤が、さらには白血
球除去や血漿交換法も試みられている。

【０００６】

【発明が解決しよとする課題】しかしながら、前述した
ステロイド剤の抑制作用は好酸球のみならず種々の細胞
に対しても非特異的にもたらされることや、ステロイド
依存性や種々の副作用が問題となっており使用する際に
制約があることは周知となっているため、好酸球関連疾
患治療の場においては、好酸球の機能を特異的に抑制
し、かつ副作用の軽減が期待できる薬剤の開発が切望さ
れている。

【０００７】本発明は、このような好酸球関連疾患の治
療および治療研究の現状を鑑み、好酸球の機能を特異的
に抑制する作用を有し、種々の好酸球関連疾患の予防お
よび治療に有用な化合物およびこれらを有効成分とする
医薬を提供することを目的とする。また、本発明は、好
酸球機能抑制剤、抗アレルギー剤および抗気管支喘息剤
を提供することも目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、これらの
課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、本発明の
化合物が好酸球の機能を特異的に抑制する作用を有し、
好酸球関連疾患に優れた治療効果を有することを見出
し、本発明を完成するに至った。

【０００９】本発明は、（１）式（Ｉ）：

【００１０】

【化２５】

【００１１】（式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は同一または
異なって、それぞれ水素原子；Ｃ_1〜9アルキル基；Ｃ
_3〜7シクロアルキル基；Ｃ_7〜9アラルキル基；Ｒ¹⁰で置
換されていてもよいアリール基（Ｒ¹⁰はＣ_1〜9アルキル
基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ
_2〜8アルキルアミド基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、芳
香族スルホニル基、アニリノ基、Ｃ_7〜9アラルキル基、
アリール基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基、Ｃ_3〜7
シクロアルキル基、Ｃ_1〜4アルキルチオ基、シアノ基、
スルホンアミド基、トリフルオロメチル基、トリフルオ
ロメトキシ基、テトラフルオロエトキシ基および−（Ｃ
Ｈ₂）_i−Ｒ¹¹（式中、ｉは０〜５の整数を表し、Ｒ¹¹は
Ｃ_2〜5脂肪族アシル基、芳香族アシル基、Ｃ_2〜5脂肪族
アシロキシ基、芳香族アシロキシ基または水酸基を表
す）よりなる群から選ばれる基を表す）；ならびにＮ、
ＳおよびＯより選ばれる少なくとも１つを環の構成原子
として含有する、Ｒ¹²で置換されていてもよい、ヘテロ
環（Ｒ¹²は独立してＲ¹⁰と同じ意味を表す）よりなる群
から選ばれる基を表し、Ｘは−ＳＯ₂ＮＨ−、−ＣＯＮ
Ｈ−、−ＮＨＣＯＮＨ−または−ＮＨＣＳＮＨ−を表
し、ＹはＣ_1〜6アルキレン基、Ｃ_2〜6アルケニレン基ま
たはＣ_2〜6アルキニレン基を表し、Ｚは（ａ）ベンゼン
環または（ｂ）Ｎ、ＳおよびＯより選ばれる少なくとも
１つを環の構成原子として含有するヘテロ環を表し、Ｒ
⁴は水素原子；Ｃ_1〜9アルキル基；−ＳＯ₂Ｒ¹³（式中、
Ｒ¹³はＣ_1〜9アルキル基またはＲ¹⁴で置換されていても
よいフェニル基（Ｒ¹⁴はＣ_1〜9アルキル基、Ｃ_1〜9アル
コキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ_2〜8アルキルア
ミド基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル
基、アニリノ基、Ｃ_7〜9アラルキル基、アリール基、ベ
ンジルオキシ基、フェノキシ基、Ｃ_3〜7シクロアルキル
基、Ｃ_1〜4アルキルチオ基、シアノ基、スルホンアミド
基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、
テトラフルオロエトキシ基、−（ＣＨ₂）_j−Ｒ¹⁵（式
中、ｊは０〜５の整数を表し、Ｒ¹⁵は独立してＲ¹¹と同
じ意味を表す）、−Ｂ−ＣＯＲ¹⁶（式中、Ｂは−（ＣＨ
₂）_k−、−ＯＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、ｋ
は０〜２の整数を表し、Ｒ¹⁶は水酸基、Ｃ_1〜9アルコキ
シ基、Ｃ_3〜7シクロアルコキシ基、アリール基または−
ＮＲ¹⁷Ｒ¹⁸（式中、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸は同一または異なっ
て、それぞれ水素原子、Ｃ_1〜9アルキル基、Ｃ_3〜7シク
ロアルキル基またはテトラゾリル基を表し、Ｒ¹⁷とＲ¹⁸
が一緒になって環を形成していてもよい）を表す）、−
Ｂ−Ｗ（式中、Ｂは前記と同じであり、Ｗはシアノ基ま
たはテトラゾリル基を表す）および−ＮＲ¹⁹Ｒ²⁰（式
中、Ｒ¹⁹およびＲ²⁰は同一または異なって、それぞれ水
素原子、Ｃ_1〜9アルキル基、Ｃ_3〜7シクロアルキル基、
アリール基、Ｃ_7〜9アラルキル基、Ｃ_2〜5脂肪族アシル
基、Ｃ_2〜5脂肪族アシロキシ基、芳香族アシル基、Ｃ
_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、Ｃ_2〜7
アルコキシカルボニル基、ヒドロキシオキサリル基また
はＣ_3〜7アルコキシオキサリル基を表す）よりなる群か
ら選ばれる基を表す）を表す）；フェニル基；少なくと
も１つのＲ²¹で置換されたフェニル基（Ｒ²¹は独立して
Ｒ¹⁴と同じ意味を表す。なおＲ²¹が２つ以上であるばあ
い、それらは同じであっても異なっていてもよい）；−
（ＣＨ₂）_m−Ｒ²²（式中、ｍは１〜６の整数を表し、Ｒ
²²はカルボキシル基、Ｃ_2〜7アルコキシカルボニル基ま
たは

【００１２】

【化２６】

【００１３】（式中、Ａは−ＳＯ₂−または−ＣＯ−を
表し、Ｒ²³は独立してＲ²と同じ意味を表し、Ｒ²⁴はＣ
_1〜9アルキル基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、Ｃ_3〜6カルボキ
シルアルキル基、Ｃ_3〜6カルボキシルアルケニル基また
はＲ²⁵で置換されていてもよいフェニル基（Ｒ²⁵は独立
してＲ¹⁴と同じ意味を表す）を表す）を表す）；ならび
にＮ、ＳおよびＯより選ばれる少なくとも１つを環の構
成原子として含有する、Ｒ²⁶で置換されていてもよい、
ヘテロ環（Ｒ²⁶は独立してＲ¹⁰と同じ意味を表す）より
なる群から選ばれる基を表す）で示されるスルホンアミ
ド誘導体、その塩、その水和物またはその溶媒和物に関
する。

【００１４】さらに本発明は、（２）式（Ｉ）において
Ｘが−ＳＯ₂ＮＨ−である前記（１）に記載のスルホン
アミド誘導体、その塩、その水和物またはその溶媒和
物、（３）式（Ｉ）においてＹがＣ_1〜6アルキレン基で
ある前記（１）に記載のスルホンアミド誘導体、その
塩、その水和物またはその溶媒和物、（４）式（Ｉ）に
おいてＺがベンゼン環である前記（１）に記載のスルホ
ンアミド誘導体、その塩、その水和物またはその溶媒和
物、（５）式（Ｉ）においてＲ¹がＲ¹⁰で置換されてい
てもよいフェニル基（Ｒ¹⁰は前記と同じである）である
前記（１）に記載のスルホンアミド誘導体、その塩、そ
の水和物またはその溶媒和物、（６）式（Ｉ）において
Ｒ²がＲ¹⁰で置換されていてもよいフェニル基（Ｒ¹⁰は
前記と同じである）である前記（１）に記載のスルホン
アミド誘導体、その塩、その水和物またはその溶媒和
物、（７）式（Ｉ）においてＲ⁴が−ＳＯ₂Ｒ¹³であり、
Ｒ¹³がＲ¹⁴で置換されていてもよいフェニル基（Ｒ¹⁴は
前記と同じである）である前記（１）に記載のスルホン
アミド誘導体、その塩、その水和物またはその溶媒和
物、（８）式（Ｉ）においてＲ⁴が−Ｂ−ＣＯＲ¹⁶で置
換されたフェニル基（式中、ＢおよびＲ¹⁶は前記と同じ
である）である前記（１）に記載のスルホンアミド誘導
体、その塩、その水和物またはその溶媒和物、（９）式
（Ｉ）においてＲ⁴が

【００１５】

【化２７】

【００１６】（式中、Ａは前記と同じであり、Ｒ²³がＲ
²⁷で置換されていてもよいフェニル基（Ｒ²⁷は独立して
Ｒ¹⁰と同じ意味を表す）であり、Ｒ²⁴がＲ²⁵で置換され
ていてもよいフェニル基（Ｒ²⁵は前記と同じである）で
ある）である前記（１）に記載のスルホンアミド誘導
体、その塩、その水和物またはその溶媒和物に関する。

【００１７】さらに本発明は、その製造中間体として有
用な化合物である（10）式（ＩＩ）：

【００１８】

【化２８】

【００１９】（式中、Ｒ⁵はＲ¹−Ｘ−（式中、Ｒ¹は水
素原子；Ｃ_1〜9アルキル基；Ｃ_3〜7シクロアルキル基；
Ｃ_7〜9アラルキル基；Ｒ¹⁰で置換されていてもよいアリ
ール基（Ｒ¹⁰はＣ_1〜9アルキル基、Ｃ_1〜9アルコキシ
基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ_2〜8アルキルアミド
基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、
アニリノ基、Ｃ_7〜9アラルキル基、アリール基、ベンジ
ルオキシ基、フェノキシ基、Ｃ_3〜7シクロアルキル基、
Ｃ_1〜4アルキルチオ基、シアノ基、スルホンアミド基、
トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、テト
ラフルオロエトキシ基および−（ＣＨ₂）_i−Ｒ¹¹（式
中、ｉは０〜５の整数を表し、Ｒ¹¹はＣ_2〜5脂肪族アシ
ル基、芳香族アシル基、Ｃ_2〜5脂肪族アシロキシ基、芳
香族アシロキシ基または水酸基を表す）よりなる群から
選ばれる基を表す）；ならびにＮ、ＳおよびＯより選ば
れる少なくとも１つを環の構成原子として含有する、Ｒ
¹²で置換されていてもよい、ヘテロ環（Ｒ¹²は独立して
Ｒ¹⁰と同じ意味を表す）よりなる群から選ばれる基を表
し、Ｘは−ＳＯ₂ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯＮ
Ｈ−または−ＮＨＣＳＮＨ−を表す）または保護されて
いてもよいアミノ基を表し、ＹはＣ_1〜6アルキレン基、
Ｃ_2〜6アルケニレン基またはＣ_2〜6アルキニレン基を表
し、Ｚは（ａ）ベンゼン環または（ｂ）Ｎ、ＳおよびＯ
より選ばれる少なくとも１つを環の構成原子として含有
するヘテロ環を表し、Ｒ²は独立してＲ¹と同じ意味を表
し、Ｒ⁶は水素原子またはエステル残基を表す）で示さ
れるスルホンアミド誘導体、その塩、その水和物または
その溶媒和物、（11）式（ＩＩＩ）：

【００２０】

【化２９】

【００２１】（式中、Ｒ⁷は保護されていてもよいアミ
ノ基を表し、ｍは１〜６の整数を表し、Ａは−ＳＯ₂−
または−ＣＯ−を表し、Ｒ²³は水素原子；Ｃ_1〜9アルキ
ル基；Ｃ_3〜7シクロアルキル基；Ｃ_7〜9アラルキル基；
Ｒ¹⁰で置換されていてもよいアリール基（Ｒ¹⁰はＣ_1〜9
アルキル基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、Ｃ_2〜8アルキルアミド基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニ
ル基、芳香族スルホニル基、アニリノ基、Ｃ_7〜9アラル
キル基、アリール基、ベンジルオキシ基、フェノキシ
基、Ｃ_3〜7シクロアルキル基、Ｃ_1〜4アルキルチオ基、
シアノ基、スルホンアミド基、トリフルオロメチル基、
トリフルオロメトキシ基、テトラフルオロエトキシ基お
よび−（ＣＨ₂）_i−Ｒ¹¹（式中、ｉは０〜５の整数を表
し、Ｒ¹¹はＣ_2〜5脂肪族アシル基、芳香族アシル基、Ｃ
_2〜5脂肪族アシロキシ基、芳香族アシロキシ基または水
酸基を表す）よりなる群から選ばれる基を表す）；なら
びにＮ、ＳおよびＯより選ばれる少なくとも１つを環の
構成原子として含有する、Ｒ¹²で置換されていてもよ
い、ヘテロ環（Ｒ¹²は独立してＲ¹⁰と同じ意味を表す）
よりなる群から選ばれる基を表し、Ｒ²⁴はＣ_1〜9アルキ
ル基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、Ｃ_3〜6カルボキシルアルキ
ル基、Ｃ_3〜6カルボキシルアルケニル基またはＲ²⁵で置
換されていてもよいフェニル基（Ｒ²⁵はＣ_1〜9アルキル
基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ
_2〜8アルキルアミド基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、芳
香族スルホニル基、アニリノ基、Ｃ_7〜9アラルキル基、
アリール基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基、Ｃ_3〜7
シクロアルキル基、Ｃ_1〜4アルキルチオ基、シアノ基、
スルホンアミド基、トリフルオロメチル基、トリフルオ
ロメトキシ基、テトラフルオロエトキシ基、−（Ｃ
Ｈ₂）_j−Ｒ¹⁵（式中、ｊは０〜５の整数を表し、Ｒ¹⁵は
独立してＲ¹¹と同じ意味を表す）、−Ｂ−ＣＯＲ¹⁶（式
中、Ｂは−（ＣＨ₂）_k−、−ＯＣＨ₂−または−ＣＨ＝
ＣＨ−を表し、ｋは０〜２の整数を表し、Ｒ¹⁶は水酸
基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、Ｃ_3〜7シクロアルコキシ基、
アリール基または−ＮＲ¹⁷Ｒ¹⁸（式中、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸
は同一または異なって、それぞれ水素原子、Ｃ_1〜9アル
キル基、Ｃ_3〜7シクロアルキル基またはテトラゾリル基
を表し、Ｒ¹⁷とＲ¹⁸が一緒になって環を形成していても
よい）を表す）、−Ｂ−Ｗ（式中、Ｂは前記と同じであ
り、Ｗはシアノ基またはテトラゾリル基を表す）および
−ＮＲ¹⁹Ｒ²⁰（式中、Ｒ¹⁹およびＲ²⁰は同一または異な
って、それぞれ水素原子、Ｃ_1〜9アルキル基、Ｃ_3〜7シ
クロアルキル基、アリール基、Ｃ_7〜9アラルキル基、Ｃ
_2〜5脂肪族アシル基、Ｃ_2〜5脂肪族アシロキシ基、芳香
族アシル基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族スルホ
ニル基、Ｃ_2〜7アルコキシカルボニル基、ヒドロキシオ
キサリル基またはＣ_3〜7アルコキシオキサリル基を表
す）よりなる群から選ばれる基を表す）を表す）で示さ
れるアミノ誘導体、その塩、その水和物またはその溶媒
和物、（12）式（ＩＶ）：

【００２２】

【化３０】

【００２３】（式中、Ｒ⁸は保護されていてもよいアミ
ノ基を表し、Ｒ²およびＲ³は同一または異なって、それ
ぞれ水素原子；Ｃ_1〜9アルキル基；Ｃ_3〜7シクロアルキ
ル基；Ｃ_7〜9アラルキル基；Ｒ¹⁰で置換されていてもよ
いアリール基（Ｒ¹⁰はＣ_1〜9アルキル基、Ｃ_1〜9アルコ
キシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ_2〜8アルキルアミ
ド基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル
基、アニリノ基、Ｃ_7〜9アラルキル基、アリール基、ベ
ンジルオキシ基、フェノキシ基、Ｃ_3〜7シクロアルキル
基、Ｃ_1〜4アルキルチオ基、シアノ基、スルホンアミド
基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、
テトラフルオロエトキシ基および−（ＣＨ₂）_i−Ｒ
¹¹（式中、ｉは０〜５の整数を表し、Ｒ¹¹はＣ_2〜5脂肪
族アシル基、芳香族アシル基、Ｃ_2〜5脂肪族アシロキシ
基、芳香族アシロキシ基または水酸基を表す）よりなる
群から選ばれる基を表す）；ならびにＮ、ＳおよびＯよ
り選ばれる少なくとも１つを環の構成原子として含有す
る、Ｒ^１２で置換されていてもよい、ヘテロ環（Ｒ^１２
は独立してＲ¹⁰と同じ意味を表す）よりなる群から選ば
れる基を表し、ＹはＣ_1〜6アルキレン基、Ｃ_2〜6アルケ
ニレン基またはＣ_2〜6アルキニレン基を表し、Ｚは
（ａ）ベンゼン環または（ｂ）Ｎ、ＳおよびＯより選ば
れる少なくとも１つを環の構成原子として含有するヘテ
ロ環を表し、Ｒ⁴は水素原子；Ｃ_1〜9アルキル基；−Ｓ
Ｏ₂Ｒ¹³（式中、Ｒ¹³はＣ_1〜9アルキル基またはＲ¹⁴で
置換されていてもよいフェニル基（Ｒ¹⁴はＣ_1〜9アルキ
ル基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、
Ｃ_2〜8アルキルアミド基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、
芳香族スルホニル基、アニリノ基、Ｃ_7〜9アラルキル
基、アリール基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基、Ｃ
_3〜7シクロアルキル基、Ｃ_1〜4アルキルチオ基、シアノ
基、スルホンアミド基、トリフルオロメチル基、トリフ
ルオロメトキシ基、テトラフルオロエトキシ基、−（Ｃ
Ｈ₂）_j−Ｒ¹⁵（式中、ｊは０〜５の整数を表し、Ｒ¹⁵は
独立してＲ¹¹と同じ意味を表す）、−Ｂ−ＣＯＲ¹⁶（式
中、Ｂは−（ＣＨ₂）_k−、−ＯＣＨ₂−または−ＣＨ＝
ＣＨ−を表し、ｋは０〜２の整数を表し、Ｒ¹⁶は水酸
基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、Ｃ_3〜7シクロアルコキシ基、
アリール基または−ＮＲ¹⁷Ｒ¹⁸（式中、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸
は同一または異なって、それぞれ水素原子、Ｃ_1〜9アル
キル基、Ｃ_3〜7シクロアルキル基またはテトラゾリル基
を表し、Ｒ¹⁷とＲ¹⁸が一緒になって環を形成していても
よい）を表す）、−Ｂ−Ｗ（式中、Ｂは前記と同じであ
り、Ｗはシアノ基またはテトラゾリル基を表す）および
−ＮＲ¹⁹Ｒ²⁰（式中、Ｒ¹⁹およびＲ²⁰は同一または異な
って、それぞれ水素原子、Ｃ_1〜9アルキル基、Ｃ_3〜7シ
クロアルキル基、アリール基、Ｃ_7〜9アラルキル基、Ｃ
_2〜5脂肪族アシル基、Ｃ_2〜5脂肪族アシロキシ基、芳香
族アシル基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族スルホ
ニル基、Ｃ_2〜7アルコキシカルボニル基、ヒドロキシオ
キサリル基またはＣ_3〜7アルコキシオキサリル基を表
す）よりなる群から選ばれる基を表す）を表す）；フェ
ニル基；少なくとも１つのＲ²¹で置換されたフェニル基
（Ｒ²¹は独立してＲ¹⁴と同じ意味を表す。なおＲ²¹が２
つ以上であるばあい、それらは同じであっても異なって
いてもよい）；−（ＣＨ₂）_m−Ｒ²²（式中、ｍは１〜６
の整数を表し、Ｒ²²はカルボキシル基、Ｃ_2〜7アルコキ
シカルボニル基または

【００２４】

【化３１】

【００２５】（式中、Ａは−ＳＯ₂−または−ＣＯ−を
表し、Ｒ²³は独立してＲ²と同じ意味を表し、Ｒ²⁴はＣ
_1〜9アルキル基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、Ｃ_3〜6カルボキ
シルアルキル基、Ｃ_3〜6カルボキシルアルケニル基また
はＲ²⁵で置換されていてもよいフェニル基（Ｒ²⁵は独立
してＲ¹⁴と同じ意味を表す）を表す）を表す）；ならび
にＮ、ＳおよびＯより選ばれる少なくとも１つを環の構
成原子として含有する、Ｒ²⁶で置換されていてもよい、
ヘテロ環（Ｒ²⁶は独立してＲ¹⁰と同じ意味を表す）より
なる群から選ばれる基を表す）で示されるスルホンアミ
ド誘導体、その塩、その水和物またはその溶媒和物およ
び（13）式（Ｖ）：

【００２６】

【化３２】

【００２７】（式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ²³は同一または
異なって、それぞれ水素原子；Ｃ_1〜9アルキル基；Ｃ
_3〜7シクロアルキル基；Ｃ_7〜9アラルキル基；Ｒ¹⁰で置
換されていてもよいアリール基（Ｒ¹⁰はＣ_1〜9アルキル
基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ
_2〜8アルキルアミド基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、芳
香族スルホニル基、アニリノ基、Ｃ_7〜9アラルキル基、
アリール基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基、Ｃ_3〜7
シクロアルキル基、Ｃ_1〜4アルキルチオ基、シアノ基、
スルホンアミド基、トリフルオロメチル基、トリフルオ
ロメトキシ基、テトラフルオロエトキシ基および−（Ｃ
Ｈ₂）_i−Ｒ¹¹（式中、ｉは０〜５の整数を表し、Ｒ¹¹は
Ｃ_2〜5脂肪族アシル基、芳香族アシル基、Ｃ_2〜5脂肪族
アシロキシ基、芳香族アシロキシ基または水酸基を表
す）よりなる群から選ばれる基を表す）；ならびにＮ、
ＳおよびＯより選ばれる少なくとも１つを環の構成原子
として含有する、Ｒ¹²で置換されていてもよい、ヘテロ
環（Ｒ¹²は独立してＲ¹⁰と同じ意味を表す）よりなる群
から選ばれる基を表し、Ｘは−ＳＯ₂ＮＨ−、−ＣＯＮ
Ｈ−、−ＮＨＣＯＮＨ−または−ＮＨＣＳＮＨ−を表
し、ＹはＣ_1〜6アルキレン基、Ｃ_2〜6アルケニレン基ま
たはＣ_2〜6アルキニレン基を表し、Ｚは（ａ）ベンゼン
環または（ｂ）Ｎ、ＳおよびＯより選ばれる少なくとも
１つを環の構成原子として含有するヘテロ環を表し、ｍ
は１〜６の整数を表す）で示されるスルホンアミド誘導
体、その塩、その水和物またはその溶媒和物に関する。

【００２８】さらに本発明は、（14）前記（１）に記載
のスルホンアミド誘導体、その塩、その水和物またはそ
の溶媒和物を有効成分として含有する医薬、好酸球機能
抑制剤、抗アレルギー剤および抗気管支喘息剤に関す
る。

【００２９】

【発明の実施の形態】前記式（Ｉ）、（II）、（II
I）、（IV）および（Ｖ）における置換基について説明
する。

【００３０】「アリール基」の具体例としては、フェニ
ル基、１−ナフチル基および２−ナフチル基などがあげ
られる。

【００３１】「Ｃ_1〜9アルキル基」の具体例としては、
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ア
ミル基、３−メチルブチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘ
キシル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチ
ル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルヘキシル基、ｎ−オ
クチル基、２−プロピルペンチル基およびｎ−ノニル基
などの直鎖または分枝鎖状のアルキル基があげられる。

【００３２】「Ｃ_3〜7シクロアルキル基」の具体例とし
ては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基およびシクロヘプチル基など
があげられる。

【００３３】「Ｃ_7〜9アラルキル基」の具体例として
は、ベンジル基、フェネチル基およびフェニルプロピル
基などがあげられる。

【００３４】「Ｃ_1〜9アルコキシ基」の具体例として
は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｎ−ペンチル
オキシ基、ｔｅｒｔ−アミルオキシ基、３−メチルブト
キシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ
基、３，３−ジメチルブトキシ基、２−エチルブトキシ
基、ｎ−ヘプチルオキシ基、２−メチルヘキシルオキシ
基、ｎ−オクチルオキシ基、２−プロピルペンチルオキ
シ基およびｎ−ノニルオキシ基などの直鎖または分枝鎖
状のアルコキシ基があげられる。

【００３５】「ハロゲン原子」の具体例としてはフッ素
原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子などがあげ
られる。

【００３６】「Ｃ_2〜8アルキルアミド基」の具体例とし
ては、メチルアミド基、エチルアミド基、ｎ−プロピル
アミド基、イソプロピルアミド基、ｎ−ブチルアミド
基、イソブチルアミド基、ｔｅｒｔ−ブチルアミド基、
ｓｅｃ−ブチルアミド基、ｎ−ペンチルアミド基、ｔｅ
ｒｔ−アミルアミド基、ｎ−ヘキシルアミド基およびｎ
−ヘプチルアミド基などの直鎖または分枝鎖状のアルキ
ルアミド基があげられる。

【００３７】「Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基」の具体例と
しては、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ｎ
−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、
ｎ−ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチルスルホニル基およびｓｅｃ−ブチルスル
ホニル基などの直鎖または分枝鎖状の脂肪族スルホニル
基があげられる。

【００３８】「芳香族スルホニル基」の具体例として
は、ベンゼンスルホニル基、クロロベンゼンスルホニル
基およびトルエンスルホニル基などがあげられる。

【００３９】「Ｃ_1〜4アルキルチオ基」の具体例として
は、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ
基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、イソブチ
ルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基およびｓｅｃ−ブチ
ルチオ基などの直鎖または分枝鎖状のアルキルチオ基が
あげられる。

【００４０】「Ｃ_2〜5脂肪族アシル基」の具体例として
は、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チリル基、バレリル基、イソバレリル基およびピバロイ
ル基などの直鎖または分枝鎖状の脂肪族アシル基があげ
られる。

【００４１】「Ｃ_2〜5脂肪族アシロキシ基」の具体例と
しては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリ
ルオキシ基、イソブチルオキシ基、バレリルオキシ基、
イソバレリルオキシ基およびピバロイルオキシ基などが
あげられる。

【００４２】「芳香族アシル基」の具体例としてはベン
ゾイル基およびトルオイル基などがあげられる。

【００４３】「芳香族アシロキシ基」の具体例としては
ベンゾイルオキシ基およびトルオイルオキシ基などがあ
げられる。

【００４４】「Ｃ_3〜7シクロアルコキシ基」の具体例と
しては、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シク
ロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基およびシ
クロヘプチルオキシ基などがあげられる。

【００４５】「Ｒ¹⁷とＲ¹⁸が一緒になって環を形成した
アミノ基」の具体例としては、１−アジリジニル基、１
−アゼチジニル基、１−ピロリジニル基、ピペリジノ
基、ヘキサメチレンイミニル基およびヘプタメチレンイ
ミニル基などがあげられる。

【００４６】「Ｃ_2〜7アルコキシカルボニル基」の具体
例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカ
ルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシ
カルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｓｅ
ｃ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボ
ニル基およびｎ−ヘキシルオキシカルボニル基などの直
鎖または分枝鎖状のアルコキシカルボニル基があげられ
る。

【００４７】「Ｃ_3〜7アルコキシオキサリル基」の具体
例としては、メトキシオキサリル基、エトキシオキサリ
ル基、ｎ−プロポキシオキサリル基、イソプロポキシオ
キサリル基、ｎ−ブトキシオキサリル基、イソブトキシ
オキサリル基、ｔｅｒｔ−ブトキシオキサリル基、ｓｅ
ｃ−ブトキシオキサリル基、ｎ−ペンチルオキシオキサ
リル基、３−メチルブトキシオキサリル基、ネオペンチ
ルオキシオキサリル基などの直鎖または分枝鎖状のアル
コキシオキサリル基があげられる。

【００４８】「Ｃ_3〜6カルボキシルアルキル基」の具体
例としては、カルボキシルエチル基、カルボキシルプロ
ピル基、カルボキシルブチル基およびカルボキシルペン
チル基などがあげられる。

【００４９】「Ｃ_3〜6カルボキシアルケニル基」の具体
例としては、カルボキシエチニル基、カルボキシプロペ
ニル基、カルボキシブテニル基およびカルボキシペンテ
ニル基などがあげられる。

【００５０】「Ｃ_1〜6アルキレン基」の具体例として
は、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラ
メチレン基、ペンタメチレン基およびヘキサメチレン基
などがあげられる。

【００５１】「Ｃ_2〜6アルケニレン基」の具体例として
は、ビニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基、ペン
テニレン基およびヘキセニレン基などがあげられる。

【００５２】「Ｃ_2〜6アルキニレン基」の具体例として
は、エチニレン基、プロピニレン基、ブチニレン基、ペ
ンチニレン基およびヘキシニレン基などがあげられる。

【００５３】「Ｎ、ＳおよびＯより選ばれる少なくとも
１つを環の構成原子として含有するヘテロ環」の具体例
としては、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン環、
ピリミジン環、インドール環、キノリン環、チオフェン
環、チアゾール環、フラン環、オキサゾール環およびピ
ラン環などがあげられる。

【００５４】「保護されていてもよいアミノ基」の保護
基の具体例としては、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基
（以下、Ｂｏｃ基ともいう）、ベンジルオキシカルボニ
ル基、メトキシベンジルオキシカルボニル基、９−フル
オレニルメチルカルボニル基、２，２，２−トリクロロ
メチルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、
ベンゾイル基、フタロイル基、ジチアスクシノイル基お
よび３−ニトロ−２−ピリジンスルフェニル基などがあ
げられる。

【００５５】「エステル残基」の具体例としては、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅ
ｃ−ブチル基およびｎ−ペンチル基などの直鎖状または
分枝状鎖のＣ_1〜5アルキル基；ならびにベンジル基およ
びフェネチル基などのＣ_7〜9アラルキル基；などがあげ
られる。

【００５６】本発明化合物においては、置換基の種類、
組み合わせおよび置換基の置換位置は適宜選択される
が、好酸球機能抑制活性が高いことから、Ｘが−ＳＯ₂
ＮＨ−であること、ＹがＣ_1〜6アルキレン基であるこ
と、Ｚがベンゼン環であること、Ｒ¹がＲ¹⁰で置換され
ていてもよいフェニル基（Ｒ¹⁰は前記と同じである）で
あること、Ｒ²がＲ¹⁰で置換されていてもよいフェニル
基（Ｒ¹⁰は前記と同じである）であること、Ｒ⁴が、Ｒ
¹³がＲ¹⁴で置換されていてもよいフェニル基（Ｒ¹⁴は前
記と同じである）である−ＳＯ₂Ｒ¹³、−Ｂ−ＣＯＲ¹⁶
で置換されたフェニル基（ＢおよびＲ¹⁶は前記と同じで
ある）または

【００５７】

【化３３】

【００５８】（式中、Ｒ²³はＲ²⁷で置換されていてもよ
いフェニル基であり、Ｒ²⁴はＲ²⁵で置換されていてもよ
いフェニル基であり、Ａ、Ｒ²⁷およびＲ²⁵はいずれも前
記と同じである）であることが好ましい。

【００５９】本発明のスルホンアミド誘導体のうち、

【００６０】

【化３４】

【００６１】など；

【００６２】

【化３５】

【００６３】

【化３６】

【００６４】

【化３７】

【００６５】

【化３８】

【００６６】

【化３９】

【００６７】

【化４０】

【００６８】

【化４１】

【００６９】

【化４２】

【００７０】など；ならびに

【００７１】

【化４３】

【００７２】

【化４４】

【００７３】

【化４５】

【００７４】

【化４６】

【００７５】

【化４７】

【００７６】などが、好酸球機能抑制活性が高いことか
ら好ましい。とりわけ、

【００７７】

【化４８】

【００７８】

【化４９】

【００７９】などが好酸球機能抑制活性が高いことから
好ましい。

【００８０】式（Ｉ）、（II）、（III）、（IV）およ
び（Ｖ）で示される本発明の化合物において１個または
それ以上の不斉炭素が存在するばあいには、そのラセミ
体、ジアステレオ異性体および個々の光学異性体のいず
れも本発明に包含されるものであり、また幾何異性体が
存在するばあいには（Ｅ）体、（Ｚ）体およびその混合
物のいずれも本発明に包含されるものである。

【００８１】式（Ｉ）、（II）、（III）、（IV）およ
び（Ｖ）で示される本発明の化合物の塩としては、製薬
学的に許容される塩であればとくに制限されず、たとえ
ば、フッ素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩およびヨウ化水
素酸塩などのハロゲン化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸
塩、硫酸塩、リン酸塩および炭酸塩などの無機酸塩、メ
タンスルホン酸塩、トリフロオロメタンスルホン酸塩お
よびエタンスルホン酸塩などの低級アルキルスルホン酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩およびｐ−トルエンスルホン
酸塩などのアリールスルホン酸塩、酢酸塩、フマル酸
塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、シュウ酸塩お
よびマレイン酸塩などのカルボン酸塩、グリシン塩、ア
ラニン塩、グルタミン酸塩およびアスパラギン酸塩など
のアミノ酸塩、ナトリウム塩およびカリウム塩などのア
ルカリ金属塩などがあげられる。また、溶媒和物として
は、アセトン、２−ブタノール、２−プロパノール、エ
タノール、酢酸エチル、テトラヒドロフランおよびジエ
チルエーテルなどとの溶媒和物があげられる。

【００８２】本発明のスルホンアミド誘導体は、以下に
示す方法により製造することができる。

【００８３】〔製造法１〕

【００８４】

【化５０】

【００８５】（式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およ
びＲ⁴は前記と同じである）式（Ｉ）で示される本発明
化合物は、式（IIａ）で示される化合物と式（ａ）で示
される化合物とを、塩基存在下または非存在下無溶媒ま
たは不活性溶媒中で反応させ、アミド結合を形成させる
ことにより製造することができる。

【００８６】式（ａ）で示される化合物は、市販の試薬
としてまたはそれから通常の化学反応により容易に誘導
することにより入手できる。

【００８７】酸とアミンからアミド結合を形成させる反
応は公知であり、酸ハライドを経由する方法や縮合剤な
どを用いる方法があげられる。

【００８８】これらの反応を具体的に説明すると、酸ハ
ライドを経由する方法は、式（IIａ）で示される化合物
をチオニルクロライド、オキサリルクロライドまたはチ
オニルブロマイドなどのハロゲン化試薬を用いて溶媒中
で酸ハライドに変換し、ついでこの酸ハライドと式
（ａ）で示される化合物とを塩基存在下または非存在
下、無溶媒または不活性溶媒中で反応させてアミド化す
る方法である。

【００８９】ハロゲン化試薬の使用量は、式（IIａ）で
示される化合物に対して好ましくは１当量〜大過剰量で
ある。酸ハライドをうる過程で用いる反応溶媒は、本反
応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されない
が、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロ
エタン、１，１，２，２−テトラクロロエタンおよびト
ルエンなどが好ましい。反応温度は０〜１００℃が好ま
しく、反応時間は１〜１２時間が好ましい。

【００９０】アミド化の過程に用いる塩基は三級アミン
が好ましく、たとえばトリエチルアミンおよびピリジン
などがあげられる。式（ａ）で示される化合物は酸ハラ
イドに対して１〜１０当量用いるのが好ましい。塩基は
酸ハライドに対し１当量〜大過剰量用いるのが好まし
い。反応溶媒としては、本反応を著しく阻害しない溶媒
であればとくに限定されないが、ジクロロメタン、クロ
ロホルム、１，２−ジクロロエタン、１，１，２，２−
テトラクロロエタン、トルエンおよびピリジンなどが好
ましい。反応温度は０〜８０℃が好ましく、反応時間は
３０分〜１２時間が好ましい。

【００９１】縮合剤を用いる方法は、式（IIａ）で示さ
れる化合物と式（ａ）で示される化合物とを、２−クロ
ロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロライド、ジ
シクロヘキシルカルボジイミドまたは１−エチル−３−
（３′−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミドなど
の縮合剤を用いて、塩基存在下または非存在下無溶媒ま
たは不活性溶媒中で反応させる方法である。縮合剤は式
（IIａ）で示される化合物に対して１〜２当量用いるの
が好ましい。式（ａ）で示される化合物は、式（IIａ）
で示される化合物に対して１〜２当量用いるのが好まし
い。塩基は三級アミンが好ましく、たとえばトリエチル
アミンおよびピリジンなどがあげられる。塩基は式（II
ａ）で示される化合物に対して１当量〜大過剰量用いる
のが好ましい。反応溶媒は、本反応を著しく阻害しない
溶媒であればとくに限定されないが、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジクロロメタン、クロロホルムおよ
び１，２−ジクロロエタンなどが好ましい。反応温度は
０〜７０℃が好ましく、反応時間は１〜４８時間が好ま
しい。

【００９２】〔製造法２〕

【００９３】

【化５１】

【００９４】（式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およ
びＲ⁴は前記と同じであり、Ｄはクロロスルホニル基、
ハロゲン化カルボニル基、イソシアナト基またはイソチ
オシアナト基を表す）式（Ｉ）で示される本発明化合物は、式（IVａ）で示さ
れる化合物と式（ｂ）または（ｂ′）で示される化合物
とを、塩基存在下または非存在下無溶媒または不活性溶
媒中で反応させることにより製造することができる。

【００９５】「ハロゲン化カルボニル基」の具体例とし
ては、クロロカルボニル基およびブロモカルボニル基な
どがあげられる。

【００９６】本反応を具体的に説明すると、塩基は三級
アミンが好ましく、たとえばトリエチルアミンおよびピ
リジンなどがあげられる。式（ｂ）または（ｂ′）で示
される化合物は式（IVａ）で示される化合物に対して１
〜１０当量用いるのが好ましい。塩基は式（ｂ）または
（ｂ′）で示される化合物に対して１当量〜大過剰量用
いるのが好ましい。反応溶媒としては、本反応を著しく
阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、
１，１，２，２−テトラクロロエタンおよびトルエンな
どが好ましい。反応温度は０〜８０℃が好ましく、反応
時間は３０分〜１２時間が好ましい。

【００９７】〔製造法３〕

【００９８】

【化５２】

【００９９】（式中、Ｒ¹、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ²、ｍ、
Ｒ²³、ＡおよびＲ²⁴は前記と同じであり、Ｅはクロロス
ルホニル基またはハロゲン化カルボニル基を表す）本発明化合物のうち、式（Ｉａ）で示される化合物は、
式（Ｖ）で示される化合物と式（ｃ）または（ｃ′）で
示される化合物または無水フタル酸とを、塩基存在下ま
たは非存在下無溶媒または不活性溶媒中で反応させるこ
とにより製造することができる。

【０１００】「ハロゲン化カルボニル基」の具体例とし
ては、クロロカルボニル基およびブロモカルボニル基な
どがあげられる。

【０１０１】本反応を具体的に説明すると、塩基は三級
アミンが好ましく、たとえばトリエチルアミンおよびピ
リジンなどがあげられる。式（ｃ）または（ｃ′）で示
される化合物または無水フタル酸は、式（Ｖ）で示され
る化合物に対して１〜１０当量用いるのが好ましい。塩
基は式（ｃ）または（ｃ′）で示される化合物または無
水フタル酸に対して、１当量〜大過剰量用いるのが好ま
しい。反応溶媒としては、本反応を著しく阻害しない溶
媒であればとくに限定されないが、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、１，２−ジクロロエタン、１，１，２，２
−テトラクロロエタン、トルエンおよびピリジンなどが
好ましい。反応温度は０〜１１０℃が好ましく、反応時
間は３０分〜１２時間が好ましい。

【０１０２】さらに、式（Ｉ）で示される本発明化合物
のうち、特定の化合物は相当する本発明化合物から導き
出すことができる。

【０１０３】〔製造法４〕

【０１０４】

【化５３】

【０１０５】（式中、Ｒ¹、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ²およびＲ³
は前記と同じであり、ＧはＣ_1〜6アルキレン基、

【０１０６】

【化５４】

【０１０７】（式中、Ｂ、ｍ、Ｒ²³およびＡは前記と同
じである）を表し、Ｒ²⁸はＣ_1〜9アルキル基またはＣ
_3〜7シクロアルキル基を表す）本発明化合物のうち、式（Ｉｃ）で示される化合物は、
式（Ｉｂ）で示される化合物を酸または塩基存在下、常
法にしたがって加水分解することにより製造することが
できる。

【０１０８】本反応を具体的に説明すると、酸としては
有機酸、無機酸いずれも好ましく、たとえば酢酸、トリ
フルオロ酢酸、塩酸または硫酸などが用いられる。ま
た、塩基としては金属水酸化物、炭酸金属塩いずれも好
ましく、たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化バリウム、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムな
どが用いられる。式（Ｉｂ）で示される化合物に対し
て、酸のばあいは１〜５０当量、塩基のばあいは１〜５
０当量用いるのが好ましい。反応溶媒は、本反応を著し
く阻害しない溶媒であればとくに限定されないが、水、
メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンおよびそ
れらの混合溶媒などが好ましい。反応温度は０〜１００
℃が好ましく、反応時間は３０分〜２４時間が好まし
い。

【０１０９】〔製造法５〕

【０１１０】

【化５５】

【０１１１】（式中、Ｒ¹、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ²、Ｒ³およ
びＧは前記と同じであり、Ｒ²⁹はＣ_1〜 ₉アルキル基また
はＣ_3〜7シクロアルキル基を表す）本発明化合物のうち、式（Ｉｄ）で示される化合物は、
式（Ｉｃ）で示される化合物と式（ｄ）で示されるアル
コールとを溶媒中で反応させ、エステル結合を形成させ
ることにより製造することができる。

【０１１２】酸とアルコールからエステル結合を形成さ
せる反応は公知であり、酸ハライドを経由する方法や縮
合剤などを用いる方法があげられる。

【０１１３】これらの反応を具体的に説明すると、酸ハ
ライドを経由する方法は、式（Ｉｃ）で示される化合物
をチオニルクロライド、オキサリルクロライドまたはチ
オニルブロマイドなどのハロゲン化試薬を用いて溶媒中
で酸ハライドに変換し、ついでこの酸ハライドとアルコ
ール（ｄ）とを塩基存在下または非存在下、反応させて
エステル化する方法である。

【０１１４】ハロゲン化試薬の使用量は、式（Ｉｃ）で
示される化合物に対して好ましくは１当量〜大過剰量で
ある。酸ハライドをうる過程で用いる反応溶媒は、本反
応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されない
が、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロ
エタン、１，１，２，２−テトラクロロエタンおよびト
ルエンなどが好ましい。反応温度は０〜１００℃が好ま
しく、反応時間は１〜１２時間が好ましい。

【０１１５】エステル化の過程に用いる塩基は三級アミ
ンが好ましく、たとえばトリエチルアミンおよびピリジ
ンなどがあげられる。アルコール（ｄ）は、酸ハライド
に対して１当量〜大過剰量用いるのが好ましい。塩基は
酸ハライドに対して１当量〜大過剰量用いるのが好まし
い。エステル化反応は無溶媒または不活性溶媒中で行な
われ、反応溶媒としては、本反応を著しく阻害しない溶
媒であればとくに限定されないが、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、１，２−ジクロロエタン、１，１，２，２
−テトラクロロエタンおよびトルエンなどが好ましい。
反応温度は０〜８０℃が好ましく、反応時間は３０分〜
１２時間が好ましい。

【０１１６】縮合剤を用いる方法は、式（Ｉｃ）で示さ
れる化合物とアルコール（ｄ）とを、２−クロロ−１，
３−ジメチルイミダゾリニウムクロライド、ジシクロヘ
キシルカルボジイミドまたは１−エチル−３−（３′−
ジメチルアミノプロピル）カルボジイミドなどの縮合剤
を用いて、塩基存在下または非存在下無溶媒または不活
性溶媒中で反応させる方法である。縮合剤は式（Ｉｃ）
で示される化合物に対して１〜２当量用いるのが好まし
い。アルコール（ｄ）は式（Ｉｃ）で示される化合物に
対して１当量〜大過剰量用いるのが好ましい。塩基は三
級アミンが好ましく、たとえばトリエチルアミンおよび
ピリジンなどがあげられる。塩基は式（Ｉｃ）で示され
る化合物に対して１当量〜大過剰量用いるのが好まし
い。反応溶媒は、本反応を著しく阻害しない溶媒であれ
ばとくに限定されないが、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジクロロメタン、クロロホルムおよび１，２−
ジクロロエタンなどが好ましい。反応温度は０〜７０℃
が好ましく、反応時間は１〜４８時間が好ましい。

【０１１７】〔製造法６〕

【０１１８】

【化５６】

【０１１９】（式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、
Ｇ、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸は前記と同じである）本発明化合物のうち、式（Ｉｅ）で示される化合物は、
式（Ｉｃ）で示される化合物と式（ｅ）で示される化合
物とを、塩基存在下または非存在下無溶媒または不活性
溶媒中で反応させ、アミド結合を形成させることにより
製造することができる。

【０１２０】この反応は前記〔製造法１〕と同様にして
行なうことができる。

【０１２１】〔製造法７〕

【０１２２】

【化５７】

【０１２３】（式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およ
びＲ¹⁶は前記と同じである。ただし、Ｒ¹、Ｒ²またはＲ
³がニトロ基で置換されたフェニル基のばあいを除く）本発明化合物のうち、式（Ｉｇ）で示される化合物は、
式（Ｉｆ）で示される化合物を触媒存在下接触還元する
ことにより製造することができる。

【０１２４】本反応を具体的に説明すると、水素添加反
応に用いる触媒としてはたとえば、５％パラジウム炭
素、１０％パラジウム炭素、３０％パラジウム炭素、酸
化白金およびウィルキンソン触媒などが好ましい。使用
する触媒の量としては化合物（Ｉｆ）の重量の１／１０
０〜等量であるのが好ましく、水素圧は１〜５気圧が好
ましい。反応溶媒としては、本反応を著しく阻害しない
溶媒であればとくに限定されないが、メタノール、エタ
ノール、酢酸エチルおよびテトラヒドロフランなどが好
ましい。反応温度は２５〜７０℃が好ましく、反応時間
は１〜７２時間が好ましい。

【０１２５】また、本発明化合物（Ｉ）を製造するのに
用いられる本発明中間体化合物（II）、（III）、（I
V）および（Ｖ）は、以下に示す方法により製造するこ
とができる。

【０１２６】〔製造法Ａ−１〕式（II）においてＲ⁵が
Ｒ¹−Ｘ−（Ｒ¹およびＸは前記と同じである）である本
発明中間体化合物（IIｂ）およびＲ⁶が水素原子である
本発明中間体化合物（IIａ）の製造

【０１２７】

【化５８】

【０１２８】（式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｄおよび
Ｒ⁶は前記と同じである）第一工程は、式（ｆ）で示される化合物と式（ｂ）また
は（ｂ′）で示される化合物とを、塩基存在下または非
存在下無溶媒または不活性溶媒中で反応させることによ
り、式（ｇ）で示される化合物をうる工程である。本工
程は前記〔製造法２〕と同様にして行なうことができ
る。

【０１２９】第二工程は、第一工程でえられた式（ｇ）
で示される化合物と式（ｈ）で示される化合物とを、塩
基存在下無溶媒または不活性溶媒中で反応させることに
より、式（IIｂ）で示される本発明中間体化合物をうる
工程である。

【０１３０】本工程を具体的に説明すると、塩基は三級
アミンが好ましく、たとえばトリエチルアミンおよびピ
リジンなどがあげられる。化合物（ｈ）は化合物（ｇ）
に対して１〜３当量用いるのが好ましく、塩基は化合物
（ｇ）に対して１当量〜大過剰量用いるのが好ましい。
反応溶媒は、本反応を著しく阻害しない溶媒であればと
くに限定されないが、クロロホルム、ジクロロメタン、
１，２−ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロ
ロエタンおよびピリジンなどが好ましい。反応温度は０
〜１００℃が好ましく、反応時間は３０分〜１２時間が
好ましい。

【０１３１】また、式（IIａ）で示される本発明化合物
は、前記第二工程によりえられる式（IIｂ）で示される
本発明化合物を、常法にしたがって加水分解することに
よりうることができる。本工程は前記〔製造法４〕と同
様にして行なうことができる。

【０１３２】〔製造法Ａ−２〕式（II）においてＲ⁵が
保護されたアミノ基、アミノ基、Ｒ¹−Ｘ−（Ｒ¹および
Ｘは前記と同じである）であり、Ｒ⁶がエステル残基で
ある本発明中間体化合物（IIｃ）、（IIｄ）、（IIｅ）
の製造本発明中間体化合物（II）は以下の方法によっても製造
することができる。一例として、エステル残基がメチル
基であり、アミノ基の保護基がＢｏｃ基であるばあいに
もとづいて本方法を説明する。

【０１３３】

【化５９】

【０１３４】（式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ¹、Ｒ²およびＤは
前記と同じである）第一工程は、式（ｆ）で示される化合物とジ−tert−ブ
トキシカルボン酸無水物とを塩基存在下反応させ、化合
物（ｆ）のアミノ基をＢｏｃ基で保護することにより、
式（ｉ）で示される化合物をうる工程である。

【０１３５】本工程を具体的に説明すると、塩基は三級
アミン、金属水酸化物および炭酸金属塩いずれも好まし
く、たとえばトリエチルアミン、ピリジン、水酸化ナト
リウム、炭酸ナトリウムなどがあげられる。ジ−tert−
ブトキシカルボン酸無水物は、化合物（ｆ）に対して１
〜５当量用いるのが好ましく、塩基は化合物（ｆ）に対
して１〜５当量用いるのが好ましい。反応溶媒は、本反
応を著しく阻害しない溶媒であればとくに限定されない
が、水、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジク
ロロエタン、ベンゼン、トルエン、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、メタノール、エタノールなど、またはこ
れらの溶媒と水との混合溶媒が好ましい。反応温度は０
〜１００℃が好ましく、反応時間は３０分〜２４時間が
好ましい。

【０１３６】第二工程は、第一工程でえられた式（ｉ）
で示される化合物と式（ｊ）で示される化合物とを塩基
存在下無溶媒または不活性溶媒中で反応させることによ
り、式（IIｃ）で示される化合物をうる工程である。本
工程は前記〔製造法Ａ−１〕の第二工程と同様にして行
なうことができる。

【０１３７】第三工程は、式（IIｃ）で示される化合物
を酸で処理して脱保護を行なうことにより、式（IIｄ）
で示される化合物をうる工程である。

【０１３８】本工程を具体的に説明すると、酸は有機
酸、無機酸いずれも好ましく、たとえば酢酸、トリフル
オロ酢酸、塩酸、硫酸などがあげられる。酸は式（II
ｃ）で示される化合物に対して１〜５０当量用いるのが
好ましい。反応溶媒は、本反応を著しく阻害しない溶媒
であればとくに限定されないが、クロロホルム、ジクロ
ロメタン、１，２−ジクロロエタン、ヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセ
トニトリル、メタノール、エタノール、水またはこれら
の混合溶媒などが好ましい。反応温度は０〜１００℃が
好ましく、反応時間は３０分〜２４時間が好ましい。

【０１３９】第四工程は、式（IIｄ）で示される化合物
と式（ｂ）または（ｂ′）で示される化合物とを、塩基
存在下または非存在下無溶媒または不活性溶媒中で反応
させることにより、式（IIｅ）で示される本発明中間体
化合物をうる工程である。本工程は前記〔製造法２〕と
同様にして行なうことができる。

【０１４０】〔製造法Ｂ〕式（III）においてＲ⁷が保護
されたアミノ基、アミノ基である本発明中間体化合物
（IIIａ）、（IIIｂ）の製造一例として、アミノ基の保護基がＢｏｃ基であるばあい
にもとづいて本方法を説明する。

【０１４１】

【化６０】

【０１４２】（式中、ｍ、Ｒ²³、Ｒ²⁴、ＥおよびＡは前
記と同じである）第一工程は、式（ｋ）で示される化合物と式（ｃ）また
は（ｃ′）で示される化合物または無水フタル酸とを、
塩基存在下または非存在下無溶媒または不活性溶媒中で
反応させることにより、式（IIIａ）で示される化合物
をうる工程である。本工程は前記〔製造法３〕と同様に
して行なうことができる。

【０１４３】第二工程は、式（IIIａ）で示される化合
物を酸で処理して脱保護を行なうことにより式（III
ｂ）で示される本発明中間体化合物をうる工程である。
本工程は前記〔製造法Ａ−２〕の第三工程と同様にして
行なうことができる。

【０１４４】〔製造法Ｃ〕式（IV）においてＲ⁸がアミ
ノ基である本発明中間体化合物（IVａ）およびＲ⁸が保
護されたアミノ基である本発明中間体化合物（IVｂ）の
製造一例として、アミノ基の保護基がＢｏｃ基であるばあい
にもとづいて本方法を説明する。

【０１４５】

【化６１】

【０１４６】（式中、Ｙ、Ｚ、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は前
記と同じである）第一工程は、式（IIｃ）で示される化合物を常法にした
がって加水分解することにより式（IIｆ）で示される化
合物をうる工程である。本工程は前記〔製造法４〕と同
様にして行なうことができる。

【０１４７】第二工程は、第一工程でえられた式（II
ｆ）で示される化合物と式（ａ）で示される化合物とを
反応させてアミド結合を形成させることにより式（IV
ｂ）で示される本発明中間体化合物をうる工程である。
本工程は前記〔製造法１〕と同様にして行なうことがで
きる第三工程は、式（IVｂ）で示される本発明中間体化合物
を酸で処理して脱保護を行なうことにより式（IVａ）で
示される本発明中間体化合物をうる工程である。本工程
は前記〔製造法Ａ−２〕の第三工程と同様にして行なう
ことができる。

【０１４８】〔製造法Ｄ〕式（Ｖ）で示される本発明中
間体化合物の製造

【０１４９】

【化６２】

【０１５０】（式中、Ｒ¹、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ²、ｍおよび
Ｒ²³は前記と同じである）式（Ｖ）で示される本発明化合物は、式（IIａ）で示さ
れる本発明化合物と式（ｍ）で示される化合物とを塩基
存在下または非存在下無溶媒または不活性溶媒中で反応
させ、アミド結合を形成させることにより製造すること
ができる。

【０１５１】この反応は前記〔製造法１〕と同様にして
行なうことができる。

【０１５２】前述した製造法で製造される本発明化合物
および本発明中間体化合物は、遊離化合物、その塩、そ
の水和物もしくはエタノール和物などの各種溶媒和物ま
たは結晶多形の物質として単離精製される。本発明化合
物の製薬学的に許容される塩は常法の造塩反応により製
造することができる。単離精製は抽出分別、結晶化、各
種分画クロマトグラフィーなどの化学操作を適用して行
なわれる。また光学異性体は適当な原料化合物を選択す
ることにより、またはラセミ化合物のラセミ分割法によ
り立体化学的に純粋な異性体に導くことができる。

【０１５３】本発明のスルホンアミド誘導体、その塩、
その水和物およびその溶媒和物は、優れた好酸球機能抑
制作用を有しており、それらを有効成分として用いて医
薬、好酸球機能抑制剤、抗アレルギー剤または抗気管支
喘息剤とすることができ、種々の好酸球関連疾患の予防
および治療に広く適用することができる。

【０１５４】好酸球関連疾患としては、以下のＡ〜Ｄの
ものがあげられる。

【０１５５】Ａ．アレルギー性疾患：たとえば、慢性気
管支喘息、アレルギー性の鼻炎（アトピー性鼻炎な
ど）、皮膚疾患（アトピー性皮膚炎など）および結膜
炎、花粉症、薬剤アレルギーおよび食物アレルギー、ア
レルギー性気管支肺真菌症ならびにアレルギー性肉芽腫
性血管炎などＢ．肺好酸球増多症：たとえば、真菌感染症および寄生
虫感染症に伴う肺好酸球増多症、気管支中心性肉芽腫
症、薬剤性肺炎、単純性肺好酸球増多症、慢性および急
性好酸球性肺炎ならびにサルコドーシスなどＣ．好酸球増加をきたす皮膚疾患：たとえば、自己免疫
性水泡症、膠原病とその類症、寄生虫感染などの動物性
皮膚疾患、妊娠性疱疹など妊娠に関連する皮膚疾患なら
びに肉芽腫性および腫瘍性皮膚疾患などＤ．好酸球増多を伴う造血器腫瘍：たとえば、急性およ
び慢性骨髄性白血病、急性リンパ性白血病、ホジキン
病、非ホジキンリンパ腫ならびに木村病（好酸球性リン
パ濾胞様構造増生肉芽腫）などＥ．そのほかの好酸球関連疾患：たとえば、好酸球性血
管性浮腫、好酸球性膀胱炎、春季カタル、好酸球浸潤を
伴う自己免疫疾患、好酸球性筋膜炎および多発性動脈周
囲炎など。

【０１５６】本発明の医薬は、これらの好酸球関連疾患
に対して広く適用することができ、また、ここに例示さ
れていない疾患に対しても、好酸球の機能の抑制が現在
または将来必要とされるばあいであれば、本発明の医薬
を適用することができる。

【０１５７】本発明の医薬は、経口または非経口により
投与することができ、全身投与型であっても局所投与型
であってもよい。

【０１５８】また、剤型もとくに制限されず、投与経路
に応じて適宜選択することができる。たとえば、錠剤、
カプセル剤、糖衣錠、顆粒剤、細粒剤、吸入剤、座剤、
液剤、シロップ、ドライシロップ、懸濁剤、乳剤、ロー
ション、軟膏、貼付剤、スプレー剤、ゲル剤、点鼻剤、
点眼剤、注射剤などがあげられる。

【０１５９】所望によりこれらの製剤に、有機または無
機の固体または液体の賦形剤、補助物質、安定化剤、浸
潤剤、乳化剤、緩衝剤およびそのほか薬理学的に許容さ
れる各種添加剤を配合することができる。

【０１６０】本発明の医薬のヒトへの投与量は、治療ま
たは予防の目的、患者の性別、体重、年齢、健康状態、
疾患の種類や程度、剤型、投与経路、投与期間などの種
々の条件により適宜決定する。本発明のスルホンアミド
誘導体の１日当たりの投与量として概ね０．０１〜１０
０ｍｇ／ｋｇの範囲である。

【０１６１】なお、本発明の医薬は、家畜、愛玩動物、
飼育下または野生動物などの温血動物における好酸球関
連疾患の治療に使用してもよい。このばあいの剤型およ
び投与量はヒトに対する剤型および投与量を参考にして
決定することができる。

【０１６２】

【実施例】以下に実施例をあげて本発明をさらに詳しく
説明するが、本発明はこれらの記載によって限定的に解
釈されるものではない。

【０１６３】なお、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、テトラ
メチルシラン（ＴＭＳ）を内部標準とし、ＪＮＭ−ＥＸ
２７０型スペクトルメーター（２７０ＭＨｚ、日本電子
（株）製）で測定し、δ値はｐｐｍで示した。また、化
学式および表において、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチ
ル基を、Ｐｒⁿはｎ−プロピル基を、Ｐｒⁱはイソプロピ
ル基を、Ｂｕⁿはｎ−ブチル基を、Ｂｕ^tはｔｅｒｔ−ブ
チル基を、Ａｃはアセチル基を、Ｐｈはフェニル基を、
Ｂｎはベンジル基を、Ｂｚはベンゾイル基を示す。

【０１６４】実施例１４−クロロ−Ｎ−（２−アニリノエチル）ベンゼンスル
ホンアミドの製造

【０１６５】

【化６３】

【０１６６】Ｎ−フェニルエチレンジアミン２５ｇおよ
びトリエチルアミン１２８ｍｌを１，２−ジクロロエタ
ン３５０ｍｌに溶解し、４−クロロベンゼンスルホニル
クロライド４０ｇの１，２−ジクロロエタン３５０ｍｌ
溶液を滴下した。室温で２時間撹拌した後、溶媒を減圧
下留去し、水および酢酸エチルを加えた。酢酸エチル層
を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を減圧下留去して、標題化合物５５．５ｇをえた。

【０１６７】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：3.16(q,2H), 3.26(q,
2H), 5.05(t,1H), 6.53(d,2H), 6.73(t,1H), 7.15(t,2
H), 7.43(d,2H), 7.76(d,2H)

【０１６８】実施例２２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンスルホンアミ
ド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］安息香酸
メチルエステルの製造

【０１６９】

【化６４】

【０１７０】実施例１の化合物５５．５ｇをピリジン７
００ｍｌに溶解し、２−クロロスルホニル安息香酸メチ
ルエステル５７．５ｇの１，２−ジクロロエタン３００
ｍｌ溶液を滴下した。室温で５時間撹拌した後、溶媒を
減圧下留去し、１Ｎ塩酸および酢酸エチルを加えた。酢
酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残留物をエタノ
ール５００ｍｌより再結晶し、標題化合物７８ｇをえ
た。

【０１７１】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：2.96(q,2H), 3.79(t,
2H), 3.93(s,3H), 5.75(t,1H), 7.22-7.62(m,9H), 7.75
(d,2H)

【０１７２】以下、実施例２と同様にして実施例３〜７
に示す化合物を製造した。えられた化合物の物性を表１
に示す。

【０１７３】

【表１】

【０１７４】実施例８ｔｅｒｔ−ブチル（２−アニリノエチル）カルバメー
トの製造

【０１７５】

【化６５】

【０１７６】Ｎ−フェニルエチレンジアミン２ｇおよび
２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１０ｍｌをテトラヒドロフ
ラン２０ｍｌに溶解し、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカルボ
ネート３．７ｍｌを加えた。室温で１時間撹拌した後、
溶媒を減圧下留去し、１Ｎ塩酸および酢酸エチルを加え
た。酢酸エチル層を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して、標題化合物３．３
ｇをえた。

【０１７７】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：1.45(s,9H), 3.25-3.
30(m,2H), 3.35-3.40(m,2H), 4.80(brs,1H), 5.30(brs,
1H), 6.61(d,2H), 6.71(t,2H), 7.18(t,2H)

【０１７８】実施例９２−［Ｎ−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ
エチル）−Ｎ−フェニルスルファモイル］安息香酸メチ
ルエステルの製造

【０１７９】

【化６６】

【０１８０】実施例８の化合物２ｇをピリジン３０ｍｌ
に溶解し、２−クロロスルホニル安息香酸メチルエステ
ル２．４ｇの１，２−ジクロロエタン１０ｍｌ溶液を滴
下した。室温で５時間撹拌した後、溶媒を減圧下留去
し、１Ｎ塩酸および酢酸エチルを加えた。酢酸エチル層
を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を減圧下留去して、標題化合物３．５ｇをえ
た。

【０１８１】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：1.40(s,9H), 3.20(q,
2H), 3.83(t,2H), 3.90(s,3H), 5.04(brs,1H), 7.15-7.
60(m,9H)

【０１８２】実施例１０２−［Ｎ−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ
エチル）−Ｎ−（４−メチルフェニル）スルファモイ
ル］安息香酸メチルエステルの製造

【０１８３】

【化６７】

【０１８４】実施例９と同様にして標題化合物を製造し
た。

【０１８５】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：1.42(s,9H), 2.36(s,
3H), 3.15(q,2H), 3.88(t,2H), 3.95(s,3H), 5.10(t,1
H), 6.90-7.80(m,12H)

【０１８６】実施例１１２−［Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−フェニルスルフ
ァモイル］安息香酸メチルエステルの製造

【０１８７】

【化６８】

【０１８８】実施例９の化合物１３０ｍｇを１，２−ジ
クロロエタン３ｍｌに溶解し、トリフルオロ酢酸１ｍｌ
を加えた。室温で２時間撹拌した後、溶媒を減圧下留去
し、飽和炭酸ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加え
た。酢酸エチル層を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して、標題化合物１００
ｍｇをえた。

【０１８９】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：2.48-2.53(m,2H), 3.
63(t,2H), 3.71(s,3H), 7.15-7.75(m,9H)

【０１９０】実施例１２２−［Ｎ−［２−（４−ブロモベンゼンスルホンアミ
ド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］安息香酸
メチルエステルの製造

【０１９１】

【化６９】

【０１９２】実施例１１の化合物１００ｍｇおよびトリ
エチルアミン２．１ｍｌを１，２−ジクロロエタン５ｍ
ｌに溶解し、４−ブロモベンゼンスルホニルクロライド
８０ｍｇを加えた。室温で２時間撹拌した後、溶媒を減
圧下留去し、水および酢酸エチルを加えた。酢酸エチル
層を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶
媒を減圧下留去した。残留物をエタノール１０ｍｌから
再結晶し、標題化合物６５ｍｇをえた。

【０１９３】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：2.88(q,2H), 3.80(t,
2H), 3.88(s,3H), 6.72(t,1H), 7.05-7.71(m,11H), 8.1
0(d,1H), 8.85(d,1H), 11.5(s,1H)

【０１９４】以下、実施例１２と同様にして実施例１３
〜１７に示す化合物を製造した。えられた化合物の物性
を表２に示す。

【０１９５】

【表２】

【０１９６】実施例１８２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンスルホンアミ
ド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］安息香酸
の製造

【０１９７】

【化７０】

【０１９８】実施例２の化合物１２ｇをエタノール１０
０ｍｌに溶解し、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液５０ｍｌ
を加え２時間加熱還流した。室温で１Ｎ塩酸を加え酸性
とした後、溶媒を減圧下留去した。酢酸エチルを加え、
酢酸エチル層を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、溶媒を減圧下留去して、標題化合物１０．８ｇ
をえた。

【０１９９】¹H-NMR(DMSO-D₆)δ値：2.62(q,2H), 3.74
(t,2H), 7.16-7.66(m,14H), 9.53(brs,1H)

【０２００】以下、実施例１８と同様にして実施例１９
〜２８に示す化合物を製造した。えられた化合物の物性
を表３に示す。

【０２０１】

【表３】

【０２０２】実施例２９４−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンスルホンアミ
ド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］安息香酸
の製造

【０２０３】

【化７１】

【０２０４】実施例１の化合物３００ｍｇをピリジン１
０ｍｌに溶解し、４−クロロスルホニル安息香酸２６６
ｍｇの１，２−ジクロロエタン溶液を滴下した。室温で
３時間撹拌した後、溶媒を減圧下留去した。残留物を１
Ｎ塩酸および水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒を減圧下留去して、標題化合物３９０ｍｇ
をえた。

【０２０５】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：2.79(q,2H), 3.60(t,
2H), 6.98-8.31(m,14H), 13.5(brs,1H)

【０２０６】実施例３０３−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンスルホン
アミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］ベン
ズアミド］安息香酸エチルエステルの製造

【０２０７】

【化７２】

【０２０８】実施例１８の化合物１１．８ｇを１，２−
ジクロロエタン１００ｍｌに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド１ｍｌを加えた後、チオニルクロライド１
００ｍｌを滴下した。室温で２時間撹拌した後、溶媒を
減圧下留去した。残留物を１，２−ジクロロエタン１０
０ｍｌに溶解し、ｍ−アミノ安息香酸エチルエステル
４．６ｇのピリジン１００ｍｌ溶液に滴下した。室温で
３時間撹拌した後、溶媒を減圧下留去し、水および酢酸
エチルを加えた。酢酸エチル層を１Ｎ塩酸および水で洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下
留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製
し、標題化合物１０．７ｇをえた。

【０２０９】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：1.41(t,3H), 2.82(q,
2H), 3.65(t,2H), 4.93(q,2H), 6.52(t,1H), 7.03-7.90
(m,16H), 8.10(t,1H), 8.23(s,1H)

【０２１０】以下、実施例３０と同様にして実施例３１
〜４１に示す化合物を製造した。えられた化合物の物性
を表４および５に示す。

【０２１１】

【表４】

【０２１２】

【表５】

【０２１３】実施例４２３−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンスルホン
アミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］ベン
ズアミド］フェニル酢酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルの
製造

【０２１４】

【化７３】

【０２１５】実施例１８の化合物３００ｍｇ、３−アミ
ノフェニル酢酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル１２６ｍｇ
およびトリエチルアミン１４７ｍｇを１，２−ジクロロ
エタン６ｍｌに溶解し、２−クロロ−１，３−ジメチル
イミダゾリニウムクロライド１５６ｍｇのジクロロメタ
ン３ｍｌ溶液を滴下した。室温で２時間撹拌した後、反
応液を水洗し、溶媒を減圧下留去した。残留物を薄層ク
ロマトグラフィー（展開溶媒メタノール：クロロホル
ム＝１：６０）で精製し、標題化合物１０９ｍｇをえ
た。

【０２１６】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：1.46(s,9H), 2.78(q,
2H), 3.55(s,2H), 3.63(t,2H), 6.52(t,1H), 7.04-7.79
(m,17H), 7.90(s,1H)

【０２１７】以下、実施例４２と同様にして実施例４３
〜９２に示す化合物を製造した。えられた化合物の物性
を表６〜１０に示す。

【０２１８】

【表６】

【０２１９】

【表７】

【０２２０】

【表８】

【０２２１】

【表９】

【０２２２】

【表１０】

【０２２３】

【表１１】

【０２２４】

【表１２】

【０２２５】実施例９３２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンスルホンアミ
ド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］−Ｎ−
（２−アニリノエチル）ベンズアミドの製造

【０２２６】

【化７４】

【０２２７】実施例１８の化合物７．９ｇを１，２−ジ
クロロエタン９０ｍｌに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド１ｍｌを加えた後、チオニルクロライド９０ｍ
ｌを滴下した。室温で１．５時間撹拌した後、溶媒を減
圧下留去した。残留物を１，２−ジクロロエタン１００
ｍｌに溶解し、Ｎ−フェニルエチレンジアミン３．３ｇ
のピリジン１００ｍｌ溶液に滴下した。室温で１時間撹
拌した後、溶媒を減圧下留去し、水および酢酸エチルを
加えた。酢酸エチル層を水で洗浄した後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、標題化合物４．５
ｇをえた。

【０２２８】¹H-NMR(DMSO-d₆)δ値：2.70-2.80(m,2H),
3.22(q,2H), 3.42(q,2H), 3.75(t,2H), 5.53(t,1H), 6.
55-6.63(m,3H), 7.06-7.70(m,12H), 7.90(s,1H), 8.54
(t,1H)

【０２２９】以下、実施例９３と同様にして実施例９４
〜９６に示す化合物を製造した。えられた化合物の物性
を表１１に示す。

【０２３０】

【表１３】

【０２３１】実施例９７２−［Ｎ−［２−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベン
ゼンスルホンアミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファ
モイル］ベンズアミド］エチル］−Ｎ−フェニルスルフ
ァモイル］安息香酸メチルエステルの製造

【０２３２】

【化７５】

【０２３３】実施例１８の化合物２００ｍｇ、実施例１
１の化合物１３５ｍｇおよびトリエチルアミン９８ｍｇ
を１，２−ジクロロエタン４ｍｌに溶解し、２−クロロ
−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロライド１０３
ｍｇのジクロロメタン２．５ｍｌ溶液を滴下した。室温
で１．５時間撹拌した後、反応液を水洗し、溶媒を減圧
下留去した。残留物を薄層クロマトグラフィー（展開溶
媒メタノール：クロロホルム＝２：１２５）で精製
し、標題化合物１９７ｍｇをえた。

【０２３４】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：2.79(q,2H), 3.53(q,
2H), 3.72(t,2H), 3.83(s,3H), 4.02(t,2H), 6.82(t,1
H), 7.07-7.72(m,23H)

【０２３５】以下、実施例９７と同様にして実施例９８
〜１１０に示す化合物を製造した。えられた化合物の物
性を表１２〜１４に示す。

【０２３６】

【表１４】

【０２３７】

【表１５】

【０２３８】

【表１６】

【０２３９】実施例１１１Ｎ−ベンゼンスルホニル−２−［Ｎ−［２−（４−クロ
ロベンゼンスルホンアミド）エチル］−Ｎ−フェニルス
ルファモイル］ベンズアミドの製造

【０２４０】

【化７６】

【０２４１】実施例１８の化合物２００ｍｇおよびベン
ゼンスルホンアミド６５ｍｇをジクロロメタン４ｍｌに
溶解し、塩酸１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプ
ロピル）カルボジイミド９３ｍｇおよび４−ジメチルア
ミノピリジン５１ｍｇを加えた。室温で２２時間撹拌し
た後、反応液を２Ｎ塩酸および水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残留物を
薄層クロマトグラフィー（展開溶媒ヘキサン：酢酸エ
チル＝１：４）で精製し、標題化合物７０ｍｇをえた。

【０２４２】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：2.98(q,2H), 3.61(t,
2H), 4.98(t,1H), 6.85-7.00(m,3H), 7.19-7.80(m,15
H), 8.60(s,1H)

【０２４３】以下、実施例１１１と同様にして実施例１
１２〜１１５に示す化合物を製造した。えられた化合物
の物性を表１５に示す。

【０２４４】

【表１７】

【０２４５】実施例１１６Ｎ−［２−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンス
ルファモイル）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイ
ル］ベンズアミド］エチル］−Ｎ−フェニルフタル酸の
製造

【０２４６】

【化７７】

【０２４７】実施例９３の化合物１００ｍｇ、無水フタ
ル酸４８ｍｇおよびトリエチルアミン１１４ｍｇをトル
エン３ｍｌに溶解し、１００〜１１０℃で４時間撹拌し
た。溶媒を減圧下留去した後、残留物を薄層クロマトグ
ラフィー（展開溶媒メタノール：クロロホルム＝１：
１０）で精製し、標題化合物８８ｍｇをえた。

【０２４８】¹H-NMR(DMSO-d₆)δ値：2.73(q,2H), 3.52
(q,2H), 3.70(t,2H), 4.02(t,2H), 7.10-7.70(m,23H),
7.96(s,1H), 8.62(s,1H)

【０２４９】以下、実施例１１６と同様にして実施例１
１７および１１８に示す化合物を製造した。えられた化
合物の物性を表１６に示す。

【０２５０】

【表１８】

【０２５１】実施例１１９２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンスルホンアミ
ド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］−Ｎ−
［２−（Ｎ−ベンゼンスルホニル−Ｎ−フェニルアミ
ノ）エチル］ベンズアミドの製造

【０２５２】

【化７８】

【０２５３】実施例９３の化合物６０ｍｇをピリジン３
ｍｌに溶解し、ベンゼンスルホニルクロライド２２ｍｇ
の１，２−ジクロロエタン１ｍｌ溶液を滴下した。室温
で１７時間撹拌した後、溶媒を減圧下留去し、水および
クロロホルムを加えた。クロロホルム層を１Ｎ塩酸およ
び水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を減圧下留去し、標題化合物６５ｍｇをえた。

【０２５４】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：2.61(q,2H), 3.57-3.
71(m,2H), 7.10-7.70(m,18H), 7.90-8.00(m,2H)

【０２５５】以下、実施例１１９と同様にして実施例１
２０〜１２９に示す化合物を製造した。えられた化合物
の物性を表１７〜１９に示す。

【０２５６】

【表１９】

【０２５７】

【表２０】

【０２５８】

【表２１】

【０２５９】実施例１３０２−［Ｎ−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ
エチル）−Ｎ−フェニルスルファモイル］安息香酸の製
造

【０２６０】

【化７９】

【０２６１】実施例９の化合物５５０ｇをエタノール５
ｍｌに溶解し、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液２．５ｍｌ
を加え２時間加熱還流した。室温にて１Ｎ塩酸を加え弱
酸性とした後、溶媒を減圧下留去した。酢酸エチルを加
え、酢酸エチル層を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して、標題化合物５１０
ｍｇをえた。

【０２６２】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：1.41(s,9H), 3.25(q,
2H), 3.85-3.97(m,2H), 6.49(t,1H), 7.23-7.67(m,10H)

【０２６３】実施例１３１３−［２−［Ｎ−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
アミノエチル）−Ｎ−フェニルスルファモイル］ベンズ
アミド］安息香酸エチルエステルの製造

【０２６４】

【化８０】

【０２６５】実施例１３０の化合物４７０ｍｇ、ｍ−ア
ミノ安息香酸エチルエステル１８５ｍｇおよびトリエチ
ルアミン０．３６ｍｌを１，２−ジクロロエタン５ｍｌ
に溶解し、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニ
ウムクロライド２８０ｍｇのジクロロメタン２ｍｌ溶液
を滴下した。室温で１．５時間撹拌した後、反応液を水
洗し、溶媒を減圧下留去した。残留物を薄層クロマトグ
ラフィー（展開溶媒ヘキサン：ジエチルエーテル＝１：
３）で精製し、標題化合物３６０ｍｇをえた。

【０２６６】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：１．２２（ｓ，９
Ｈ），１．４１（ｔ，３Ｈ），３．１０（ｑ，２
Ｈ），３．６９（ｔ，２Ｈ），４．３９（ｑ，２
Ｈ），７．２０（ｓ，５Ｈ），７．３０−８．１０
（ｍ，９Ｈ）

【０２６７】以下、実施例１３１と同様にして実施例１
３２および１３３に示す化合物を製造した。えられた化
合物の物性を表２０に示す。

【０２６８】

【表２２】

【０２６９】実施例１３４３−［２−［Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−フェニル
スルファモイル］ベンズアミド］安息香酸エチルエステ
ルの製造

【０２７０】

【化８１】

【０２７１】実施例１３１の化合物２００ｍｇを１，２
−ジクロロエタン３ｍｌに溶解し、トリフルオロ酢酸１
ｍｌを加えた。室温で２時間撹拌した後、溶媒を減圧下
留去し、飽和炭酸ナトリウム水溶液および酢酸エチルを
加えた。酢酸エチル層を水で洗浄した後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して、標題化合物１
５５ｍｇをえた。

【０２７２】^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ値：1.38
(t,3H), 3.00-3.10(m,2H), 3.55-3.60(m,2H), 4.27(q,2
H), 7.00-8.15(m,16H)

【０２７３】以下、実施例１３４と同様にして実施例１
３５および１３６に示す化合物を製造した。えられた化
合物の物性を表２１に示す。

【０２７４】

【表２３】

【０２７５】実施例１３７３−［２−［Ｎ−［２−（２−メトキシベンズアミド）
エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］ベンズアミ
ド］安息香酸エチルエステルの製造

【０２７６】

【化８２】

【０２７７】実施例１３４の化合物９０ｍｇおよびトリ
エチルアミン０．０５ｍｌを１，２−ジクロロエタン２
ｍｌに溶解し、２−メトキシベンゾイルクロライド４０
ｍｇを加えた。室温で１時間撹拌した後、溶媒を減圧下
留去し、水および酢酸エチルを加えた。酢酸エチル層を
水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を
減圧下留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝２：３）で
精製し、標題化合物１１０ｍｇをえた。

【０２７８】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：1.39(t,3H), 3.42(q,
2H), 3.93(t,2H), 3.99(s,3H), 4.37(q,2H), 6.87-7.06
(m,2H), 7.18-7.24(m,4H), 7.38-8.12(m,12H), 8.28(t,
1H)

【０２７９】以下、実施例１３７と同様にして実施例１
３８および１３９に示す化合物を製造した。えられた化
合物の物性を表２２に示す。

【０２８０】

【表２４】

【０２８１】実施例１４０３−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンチオウレ
イド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］ベンズ
アミド］安息香酸エチルエステルの製造

【０２８２】

【化８３】

【０２８３】実施例１３４の化合物８５ｍｇを１，２−
ジクロロエタン２ｍｌに溶解し、４−クロロベンゼンイ
ソチオシアネート３５ｍｇを加えた。室温で１時間撹拌
した後、溶媒を減圧下留去した。残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒ヘキサン：酢酸エ
チル＝１：１）で精製し、標題化合物９０ｍｇをえた。

【０２８４】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：1.40(t,3H), 3.56(q,
2H), 3.75(t,2H), 4.38(q,2H), 6.98(t,1H), 7.10-8.15
(m,18H)

【０２８５】実施例１４１２−［２−［Ｎ−［２−（４−ブロモベンゼンスルホン
アミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］ベン
ズアミド］安息香酸メチルエステルの製造

【０２８６】

【化８４】

【０２８７】実施例１３５の化合物５０ｍｇをピリジン
０．４ｍｌに溶解し、４−ブロモベンゼンスルホニルク
ロライド３４ｍｇを加えた。室温で４時間撹拌した後、
水および酢酸エチルを加えた。酢酸エチル層を飽和硫酸
水素カリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液お
よび飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、溶媒を減圧下留去した。残留物を薄層クロマトグ
ラフィー（展開溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝７：３）で
精製し、標題化合物６９ｍｇをえた。

【０２８８】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：２．８９（ｑ，２
Ｈ），３．８１（ｔ，２Ｈ），３．８９（ｓ，３
Ｈ），６．７２（ｔ，１Ｈ），７．０５−７．７１
（ｍ，１５Ｈ），８．０９（ｄ，１Ｈ），８．８６
（ｄ，１Ｈ），１１．５（ｓ，１Ｈ）

【０２８９】実施例１４２２−［Ｎ−［２−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベン
ゼンスルホンアミド）エチル］−Ｎ−メチルスルファモ
イル］ベンズアミド］エチル］−Ｎ−フェニルスルファ
モイル］安息香酸メチルエステルの製造

【０２９０】

【化８５】

【０２９１】実施例１４１と同様にして標題化合物を製
造した。

【０２９２】^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ値：2.75
(s,3H), 2.89(q,2H), 3.34(t,2H), 3.49(q,2H), 3.83
(s,3H), 4.00(t,2H), 6.80(t,1H), 6.91(t,1H), 7.23-
7.70(m,16H), 7.93(d,1H)

【０２９３】以下、実施例１４１と同様にして実施例１
４３〜１４８に示す化合物を製造した。えられた化合物
の物性を表２３に示す。

【０２９４】

【表２５】

【０２９５】実施例１４９Ｎ−［２−（２−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイルエチ
ル）フェニル］−２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼ
ンスルホンアミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモ
イル］ベンズアミドの製造

【０２９６】

【化８６】

【０２９７】実施例３５の化合物５０ｍｇをエタノール
２ｍｌに溶解し、酸化白金を少量加えて、水素雰囲気下
室温で１時間撹拌した。酸化白金を濾去した後、溶媒を
減圧下留去し、標題化合物４８ｍｇをえた。

【０２９８】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：1.12(s,9H), 2.41(t,
2H), 2.78(q,2H), 2.94(t,2H), 3.76(t,2H), 5.36(s,1
H), 7.10-7.97(m,17H), 9.83(s,1H)

【０２９９】以下、実施例１４９と同様にして実施例１
５０および１５１に示す化合物を製造した。えられた化
合物の物性を表２４に示す。

【０３００】

【表２６】

【０３０１】実施例１５２３−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンスルホン
アミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］ベン
ズアミド］安息香酸の製造

【０３０２】

【化８７】

【０３０３】実施例３０の化合物６０ｍｇをエタノール
３ｍｌに溶解し、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１ｍｌを
加え１時間２０分加熱還流した。室温で２Ｎ塩酸を加え
酸性とした後、溶媒を減圧留去した。酢酸エチルを加
え、酢酸エチル層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を留去して、標題化合物４０ｍｇを
えた。

【０３０４】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：2.76-2.89(m,2H), 3.
55-3.77(m,2H), 6.85(brs,1H), 7.08-7.73(m,17H), 8.1
5(brs,1H), 8.95(brs,1H)

【０３０５】実施例１５３４−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンスルホン
アミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］ベン
ズアミド］安息香酸の製造

【０３０６】

【化８８】

【０３０７】実施例１５２と同様にして標題化合物を製
造した。

【０３０８】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：2.79(q,2H), 3.56-3.
67(m,2H), 6.98(t,1H), 7.16-7.74(m,18H), 9.09(s,1H)

【０３０９】実施例１５４２−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンスルホン
アミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］ベン
ズアミド］フェニル酢酸の製造

【０３１０】

【化８９】

【０３１１】実施例４２の化合物１１５ｍｇを１，２−
ジクロロエタンに溶解し、トリフルオロ酢酸２ｍｌを加
えた。室温で３時間撹拌した後、溶媒を減圧下留去し、
飽和炭酸ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加えた。
酢酸エチル層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を減圧下留去し、標題化合物１０５ｍｇ
をえた。

【０３１２】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：2.47(q,2H), 3.65(t,
2H), 3.70(s,2H), 6.82(t,1H), 7.03-7.76(m,17H), 8.5
0(s,1H)

【０３１３】以下、実施例１５４と同様にして実施例１
５５〜１５７に示す化合物を製造した。えられた化合物
の物性を表２５に示す。

【０３１４】

【表２７】

【０３１５】実施例１５８２−［Ｎ−［２−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベン
ゼンスルホンアミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファ
モイル］ベンズアミド］エチル］−Ｎ−フェニルスルフ
ァモイル］安息香酸の製造

【０３１６】

【化９０】

【０３１７】実施例９７の化合物１００ｍｇをエタノー
ル４ｍｌに溶解し、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液２ｍｌ
を加え１時間加熱還流した。室温で１Ｎ塩酸を加え酸性
とした後、溶媒を減圧下留去した。残留物を水に懸濁
し、濾取することにより標題化合物８３ｍｇをえた。

【０３１８】¹H-NMR(DMSO-d₆)δ値：2.73(q,2H), 3.28
(q,2H), 3.68(t,2H), 3.92(t,2H), 7.05-7.75(m,22H),
7.83(t,1H), 8.55(t,1H), 13.5(brs,1H)

【０３１９】実施例１５９Ｎ−［３−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンス
ルホンアミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイ
ル］ベンズアミド］フェニル］オキサミド酸の製造

【０３２０】

【化９１】

【０３２１】実施例１５８と同様にして標題化合物を製
造した。

【０３２２】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：2.93(q,2H), 3.82(t,
2H), 6.80-7.75(m,17H), 8.35-8.45(m,2H), 9.34(brs,1
H)

【０３２３】以下、実施例１５８と同様にして実施例１
６０〜１７２に示す化合物を製造した。えられた化合物
の物性を表２６および２７に示す。

【０３２４】

【表２８】

【０３２５】

【表２９】

【０３２６】実施例１７３２−［２−［Ｎ−［２−（ベンゼンスルホンアミド）エ
チル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］ベンズアミド］
安息香酸の製造

【０３２７】

【化９２】

【０３２８】実施例３９の化合物８０ｍｇをメタノール
１．６ｍｌに溶解し、水酸化バリウム２１３ｍｇを加え
た。室温で１２時間撹拌した後、溶媒を減圧下留去し、
２Ｎ塩酸およびクロロホルムを加えた。クロロホルム層
を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、標
題化合物６４ｍｇをえた。

【０３２９】¹H-NMR(DMSO-d₆)δ値：2.69(t,2H), 3.73
(t,2H), 6.99(t,1H), 7.99(d,1H), 8.56(d,1H), 14.9
(s,1H)

【０３３０】以下、実施例１７３と同様にして実施例１
７４〜１８５に示す化合物を製造した。えられた化合物
の物性を表２８〜３０に示す。

【０３３１】

【表３０】

【０３３２】

【表３１】

【０３３３】

【表３２】

【０３３４】実施例１８６３−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンスルホン
アミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］ベン
ズアミド］フェニル酢酸イソプロピルエステルの製造

【０３３５】

【化９３】

【０３３６】実施例１５６の化合物５０ｍｇを１，２−
ジクロロエタン１ｍｌに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド１滴を加えた後、チオニルクロライド１ｍｌを
滴下した。室温で３時間撹拌した後、溶媒を減圧下留去
した。残留物をイソプロピルアルコール１ｍｌに溶解
し、５０℃で２０分間撹拌した。溶媒を減圧下留去し、
残留物を薄層クロマトグラフィー（展開溶媒ヘキサ
ン：酢酸エチル＝３：２）で精製し、標題化合物２２ｍ
ｇをえた。

【０３３７】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：1.23(s,3H), 1.25(s,
3H), 2.80(q,2H), 3.60(s,2H), 3.63(t,2H), 5.00-5.10
(m,1H), 6.55(t,1H), 7.05-7.75(m,17H), 8.00(s,1H)

【０３３８】以下、実施例１８６と同様にして実施例１
８７〜２０１に示す化合物を製造した。えられた化合物
の物性を表３１および３２に示す。

【０３３９】

【表３３】

【０３４０】

【表３４】

【０３４１】

【表３５】

【０３４２】実施例２０２３−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンスルホン
アミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］ベン
ズアミド］−Ｎ−（１，１−ジメチルプロピル）ベンズ
アミドの製造

【０３４３】

【化９４】

【０３４４】実施例１５２の化合物１００ｍｇを１，２
−ジクロロエタン１ｍｌに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド１滴を加えた後、チオニルクロライド１ｍｌ
を滴下した。室温で３時間撹拌した後、溶媒を減圧下留
去した。残留物を１，２−ジクロロエタン１．５ｍｌに
溶解し、ｔｅｒｔ−アミルアミン１４２ｍｇの１，２−
ジクロロエタン２ｍｌ溶液に滴下した。室温で２時間撹
拌した後、反応液を水洗し、溶媒を減圧下留去した。残
留物を薄層クロマトグラフィー（展開溶媒ヘキサン：
酢酸エチル＝１：１）で精製し、標題化合物８５ｍｇを
えた。

【０３４５】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：0.87(t,3H), 1.38(s,
6H), 1.75-1.85(m,2H), 2.81(q,2H), 3.67(t,2H), 6.09
(s,1H), 6.83(t,1H), 7.00-7.75(m,16H), 8.05(s,1H),
8.77(s,1H)

【０３４６】実施例２０３２−［Ｎ−［２−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベン
ゼンスルホンアミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファ
モイル］ベンズアミド］エチル］−Ｎ−フェニルスルフ
ァモイル］−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルベンズアミドの製造

【０３４７】

【化９５】

【０３４８】実施例２０２と同様にして標題化合物を製
造した。

【０３４９】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：1.37(s,9H), 2.74(q,
2H), 3.42(q,2H), 3.72(t,2H), 3.90(t,2H), 5.54(s,1
H), 6.96-7.90(m,22H), 8.33(s,1H)

【０３５０】以下、実施例２０２と同様にして実施例２
０４〜２０９に示す化合物を製造した。えられた化合物
の物性を表３３に示す。

【０３５１】

【表３６】

【０３５２】実施例２１０３−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベンゼンスルホン
アミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファモイル］ベン
ズアミド］−Ｎ−メチルベンズアミドの製造

【０３５３】

【化９６】

【０３５４】実施例１５２の化合物１００ｍｇ、メチル
アミン０．１２ｍｌおよびトリエチルアミン０．０７ｍ
ｌをジクロロメタン１ｍｌに溶解し、２−クロロ−１，
３−ジメチルイミダゾリニウムクロライド５５ｍｇのジ
クロロメタン１ｍｌ溶液を滴下した。室温で１．５時間
撹拌した後、反応液を水洗し、溶媒を減圧下留去した。
残留物を薄層クロマトグラフィー（展開溶媒ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１：３）で精製し、標題化合物６０ｍ
ｇをえた。

【０３５５】¹H-NMR(CDCl₃)δ値：2.83(q,2H), 2.91(d,
3H), 3.74(t,2H), 6.95-7.89(m,18H), 8.16(s,1H), 8.8
9(s,1H)

【０３５６】以下、実施例２１０と同様にして実施例２
１１〜２１３に示す化合物を製造した。得られた化合物
の物性を表３４に示す。

【０３５７】

【表３７】

【０３５８】実施例２１４２−［Ｎ−［２−［２−［Ｎ−［２−（４−クロロベン
ゼンスルホンアミド）エチル］−Ｎ−フェニルスルファ
モイル］ベンズアミド］エチル］−Ｎ−フェニルスルフ
ァモイル］安息香酸ナトリウムの製造

【０３５９】

【化９７】

【０３６０】実施例１５８の化合物１００ｍｇをエタノ
ール１ｍｌに溶解し、０．１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液
１．２５４ｍｌを加えて撹拌した。溶媒を減圧下留去
し、標題化合物１０２ｍｇをえた。

【０３６１】¹H-NMR(DMSO-d₆)δ値：2.74(t,2H), 3.17
(q,2H), 3.72(t,2H), 4.02(t,2H), 6.92(d,1H), 7.10
(d,1H), 7.14-7.49(m,16H), 7.53(d,2H), 7.72(d,2H),
9.05(s,1H), 9.66(s,1H)

【０３６２】〔試験例〕つぎに、本発明のスルホンアミ
ド誘導体がすぐれた好酸球機能抑制作用を有することお
よびその活性が好酸球に特異的であることを試験例をあ
げて説明する。

【０３６３】本発明の化合物について、（１）モルモッ
ト好酸球からのＥＰＯ（エオシノフィルパーオキシダー
ゼ(Eosinophil Peroxydase)）遊離抑制作用、（２）モ
ルモット好酸球ＥＰＯ酵素活性に対する直接作用、
（３）ラット肥満細胞からのヒスタミン遊離に対する作
用、（４）モルモット遅発型喘息モデルに対する作用、
（５）急性毒性についての試験を実施した。以下に試験
方法および結果を記す。

【０３６４】試験例１：モルモット好酸球からのＥＰＯ
遊離抑制作用生理食塩液で１．５ｍｇ／ｍｌ懸濁液に調製したセファ
デックス（Sephadex）Ｇ−２００（ファルマシア社製）
をハートレー系雄性モルモット（７週齢、体重：約６０
０ｇ）に静脈内投与（２ｍｌ／ｋｇ）し、肺胞中に好酸
球を浸潤させた。この動物の肺胞洗浄を行ない、この肺
胞洗浄液をパルコール（Parcoll）濃度勾配遠心分離法
にしたがって好酸球を精製し、以下の試験に用いた。

【０３６５】ハンクス緩衝液で好酸球を２．５×１０⁶
個／ｍｌの細胞浮遊液としたのち、細胞浮遊液２００μ
ｌに対照溶媒または被験化合物を添加して、３７℃で５
分間反応させた。反応後、ｆＭＬＰ（ホルミル−メチオ
ニルロイシルフェニルアラニン）１μＭ（最終濃度）を
添加し、１０分間の細胞刺激を行なった。刺激後、０℃
に冷却しておいたＣａ²⁺、Ｍｇ²⁺不含タイロード（Tyro
de）液２００μｌを添加して反応を停止し、遠心分離
（１５００ｒｐｍ、４℃、５分間）を行なった。その上
清２００μｌを２７℃で５分間プレインキュベートし
た。インキュベート後、１％（ｖ／ｖ）過酸化水素を含
む１０ｍＭオルトフェニレンジアミン（ＯＰＤ）液２
００μｌを添加し、酵素反応を行なった。５分間の反応
後、４Ｎ硫酸１３３．３μｌを添加して反応を停止し、
分光光度計（大日本製薬（株）製）を用いて波長４９２
ｎｍにおける反応液の吸光度を測定した。

【０３６６】吸光度から好酸球１０⁶個あたりのＥＰＯ
遊離量を算出し、ｆＭＬＰ非刺激時のＥＰＯ遊離量（Ｓ
ｐ）、対照群のｆＭＬＰ刺激時のＥＰＯ遊離量（Ａ）お
よび各試験物質前処置群のｆＭＬＰ刺激時のＥＰＯ遊離
量（Ｂ）から、次式によりＥＰＯ遊離抑制率（％）を算
出した（ｎ＝３）。結果を表３５に示す。

【０３６７】

【数１】

【０３６８】

【表３８】

【０３６９】試験例１の結果より、モルモット好酸球か
らのＥＰＯ遊離を本発明の化合物が強く抑制することが
確認された。

【０３７０】試験例２：モルモット好酸球ＥＰＯ酵素活
性に対する直接作用試験例１と同様の方法でえられた好酸球をハンクス緩衝
液で５×１０⁶個／ｍｌの細胞浮遊液とし、−２０℃で
凍結保存後、氷水中で融解し、遠心分離（１５００ｒｐ
ｍ、４℃、７．５分間）を行なった。その上清をモルモ
ット好酸球ＥＰＯ酵素標品とした。酵素標品１００μｌ
を試験管に分注し、対照溶媒、陽性対照３−アミノ−１
Ｈ−１，２，４−トリアゾール（ＡＴＡ）液（最終濃度
３０ｍＭ）または被験化合物を添加後に１％（ｖ／ｖ）
過酸化水素を含む１０ｍＭＯＰＤ液２００μｌを添加
し、５分間の酵素反応を行なった。反応後、４Ｎ硫酸１
３３．３μｌを添加して、反応を停止した。反応停止
後、試験例１と同様にして吸光度を測定した。

【０３７１】対照群の好酸球ＥＰＯ酵素活性による吸光
度の値（Ａ）と被験化合物処置群の好酸球ＥＰＯ酵素活
性による吸光度の値（Ｂ）とから、次式によりＥＰＯ酵
素活性阻害率（％）を算出した（ｎ＝３）。

【０３７２】

【数２】

【０３７３】なお、本発明の化合物は最終濃度１０μＭ
とした。結果を表３６に示す。

【０３７４】

【表３９】

【０３７５】試験例２の結果から明らかなように、ＥＰ
Ｏ遊離抑制作用を示す濃度においても、本発明の化合物
はモルモット好酸球ＥＰＯの酵素活性に対する直接作用
を有さなかった。したがって、本発明の化合物はＥＰＯ
の酵素活性を直接的に阻害するのではなく、好酸球から
のＥＰＯ遊離を抑制することが確認された。

【０３７６】試験例３：ラット腹腔肥満細胞からのヒス
タミン遊離に対する作用ジニトロフェニル−オバルブミン（ＤＮＰ−ＯＡ）と百
日咳ワクチンで免疫したウィスター系雌性ラット（７週
齢、体重：約２００ｇ）からえた抗ＤＮＰ−ＯＡ血清
（４８ｈＰＣＡ力価５１２倍）を生理食塩液で４倍に
希釈し、その１ｍｌを腹腔内投与したウィスター系雄性
ラット（８週齢、体重：約２５０ｇ）の腹腔内から、肥
満細胞を含む腹腔浸出細胞を採集した。この腹腔細胞中
の肥満細胞数を０．１％（ｗ／ｖ）ＢＳＡ（ウシ血清ア
ルブミン）含有タイロード液にて３．７５×１０⁵個／
ｍｌに調整し、この４００μｌを試験管に分注し、３７
℃で１０分間インキュベートした。インキュベート後、
対照溶媒、陽性対照（ＤＳＣＧ（ジソジウムクロモグリ
ケイト））液（最終濃度１０μＭ）または被験化合物を
添加して３０秒間反応させた。その後、抗原液（ＤＮＰ
−ＯＡ）（濃度１００μｇ／ｍｌ）５０μｌを加えて３
７℃で１０分間反応後、０℃に冷却したＣａ²⁺、Ｍｇ²⁺
不含タイロード液１ｍｌを添加して反応を停止した。

【０３７７】反応停止後、遠心分離（２０００ｒｐｍ、
０℃、１０分間）を行なった。えられた上清５００μｌ
を別の試験管に移し、１０ＮＨＣｌＯ₄ １０μｌを
加え３０分間以上静置したのち、遠心分離（３０００ｒ
ｐｍ、室温、１０分間）を行なった。えられた上清４０
０μｌをＮａＣｌ約４００ｍｇが入った共栓試験管に移
し入れ、４ＮＮａＯＨ０．１２５ｍｌでアルカリ抽出
したのち、ブタノール３．５ｍｌを用いて抽出した。こ
のブタノール層３ｍｌを０．１ＮＨＣｌ１．５ｍｌを
入れた試験管内に注入し、振とう後にブタノール層を除
去してＨＣｌ層５００μｌをえた。ここに、１ＮＮａ
ＯＨ０．４ｍｌを加え、１％（ｗ／ｖ）オルトフタル
アルデヒド液０．１ｍｌを添加し、撹拌混合後、遮光氷
水中にて４５分間反応させた。反応後、２Ｍクエン酸
０．２ｍｌを添加して反応を停止した。これを蛍光光度
計（（株）日立製作所）（ＥＸ：３５１、ＥＭ：４４
１）で測定した。

【０３７８】（被験化合物の評価は、）総ヒスタミン量
（Ｔ）、抗原非刺激時のヒスタミン遊離量（Ｓｐ）およ
び抗原刺激時で被験化合物処置群または対照群のヒスタ
ミン遊離量（Ｈ）から、次式によりヒスタミン遊離率
（％）を求め、

【０３７９】

【数３】

【０３８０】対照群の抗原刺激時のヒスタミン遊離率
（Ｃ）と被験化合物処置群の抗原刺激時のヒスタミン遊
離率（Ｓ）とから、被験化合物によるヒスタミン遊離の
抑制率（％）を次式により求めた（ｎ＝３）。結果を表
３７に示す。

【０３８１】

【数４】

【０３８２】

【表４０】

【０３８３】試験例３より、本発明の化合物は、ラット
腹腔肥満細胞からのヒスタミン遊離に対して強い抑制作
用を示さないことが確認された。したがって、本発明の
化合物は、肥満細胞などに代表される生体の初期防御機
構に関わる細胞の活性化を抑制せず、好酸球からのＥＰ
Ｏ遊離を特異的に抑制することが明らかとなった。

【０３８４】試験例４：モルモット遅発型喘息モデルに
対する作用４週齢のハートレー系雄性モルモット（体重：約３００
ｇ、３週齢で日本ＳＬＣ（株）より購入、１週間自由接
餌にて予備飼育）に、ＯＡ（オブアルブミン、シグマ社
製）生理食塩水溶液２μｇ／ｍｌと水酸化アルミニウム
ゲル生理食塩水溶液２ｍｇ／ｍｌを等量混合し、その混
合液０．５ｍｌを腹腔内投与し、感作を行なった。２週
間後より、１％（ｗ／ｖ）ＯＡ生理食塩水溶液を超音波
ネブライザー（オムロン（株）、ＮＥ−Ｕ１０Ｂ）を用
いて霧化し、１０分間の吸入操作を毎週１回、３週間行
ない、遅発型喘息モデル動物を作製し、最終感作の翌週
に試験を行なった。

【０３８５】試験前日および当日に正常気道抵抗値をダ
ブルフロープレチスモグラフ法による呼吸機能測定装置
（Ｂｕｘｃｏ）にて測定したのち、２％（ｗ／ｖ）ＯＡ
生理食塩水溶液を５分間吸入させた。即時型喘息反応
（吸入直後の一過性の気道抵抗上昇反応）を測定後は、
１０時間後まで１時間毎に気道抵抗値を測定した。気道
抵抗上昇値は、各時間に測定した気道抵抗値と正常気道
抵抗値との差で表し、４〜１０時間後までの気道抵抗値
の変化を遅発型喘息反応相とし、この間の気道抵抗上昇
値の平均値で示した。

【０３８６】被験化合物は、１０ｍｌ／ｋｇの投与液量
となるように０．５％（ｗ／ｖ）メチルセルロース（ナ
カライテスク（株））水溶液に懸濁させ、抗原吸入の１
時間前と３時間後に経口投与した。対照として溶媒であ
る０．５％メチルセルロース水溶液を投与し、陽性対照
としてサイクロスポリンＡ（ＣｙｓＡと略す）（投与
量：５０ｍｇ／ｋｇ）を被験化合物と同様にして投与し
た。試験に供した動物は、試験前日より抗原吸入４時間
後の気道抵抗値測定終了時まで絶食処置をした。対照群
および薬物投与群の気道抵抗値から平均気道抵抗上昇値
を求め、それぞれＡおよびＢとし、これらから次式によ
り気道抵抗上昇抑制率（％）を算出した。結果を表３８
〜４０に示す。

【０３８７】

【数５】

【０３８８】

【表４１】

【０３８９】

【表４２】

【０３９０】

【表４３】

【０３９１】試験例４より、好酸球機能抑制作用を有す
る本発明の化合物は、モルモット遅発型喘息モデルにお
いて強い抗喘息作用を有することが確認された。

【０３９２】試験例５：急性毒性試験実施例３０および１５８の化合物を０．５％（ｗ／ｖ）
メチルセルロース（ナカライテスク（株）製）水溶液に
懸濁し、１６時間絶食した雄性ＩＣＲ系マウス（６〜７
週齢、体重：約３０ｇ）に１回経口投与して７日間観察
した（ｎ＝６）。その結果、実施例３０および１５８の
化合物いずれも１０００ｍｇ．ｋｇ体重までの投与量で
は死亡しなかった。

【０３９３】したがって本発明の化合物はＬＤ₅₀＞１０
００ｍｇ／ｋｇであり、毒性は認められなかった。

【０３９４】〔製剤例〕以下に本発明化合物の製剤例を
示すが、処方はこれらに限定されるものではない。

【０３９５】製剤例１：錠剤下記の処方にしたがって、１錠あたり有効成分２ｍｇを
含有する錠剤を調製した。

【０３９６】実施例３０の化合物２ｍｇ澱粉４８ｍｇ乳糖３０ｍｇ結晶セルロース１５ｍｇメチルセルロース３ｍｇステアリン酸マグネシウム２ｍｇ全量１００ｍｇ

【０３９７】製剤例２：カプセル剤下記の処方にしたがって、有効成分２ｍｇを含有する１
００ｍｇの混合成分をカプセルに充填してカプセル剤を
調製した。

【０３９８】実施例３０の化合物２ｍｇ澱粉３８ｍｇ乳糖５０ｍｇ結晶セルロース８ｍｇステアリン酸マグネシウム２ｍｇ全量１００ｍｇ

【０３９９】

【発明の効果】本発明のスルホンアミド誘導体およびそ
れを有効成分とする医薬は、好酸球の機能を特異的に抑
制する作用を有し、かつ副作用を軽減しながら種々の好
酸球関連疾患の予防および治療を行なうことができる。
また、本発明の好酸球機能抑制剤、抗アレルギー剤およ
び抗気管支喘息剤は、種々の好酸球関連疾患に対して有
用である。

【０４００】また、本発明の中間体化合物は、式（Ｉ）
で示される化合物の中間体として有用であり、また種々
の医薬としての可能性も考えられる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＡ６１Ｋ 31/445 Ａ６１Ｋ 31/445 Ｃ０７Ｃ 311/46 Ｃ０７Ｃ 311/46 Ｃ０７Ｄ 295/18 Ｃ０７Ｄ 295/18 Ｚ (72)発明者須田昌宏京都市山科区四ノ宮南河原町14番地科研製薬株式会社総合研究所内 (72)発明者藤本恭子京都市山科区四ノ宮南河原町14番地科研製薬株式会社総合研究所内 (72)発明者綿貫充京都市山科区四ノ宮南河原町14番地科研製薬株式会社総合研究所内 (72)発明者中村勉京都市山科区四ノ宮南河原町14番地科研製薬株式会社総合研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】式（Ｉ）：【化１】（式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は同一または異なって、そ
れぞれ水素原子；Ｃ_1〜9アルキル基；Ｃ_3〜7シクロアル
キル基；Ｃ_7〜9アラルキル基；Ｒ¹⁰で置換されていても
よいアリール基（Ｒ¹⁰はＣ_1〜9アルキル基、Ｃ_1〜9アル
コキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ_2〜8アルキルア
ミド基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル
基、アニリノ基、Ｃ_7〜9アラルキル基、アリール基、ベ
ンジルオキシ基、フェノキシ基、Ｃ_3〜7シクロアルキル
基、Ｃ_1〜4アルキルチオ基、シアノ基、スルホンアミド
基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、
テトラフルオロエトキシ基および−（ＣＨ₂）_i−Ｒ
¹¹（式中、ｉは０〜５の整数を表し、Ｒ¹¹はＣ_2〜5脂肪
族アシル基、芳香族アシル基、Ｃ_2〜5脂肪族アシロキシ
基、芳香族アシロキシ基または水酸基を表す）よりなる
群から選ばれる基を表す）；ならびにＮ、ＳおよびＯよ
り選ばれる少なくとも１つを環の構成原子として含有す
る、Ｒ¹²で置換されていてもよい、ヘテロ環（Ｒ¹²は独
立してＲ¹⁰と同じ意味を表す）よりなる群から選ばれる
基を表し、Ｘは−ＳＯ₂ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨ
ＣＯＮＨ−または−ＮＨＣＳＮＨ−を表し、ＹはＣ_1〜6
アルキレン基、Ｃ_2〜6アルケニレン基またはＣ_2〜6アル
キニレン基を表し、Ｚは（ａ）ベンゼン環または（ｂ）
Ｎ、ＳおよびＯより選ばれる少なくとも１つを環の構成
原子として含有するヘテロ環を表し、Ｒ⁴は水素原子；
Ｃ_1〜9アルキル基；−ＳＯ₂Ｒ¹³（式中、Ｒ¹³はＣ_1〜9
アルキル基またはＲ¹⁴で置換されていてもよいフェニル
基（Ｒ¹⁴はＣ_1〜9アルキル基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、Ｃ_2〜8アルキルアミド基、Ｃ
_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、アニリ
ノ基、Ｃ_7〜9アラルキル基、アリール基、ベンジルオキ
シ基、フェノキシ基、Ｃ_3〜7シクロアルキル基、Ｃ₁ _〜4
アルキルチオ基、シアノ基、スルホンアミド基、トリフ
ルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、テトラフル
オロエトキシ基、−（ＣＨ₂）_j−Ｒ¹⁵（式中、ｊは０〜
５の整数を表し、Ｒ¹⁵は独立してＲ¹¹と同じ意味を表
す）、−Ｂ−ＣＯＲ¹⁶（式中、Ｂは−（ＣＨ₂）_k−、−
ＯＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、ｋは０〜２の
整数を表し、Ｒ¹⁶は水酸基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、Ｃ
_3〜7シクロアルコキシ基、アリール基または−ＮＲ¹⁷Ｒ
¹⁸（式中、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸は同一または異なって、それ
ぞれ水素原子、Ｃ_1〜9アルキル基、Ｃ_3〜7シクロアルキ
ル基またはテトラゾリル基を表し、Ｒ¹⁷とＲ¹⁸が一緒に
なって環を形成していてもよい）を表す）、−Ｂ−Ｗ
（式中、Ｂは前記と同じであり、Ｗはシアノ基またはテ
トラゾリル基を表す）および−ＮＲ¹⁹Ｒ²⁰（式中、Ｒ¹⁹
およびＲ²⁰は同一または異なって、それぞれ水素原子、
Ｃ_1〜9アルキル基、Ｃ_3〜7シクロアルキル基、アリール
基、Ｃ_7〜9アラルキル基、Ｃ_2〜5脂肪族アシル基、Ｃ
_2〜5脂肪族アシロキシ基、芳香族アシル基、Ｃ_1〜4脂肪
族スルホニル基、芳香族スルホニル基、Ｃ_2〜7アルコキ
シカルボニル基、ヒドロキシオキサリル基またはＣ_3〜7
アルコキシオキサリル基を表す）よりなる群から選ばれ
る基を表す）を表す）；フェニル基；少なくとも１つの
Ｒ²¹で置換されたフェニル基（Ｒ²¹は独立してＲ¹⁴と同
じ意味を表す。なおＲ²¹が２つ以上であるばあい、それ
らは同じであっても異なっていてもよい）；−（Ｃ
Ｈ₂）_m−Ｒ²²（式中、ｍは１〜６の整数を表し、Ｒ²²は
カルボキシル基、Ｃ_2〜7アルコキシカルボニル基または【化２】（式中、Ａは−ＳＯ₂−または−ＣＯ−を表し、Ｒ²³は
独立してＲ²と同じ意味を表し、Ｒ²⁴はＣ_1〜9アルキル
基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、Ｃ_3〜6カルボキシルアルキル
基、Ｃ_3〜6カルボキシルアルケニル基またはＲ²⁵で置換
されていてもよいフェニル基（Ｒ²⁵は独立してＲ¹⁴と同
じ意味を表す）を表す）を表す）；ならびにＮ、Ｓおよ
びＯより選ばれる少なくとも１つを環の構成原子として
含有する、Ｒ²⁶で置換されていてもよい、ヘテロ環（Ｒ
²⁶は独立してＲ¹⁰と同じ意味を表す）よりなる群から選
ばれる基を表す）で示されるスルホンアミド誘導体、そ
の塩、その水和物またはその溶媒和物。
【請求項２】式（Ｉ）においてＸが−ＳＯ₂ＮＨ−で
ある請求項１記載のスルホンアミド誘導体、その塩、そ
の水和物またはその溶媒和物。
【請求項３】式（Ｉ）においてＹがＣ_1〜6アルキレン
基である請求項１記載のスルホンアミド誘導体、その
塩、その水和物またはその溶媒和物。
【請求項４】式（Ｉ）においてＺがベンゼン環である
請求項１記載のスルホンアミド誘導体、その塩、その水
和物またはその溶媒和物。
【請求項５】式（Ｉ）においてＲ¹がＲ¹⁰で置換され
ていてもよいフェニル基（Ｒ¹⁰は前記と同じである）で
ある請求項１記載のスルホンアミド誘導体、その塩、そ
の水和物またはその溶媒和物。
【請求項６】式（Ｉ）においてＲ²がＲ¹⁰で置換され
ていてもよいフェニル基（Ｒ¹⁰は前記と同じである）で
ある請求項１記載のスルホンアミド誘導体、その塩、そ
の水和物またはその溶媒和物。
【請求項７】式（Ｉ）においてＲ⁴が−ＳＯ₂Ｒ¹³であ
り、Ｒ¹³がＲ¹⁴で置換されていてもよいフェニル基（Ｒ
¹⁴は前記と同じである）である請求項１記載のスルホン
アミド誘導体、その塩、その水和物またはその溶媒和
物。
【請求項８】式（Ｉ）においてＲ⁴が−Ｂ−ＣＯＲ¹⁶
で置換されたフェニル基（式中、ＢおよびＲ¹⁶は前記と
同じである）である請求項１記載のスルホンアミド誘導
体、その塩、その水和物またはその溶媒和物。
【請求項９】式（Ｉ）においてＲ⁴が【化３】（式中、Ａは前記と同じであり、Ｒ²³がＲ²⁷で置換され
ていてもよいフェニル基（Ｒ²⁷は独立してＲ¹⁰と同じ意
味を表す）であり、Ｒ²⁴がＲ²⁵で置換されていてもよい
フェニル基（Ｒ²⁵は前記と同じである）である）である
請求項１記載のスルホンアミド誘導体、その塩、その水
和物またはその溶媒和物。
【請求項１０】【化４】よりなる群から選ばれるスルホンアミド誘導体、その
塩、その水和物またはその溶媒和物。
【請求項１１】【化５】【化６】【化７】【化８】【化９】【化１０】【化１１】【化１２】よりなる群から選ばれるスルホンアミド誘導体、その
塩、その水和物またはその溶媒和物。
【請求項１２】【化１３】【化１４】【化１５】【化１６】【化１７】よりなる群から選ばれるスルホンアミド誘導体、その
塩、その水和物またはその溶媒和物。
【請求項１３】【化１８】【化１９】よりなる群から選ばれるスルホンアミド誘導体、その
塩、その水和物またはその溶媒和物。
【請求項１４】式（ＩＩ）：【化２０】（式中、Ｒ⁵はＲ¹−Ｘ−（式中、Ｒ¹は水素原子；Ｃ
_1〜9アルキル基；Ｃ_3〜7シクロアルキル基；Ｃ_7〜9アラ
ルキル基；Ｒ¹⁰で置換されていてもよいアリール基（Ｒ
¹⁰はＣ_1〜9アルキル基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、ハロゲン
原子、ニトロ基、Ｃ_2〜8アルキルアミド基、Ｃ_1〜4脂肪
族スルホニル基、芳香族スルホニル基、アニリノ基、Ｃ
_7〜9アラルキル基、アリール基、ベンジルオキシ基、フ
ェノキシ基、Ｃ_3〜7シクロアルキル基、Ｃ_1〜4アルキル
チオ基、シアノ基、スルホンアミド基、トリフルオロメ
チル基、トリフルオロメトキシ基、テトラフルオロエト
キシ基および−（ＣＨ₂）_i−Ｒ¹¹（式中、ｉは０〜５の
整数を表し、Ｒ¹¹はＣ_2〜5脂肪族アシル基、芳香族アシ
ル基、Ｃ_2〜5脂肪族アシロキシ基、芳香族アシロキシ基
または水酸基を表す）よりなる群から選ばれる基を表
す）；ならびにＮ、ＳおよびＯより選ばれる少なくとも
１つを環の構成原子として含有する、Ｒ¹²で置換されて
いてもよい、ヘテロ環（Ｒ¹²は独立してＲ¹⁰と同じ意味
を表す）よりなる群から選ばれる基を表し、Ｘは−ＳＯ
₂ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯＮＨ−または−Ｎ
ＨＣＳＮＨ−を表す）または保護されていてもよいアミ
ノ基を表し、ＹはＣ_1〜6アルキレン基、Ｃ_2〜6アルケニ
レン基またはＣ_2〜6アルキニレン基を表し、Ｚは（ａ）
ベンゼン環または（ｂ）Ｎ、ＳおよびＯより選ばれる少
なくとも１つを環の構成原子として含有するヘテロ環を
表し、Ｒ²は独立してＲ¹と同じ意味を表し、Ｒ⁶は水素
原子またはエステル残基を表す）で示されるスルホンア
ミド誘導体、その塩、その水和物またはその溶媒和物。
【請求項１５】式（ＩＩＩ）：【化２１】（式中、Ｒ⁷は保護されていてもよいアミノ基を表し、
ｍは１〜６の整数を表し、Ａは−ＳＯ₂−または−ＣＯ
−を表し、Ｒ²³は水素原子；Ｃ_1〜9アルキル基；Ｃ_3〜7
シクロアルキル基；Ｃ_7〜9アラルキル基；Ｒ¹⁰で置換さ
れていてもよいアリール基（Ｒ¹⁰はＣ_1〜9アルキル基、
Ｃ_1〜9アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ_2〜8
アルキルアミド基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族
スルホニル基、アニリノ基、Ｃ_7〜9アラルキル基、アリ
ール基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基、Ｃ_3〜7シク
ロアルキル基、Ｃ_1〜4アルキルチオ基、シアノ基、スル
ホンアミド基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメ
トキシ基、テトラフルオロエトキシ基および−（Ｃ
Ｈ₂）_i−Ｒ¹¹（式中、ｉは０〜５の整数を表し、Ｒ¹¹は
Ｃ_2〜5脂肪族アシル基、芳香族アシル基、Ｃ_2〜5脂肪族
アシロキシ基、芳香族アシロキシ基または水酸基を表
す）よりなる群から選ばれる基を表す）；ならびにＮ、
ＳおよびＯより選ばれる少なくとも１つを環の構成原子
として含有する、Ｒ¹²で置換されていてもよい、ヘテロ
環（Ｒ¹²は独立してＲ¹⁰と同じ意味を表す）よりなる群
から選ばれる基を表し、Ｒ²⁴はＣ_1〜9アルキル基、Ｃ
_1〜9アルコキシ基、Ｃ_3〜6カルボキシルアルキル基、Ｃ
_3〜6カルボキシルアルケニル基またはＲ²⁵で置換されて
いてもよいフェニル基（Ｒ²⁵はＣ_1〜9アルキル基、Ｃ
_1〜9アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ_2〜8ア
ルキルアミド基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族ス
ルホニル基、アニリノ基、Ｃ_7〜9アラルキル基、アリー
ル基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基、Ｃ_3〜7シクロ
アルキル基、Ｃ_1〜4アルキルチオ基、シアノ基、スルホ
ンアミド基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメト
キシ基、テトラフルオロエトキシ基、−（ＣＨ₂）_j−Ｒ
¹⁵（式中、ｊは０〜５の整数を表し、Ｒ¹⁵は独立してＲ
¹¹と同じ意味を表す）、−Ｂ−ＣＯＲ¹⁶（式中、Ｂは−
（ＣＨ₂）_k−、−ＯＣＨ_２−または−ＣＨ＝ＣＨ−を表
し、ｋは０〜２の整数を表し、Ｒ^１６は水酸基、Ｃ_1〜9
アルコキシ基、Ｃ_3〜7シクロアルコキシ基、アリール基
または−ＮＲ¹⁷Ｒ¹⁸（式中、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸は同一また
は異なって、それぞれ水素原子、Ｃ_1〜9アルキル基、Ｃ
_3〜7シクロアルキル基またはテトラゾリル基を表し、Ｒ
¹⁷とＲ¹⁸が一緒になって環を形成していてもよい）を表
す）、−Ｂ−Ｗ（式中、Ｂは前記と同じであり、Ｗはシ
アノ基またはテトラゾリル基を表す）および−ＮＲ¹⁹Ｒ
²⁰（式中、Ｒ¹⁹およびＲ²⁰は同一または異なって、それ
ぞれ水素原子、Ｃ_1〜9アルキル基、Ｃ_3〜7シクロアルキ
ル基、アリール基、Ｃ_7〜9アラルキル基、Ｃ_2〜5脂肪族
アシル基、Ｃ_2〜5脂肪族アシロキシ基、芳香族アシル
基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、
Ｃ_2〜7アルコキシカルボニル基、ヒドロキシオキサリル
基またはＣ_3〜7アルコキシオキサリル基を表す）よりな
る群から選ばれる基を表す）を表す）で示されるアミノ
誘導体、その塩、その水和物またはその溶媒和物。
【請求項１６】式（ＩＶ）：【化２２】（式中、Ｒ⁸は保護されていてもよいアミノ基を表し、
Ｒ²およびＲ³は同一または異なって、それぞれ水素原
子；Ｃ_1〜9アルキル基；Ｃ_3〜7シクロアルキル基；Ｃ
_7〜9アラルキル基；Ｒ¹⁰で置換されていてもよいアリー
ル基（Ｒ¹⁰はＣ_1〜9アルキル基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、
ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ_2〜8アルキルアミド基、Ｃ
_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、アニリ
ノ基、Ｃ_7〜9アラルキル基、アリール基、ベンジルオキ
シ基、フェノキシ基、Ｃ_3〜7シクロアルキル基、Ｃ_1〜4
アルキルチオ基、シアノ基、スルホンアミド基、トリフ
ルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、テトラフル
オロエトキシ基および−（ＣＨ₂）_i−Ｒ¹¹（式中、ｉは
０〜５の整数を表し、Ｒ¹¹はＣ_2〜5脂肪族アシル基、芳
香族アシル基、Ｃ_2〜5脂肪族アシロキシ基、芳香族アシ
ロキシ基または水酸基を表す）よりなる群から選ばれる
基を表す）；ならびにＮ、ＳおよびＯより選ばれる少な
くとも１つを環の構成原子として含有する、Ｒ¹²で置換
されていてもよい、ヘテロ環（Ｒ¹²は独立してＲ¹⁰と同
じ意味を表す）よりなる群から選ばれる基を表し、Ｙは
Ｃ_1〜6アルキレン基、Ｃ_2〜6アルケニレン基またはＣ
_2〜6アルキニレン基を表し、Ｚは（ａ）ベンゼン環また
は（ｂ）Ｎ、ＳおよびＯより選ばれる少なくとも１つを
環の構成原子として含有するヘテロ環を表し、Ｒ⁴は水
素原子；Ｃ_1〜9アルキル基；−ＳＯ₂Ｒ¹³（式中、Ｒ¹³
はＣ_1〜9アルキル基またはＲ¹⁴で置換されていてもよい
フェニル基（Ｒ¹⁴はＣ_1〜9アルキル基、Ｃ_1〜9アルコキ
シ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ_2〜8アルキルアミド
基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、
アニリノ基、Ｃ_7〜9アラルキル基、アリール基、ベンジ
ルオキシ基、フェノキシ基、Ｃ_3〜7シクロアルキル基、
Ｃ_1〜4アルキルチオ基、シアノ基、スルホンアミド基、
トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、テト
ラフルオロエトキシ基、−（ＣＨ₂）_j−Ｒ¹⁵（式中、ｊ
は０〜５の整数を表し、Ｒ¹⁵は独立してＲ¹¹と同じ意味
を表す）、−Ｂ−ＣＯＲ¹⁶（式中、Ｂは−（ＣＨ₂）
_k−、−ＯＣＨ₂−または−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、ｋは０
〜２の整数を表し、Ｒ¹⁶は水酸基、Ｃ_1〜9アルコキシ
基、Ｃ_3〜7シクロアルコキシ基、アリール基または−Ｎ
Ｒ¹⁷Ｒ¹⁸（式中、Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸は同一または異なっ
て、それぞれ水素原子、Ｃ_1〜9アルキル基、Ｃ_3〜7シク
ロアルキル基またはテトラゾリル基を表し、Ｒ¹⁷とＲ¹⁸
が一緒になって環を形成していてもよい）を表す）、−
Ｂ−Ｗ（式中、Ｂは前記と同じであり、Ｗはシアノ基ま
たはテトラゾリル基を表す）および−ＮＲ¹⁹Ｒ²⁰（式
中、Ｒ¹⁹およびＲ²⁰は同一または異なって、それぞれ水
素原子、Ｃ_1〜9アルキル基、Ｃ_3〜7シクロアルキル基、
アリール基、Ｃ_7〜9アラルキル基、Ｃ_2〜5脂肪族アシル
基、Ｃ_2〜5脂肪族アシロキシ基、芳香族アシル基、Ｃ
_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、Ｃ_2〜7
アルコキシカルボニル基、ヒドロキシオキサリル基また
はＣ_3〜7アルコキシオキサリル基を表す）よりなる群か
ら選ばれる基を表す）を表す）；フェニル基；少なくと
も１つのＲ²¹で置換されたフェニル基（Ｒ²¹は独立して
Ｒ¹⁴と同じ意味を表す。なおＲ²¹が２つ以上であるばあ
い、それらは同じであっても異なっていてもよい）；−
（ＣＨ₂）_m−Ｒ²²（式中、ｍは１〜６の整数を表し、Ｒ
²²はカルボキシル基、Ｃ_2〜7アルコキシカルボニル基ま
たは【化２３】（式中、Ａは−ＳＯ₂−または−ＣＯ−を表し、Ｒ²³は
独立してＲ²と同じ意味を表し、Ｒ²⁴はＣ_1〜9アルキル
基、Ｃ_1〜9アルコキシ基、Ｃ_3〜6カルボキシルアルキル
基、Ｃ_3〜6カルボキシルアルケニル基またはＲ²⁵で置換
されていてもよいフェニル基（Ｒ²⁵は独立してＲ¹⁴と同
じ意味を表す）を表す）を表す）；ならびにＮ、Ｓおよ
びＯより選ばれる少なくとも１つを環の構成原子として
含有する、Ｒ²⁶で置換されていてもよい、ヘテロ環（Ｒ
²⁶は独立してＲ¹⁰と同じ意味を表す）よりなる群から選
ばれる基を表す）で示されるスルホンアミド誘導体、そ
の塩、その水和物またはその溶媒和物。
【請求項１７】式（Ｖ）：【化２４】（式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ²³は同一または異なって、そ
れぞれ水素原子；Ｃ_1〜9アルキル基；Ｃ_3〜7シクロアル
キル基；Ｃ_7〜9アラルキル基；Ｒ¹⁰で置換されていても
よいアリール基（Ｒ¹⁰はＣ_1〜9アルキル基、Ｃ_1〜9アル
コキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ_2〜8アルキルア
ミド基、Ｃ_1〜4脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル
基、アニリノ基、Ｃ_7〜9アラルキル基、アリール基、ベ
ンジルオキシ基、フェノキシ基、Ｃ_3〜7シクロアルキル
基、Ｃ_1〜4アルキルチオ基、シアノ基、スルホンアミド
基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、
テトラフルオロエトキシ基および−（ＣＨ₂）_i−Ｒ
¹¹（式中、ｉは０〜５の整数を表し、Ｒ¹¹はＣ_2〜5脂肪
族アシル基、芳香族アシル基、Ｃ_2〜5脂肪族アシロキシ
基、芳香族アシロキシ基または水酸基を表す）よりなる
群から選ばれる基を表す）；ならびにＮ、ＳおよびＯよ
り選ばれる少なくとも１つを環の構成原子として含有す
る、Ｒ¹²で置換されていてもよい、ヘテロ環（Ｒ¹²は独
立してＲ¹⁰と同じ意味を表す）よりなる群から選ばれる
基を表し、Ｘは−ＳＯ₂ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨ
ＣＯＮＨ−または−ＮＨＣＳＮＨ−を表し、ＹはＣ_1〜6
アルキレン基、Ｃ_2〜6アルケニレン基またはＣ_2〜6アル
キニレン基を表し、Ｚは（ａ）ベンゼン環または（ｂ）
Ｎ、ＳおよびＯより選ばれる少なくとも１つを環の構成
原子として含有するヘテロ環を表し、ｍは１〜６の整数
を表す）で示されるスルホンアミド誘導体、その塩、そ
の水和物またはその溶媒和物。
【請求項１８】請求項１記載のスルホンアミド誘導
体、その塩、その水和物またはその溶媒和物を有効成分
として含有する医薬。
【請求項１９】請求項１記載のスルホンアミド誘導
体、その塩、その水和物またはその溶媒和物を有効成分
として含有する好酸球機能抑制剤。
【請求項２０】請求項１記載のスルホンアミド誘導
体、その塩、その水和物またはその溶媒和物を有効成分
として含有する抗アレルギー剤。
【請求項２１】請求項１記載のスルホンアミド誘導
体、その塩、その水和物またはその溶媒和物を有効成分
として含有する抗気管支喘息剤。