JPH11138436A - 洗浄具の洗浄装置及び被処理体洗浄装置 - Google Patents

洗浄具の洗浄装置及び被処理体洗浄装置

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JPH11138436A JP9330993A JP33099397A JPH11138436A JP H11138436 A JPH11138436 A JP H11138436A JP 9330993 A JP9330993 A JP 9330993A JP 33099397 A JP33099397 A JP 33099397A JP H11138436 A JPH11138436 A JP H11138436A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄により除去された固形物が再び洗浄具の
スポンジ部に付着して洗浄効果が低減することのない、
洗浄具の洗浄装置及び被処理体洗浄装置を提供するこ
と。 【解決手段】 被処理体面上に洗浄液を供給しながら該
被処理体を洗浄するペン型スポンジ洗浄具の洗浄装置で
あって、第１の槽１１と第２の槽１２とを具備し、第１
の槽１１にはその底部にドレン口１４を設けると共に洗
浄液ノズル１３から該第１の槽１１の内壁面に洗浄液１
６を滞留させることなく流すようにし、第２の槽１２に
はその底部にドレン口１５を設け、第１の槽１１内にペ
ン型スポンジ洗浄具２０を下降挿入して洗浄する際、該
第１の槽１１内の洗浄液１６がオーバーフローして第２
の槽１２に流れ込むようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばポリッシン
グ装置において被研磨物等の被処理体を洗浄するのに用
いるペン型スポンジ洗浄具等の洗浄具の洗浄装置及び被
処理体を洗浄する被処理体洗浄装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイスの製造工程においては、
被処理体である半導体ウエハを洗浄液（主に純水）を用
いて洗浄する工程が必要となり、該洗浄工程では洗浄液
を供給しながら、洗浄用ブラシ等の洗浄具を用いて被処
理体の洗浄面を洗浄する方法が広く行われている。そし
て洗浄具の一つとして、先端洗浄部にスポンジ材を用い
たペン型形状をなした所謂ペン型スポンジ洗浄具があ
る。
【０００３】前記ペン型スポンジ洗浄具は被処理体の洗
浄に用いることにより、例えばポリッシング装置では、
被研磨物の研磨屑や砥液の砥粒等の固形物が付着するか
ら、これらの固形物を除去するため、該ペン型スポンジ
洗浄具を洗浄装置で洗浄する必要がある。
【０００４】図６は従来の洗浄装置の概略構成を示す図
である。図示するように、洗浄装置３０は第１の槽３１
と第２の槽３２を具備し、第１の槽３１に洗浄液ノズル
３３から洗浄液（主に純水）３４が供給され、該第１の
槽３１をオーバーフローした洗浄液３４は第２の槽３２
に流れ込むように構成されている。そして、第２の槽３
２に流れ込んだ洗浄液３４は該第２の槽３２の底部に設
けられたドレン口（図示せず）から外部に排出されるよ
うになっている。即ち、第１の槽３１には洗浄液を排出
するドレン口を設けることなく、常に洗浄液３４で第１
の槽３１内を満たしている。
【０００５】上記構成の洗浄装置において、図６に示す
ように、先端部に洗浄用のスポンジ部３５を具備するペ
ン型スポンジ洗浄具３６を洗浄する場合、第１の槽３１
内に該ペン型スポンジ洗浄具３６の先端のスポンジ部３
５を挿入し、該第１の槽３１内の洗浄液で洗浄し、該ス
ポンジ部３５に付着した固形物を洗浄除去している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来の洗
浄装置では、第１の槽３１内を常時洗浄液で満たしてお
き、該第１の槽３１内にペン型スポンジ洗浄具３６のス
ポンジ部３５を挿入して洗浄するようになっている。そ
のため、洗浄時にスポンジ部３５に付着した固形物は第
１の槽３１内に落下し、その底部に貯留する。そして該
固形物が多くなると、該固形物がペン型スポンジ洗浄具
３６の洗浄時に再びスポンジ部３５に付着し、洗浄効果
が低減するという問題がある。
【０００７】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、洗浄により除去された固形物が再びペン型スポンジ
洗浄具のスポンジ部に付着して洗浄効果が低減すること
のない、洗浄具の洗浄装置及び該洗浄装置を備えた被処
理体洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項１に記載の発明は、被処理体面上に洗浄液を供給
しながら該被処理体を洗浄する洗浄具の洗浄装置であっ
て、第１の槽と第２の槽を具備し、第１の槽にはその底
部にドレン口を設けると共に、洗浄液供給ノズルから該
第１の槽の内壁面に洗浄液を滞留させることなく流すよ
うにし、第２の槽にはその底部にドレン口を設け、第１
の槽内に洗浄具を下降挿入して洗浄する際、該第１の槽
内の洗浄液がオーバーフローして第２の槽に流れ込むよ
うに構成したことを特徴とする。
【０００９】また、請求項２に記載の発明は、請求項１
に記載の洗浄具の洗浄装置において、第１の槽の内部は
凹状に形成され、洗浄具を下降挿入した状態で、該洗浄
具の先端が該第１の槽の底部のドレン口を塞がない程度
で、且つ該ドレン口に流れ込む洗浄液の流路を狭める作
用を奏するように構成したことを特徴とする。
【００１０】また、請求項３に記載の発明は、被処理体
の表面に洗浄液を供給しながら該被処理体を洗浄具によ
って洗浄する被処理体洗浄装置であって、被処理体洗浄
装置は洗浄具を洗浄する槽を具備すると共に、該槽の底
部に洗浄液を排出するドレン口を設け、洗浄液供給ノズ
ルから該槽の内壁面に洗浄液を流すようにし、洗浄具を
洗浄するため該洗浄具を槽内に挿入すると、該槽内の洗
浄液がオーバーフローするように構成したことを特徴と
する。
【００１１】また、請求項４に記載の発明は、被処理体
の表面に洗浄液を供給しながら該被処理体を洗浄具によ
って洗浄する被処理体洗浄装置であって、被処理体洗浄
装置は洗浄具を洗浄する槽を具備すると共に、該槽の底
部に洗浄液を排出するドレン口を設け、洗浄液供給ノズ
ルから該槽の内壁面に洗浄液を流すようにし、洗浄具が
上下動することにより、ドレン口に流れ込む洗浄液の流
路の開口度が変化するように構成したことを特徴とす
る。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態例を図
面に基づいて説明する。図１は本発明に係るペン型スポ
ンジ洗浄具の洗浄装置の構造を示す図で、図１（ａ）は
平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ断面矢視図で
ある。図示するように、洗浄装置１０は第１の槽１１
と、該第１の槽１１の外周に形成された第２の槽１２
と、第１の槽１１に洗浄液（主に純水）を供給する洗浄
液ノズル１３を具備する構成である。
【００１３】第１の槽１１は平面が円形で、縦断面が凹
状でテーパ状に形成された内壁面を有し、更にその底部
にドレン口１４が設けられた形状である。また、第２の
槽１２は平面が第１の槽１１の外周に形成されリング形
状で、縦断面が矩形状の溝となっている。その底面の所
定の位置にドレン口１５が形成されている。
【００１４】洗浄液ノズル１３から供給される洗浄液１
６は図２の矢印に示すように、第１の槽１１の内壁面を
螺旋状に流れ、ドレン口１４から外部に排出されるよう
になっている。このように螺旋状に洗浄液が流れるた
め、第１の槽１１内に洗浄液が滞留しなくても、第１の
槽１１の内壁面の略全域に洗浄液１６が行き渡るから、
第１の槽１１の内部を常に清浄な状態に保つことができ
る。即ち、後述するように、ペン型スポンジ洗浄具２０
の洗浄時以外は第１の槽１１の内部には洗浄液１６を溜
めず、常にその内壁面に洗浄液１６が流れるようになっ
ている。また、第１の槽１１の縁頂面１７は洗浄装置１
０の筐体上面１８より所定寸法だけ低くなっている。
【００１５】ペン型スポンジ洗浄具２０は図３に示すよ
うに、模式的に描いた駆動部２３により矢印Ｎ方向に上
下動及び矢印Ｈ方向に旋回できるように構成されてい
る。上記構成の洗浄装置１０において、洗浄の際には、
駆動手段２３の動作により、図３に示すように先端部に
スポンジ部１９を有するペン型スポンジ洗浄具２０のス
ポンジ部１９を第１の槽１１の内部に下降挿入する。こ
の場合、スポンジ部１９の先端部が第１の槽１１のドレ
ン口１４を塞がない程度にペン型スポンジ洗浄具２０を
下降させる。このようにスポンジ部１９でドレン口１４
を塞がない程度にペン型スポンジ洗浄具２０を下降させ
ることにより、第１の槽１１の内部は凹状になっている
ため、ドレン口１４へ流れる洗浄液１６の流路が狭くな
り、該第１の槽１１の内の洗浄液１６の液面が短時間
（瞬時）に上昇する。本実施例では詳細に説明はしなか
ったが、ペン型スポンジ洗浄具２０の所定の下降位置を
決めるために、慣用的な駆動部２３の上下の駆動手段と
してサーボモータ等を用いてパルスの送り量により制御
してもよいし、エアシリンダーとその移動量を調整でき
る部材を用いて、下降位置を規制するようにしてもよ
い。尚、ペン型スポンジ洗浄具２０の旋回手段として
は、サーボモータ等を用いて回転角を制御してもよい。
【００１６】上記液面が上昇した洗浄液１６の一部は第
１の槽１１の縁頂面１７をオーバーフローして第２の槽
１２内に流れ込む。なお、このオーバーフローに際し
て、第１の槽１１の縁頂面１７は上記のように洗浄装置
１０の筐体上面１８より所定寸法低くなっているので、
該オーバーフローした洗浄液１６は筐体上面１８を越え
て外部に流れ出ることはない。一方、洗浄液１６は底部
のドレン口１４からも排出管２１を通って外部に排出さ
れる。また、第２の槽１２に流れ込んだ洗浄液１６はそ
の底部のドレン口１５より排出管２２を通って外部に排
出される。
【００１７】上記のように、駆動部２３により、ペン型
スポンジ洗浄具２０が上下動することによってドレン口
１４へ流れる洗浄液１６の流路の開口度を増減し、第１
の槽１１の内部に洗浄液１６を溜めてオーバーフローさ
せたり、ドレン口１４から洗浄液１６を全量流出させ、
第１の槽１１の内部に洗浄液１６を滞留させないように
制御することができる。ペン型スポンジ洗浄具２０自身
の動きにより洗浄液１６の液面の管理を行えるので、別
途排出管２１に第１の槽１１内の液面管理の電磁弁を設
けなくとも、第１の槽内の液面を変化させることができ
る。
【００１８】ペン型スポンジ洗浄具の洗浄装置に上記構
造を採用することにより、洗浄液ノズル１３より第１の
槽１１に供給される洗浄液１６は洗浄時以外は該第１の
槽１１内に滞留することなく、内壁面を流れてドレン口
１４から排出されるので、洗浄時にペン型スポンジ洗浄
具２０のスポンジ部１９から落ちた固形物は、該第１の
槽１１の内部に滞留することなく、排出されるドレン口
１４から排出される洗浄液と共に外部に排出される。従
って、第１の槽１１内にはスポンジ部１９から洗浄によ
り除去された固形物は貯留することなく、第１の槽１１
の内部は常に清浄に保たれる。
【００１９】また、ペン型スポンジ洗浄具２０の洗浄時
にはスポンジ部１９の先端をドレン口１４を塞がない程
度に該スポンジ部１９を第１の槽１１内に挿入すること
により、ドレン口１４に流れ込む洗浄液１６の流路が狭
くなり、洗浄液１６が短時間で第１の槽１１の縁頂面１
７をオーバーフローするまで溜り、スポンジ部１９に付
着した固形物は該洗浄液１６により除去される。また、
縁頂面１７をオーバーフローして第２の槽１２に流れ込
んだ洗浄液１６もドレン口１５から排出されるので、該
第２の槽１２の内部にはスポンジ部１９から洗浄により
除去された固形物は溜ることない。
【００２０】なお、上記ペン型スポンジ洗浄具の洗浄装
置の構造は、本発明の一構造例であり、本発明はこれに
限定されるものではなく、要は洗浄装置は、第１の槽と
第２の槽を具備し、第１の槽にはその底部にドレン口を
設けると共に、洗浄液供給ノズルから第１の槽の内壁面
に洗浄液を滞留させることなく流すようにし、第２の槽
にはその底部にドレン口を設け、第１の槽内にペン型ス
ポンジ洗浄具を挿入した際、該第１の槽内の洗浄液がオ
ーバーフローして第２の槽に流れ込むように構成したも
のであれば、具体的な構造はどのようなものであっても
よい。
【００２１】図４乃至図５は上記ペン型スポンジ洗浄具
の洗浄装置を備えた被処理体洗浄装置の構造を示す図
で、図４は平面図、図５は断面図である。図４乃至図５
において、図１乃至図３と同一符号を付した部分は同一
又は相当部分を示す。図示するように、被処理体洗浄装
置１００は被処理体洗浄槽１０６に隣接して洗浄具洗浄
槽１０７が配置されている。
【００２２】前記洗浄具洗浄槽１０７の内部には上記図
１乃至図３に示す構造のペン型スポンジ洗浄具２０を洗
浄するための洗浄装置１０が配置され、被処理体洗浄槽
１０６の内部には後述する半導体ウエハ等の被処理体を
洗浄するための被処理体洗浄機構１０１が配置されてい
る。被処理体洗浄機構１０１は円形状の台板１０４の周
辺に半導体ウエハ等の被処理体Ｗの周縁部を挟持するク
ランプ爪１０２が等間隔で複数個（図では６個）設けら
れ、更に該台板１０４は回転機構１０５により矢印１１
０に示すように回転するように構成されている。
【００２３】ペン型スポンジ洗浄具２０を保持する洗浄
アーム１０３は前述の駆動部２３により回動中心１０８
を中心に矢印１０９に示すように左右に旋回できると共
に上下に移動でき、さらにペン型スポンジ洗浄具２０は
洗浄アーム１０３の先端部で洗浄アーム１０３の旋回面
に垂直であるペン型スポンジ洗浄具２０の中心軸のまわ
りに自転できるようになっている。前記複数個のクラン
プ爪１０２に被処理体Ｗの周縁部を挟持（保持）し、回
転機構１０５で台板１０４を回転させることにより、被
処理体Ｗは回転する。この回転する被処理体Ｗの上面に
回転するペン型スポンジ洗浄具２０の先端を下降して当
接させ、更に被処理体Ｗに図示しない洗浄液ノズルから
洗浄液（主に純水）を供給して、被処理体Ｗを洗浄す
る。なお、この洗浄に際しては洗浄アーム１０３はペン
型スポンジ洗浄具２０が被処理体Ｗの中心部を交差しつ
つ、被処理体Ｗの径方向に揺動（往復旋回）する。
【００２４】被処理体Ｗの洗浄が終了したら洗浄アーム
１０３をペン型スポンジ洗浄具２０と共に上昇させ、洗
浄アーム１０３は回動中心１０８を中心に旋回し、ペン
型スポンジ洗浄具２０を洗浄装置１０の第１の槽１１の
真上まで移動させる。この位置でペン型スポンジ洗浄具
２０を下降させ、該第１の槽１１内に挿入する。これに
より、ドレン口１４に流れ込む洗浄液の流路が狭くな
り、洗浄液が第１の槽１１の縁頂面１７をオーバーフロ
ーし、第２の槽１２に流れ込むと共に、ペン型スポンジ
洗浄具２０のスポンジ部１９に付着した固形物は該洗浄
液により除去されることは既に述べた通りである。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように各請求項に記載の発
明によれば洗浄装置を、第１の槽と第２の槽を具備し、
第１の槽にはその底部にドレン口を設けると共に、洗浄
液供給ノズルから該第１の槽の内壁面に洗浄液を滞留さ
せることなく流すようにし、第２の槽にはその底部にド
レン口を設け、第１の槽内に洗浄具を下降挿入して洗浄
する際、該第１の槽内の洗浄液がオーバーフローして第
２の槽に流れ込むように構成したので、洗浄により洗浄
具から除去された固形物は第１の槽に貯留されることな
く、外部に排出され、該除去された固形物が再び洗浄具
に付着して洗浄効果を低減させることはないという優れ
た効果が得られる。
【００２６】また、請求項２に記載の発明によれば、第
１の槽の内部は凹状に形成され、洗浄具を下降挿入した
状態で、該洗浄具の先端が該第１の槽の底部のドレン口
を塞がない程度で、且つ該ドレン口に流れ込む洗浄液の
流路を狭める作用を奏するように構成されているので、
洗浄時以外は第１の槽に洗浄液を溜めないが、洗浄時に
は洗浄具が下降すると短時間で第１の槽に洗浄液が溜
り、少ない洗浄液で効果的に洗浄が行えるという優れた
効果も得られる。
【００２７】また、請求項３に記載の発明によれば、洗
浄により洗浄具から除去された固形物は槽に貯留される
ことなく、外部に排出され、該除去された固形物が再び
洗浄具に付着して洗浄効果を低減させることがないの
で、被処理体の洗浄効果が向上するという優れた効果が
得られる。
【００２８】また、請求項４に記載の発明によれば、洗
浄具が上下動することにより、ドレン口に流れ込む洗浄
液の流路の開口度が変化するようにしているので、少な
い洗浄液で効果的に洗浄具を洗浄できる洗浄装置を具備
する被処理体洗浄装置を提供できるという優れた効果が
得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るペン型スポンジ洗浄具の洗浄装置
の構造を示す図で、図１（ａ）は平面図、図１（ｂ）は
図１（ａ）のＡ−Ａ断面矢視図である。
【図２】図１に示す洗浄装置の第１の槽の洗浄液の流れ
を説明するための図である。
【図３】本発明に係る洗浄装置でペン型スポンジ洗浄具
を洗浄する状態を示す図である。
【図４】本発明に係る被処理体洗浄装置の構造を示す平
面図である。
【図５】本発明に係る被処理体洗浄装置の構造を示す断
面図である。
【図６】従来のペン型スポンジ洗浄具の洗浄装置の構造
を示す図である。
【符号の説明】
１０ 洗浄装置 １１ 第１の槽 １２ 第２の槽 １３ 洗浄液ノズル １４ ドレン口 １５ ドレン口 １６ 洗浄液 １９ スポンジ部 ２０ ペン型スポンジ洗浄具 １００ 被処理体洗浄装置 １０１ 被処理体洗浄機構 １０２ クランプ爪 １０３ 洗浄アーム １０４ 台板 １０５ 回転機構 １０６ 被処理体洗浄槽 １０７ 洗浄具洗浄槽

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 被処理体面上に洗浄液を供給しながら該
    被処理体を洗浄する洗浄具の洗浄装置であって、 第１の槽と第２の槽を具備し、 前記第１の槽にはその底部にドレン口を設けると共に、
    洗浄液供給ノズルから該第１の槽の内壁面に洗浄液を滞
    留させることなく流すようにし、 前記第２の槽にはその底部にドレン口を設け、 前記第１の槽内に洗浄具を下降挿入して洗浄する際、該
    第１の槽内の洗浄液がオーバーフローして第２の槽に流
    れ込むように構成したことを特徴とする洗浄具の洗浄装
    置。
  2. 【請求項２】 前記第１の槽の内部は凹状に形成され、
    前記洗浄具を下降挿入した状態で、該洗浄具の先端が該
    第１の槽の底部のドレン口を塞がない程度で、且つ該ド
    レン口に流れ込む洗浄液の流路を狭める作用を奏するよ
    うに構成したことを特徴とする請求項１に記載の洗浄具
    の洗浄装置。
  3. 【請求項３】 被処理体の表面に洗浄液を供給しながら
    該被処理体を洗浄具によって洗浄する被処理体洗浄装置
    であって、 前記被処理体洗浄装置は前記洗浄具を洗浄する槽を具備
    すると共に、該槽の底部に洗浄液を排出するドレン口を
    設け、洗浄液供給ノズルから該槽の内壁面に洗浄液を流
    すようにし、 前記洗浄具を洗浄するため該洗浄具を前記槽内に挿入す
    ると、該槽内の洗浄液がオーバーフローするように構成
    したことを特徴とする被処理体洗浄装置。
  4. 【請求項４】 被処理体の表面に洗浄液を供給しながら
    該被処理体を洗浄具によって洗浄する被処理体洗浄装置
    であって、 前記被処理体洗浄装置は前記洗浄具を洗浄する槽を具備
    すると共に、該槽の底部に洗浄液を排出するドレン口を
    設け、洗浄液供給ノズルから該槽の内壁面に洗浄液を流
    すようにし、 前記洗浄具が上下動することにより、前記ドレン口に流
    れ込む洗浄液の流路の開口度が変化するように構成した
    ことを特徴とする被処理体洗浄装置。
JP33099397A 1997-11-13 1997-11-13 洗浄具の洗浄装置、被処理体洗浄装置、及び洗浄具の洗浄方法 Expired - Lifetime JP3871785B2 (ja)

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