JPH11171691A - 種結晶固定剤及びそれを用いた単結晶の製造方法 - Google Patents
種結晶固定剤及びそれを用いた単結晶の製造方法Info
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- JPH11171691A JPH11171691A JP36225097A JP36225097A JPH11171691A JP H11171691 A JPH11171691 A JP H11171691A JP 36225097 A JP36225097 A JP 36225097A JP 36225097 A JP36225097 A JP 36225097A JP H11171691 A JPH11171691 A JP H11171691A
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Abstract
ことなく種結晶を種結晶載置部に容易に設置することが
でき、且つ適用後の単結晶成長工程において、大面積の
単結晶インゴットを高品質にしかも再現性良く製造する
ことができる種結晶固定剤及びそれを用いた単結晶の製
造方法を提供する。 【解決手段】 炭水化物と耐熱性微粒子と溶媒とからな
る種結晶固定剤を用いて単結晶成長用の種結晶5を種結
晶載置部3に固定する。
Description
置部に好適に接着・固定することにより、種結晶上に欠
陥の少ない単結晶を容易に成長させることができる種結
晶固定剤及びそれを用いた単結晶の製造方法に関するも
のである。
質,大面積の炭化珪素(SiC)単結晶の開発が求めら
れている。単結晶成長に使用される種結晶としては、例
えば、昇華法によって得られた炭化珪素単結晶基板,化
学蒸着法によって得られた炭化珪素単結晶膜などが挙げ
られる。炭化珪素単結晶は、種結晶上に原料ガスを供給
して結晶化させることにより得ることができる。この場
合、種結晶を種結晶載置部に固定する方法は、(1)機
械力学的な方法、及び(2)固着物質の熱処理による化
学的な方法に大別することができる。以下具体的を示
す。
ーボン製のL字部材で保持面に固定し、望ましくは、載
置部の保持面にSi層,種結晶を順次積層し、熱処理に
より種結晶と載置部を炭化珪素(SiC)化することに
よって一体に固着する方法。 II.特開平1- 305898号公報 種結晶載置部に少なくとも1条の凸部を設け、種結晶裏
面に上記凸部に合致するように形成した少なくとも一条
の溝に該凸部を挿入することによって、炭化珪素種結晶
基板を保持する方法。
78-283 炭化された砂糖を用いて、炭化珪素種結晶を載置部に保
持する方法。 IV.O. Kordina et al. Appl. Phys. Lett. 69 No10 (1
996) 1456-1458 溶融グルコースを用いて、炭化珪素種結晶を載置部に保
持する方法。 V.特開平9−110584 種結晶と保持部の間に介在する炭化層により、種結晶が
保持部に結合された状態で単結晶を成長させる方法。介
在する炭化層は、フェノール樹脂やノボラック樹脂など
の高分子材料を含有する液状接着剤の高温炭化処理によ
って得られる。
的な固定方法では、種結晶と載置部の密着接合を実現す
ることは困難である。そのために、種結晶の面内温度分
布が均一でなくなり、成長する単結晶中の欠陥(結晶格
子欠陥)の増大等の結晶性の悪化が生じる。又、種結晶
と載置部の間に隙間が存在するためこの隙間で種結晶の
再結晶化が進行し、成長する単結晶中に大きな欠陥が誘
発される。上記III ,IV,Vの化学的な固定方法では、
単結晶成長工程に先だって、高温熱処理による固定剤の
炭化工程を必要とするため作業が複雑である。更に、炭
化工程により液状固定剤の大きな体積減少が起こるた
め、種結晶と載置部の不均一固着による好ましくない種
結晶の歪みの発生や、上記体積減少の結果生じた隙間で
種結晶の再結晶化が起こる危惧がある。
ためのものであり、その目的とするところは、単結晶成
長工程に先立って種結晶及び/又は種結晶載置部に室温
にて塗布するのみで、高温熱処理などの特別な固定工程
を付加することなく種結晶を種結晶載置部に容易に設置
することができ、且つ適用後の単結晶成長工程におい
て、大面積の単結晶インゴットを高品質にしかも再現性
良く製造することができる種結晶固定剤及びそれを用い
た単結晶の製造方法を提供することにある。
晶成長用の種結晶を種結晶載置部に固定するための種結
晶固定剤は、炭水化物と耐熱性微粒子と溶媒とからなる
ことを特徴とする。又、本発明の単結晶の製造方法は、
単結晶成長用の種結晶を種結晶載置部に固定する工程
と、上記種結晶に単結晶を成長させる工程とを少なくと
も有する単結晶の製造方法において、上記種結晶を種結
晶載置部に固定する工程で使用する種結晶固定剤が、炭
水化物と耐熱性微粒子と溶媒とからなることを特徴とす
る。本発明の単結晶の製造方法において、上記種結晶を
種結晶載置部に固定する工程において、上記種結晶と種
結晶載置部との間に上記種結晶固定剤を介在させた後、
上記種結晶を種結晶載置部に加圧して固定することが好
ましい。
ば、単糖類及び多糖類)及びその誘導体などを広汎に使
用することができる。これらは単独で使用してもよい
し、又は組み合わせて使用してもよい。単糖類として
は、例えばグルコースが高純度のものを容易に入手する
ことができ、使い易く、好ましい。同様に、多糖類とし
ては、セルロース及びその誘導体(例えば、アセチルセ
ルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ースなどのセルロースエーテル)が好ましい。
加熱された場合に種結晶に悪影響を与えない材料からな
る微粒子、例えば、黒鉛微粒子、セラミック微粒子等を
単独で又は組み合わせて使用することができる。高温加
熱時に炭水化物からも黒鉛微粒子が生じるので、耐熱性
微粒子として黒鉛微粒子を使用することは、適合性の観
点から好ましい。セラミック微粒子に用いるセラミック
材料(例えば、炭化物,酸化物,窒化物,硼化物、又は
これらの組み合わせ)は、種結晶,種結晶載置部,高温
加熱時に炭水化物から生じる黒鉛微粒子との適合性や、
得ようとする単結晶の不純物源とならないこと等を考慮
して選択する。このような耐熱性微粒子を固定面に導入
することによって、高温加熱時における固定空間の充填
率を微粒子を用いない場合に比較して向上させることが
できる。耐熱性微粒子の大きさ,形状,平均粒径等の性
状は、種結晶が種結晶載置部に好適に接着・固定される
ように適宜選択する。耐熱性微粒子は、大きさや形状が
ほぼ同一であるものを用いてもよいが、例えば、大きさ
や形状が異なるものを複数組み合わせて用いると、高温
加熱処理後の耐熱性微粒子の充填率が向上するので好ま
しい。
散させることができ、室温若しくはそれに近い温度で揮
発させることが可能であり、種結晶,種結晶載置部,炭
水化物,耐熱性微粒子に悪影響を及ぼさず(例えば、こ
れらに対して不活性)、作業環境を悪化させない(例え
ば、無毒性又は低毒性,非燃焼性又は低燃焼性)ものが
好ましい。それ故、溶媒は、例えば炭水化物の種類など
に応じて有機又は無機溶媒の中から適宜選択する。上記
溶媒は、同種又は異種のものを単独又は組み合わせて用
いてよい。例えば、上記溶媒は水及び/又はアルコール
(例えば、メチルアルコール,エチルアルコール,n−
プロピルアルコール,イソプロピルアルコール等)が好
ましい。
種結晶の適切な接着・固定強度が得られるように適宜選
択する。それ故、本種結晶固定剤の形態は比較的低粘性
の液体状であってもよいし、ペースト状,グリース状,
ワックス状であってもよい。なお、本発明の及び本発明
の方法に用いる種結晶固定剤は、前述の成分以外に所望
により他の添加剤、例えば界面活性剤、安定剤等の適量
を含んでよい。
用いる種結晶固定剤において、下記のものが好ましい。 a)炭水化物としてセルロース、耐熱性微粒子として黒
鉛微粒子、溶媒としてアルコールを用いる種結晶固定
剤。 b)炭水化物としてセルロースエステル、耐熱性微粒子
として黒鉛微粒子、溶媒として水及び/又は有機溶媒を
用いる種結晶固定剤。 c)炭水化物としてグルコース、耐熱性微粒子として黒
鉛微粒子、溶媒として水及び/又は有機溶媒を用いる種
結晶固定剤。
に詳細に説明する。図1は、本発明の種結晶固定剤を使
用して、炭化珪素単結晶を製造する場合に用いる昇華法
成長装置の概略構成図である。グラファイト製の反応容
器1内に原料となるSiC粉末2を所定量入れ、反応容
器1の蓋体でもあるグラファイト製の種結晶載置部3を
被せる。種結晶固定剤4により、種結晶5を種結晶載置
部3の中央に接着・固定する。次いで反応容器1を加熱
炉(図示せず)内に収納して加熱する。炭化珪素単結晶
の成長時には、グラファイト製の抵抗発熱体(図示せ
ず)による加熱調整と不活性ガス等の圧力調整が行われ
る。具体的には、原料粉末温度:約2200〜2400
℃、種結晶温度:約2100℃〜2300℃、雰囲気圧
力:約1Torr〜数十Torrにて、炭化珪素単結晶が種結晶
5の上に成長・形成される。
工程図である。まず図2(a)に示すように、グラファ
イト製の種結晶載置部3に、炭水化物と耐熱性微粒子と
溶媒とからなる、液状接着剤の形態の種結晶固定剤4を
塗布する。本実施例では、炭水化物としてセルロース
を、耐熱性微粒子として黒鉛微粒子を、溶媒としてイソ
プロピルアルコールを、各々用いた。なお以下に、黒鉛
微粒子として平均粒径:約1μmの微粒子を使用した例
を述べるが、平均粒径:1μm以下の黒鉛微粒子を用い
ても同様な効果が得られる。更に、複数の粒径の異なる
黒鉛微粒子を用いると、黒鉛微粒子の充填率が上がるた
め接着状態はより好ましくなる。図2(b)に示すよう
に、種結晶載置部3に種結晶固定剤4を塗布後、常温常
圧にて種結晶5を種結晶固定剤4の上に載せる。その
際、矢印の如く、例えば化学洗浄を行ったテフロン製ピ
ストン等で種結晶5を、例えば約0.1MPa程度の圧
力で加圧接着することにより、更に好ましい接着状態が
得られる。この状態で例えばクリーンベンチ内で常温放
置すると、種結晶固定剤の中、イソプロピルアルコール
は揮発し、種結晶5と種結晶載置部3の間にはセルロー
スと黒鉛微粒子が残存する。この状態で種結晶5と種結
晶載置部3が常温で接着する化学的メカニズムは明らか
ではないが、高温加熱処理等の特別な接着工程を経るこ
となく、上記工程により充分な接着強度が得られる。
又、種結晶5と種結晶載置部3の間に略全域にわたって
セルロースと黒鉛微粒子が均一に分散されるため、単結
晶成長時の種結晶5の面内温度分布が均一になることが
予想される。この状態のまま、図1に示す昇華法成長装
置に配置して、従来の昇華法工程にてSiC単結晶6を
成長させることが可能である。
行に切断し、次いで研磨を行い、断面を顕微鏡にて観察
した。断面観察の結果、通常、種結晶5と種結晶載置部
3の間で起こる炭化珪素の再結晶化が抑制されており、
成長開始から終了まで均質で良好な単結晶が得られた。
本実施例では、昇華法成長装置として、上部に種結晶、
下部に原料を対向配置する装置を用いる場合を述べた
が、これ以外の装置、例えば上部に原料、下部に種結晶
を配置する装置を用いる場合についても、本種結晶固定
剤を適用可能である。更に、加熱方式も従来周知の高周
波誘導加熱方式を用いても、同様な効果が得られる。
キシルメチルセルロースと黒鉛微粒子を水に溶解・分散
させた液状接着剤の形態の種結晶固定剤4を用いた。実
施例1の場合と同様な接着工程により、充分な接着強度
を有する均一接着を実現することができる。実施例1の
場合と同様、接着後、例えばクリーンベンチ内で常温放
置しても良いが、ホットプレート等を用いて約200℃
で約10分熱処理しても同様な接着効果を得ることがで
きる。得られた単結晶の断面観察の結果、種結晶5と種
結晶載置部3の間で起こる炭化珪素の再結晶化が抑制さ
れており、成長開始から終了まで均質で良好な単結晶が
得られた。上述以外の本種結晶固定剤でも同様な効果が
得られる。
プロピルアルコールに分散させた液状接着剤の形態の種
結晶固定剤4を用いた。実施例1の場合と同様に固定
後、クリーンベンチ内で常温放置して、イソプロピルア
ルコールを揮発させた。室温においては、実施例1,2
の場合と同様な固定強度を有する均一固定を実現するこ
とができる。しかし、得られた単結晶の断面観察の結
果、種結晶5と種結晶載置部3の間で、炭化珪素の再結
晶化が生じたことが判った。単結晶の成長工程の昇温過
程において、珪素微粒子が融解,蒸発し、種結晶と種結
晶載置部の間に隙間が生じたこと及び/又は、過飽和な
珪素蒸気がこの隙間における再結晶化を促進したことが
その原因と推定される。本比較例Aの結果は、得ようと
する単結晶とその成長温度によって、好ましい耐熱性微
粒子を適宜選択する必要があることを示唆している。
成長について述べたが、それ以外の結晶、例えばGa
N,ZnSe,ZnS,CdS,CdTe,AlN,B
N等の製造にも、本発明の種結晶固定剤を適用可能であ
る。
係を調べるために、以下の3種類の系の種結晶固定剤に
ついて実施例1と同様の実験を行い、得られた炭化珪素
単結晶の結晶格子欠陥の密度を測定した。結果をまとめ
て示す。 耐熱性微粒子を含まない系(比較例) 本系は、例えばセルロース,グルコース,セルロースエ
ーテル等と溶媒とからなる系である。 欠陥密度:104 〜105 /cm2 耐熱性微粒子分散系(本発明例) 欠陥密度:103 〜104 /cm2 合成高分子材料系(比較例) 本系は、例えばノボラック樹脂,クロロメチル化ポリス
チレン樹脂等と溶媒とからなる系である。 欠陥密度:104 〜105 /cm2 このように、本発明の種結晶固定剤を用いれば種結晶と
種結晶載置部の間に生じる隙間が小さくなり、その結
果、炭化珪素の再結晶化が抑制されるので種結晶の面内
温度分布が均一となり、欠陥密度が減少する。したがっ
て、本発明の種結晶固定剤を用いれば、比較例の種結晶
固定剤を用いる場合に比べて約1桁の欠陥密度の低減が
可能である。
加熱処理等の特別な接着工程を経ることなく、種結晶を
種結晶載置部に容易に設置することができ、しかも充分
な接着強度にて設置された状態で種結晶上に単結晶を成
長させることができるので、単結晶の製造が容易とな
る。又、種結晶と種結晶載置部の密着性が良く、加えて
それらの間が略閉空間となるため、(1)種結晶と種結
晶載置部の間に生じる再結晶化の抑制、(2)成長時の
種結晶の面内温度分布の均一化、により成長する単結晶
中の欠陥密度が大幅に減少する。そのため、大面積の単
結晶インゴットを高品質にしかも再現性良く製造するこ
とが可能となった。又、得られた単結晶を半導体基板と
して使用することにより、歩留まりよく半導体デバイス
を作製することができる。
晶を製造する場合に用いる昇華法成長装置の概略構成図
である。
図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 炭水化物と耐熱性微粒子と溶媒とからな
ることを特徴とする、単結晶成長用の種結晶を種結晶載
置部に固定するための種結晶固定剤。 - 【請求項2】 単結晶成長用の種結晶を種結晶載置部に
固定する工程と、上記種結晶に単結晶を成長させる工程
とを少なくとも有する単結晶の製造方法において、上記
種結晶を種結晶載置部に固定する工程で使用する種結晶
固定剤が、炭水化物と耐熱性微粒子と溶媒とからなるこ
とを特徴とする単結晶の製造方法。 - 【請求項3】 上記種結晶を種結晶載置部に固定する工
程において、上記種結晶と種結晶載置部との間に上記種
結晶固定剤を介在させた後、上記種結晶を種結晶載置部
に加圧して固定することを特徴とする請求項2記載の単
結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36225097A JP3680531B2 (ja) | 1997-12-11 | 1997-12-11 | 種結晶固定剤及びそれを用いた単結晶の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP36225097A JP3680531B2 (ja) | 1997-12-11 | 1997-12-11 | 種結晶固定剤及びそれを用いた単結晶の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11171691A true JPH11171691A (ja) | 1999-06-29 |
JP3680531B2 JP3680531B2 (ja) | 2005-08-10 |
Family
ID=18476374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP36225097A Expired - Lifetime JP3680531B2 (ja) | 1997-12-11 | 1997-12-11 | 種結晶固定剤及びそれを用いた単結晶の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3680531B2 (ja) |
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- 1997-12-11 JP JP36225097A patent/JP3680531B2/ja not_active Expired - Lifetime
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---|---|
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