JPH11160868A

JPH11160868A - 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性エレメント

Info

Publication number: JPH11160868A
Application number: JP32184997A
Authority: JP
Inventors: Masataka Kushida; 昌孝櫛田; Tatsuya Ichikawa; 立也市川; Masaki Endo; 昌樹遠藤
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Resonac Corp
Priority date: 1997-11-25
Filing date: 1997-11-25
Publication date: 1999-06-18

Abstract

(57)【要約】【課題】密着性、耐薬品性、柔軟性、低スカム性、機
械特性等が優れた感光性樹脂組成物及び密着性、耐薬品
性、柔軟性、低スカム性、機械特性が優れ、さらに作業
性が優れる感光性エレメントを提供する。【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）エチ
レン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｃ）光重
合開始剤を含んでなり、前記（Ｂ）成分が下記一般式
（Ｉ）で表される化合物及び下記一般式（II）で表され
る化合物を必須成分として含む感光性樹脂組成物並びに
この感光性樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥してなる
感光性エレメント。【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成物
及びこれを用いた感光性エレメントに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、プリント回路板の製造分野におい
て、エッチング、メッキ等に用いられるレジスト材料と
しては、感光性樹脂組成物及びそれに支持体と保護フィ
ルムを用いて得られる感光性エレメントが広く用いられ
ている。プリント回路板は、感光性エレメントを銅基板
上にラミネートして、パターン露光した後、未露光部を
現像液で除去し、エッチング又はメッキ処理を施して、
パターンを形成させた後、硬化部分を基板上から剥離除
去する方法によって製造されている。

【０００３】この未露光部の除去を行う現像液として
は、炭酸ナトリウム溶液等を使用するアルカリ現像型が
主流になっており、現像液は、通常、ある程度感光層を
溶解する能力がある限り使用され、使用時には現像液中
に感光性樹脂組成物が溶解又は分散される。近年の印刷
配線板の高密度化に伴い、銅基板とパターン形成された
感光層との接触面積が小さくなる為、感光性エレメント
には、現像、エッチング又はメッキ処理工程で優れた接
着力、機械強度、耐薬品性、柔軟性等が要求される。ま
た、作業性の点から剥離除去の際剥離片が細分化し且つ
剥離時間が短いことが好ましい。通常、剥離は、自動剥
離機で行われるが、剥離片が大きいと、剥離機のロール
に剥離片が絡まり著しく作業性を低下させるのみなら
ず、剥離片が清浄な基板上に再付着する。

【０００４】種々の特性のうち、耐薬品性を向上させる
のにイソシアヌレート環をもつ光重合性化合物の使用す
る方法が、特開昭６０−７７８４４号公報、特開昭６２
−２９０７０５号公報、特開昭６０−１４２１２号公
報、特開昭５９−２２２４８０号公報、特開平１−１４
１９０号公報、特開昭５７−５５９１４号公報、特開平
５−２１６２２４号公報、特開平５−２７３７５４号公
報等に記載されているが、硬化膜が固く、脆いという欠
点がある。また、特開平５−２３２６９９号公報には、
アクリレート化合物を用いた感光性樹脂組成物が開示さ
れているが、このアクリレート化合物を用いた感光性樹
脂組成物は、親水性の極めて高いポリエチレングリコー
ル鎖を有するために、現像性が優れ、高解像度が得られ
るが、レジスト形状が必ずしも満足のいくものではなく
エッチングして得られる金属パターンにラインギザ等の
不具合が発生しやすい。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】請求項１及び２記載の
発明は、密着性、耐薬品性、柔軟性、低スカム性、機械
特性等が優れた感光性樹脂組成物を提供するものであ
る。請求項３記載の発明は、密着性、耐薬品性、柔軟
性、低スカム性、機械特性が優れ、さらに作業性が優れ
る感光性エレメントを提供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）バイン
ダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重
合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含んでなり、前記
（Ｂ）成分が一般式（Ｉ）

【化４】〔式中、Ｒ¹は炭素数１〜１２のアルキレン基を示し、
３個のＲ¹は同一でも異なっていてもよく、Ｒ²は

【化５】（ただし、Ｒ³は水素原子又はメチル基を示し、Ｘは炭
素数１〜６のアルキレン基を示し、ｎは１〜１４の整数
であるを示す）を示し、３個のＲ²は同一でも異なって
もよい〕で表される化合物及び一般式（II）

【化６】〔式中、Ｒ⁴は、水素原子又はメチル基を示し、２個の
Ｒ⁴は同一でも異なってもよく、Ｘ¹及びＸ²は、各々独
立に炭素数１〜６のアルキレン基を示し、Ｘ¹及びＸ
²は、互いに異なり、ｒ及びｑは、各々独立に、１〜３
０の整数である〕で表される化合物を必須成分として含
む感光性樹脂組成物に関する。

【０００７】また、本発明は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分
及び（Ｃ）成分の使用割合が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成
分の総量１００重量部に対し、（Ａ）成分が４０〜８０
重量部、（Ｂ）成分が２０〜６０重量部及び（Ｃ）成分
が０．１〜２０重量部であり、（Ｂ）成分中の上記一般
式（Ｉ）で表される化合物が３重量部以上含まれ、且つ
上記一般式（II）で表される化合物が３重量部以上含ま
れる前記の感光性樹脂組成物に関する。また、本発明
は、前記感光性樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥して
なる感光性エレメントに関する。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の感光性樹脂組成物は
（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内に重合可能な
エチレン性不飽和基を有する光重合化合物及び（Ｃ）光
重合開始剤を含み、前記（Ｂ）成分が、上記一般式
（Ｉ）で表される化合物を必須成分として含むものであ
る。

【０００９】本発明における、（Ａ）バインダーポリマ
ーとしては、例えば、アクリル酸又はメタクリル酸とこ
れらと共重合しうるビニルモノマとの共重合体等が挙げ
られ、これらの共重合体は、単独で又は２種類以上を組
み合わせて使用される。

【００１０】前記ビニルモノマとしては、特に制限はな
く、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ジメチル
アミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアク
リレート、グリシジルアクリレート、２，２，２−トリ
フルオロエチルアクリレート、２，２，３，３−テトラ
フルオロプロピリアクリレート、これらに対応するメタ
クリレート、アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミ
ド、スチレン、ビニルトルエン等が挙げられる。

【００１１】（Ａ）バインダーポリマーは、アルカリ水
溶液（例えば、１〜３重量％の炭酸ナトリウム又は炭酸
カリウム水溶液等）に可溶又は膨潤可能であることが、
現像性、環境保全性等の点で望ましいので、カルボキシ
ル基を有していることが好ましく、酸価は、１００〜３
００であることが好ましい。酸価が１００未満では、現
像時間が遅くなる傾向があり、３００を超えると、光硬
化したレジストの耐現像液性が低下する傾向がある。ま
た、重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィーで測定し、ポリスチレン換算したもの）は、２
０，０００〜３００，０００であることが好ましい。重
量平均分子量が、２０，０００未満では、耐現像液性が
低下する傾向があり、３００，０００を超えると、現像
時間が長くなる傾向がある。

【００１２】本発明における（Ｂ）エチレン性不飽和基
を有する光重合化合物に、必須成分として含まれる上記
一般式（Ｉ）で表される化合物において、上記一般式
（Ｉ）中、Ｒ¹である炭素数１〜１２のアルキレン基と
しては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン
基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、
ペンチレン基、ネオペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプ
チレン基、オクチレン基、２−エチル−ヘキシレン基、
ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基等が挙げられ
る。また、Ｘである炭素数1〜６のアルキレン基として
は、例えば、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレ
ン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等が挙
げられ、なかでもエチレン基、プロピレン基及びイソプ
ロピレン基が好ましい。なお、イソプロピレン基とは下
記の化学構造の基を示す。

【化７】また、ｎは１〜１４の整数である必要があり、２〜１４
であることが好ましい。ｎが１５以上であると、機械強
度が低下する傾向がある。

【００１３】上記一般式（Ｉ）で表される化合物として
は、例えば、下記の一般式（III）で表される化合物
と、一般式（IV）で表される化合物との反応等により得
られる。

【化８】（式中、Ｒ³及びｎは一般式（Ｉ）におけると同意義で
ある）

【化９】（式中、Ｒ¹は一般式（Ｉ）におけると同意義である）

【００１４】上記一般式（Ｉ）で表される化合物として
は、市販品として、例えば、ＮＫオリゴＵＲ−２１（一
般式（Ｉ）でＲ¹はヘキシレン基、Ｒ³はメチル基、Ｘは
エチレン基、ｎは４（平均値）、新中村化学工業(株)
製）、ＮＫオリゴＵＲ−４１（一般式（Ｉ）で、Ｒ¹は
ヘキシレン基、Ｒ³はメチル基、Ｘはイソプロピレン
基、ｎは５（平均値）、新中村化学工業(株)製）、ＮＫ
オリゴＵＡ−４２（一般式（Ｉ）でＲ¹はヘキシレン
基、Ｒ³はメチル基、Ｘはプロピレン基、ｎは９（平均
値）、新中村化学工業(株)製）、ＮＫオリゴＵＡ−４４
（一般式（Ｉ）で、Ｒ¹はヘキシレン基、Ｒ³は水素原
子、Ｘはプロピレン基、ｎは６（平均値）、新中村化学
工業(株)製）等が挙げられる。

【００１５】また、本発明における、（Ｂ）エチレン性
不飽和基を有する光重合化合物に、必須成分として含ま
れる上記一般式（II）で表される化合物の一般式（II）
におけるＲ⁴は、水素原子又はメチル基であり、ｒ及び
ｑは、各々独立に、１〜３０の整数である。ｒ及びｑが
３１以上の整数の場合では、得られるレジストが脆くな
る。

【００１６】本発明における一般式（II）で表される化
合物としては、例えば、一般式（II）において、２つの
Ｒ⁴が共に水素原子、Ｘ¹がイソプロピレン基、Ｘ²がエ
チレン基、ｒが７、ｑが１の化合物、２つのＲ⁴が共に
水素原子、Ｘ¹がイソプロピレン基、Ｘ²がエチレン基、
ｒが７、ｑが３の化合物、２つのＲ⁴が共に水素原子、
Ｘ¹がイソプロピレン基、Ｘ²がエチレン基、ｒが７、ｑ
が５の化合物、２つのＲ⁴が共に水素原子、Ｘ¹がイソプ
ロピレン基、Ｘ²がエチレン基、ｒが７、ｑが１０の化
合物等が挙げられる。

【００１７】本発明における一般式（II）で表されるア
クリレート化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わ
せて使用される。

【００１８】一般式（Ｉ）又は一般式（II）で、−Ｏ−
Ｘ−、−Ｏ−Ｘ¹−及び−Ｏ−Ｘ²−で示される結合中で
Ｘ、Ｘ¹及びＸ²基がイソプロピレン基である場合、この
イソプロピレン基中の２級炭素が酸素原子に結合してい
てもよく、また１級炭素が酸素原子に結合していてもよ
い。また、−Ｏ−Ｘ−、−Ｏ−Ｘ¹−及び−Ｏ−Ｘ²−
は、ブロックで存在していてもよく、ランダムに存在し
ていてもよい。

【００１９】また、本発明における（Ｂ）成分であっ
て、（Ｂ）成分中の必須成分である上記の一般式（Ｉ）
で表される化合物及び一般式（II）で表される化合物以
外の化合物としては、例えば、多価アルコールにα、β
−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物（ポリ
エチレングリコールジアクリレート（エチレン基の数が
２〜１４のもの）、トリメチロールプロパンジアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テト
ラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロー
ルメタンテトラアクリレート、ポリエチレングリコール
アクリレート（プロピレン基の数が２〜１４のもの）、
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、これらに対応する
メタクリレート等）、ビスフェノールＡのオキシアルキ
レン付加物にα、β−不飽和カルボン酸を反応させて得
られる化合物（２，２′−ビス〔４−（メタクリロキシ
ジエトキシ）フェニル〕プロパン、２，２′−ビス〔４
−（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル〕プロパ
ン、これらに対応するメタクリレート等）、グリシジル
基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を付加して得
られる化合物（トリメチロールプロパントリグリシジル
エーテルトリアクリレート、ビスフェノールＡジグリシ
ジルエーテルアクリレート、これらに対応するメタクリ
レート等）、アクリル酸又はメタクリル酸のアルキルエ
ステル（メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブ
チルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、
これらに対応するメタクリレート等）などが挙げられ
る。

【００２０】本発明における（Ｃ）光重合開始剤として
は、例えば、芳香族ケトン（ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′
−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン
（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，
４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−
ジメチルアミノベンゾフェノン、２−エチルアントラキ
ノン、フェナントレンキノン等）、チオキサントン誘導
体（エチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン
等）、ジアルキルアミノ安息香酸アルキルスエテル（ジ
メチルアミノ安息香酸エチル、ジエチルアミノ安息香酸
プロピル等）、ベンゾイン（ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエ
ーテル等のベンゾインエーテル、メチルベンゾイン、エ
チルベンゾイン等）、ベンジル誘導体（ベンジルジメチ
ルケタール等）、２，４，５−トリアリールイミダゾー
ル二量体（２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフ
ェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾー
ル二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジ
フェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−
（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−
５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジ
メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール
二量体、２−（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾール二量体等）、アクリジン誘
導体（９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，
９′−アクリジニル）ヘプタン等）などが挙げられる。
これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用され
る。

【００２１】本発明における（Ａ）成分の配合量は、
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て、４０〜８０重量部とすることが好ましい。この配合
量が、４０重量部未満では、光硬化物が脆くなり易く、
感光性エレメントとして用いた場合に、塗膜性が劣る傾
向があり、８０重量部を超えると、感度が不充分となる
傾向がある。

【００２２】本発明における（Ｂ）成分の配合量は、
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て、２０〜６０重量部とすることが好ましい。この配合
量が、２０重量部未満では、感度が不充分となる傾向が
あり、６０重量部を超えると、光硬化物が脆くなる傾向
がある。また、本発明における（Ｂ）成分中の必須成分
である一般式（Ｉ）で表される化合物の配合量は、
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て、３重量部以上であることが好ましく、５〜４０重量
部であることがより好ましい。この配合量が、３重量部
未満では、感度、密着性、耐メッキ性等が劣る傾向があ
る。また、本発明における（Ｂ）成分中のもう一つの必
須成分である一般式（II）で表される化合物の配合量
は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対
して、３重量部以上であることが好ましく、５〜２０重
量部であることがより好ましい。この配合量が、３重量
部未満では、スカム発生性が悪化する傾向がある。

【００２３】本発明における（Ｃ）成分の配合量は、
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て、０．１〜２０重量部であることが好ましい。この配
合量が、０．１重量部未満では、感度が不充分となる傾
向があり、２０重量部を超えると、露光の際に組成物の
表面での呼吸が増大して内部の光硬化が不充分となる傾
向がある。

【００２４】本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応
じて、マラカイトグリーン等の染料、トリブロモメチル
フェニルスルホン、ロイコクリスタルバイオレット等の
発色剤、ｐ−トルエンスルホンアミド等の可塑剤、顔
料、難燃剤、安定剤、密着性付与剤等を添加することが
できる。

【００２５】本発明の感光性樹脂組成物は、前記各成分
を溶解する溶剤、例えば、トルエン、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、クロロホルム、塩化メチレ
ン、メチルアルコール、エチルアルコール等を含むこと
ができる。

【００２６】本発明の感光性エレメントは、前記感光性
樹脂組成物を、支持体上に塗布、乾燥し、支持体上に感
光層を形成することにより製造できる。

【００２７】前記支持体としては、例えば、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン等か
らなる重合体フィルムが挙げられ、なかでも、ポリエチ
レンテレフタレートフィルムが好ましい。

【００２８】これらの重合体フィルムの厚さは、５〜１
００μｍとすることが好ましく、１０〜３０μｍとする
ことがより好ましい。また、これらの重合体フィルム
は、一つは感光層の支持体として、他の一つは感光層の
保護フィルムとして感光層の両面に積層することができ
る。

【００２９】本発明の感光性エレメントを用いてフォト
レジスト画像を製造する方法としては、前記の保護フィ
ルムが存在している場合には、保護フィルムを除去後、
感光層を加熱しながら銅張積層板等の基板に圧着させる
ことにより積層する方法などが挙げられる。

【００３０】感光層の加熱温度は、特に制限はなく、９
０〜１３０℃とすることが好ましい。また、感光層の圧
着圧力は、特に制限はなく、１〜１０kgf/cm²とするこ
とが好ましい。なお、感光層を前記のように加熱すれ
ば、予め基板を予熱処理することは必要ではないが、積
層性をさらに向上させるために、基板の予熱処理を行う
こともできる。

【００３１】このようにして積層が完了した感光層は、
次いで、ネガフィルム又はポジフィルムを用いて、活性
光に画像的に露光される。この際、感光層上に存在する
支持体が透明の場合には、そのまま露光してもよく、ま
た、不透明の場合には、除去する必要がある。感光層の
保護という点からは、支持体は透明で、この支持体を残
存させたまま、それを通して露光することが好ましい。
活性光は、公知の活性光源、例えば、カーボンアーク、
水銀蒸気アーク、キセノンアーク等から発生する光が用
いられる。

【００３２】次いで、露光後、感光層上に支持体等が存
在している場合には、これを除去した後、アルカリ水溶
液等を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブラッシ
ング、スクラッピング等の公知方法により未露光部を除
去して現像する。アルカリ水溶液に用いられる塩基とし
ては、水酸化アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリ
ウムの水酸化物等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリ
ウム若しくはカリウムの炭酸塩又は重炭酸塩等）、アル
カリ金属リン酸塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム
等）、アルカリ金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウ
ム、ピロリン酸カリウム等）などが挙げられ、炭酸ナト
リウムが好ましい。現像に用いるアルカリ水溶液のpH
は、９〜１１の範囲とすることが好ましく、その温度
は、感光層の現像性に合わせて調節される。また、アル
カリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進さ
せるための少量の有機溶剤等を混入させることもでき
る。

【００３３】印刷配線版を製造する場合は、現像された
フォトレジスト画像をマスクとして、基板の表面を、エ
ッチング、メッキ等の公知方法で処理すればよい。フォ
トレジスト画像は、通常、現像に用いたアルカリ水溶液
よりさらに強いアルカリ性の水溶液で剥離することがで
きる。この強アルカリ性の水溶液としては、例えば、１
〜５重量％の水酸化ナトリウム水溶液等が用いられる。

【００３４】

【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。実施例１〜４及び比較例１〜３表１及び表２に示す材料を配合し、溶液を得た。

【００３５】

【表１】

【００３６】

【表２】

【００３７】得られた溶液に、表３に示す（Ｂ）成分を
溶解させて、感光性樹脂組成物の溶液を得た。

【００３８】

【表３】

【００３９】表３中、使用した化合物は、 *1：一般式（Ｉ）で、Ｒ¹はヘキシレン基、Ｒ³はメチル
基、Ｘはエチレン基、ｎは４（平均値）の化合物、新中
村化学工業(株)製 *2：一般式（Ｉ）で、Ｒ¹はヘキシレン基、Ｒ³はメチル
基、Ｘはイソプロピレン基、ｎは５（平均値）の化合
物、新中村化学工業(株)製 *3：一般式（II）で、Ｒ⁴は水素原子、Ｘ¹はイソプロピ
レン基、Ｘ²はエチレン基、ｒが７、ｑが１０である化
合物 *4：ポリプロピレングリコールジアクリレート（新中村
化学工業(株)製） *5：テトラエチレングリコールジアクリレート（新中村
化学工業(株)製）である。

【００４０】次いで、得られた感光性樹脂組成物の溶液
を、２５μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム
上に均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で約１
０分間乾燥して、感光性エレメントを得た。感光性樹脂
組成物層の乾燥後の膜厚は、５０μｍであった。

【００４１】一方、銅箔（厚さ３５μｍ）を両面に積層
したガラスエポキシ材である銅張り積層板（日立化成工
業(株)製、商品名ＭＣＬ−Ｅ−６１）の銅表面を、＃６
００相当のブラシを持つ研磨機（三啓(株)製）を用いて
研磨し、水洗後、空気流で乾燥し、得られた銅張り積層
板を８０℃に加温し、その銅表面上に前記感光性樹脂組
成物層を１２０℃に加熱しながらラミネートした。次
に、高圧水銀灯ランプを有する露光機（オーク(株)製）
ＨＭＷ−２０１Ｂを用いて、ネガとしてストーファー２
１段ステップタブレットを試験片の上に置いて、６０mJ
/cm²で露光した。次に、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを剥離し、３０℃で１重量％炭酸ナトリウム水溶
液を６０秒間スプレーし、未露光部分を除去した後、銅
張り積層板上に形成された光硬化膜のステップタブレッ
トの段数を測定することにより、感光性樹脂組成物の光
感度を評価し、その結果を表４に示した。光感度は、ス
テップタブレットの段数で示され、このステップタブレ
ットの段数が高いほど、光感度が高いことを示す。

【００４２】また、密着性は、現像後、剥離せずに残っ
た最小ライン幅（μｍ）を測定し、その結果を表４に示
した。この密着性の数字が小さい程、細いラインでも銅
張り積層板から剥離せずに銅張り積層板に密着している
ことを示し、密着性が高いことを示す。

【００４３】耐メッキ性は次のようにして評価した。す
なわち、上記のようにラミネートし、所定の露光量によ
り露光を行い、次いで、上記現像液により現象後、脱脂
（ＰＣ−４５５（メルテックス社製）２５重量％）５分
浸漬→水洗→ソフトエッチ（過硫酸アンモニウム１５０
ｇ／リットル）２分浸漬→水洗→１０重量％硫酸１分浸
漬の順に前処理を行い、硫酸銅メッキ浴（硫酸銅７５ｇ
／リットル、硫酸１９０ｇ／リットル、塩素イオン５０
ppm、カパーグリームＰＣＭ（メルテックス社製）５ml
／リットル）に入れ、硫酸銅メッキを室温下、３A/dm²
で、４０分間行った。その後、水洗して、１０重量％ホ
ウフッ化水素酸に１分浸漬し、ハンダメッキ浴（４５重
量％ホウフッ化スズ６４ml／リットル、４５重量％ホウ
フッ化鉛２２ml／リットル、４２重量％ホウフッ化水素
酸２００ml／リットル、プルテンＬＡコンダクティビテ
ィーソルト（メルテックス社製）２０ｇ／リットル、プ
ルテンＬＡスターター（メルテックス社製）４１ml／リ
ットル）に入れ、半田メッキを室温下、１．５A/dm²で
１５分間行った。

【００４４】水洗、乾燥後、耐メッキ性を調べるため
に、直ちにセロテープを貼り、これを垂直方向に引き剥
がして（９０°ピールオーフ試験）、レジストの剥がれ
の有無を観察し、結果を表４に示した。また、レジスト
剥離後、上方から光学顕微鏡で、半田メッキのもぐりの
有無を観察し、結果を表４に示した。半田メッキのもぐ
りを生じた場合、透明なレジストを介して、その下部に
メッキにより析出した半田が観察される。

【００４５】また、別の試験片を、ストーファー２１段
ステップタブレットで８段を示す露光量で、露光し、次
いで現像した後クロスカット試験（ＪＩＳ−Ｋ−５４０
０）を行い、結果を表４に示した。また、スカム発生性
は、得られた感光性エレメントの感光層（感光性樹脂組
成物の層）だけを、０．２ｍ²取り出し、１．０重量％
炭酸ナトリウム水溶液に加え、撹拌器で常温で２時間撹
拌し、得られたエマルジョンに所定量のポリプロピレン
グリコール系消泡剤を０．１重量％になるように添加
し、さらに３０分間撹拌して一昼夜放置した後、スカム
発生の有無を観察した。以上の結果をまとめて表４に示
した。

【００４６】

【表４】

【００４７】表４から明らかなように、本発明の範囲内
の実施例１〜４は耐メッキ性、密着性及びクロスカット
性が良好であり、スカム発生性も優れている。

【００４８】

【発明の効果】請求項１及び２記載の感光性樹脂組成物
は、密着性、耐薬品性、柔軟性、スカム発生性、機械特
性が優れたものである。請求項３記載の感光性エレメン
トは、密着性、耐薬品性、柔軟性、スカム発生性、機械
特性が優れ、さらに作業性が優れる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）エチ
レン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｃ）光重
合開始剤を含んでなり、前記（Ｂ）成分が一般式（Ｉ）【化１】〔式中、Ｒ¹は炭素数１〜１２のアルキレン基を示し、
３個のＲ¹は同一でも異なっていてもよく、Ｒ²は【化２】（ただし、Ｒ³は水素原子又はメチル基を示し、Ｘは炭
素数１〜６のアルキレン基を示し、ｎは１〜１４の整数
であるを示す）を示し、３個のＲ²は同一でも異なって
もよい〕で表される化合物及び一般式（II）【化３】〔式中、Ｒ⁴は、水素原子又はメチル基を示し、２個の
Ｒ⁴は同一でも異なってもよく、Ｘ¹及びＸ²は、各々独
立に炭素数１〜６のアルキレン基を示し、Ｘ¹及びＸ
²は、互いに異なり、ｒ及びｑは、各々独立に、１〜３
０の整数である〕で表される化合物を必須成分として含
む感光性樹脂組成物。
【請求項２】（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分
の使用割合が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００
重量部に対し、（Ａ）成分が４０〜８０重量部、（Ｂ）
成分が２０〜６０重量部及び（Ｃ）成分が０．１〜２０
重量部であり、（Ｂ）成分中の上記一般式（Ｉ）で表さ
れる化合物が３重量部以上含まれ、且つ上記一般式（I
I）で表される化合物が３重量部以上含まれる請求項１
記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】請求項１又は２記載の感光性樹脂組成物
を支持体上に塗布、乾燥してなる感光性エレメント。