JPH11144247A - 光ディスク原盤露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 最適な情報ピットの形成が可能な光ディスク
原盤露光装置を提供する。 【解決手段】 ガラス原盤６上にピット長の異なる記録
情報を形成する光ディスク原盤露光装置であって、変調
パルス発生回路は、変調信号発生器１０のパルス幅に応
じて補正パルスを生成させる制御回路１１を具備し、こ
の制御回路１１は、変調信号の原パルスの中心と、パル
ス幅を原パルスに対して可変させた補正パルスの中心と
の相対位置が一定になるように、補正パルスを生成させ
る構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク原盤露
光装置に関するものである。とりわけ、ガラス原盤上に
塗布された感光膜を記録データに基づいて光変調された
レーザー光で露光して、光ディスクのガラス原盤をつく
るカッテング装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクは、サブミクロン精度の金属
金型で大量に即座に複製できることに特徴がある。光デ
ィスク作成工程は大別して、原盤作成工程（マスタリン
グ工程）とディスク化工程（金型による複製）に分けら
れる。また、原盤作成工程はマスタリング工程と、プリ
マスタリング工程に分けられる。

【０００３】プリマスタリング工程は、記録されるべき
情報（記録データ）に予め作成編集加工を施す、ソフト
ウエアの準備工程である。マスタリング工程は、上記記
録データが例えば音響光学効果素子等の変調器で光変調
（デジタル変調）されたレーザー光により、磨かれたガ
ラス原盤上に塗布された感光材料であるフォトレジスト
膜を露光することで、ガラス原盤上にデータの記録（潜
像記録ピットの形成）すなわちカッテングがなされる工
程である。

【０００４】そして、上記のカッテングが終了すると、
現像をおこない、所定の処理を行ったあと、電鋳により
金属表面上に情報（記録ピット）の転写を行い、更にこ
れを原盤として光ディスクの複製をおこなうのに必要な
金属スタンパが作成される。このスタンパから大量に光
ディスクが複製される。

【０００５】ところが、前記のようにして得られた光デ
ィスクの表面に形成された情報（記録ピット）を再生し
た際に、ピットの長短で信号に強弱が発生し、ジッター
が増える等の問題が発生するおそれがあった。

【０００６】例えば、追記型光ディスク（ＣＤ−Ｒ）で
は情報記録にＥＦＭ変調が使われるが、この変調信号は
パルス幅３Ｔ〜１１Ｔ（ＴはＣＤ信号の基本クロックで
２３１．４ｎｓｅｃ）からなる、長・短ピットを形成さ
せるものであり、よって信号の長・短でジッターが発生
し易い変調方式であった。

【０００７】そこで追記型光ディスク規格では、ＥＦＭ
再生信号の波形補償の為、書き込み信号を生成するに当
たって、（ｎ−１）Ｔストラテジーを提案している。こ
のストラテジーは、ｎＴ（３Ｔ、４Ｔ、‥‥‥、１１
Ｔ）のＥＰＭ信号に対してパルス幅を１Ｔ減じて（ｎ−
１）Ｔとし、２Ｔについては５０ｎｓだけパルス幅を伸
張することで修正を行う方法である。

【０００８】また、特開平５−１２２０２７号公報で開
示されている技術では、簡単な回路を用いて、パルス幅
の異なるＥＰＭ信号に対してパルス幅に応じた補正を行
うことを企図したものである。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ような追記型光ディスク規格で提案されているパルス幅
補正は、ｎＴパルスを一律に（ｎ−１）Ｔとし、２Ｔパ
ルスのみ５０ｎｓｅｃだけパルス幅を伸張させる補正で
あって、このような構成では、２Ｔパルス以外は再生信
号で必ずしも最適値になっていないという問題があっ
た。その為、各パルス幅に個別に対応した補正が必要に
なる。

【００１０】一方、前記の開示されている従来技術のパ
ルス幅補正回路では、パルス幅を簡単な回路で個別に補
正できることを特徴としているが、ｎＴパルス数が増加
した場合、逆に回路が複雑になるという不都合があっ
た。

【００１１】また、２ＴパルスをＤ（ｎｓｅｃ）だけ伸
張させる補正を行った場合、それ以外のパルスの補正は
Ｄ（ｎｓｅｃ）以下と制限されてしまうことになり、よ
って柔軟性に欠けるおそれがあった。また図４、図５は
補正パルスであり、両図から明らかなように、補正量Ｄ
を変化させた時、原パルスＷ０の中心Ｐ０と補正パルス
Ｗ’の中心Ｐ’の相対位置が変化してしまい、よって好
ましくなかった。

【００１２】また、この回路によれば現在のパルス幅が
何Ｔなのかを外部に出力する機能がないので、パルス幅
に同期して、例えばレーザー光量補正を行うことによ
り、情報ピットを高精度に形成するようなことが不可能
になって、好ましくない。

【００１３】本発明は、前記のような従来技術における
問題点を解決するためなされたもので、最適な情報ピッ
トの形成が可能な光ディスク原盤露光装置を提供するこ
とを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】前記従来技術の課題を解
決するため、本発明の請求項１に係る光ディスク原盤露
光装置は、レーザー光源から出射されたレーザー光を変
調パルスに基づいてデジタル変調及び光量変調を行う光
変調手段と、光ディスク用ガラス原盤を回転及び横移動
させる駆動手段と、前記変調パルス発生回路とを備え、
前記ガラス原盤上にピット長の異なる記録情報を形成す
る光ディスク原盤露光装置であって、前記変調パルス発
生回路は、変調信号発生器のパルス幅に応じて補正パル
スを生成させる制御回路を具備し、該制御回路は、変調
信号の原パルスの中心と、パルス幅を原パルスに対して
可変させた補正パルスの中心との相対位置が一定になる
ように、補正パルスを生成させる構成としたことを特徴
とする。

【００１５】また本発明の請求項２に係る光ディスク原
盤露光装置は、請求項１記載のものにおいて、前記変調
信号の原パルスの中心と、パルス幅を原パルスに対して
可変させた補正パルスの中心との相対位置関係を任意に
設定できるように構成したことを特徴とする。

【００１６】上記請求項１または２の構成により、光デ
ィスク原盤露光機で、変調信号発生機器のパルス幅の中
心と補正パルス幅の中心の管理がなされて露光され、最
適な情報ピットが形成される。

【００１７】本発明の請求項３に係る光ディスク原盤露
光装置は、請求項１記載のものにおいて、前記補正パル
スが前記原パルスのパルス幅に応じて任意に可変できる
ように構成したことを特徴とする。

【００１８】上記請求項３の構成により、光ディスク原
盤露光機で最適な情報ピットを形成するべく、パルス幅
に応じて補正パルスを生成させて露光することが可能に
なる。

【００１９】本発明の請求項４に係る光ディスク原盤露
光装置は、請求項３記載のものにおいて、前記補正パル
スに基づいて前記光変調手段への信号を生成するように
構成したことを特徴とする。

【００２０】また本発明の請求項５に係る光ディスク原
盤露光装置は、請求項４記載のものにおいて、前記光変
調手段への信号は、原パルスのパルス幅に応じて任意に
可変できるように構成したことを特徴とする。

【００２１】上記請求項４または５の構成により、パル
ス幅に応じた光量補正も行いながら露光することが可能
になる。

【００２２】本発明の請求項６に係る光ディスク原盤露
光装置は、請求項１記載のものにおいて、前記制御回路
は、前記変調信号発生器の信号と、該信号を一定量遅延
させた信号との論理積をとり、さらに該論理積信号と、
論理積信号を遅延素子群を通し前記変調信号発生器のパ
ルス幅に応じて選択されたーつの遅延素子からの信号と
の論理和をとり、かつ、該信号を遅延素子群を通し前記
変調信号発生器のパルス幅に応じて選択されたーつの遅
延素子からの信号と、前記変調信号発生器の信号との論
理積をとり、さらに該論理積信号と前記論理和信号との
論理和をとり、ピットを形成するディジタル信号とする
ことを特徴とする。

【００２３】上記請求項６の構成により、変調信号発生
機器のパルス幅の中心と補正パルス幅の中心の管理がな
される。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
を添付図を参照して詳細に説明する。なお、以下に述べ
る実施形態は、この発明の好適な具現例の一部であり、
技術構成上好ましい種々の限定が付されているが、この
発明の範囲は、以下の説明において特にこの発明を限定
する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるもの
ではない。

【００２５】また、以下の本発明の実施形態では説明の
便宜上全て、追記型光ディスクの中のハイブリットＣＤ
−Ｒ（複製される光ディスクの最内周部にすでに情報が
書き込まれたＲＯＭ部分が存在するディスク）のマスタ
リング工程を対象としている。

【００２６】図１は、本発明に係る光ディスク原盤露光
機の一実施形態における全体ブロック構成図である。ま
た図２は、図１に示された制御回路の要部のブロック図
である。図１に示される光ディスク原盤露光機Ｅは、マ
スタリング工程でガラス原盤に潜像情報ピットを形成す
る原盤露光装置であり、Ａｒレーザー１から出力された
レーザー光２はミラー３で反射され、光変調器（音響光
学効果素子等の光変調器）４で情報をもつ光信号に変換
され、対物レンズ５を経由して、感光材料であるフォト
レジスト膜が塗布されたガラス原盤６上に極微小光スポ
ットに集光される。

【００２７】ガラス原盤６は、スピンドルモータコント
ローラ８によって制御されてターンテーブルを回転させ
るスピンドルモータＭ１と、横送りモータコントローラ
９によって制御されて横送りステージ７を移動させる横
送りモータＭ２とにより、回転及び横移動させられ、ガ
ラス原盤６上にスパイラル状の潜像情報ピットが形成さ
れる。記録する情報は変調信号発生器１０でＥＦＭ信号
に変換され、制御回路１１でパルス幅に補正が施され、
またパルス振幅に補正が加えられ、変調器ドライバー１
２で光変調器４が制御される。

【００２８】上記のカッテングが終了すると、現像をお
こない、所定の処理を行ったあと、電鋳により光ディス
クの複製をおこなうのに必要な金属スタンパが形成され
る。このスタンパから、表面に情報（記録ピット）が形
成された光ディスクが大量に複製される。

【００２９】図２は、制御回路１１の要部１１’の構成
図である。変調信号発生器１０からの信号は、ＡＮＤ回
路１１４により遅延素子１１３を通過した信号とで論理
積をとり、さらにその論理積信号は、第一遅延選択回路
１１１の第一遅延素子群Ｄ１〜Ｄｎを通し、変調信号発
生器１０のパルス幅に応じて選択されたーつの遅延素子
からの信号ＰＤ１との論理和が、ＯＲ回路１１６でとら
れる。

【００３０】さらに、変調信号は、第二遅延選択回路１
１２の第二遅延素子群Ｄ１１〜Ｄｎ１を通し、変調信号
発生器１０のパルス幅に応じて選択されたーつの遅延素
子からの信号ＰＤ２との論理積が、ＡＮＤ回路１１５で
とられる。ついで上記論理積信号と、この論理積信号の
論理和がＯＲ回路１１７でとられ、ピットを形成するパ
ルスＷとなる。

【００３１】図３は変調信号パルス（以下原パルス）の
中心と補正パルスの中心が一定となることを説明する図
である。同図において、原パルスＷ０の中心をＰ０とし
（Ａ）、原パルスＷ０から固定遅延素子１１３で基準パ
ルスＷＳを作り、このパルスの中心をＰとする（Ｂ）。
また、原パルスとＰＤ２との論理積でパルスをつくる
（Ｃ）。さらに、基準パルスＷＳとＰＤ１との論理和で
パルスをつくる（Ｄ）。（Ｃ）、（Ｄ）の論理和で最終
的な補正パルスをつくる（Ｅ）。

【００３２】第一遅延選択回路１１１と第二遅延選択回
路１１２には、ホスト２０からのＮビット信号で、パル
ス幅に応じた遅延量が設定できるデータが与えられる。
ここでＤ−ＤｆとＤｂが同じ値になるようにＰＤ１、Ｐ
Ｄ２を設定すれば、Ｐ０とＰの相対位置が変化しない補
正パルスＷをつくることができる。ここでＰ０とＰの相
対位置関係は、固定遅延素子１１３で決定される。従っ
てこの固定遅延素子１１３での遅延Ｄを任意の値に設定
すれば（図示せず）、Ｐ０とＰの相対位置関係も制御す
ることが可能になる。

【００３３】図６は、上記パルス幅捕正信号Ｗを使って
光量補正を行うアナログ信号を生成する回路を含めた、
制御回路１１のブロック図である。マルチプレクサ１２
０で選ばれたアナログ信号Ｖ１〜Ｖｎを、スイッチング
回路ＳＷにより信号Ｗでスイッチングし、演算増幅器１
２２を経て制御回路１１からの出力信号１１ａとする。
この信号１１ａを変調器ドライバー１２（図１参照）に
加え、光変調器４でレーザー光のディジタル変調、光量
変調を行う。また、マルチプレクサ１２０で選ばれるア
ナログ信号Ｖ１〜Ｖｎはホスト２０からのＮビット信号
２０ａにより、パルス幅に応じた信号が選ばれるように
なっている。

【００３４】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の請求項１
に係る光ディスク原盤露光装置においては、原パルス
（変調信号パルス）の中心と補正パルス（バルス幅を原
パルスに対して可変させたパルス）の中心の相対位置が
一定になるように補正パルスを生成させる手段を有して
いるので、光ディスク原盤に好適のピット形状が得られ
るという効果を奏する。

【００３５】本発明の請求項２に係る光ディスク原盤露
光装置においては、原パルス（変調信号パルス）の中心
と補正パルスの中心の相対位置関係を任意に設定できる
ように構成しているので、光ディスク原盤に最適のピッ
ト形状をつくることが可能になる。

【００３６】本発明の請求項３に係る光ディスク原盤露
光装置においては、制御回路において補正パルスを原パ
ルスのパルス幅に応じて任意に可変できるように構成し
ているので、光ディスク原盤に最適ピット形状をつくる
ことが可能になる。

【００３７】本発明の請求項４に係る光ディスク原盤露
光装置においては、制御回路において、光量補正をアナ
ログ信号群とＳＷと演算増幅器で実現できるので構成が
簡単にできる。

【００３８】本発明の請求項５に係る光ディスク原盤露
光装置においては、制御回路において、レーザー光のデ
ジタル変調及ぴ光量変調を行う手段（光変調器）への信
号を、原パルスのパルス幅に応じて任意に可変できるよ
うに構成したので、光ディスク原盤に最適ピット形状を
つくることが可能になる。

【００３９】本発明の請求項６に係る光ディスク原盤露
光装置においては、遅延素子との論理和及び論理積で実
現できるので、構成が簡単になるという利点がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光ディスク原盤露光装置の一実施
形態のブロック構成図である。

【図２】図１で示される制御回路の要部ブロック図であ
る。

【図３】本発明に係る光ディスク原盤露光装置の一実施
形態による補正パルスの構成の説明図である。

【図４】図１で示される制御回路の全体ブロック図であ
る。

【図５】従来の補正パルスの構成の説明図である。

【図６】従来の他の補正パルスの構成の説明図である。

【符号の説明】

１ Ａｒレーザ ２ レーザ光 ３ ミラー ４ 光変調器 ５ 対物レンズ ６ ガラス原盤 ７ 横送りステージ ８ スピンドルモータコントローラ ９ 横送りモータコントローラ １０ 変調信号発生器 １１ 制御回路 １２ 変調器ドライバー ２０ ホスト

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザー光源から出射されたレーザー光
   を変調パルスに基づいてデジタル変調及び光量変調を行
   う光変調手段と、光ディスク用ガラス原盤を回転及び横
   移動させる駆動手段と、前記変調パルス発生回路とを備
   え、前記ガラス原盤上にピット長の異なる記録情報を形
   成する光ディスク原盤露光装置であって、 前記変調パルス発生回路は、変調信号発生器のパルス幅
   に応じて補正パルスを生成させる制御回路を具備し、 該制御回路は、変調信号の原パルスの中心と、パルス幅
   を原パルスに対して可変させた補正パルスの中心との相
   対位置が一定になるように、補正パルスを生成させる構
   成としたことを特徴とする光ディスク原盤露光装置。
2. 【請求項２】 前記変調信号の原パルスの中心と、パル
   ス幅を原パルスに対して可変させた補正パルスの中心と
   の相対位置関係を任意に設定できるように構成したこと
   を特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤露光装置。
3. 【請求項３】 前記補正パルスは前記原パルスのパルス
   幅に応じて任意に可変できるように構成したことを特徴
   とする請求項１記載の光ディスク原盤露光装置。
4. 【請求項４】 前記補正パルスに基づいて前記光変調手
   段への信号を生成するように構成したことを特徴とする
   請求項３記載の光ディスク原盤露光装置。
5. 【請求項５】 前記光変調手段への信号は、原パルスの
   パルス幅に応じて任意に可変できるように構成したこと
   を特徴とする請求項４記載の光ディスク原盤露光装置。
6. 【請求項６】 前記制御回路は、前記変調信号発生器の
   信号と、該信号を一定量遅延させた信号との論理積をと
   り、さらに該論理積信号と、論理積信号を遅延素子群を
   通し前記変調信号発生器のパルス幅に応じて選択された
   ーつの遅延素子からの信号との論理和をとり、かつ、該
   信号を遅延素子群を通し前記変調信号発生器のパルス幅
   に応じて選択されたーつの遅延素子からの信号と、前記
   変調信号発生器の信号との論理積をとり、さらに該論理
   積信号と前記論理和信号との論理和をとり、ピットを形
   成するディジタル信号とすることを特徴とする請求項１
   記載の光ディスク原盤露光装置。