JPH11124315A - 毛髪化粧料 - Google Patents

毛髪化粧料

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JPH11124315A
JPH11124315A JP9286862A JP28686297A JPH11124315A JP H11124315 A JPH11124315 A JP H11124315A JP 9286862 A JP9286862 A JP 9286862A JP 28686297 A JP28686297 A JP 28686297A JP H11124315 A JPH11124315 A JP H11124315A
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JP
Japan
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hair
carbon atoms
group
linear
hair cosmetic
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JP9286862A
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English (en)
Inventor
Yuichi Sakamoto
雄一 坂本
Jun Kametani
潤 亀谷
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Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Publication date
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Priority to PCT/JP1998/003559 priority patent/WO1999007333A1/ja
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Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 (A)融点が0〜50℃のアミド化合
物、及び(B)紫外線吸収剤を含有する毛髪化粧料。 【効果】 毛髪のパサツキ、表面酸化、色調の変化など
を防止することができ、更に、より強いダメージを受け
ても髪をパサつかずしっとりした健康な状態に保ち続け
ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、太陽光、特に紫外
線、また、洗髪、ブラッシング、ドライヤーによる熱、
また、ヘアカラー剤や、ブリーチ剤等によって引き起こ
される毛髪損傷劣化による毛髪のパサツキや髪色の変化
等のダメージを防止することができ、更に毛髪に光沢と
柔軟性を与える毛髪化粧料に関する。
【0002】
【従来の技術】毛髪は常に環境にさらされ、紫外線、空
気の乾燥、熱等によりパサついたり、赤茶色に変色する
など、ダメージを受けやすい。このとき、毛髪は活性酵
素により表面酸化を受けていることがわかっている。
【0003】従来、このような毛髪のダメージを防止す
る目的で、高重合ジメチルポリシロキサンと、紫外線吸
収剤としてベンゾフェノン類を含有した毛髪化粧料(特
開平4−224508号公報)、高分子シリコーンと酸
化防止剤を含有した毛髪化粧料(特開平1−21151
5号公報)、不揮発性シリコーン類と特定の植物、その
抽出物又は圧搾物を含有した毛髪化粧料(特開平8−2
31348号公報)等が提案されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の毛髪化粧料はダメージ防止効果等の点で充分満足でき
るものではなく、特に、ドライヤー等により強い乾燥で
はパサツキが生じ、更には、毛髪の光沢や柔軟性もダメ
ージを受ける以前の髪に劣ってしまう。従って、本発明
の目的は、紫外線等による毛髪のダメージを防止するこ
とができ、強いダメージにおいてもパサツキが抑えられ
る毛髪化粧料を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】斯かる実情において本発
明者らは鋭意研究を行った結果、特定のアミド化合物と
紫外線吸収剤を組み合わせることにより、より強いダメ
ージを受けてもパサつかずしっとりとした、髪を健康に
保ち続けることができる毛髪化粧料が得られることを見
出し本発明を完成するに至った。
【0006】すなわち、本発明は(A)融点が0〜50
℃のアミド化合物及び(B)紫外線吸収剤を含有する毛
髪化粧料を提供するものである。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明で用いられる成分(A)の
アミド化合物は、融点が0〜50℃、好ましくは10〜
40℃のものである。この範囲外のものでは、組成物中
に安定に配合するのが困難である。なお、本発明におい
て、融点は、JIS−K7121−1987−9−9.
1(2)に従って測定した補外融点開始温度で示した。
【0008】このようなアミド化合物としては、例えば
イソステアリン酸アミド、イソパルミチン酸アミド、イ
ソステアリン酸アミド等の高級脂肪酸アミドや、次の一
般式(1)〜(3)
【0009】
【化4】
【0010】(式中、R1 及びR2 は同一又は異なって
炭素数1〜40のヒドロキシル化されていてもよい炭化
水素基を示し、R3 は炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐
鎖のアルキレン基又は単結合を示し、R4 は水素原子、
炭素数1〜12の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又
は2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ基を示す。ただ
し、R3 が単結合のときはR4 は水素原子である。)
【0011】
【化5】
【0012】(式中、R1 及びR2 は前記と同じ意味を
示し、R3aは炭素数3〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアル
キレン基を示し、R4aは炭素数1〜12の直鎖又は分岐
鎖のアルコキシ基を示す。)
【0013】
【化6】
【0014】(式中、R1 、R2 及びR3 は前記と同じ
意味を示し、R4bは水素原子、炭素数1〜12の直鎖若
しくは分岐鎖のアルコキシ基又は2,3−エポキシプロ
ピルオキシ基を示す。ただし、R3 が単結合のときR4b
は水素原子である。)で表わされるアミド誘導体などが
挙げられる。
【0015】これらのうち、アミド誘導体(1)におい
て、R1 及びR2 は同一又は異なって炭素数1〜40の
直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和のヒドロキシル化され
ていてもよい炭化水素基を示す。R1 及びR2 として
は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデ
シル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデ
シル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノ
ナデシル、ヘンエイコシル、ドコシル、ノナコシル、ト
リアコンチル、イソステアリル、イソヘプタデシル、2
−エチルヘキシル、1−エチルヘプチル、8−ヘプタデ
シル、8−ヘプタデセニル、8,11−ヘプタデカジエ
ニル、2−ヘプチルウンデシル、9−オクタデセニル、
1−ヒドロキシノニル、1−ヒドロキシペンタデシル、
2−ヒドロキシペンタデシル、15−ヒドロキシペンタ
デシル、11−ヒドロキシヘプタデシル及び11−ヒド
ロキシ−8−ヘプタデセニル等が挙げられる。
【0016】R1 としては炭素数8〜26の直鎖又は分
岐鎖のアルキル又はアルケニル基が好ましく、例えばオ
クチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシ
ル、オクタデシル、ドコシル、トリアコンチル、イソス
テアリル、2−エチルヘキシル、2−ヘプチルウンデシ
ル及び9−オクタデセニル等が挙げられる。R1 として
特に好ましい炭化水素基は炭素数12〜22の直鎖又は
分岐鎖のアルキル基であり、例えばドデシル、テトラデ
シル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコシル及びメチ
ル分岐イソステアリル基等が挙げられる。
【0017】R2 としては炭素数9〜25の直鎖又は分
岐鎖のアルキル又はアルケニル基が好ましく、例えばノ
ニル、ウンデシル、トリデシル、ペンタデシル、ヘプタ
デシル、ヘンエイコシル、ノナコシル、イソヘプタデシ
ル、1−エチルヘプチル、8−ヘプタデシル、8−ヘプ
タデセニル、8,11−ヘプタデカジエニル、1−ヒド
ロキシノニル、1−ヒドロキシペンタデシル、2−ヒド
ロキシペンタデシル、15−ヒドロキシペンタデシル、
11−ヒドロキシヘプタデシル及び11−ヒドロキシ−
8−ヘプタデセニル等が挙げられる。R2 として特に好
ましい炭化水素基は炭素数11〜21の直鎖又は分岐鎖
のアルキル基であり、例えばウンデシル、トリデシル、
ペンタデシル、ヘプタデシル、ヘンエイコシル及びメチ
ル分岐イソヘプタデシル基等が挙げられる。
【0018】R3 は炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖
のアルキレン基又は単結合を示し、アルキレン基として
は例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメ
チレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、1−メチル
エチレン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメ
チレン、1,1−ジメチルエチレン、1−エチルエチレ
ン、1−メチルテトラメチレン、2−エチルトリメチレ
ン等が挙げられる。R 3 としては炭素数1〜6の直鎖の
アルキレン基が好ましく、このうちメチレン、エチレン
及びトリメチレンが特に好ましい。
【0019】R4 は水素原子、炭素数1〜12の直鎖若
しくは分岐鎖のアルコキシ基又は2,3−ジヒドロキシ
プロピルオキシ基を示し、アルコキシ基としては例えば
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ヘキシル
オキシ、オクチルオキシ、デシルオキシ、1−メチルエ
トキシ及び2−エチルヘキシルオキシ等が挙げられる。
4 としては水素原子、炭素数1〜8のアルコキシ基及
び2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ基が好ましく、
このうち水素原子、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
ブトキシ、1−メチルエトキシ、2−エチルヘキシルオ
キシ及び2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ基が特に
好ましい。
【0020】アミド誘導体(1)としては、特に一般式
中のR1 、R2 、R3 及びR4 がそれぞれ上述の特に好
ましい範囲の基である場合を組合わせた化合物が好まし
い。
【0021】また、アミド誘導体(2)において、R1
及びR2 は上記と同様の意味を示し、同様の基が好まし
い。また、R3aとしてはアミド誘導体(1)のR3 にお
いて例示したアルキレン基からメチレン及びエチレンを
除いた基が挙げられる。R3aとしては炭素数3〜6の直
鎖のアルキレン基が好ましく、このうちトリメチレンが
特に好ましい。R4aのアルコキシ基としては、アミド誘
導体(1)のR4 と同様の基が挙げられ、同様の基が好
ましい。
【0022】アミド誘導体(3)において、R1 、R2
及びR3 は上記と同様の意味を示し、R4bは水素原子、
炭素数1〜12の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又
は2,3−エポキシプロピルオキシ基を示す。R1 、R
2 及びR3 として具体的には、アミド誘導体(1)と同
様の基が挙げられ、同様の基が好ましい。R4bの炭素数
1〜12の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基として
は、アミド誘導体(1)のR4 と同様の基が挙げられ、
水素原子、R4 と同様のアルコキシ基及び2,3−エポ
キシプロピルオキシ基が好ましい。
【0023】また、これらのアミド誘導体(1)〜
(3)には、水和物に代表される溶媒和物も含まれる。
これらのアミド誘導体(1)〜(3)のうち、特に、一
般式(1)で表わされるものが好ましい。アミド誘導体
(1)は、例えば特開平8−319263号公報に記載
の方法に従って製造することができる。また、アミド誘
導体(1)は、純度100%に精製した精製物でも、特
に精製を行わずに中間体や反応副生成物を含んだ純度7
0〜100%の混合物でも、効果、性能に優れ、かつ安
全性にも問題がないものである。
【0024】アミド誘導体(1)のうち、好適なものの
具体例としては、以下のものが挙げられる。
【0025】
【化7】
【0026】
【化8】
【0027】
【化9】
【0028】成分(A)のアミド化合物としては、特に
総炭素数30以上のN−置換アミド化合物が好ましい。
また、アミド化合物は、結合水を1重量%以上、特に5
重量%以上保持できるものがより好ましい。ここで結合
水の含有率は、まず、室温で試料に水を添加し、均一相
を維持できる最大添加量を測定して結合水量とし、次に
試料の総重量に対する結合水の総重量を百分率で示した
値とし、次式に従って求めることができる。
【0029】
【数1】
【0030】成分(A)のアミド化合物は、1種又は2
種以上を組合せて用いることができ、全組成物中に0.
001〜50重量%配合するのが好ましく、特に0.0
1〜40重量%、更に0.1〜20重量%配合するのが
好ましい。
【0031】本発明で用いられる成分(B)の紫外線吸
収剤としては通常の化粧料等に用いられるものであれば
特に制限されず、例えばオクチルメトキシシンナメー
ト、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、パラアミ
ノ安息香酸類、ベゾイルメタン類が挙げられる。これら
の市販品としては、オクチルメトキシシンナメートとし
てパーソールMCX(ジボダン社製)、ベンゾフェノン
誘導体のうち、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフ
ェノンとしてUvinul M−40(BASF社
製)、ベンゾフェノンスルホン酸としてUvinul
MS−40(BASF社製)、ベンゾフェノンスルホン
酸ナトリウムとしてUvinul MS−40のナトリ
ウム塩、パラアミノ安息香酸類としては、パラジメチル
アミノ安息香酸としてエスカロール507(Dan D
yk社製)、オクチルトリアゾンとしてUvinul
T−150(BASF社製)、ベンゾイルメタン類とし
ては、ブチルメトキシジベンゾイルメタンとしてパーソ
ール1789(ジボダン社製)等を使用することができ
る。
【0032】これらの紫外線吸収剤は、1種又は2種以
上を組合わせて用いることができる。これらの紫外線吸
収効果を充分に得るために、全組成中に0.01〜20
重量%、特に0.05〜10重量%配合するのが好まし
い。
【0033】また、本発明の毛髪化粧料には、更にゴ
マ、ローズマリー、セージ、カミツレ、クローブ、タイ
ム、ターメリック、グリーンオニオン、セロリ、甘草、
ブルーベリー、オウゴン、ソウハクヒ、オウバク、オウ
レン、ハマメリス、エイジツ、ジュ、ヘンナ及びボタン
から選ばれる植物、その抽出物又は圧搾物を配合するこ
とができ、これにより毛髪のダメージの原因となる活性
酸素を防止する効果が向上する。
【0034】これらの植物は、その葉、根、茎、花等を
そのまま、又は細かく刻んだり、乾燥させて粉末にした
り、すりつぶしたりして使用することができる。また、
これらの植物の抽出物を得る方法としては、例えばこれ
らの植物の葉、根、茎、花等を、水又は親水性有機溶媒
で抽出して抽出液を得る方法、更にこの抽出液を乾燥さ
せ、粉末を得る方法等が挙げられる。親水性の有機溶媒
としては、例えばメタノール、エタノール、1,3−ブ
チレングリコール、プロピレングリコール等が挙げられ
る。これらの溶媒は単独でも、2種以上組合わせて使用
してもよく、水とこれらの溶媒を混合して使用してもよ
い。更に、ゴマはヘキサン等の有機溶媒で抽出するか、
又は圧搾することにより、ゴマ油を得ることができる。
このような植物抽出物又は圧搾物はそのまま用いること
もできるが、これらの抽出物又は圧搾物を更に塩化メチ
レン、n−ヘキサン、エタノール等の有機溶媒を用いる
抽出や、酸・塩基分画等により分画、精製して、単一又
は2種以上の成分にして用いることもできる。このよう
な成分としては、前記の抽出物又は圧搾物から得られる
ものであれば特に制限されず、例えば精製ゴマ油、セサ
ミノール、セサミン、カルノゾール、カルノジック酸、
ロスマノール、オイゲノール、チモール(フェノール系
精油成分)、クルクミン、ケルセチン、グリチルリチン
酸、グリチルリチン酸モノアンモニウム、グリチルリチ
ン酸モノカリウム、グリチルリチン酸ジカリウム、18
β−グリチルレチン酸、グリチルレチン酸ステアリル、
カルベノキソロンナトリウム、次式
【0035】
【化10】
【0036】(式中、R5 はヒドロキシル基又はメトキ
シ基を示し、R6 は水素原子、ヒドロキシル基又はメト
キシ基を示し、Glyc.はアラビノース、グルコース
又はガラクトースを示す)で表わされるアントシアニン
配糖体類、オウゴニン、バイカリン、バイカレイン等の
フラボノイド配糖体類、α−アミリン等のトリチルベノ
イド類、ベルベリン等のアルカロイド類、multiflorin
等のフラボノール配糖体類などが挙げられる。
【0037】これらの成分のうち、特に精製ゴマ油、セ
サミノール、セサミン、カルノゾール、カルノジック
酸、ロスマノールが好ましい。
【0038】本発明の毛髪化粧料に用いられる植物とし
ては、特に精製ゴマ油、ローズマリー抽出物、ボタン抽
出物、ハマメリス抽出物が、より優れた活性酸素防止効
果が得られ好ましい。
【0039】これらの植物成分は、1種又は2種以上を
組合わせて用いることができる。また、これらの植物を
用いる場合、全組成物中に乾燥固形分として0.005
〜20重量%、特に0.05〜10重量%、更に0.1
〜5重量%配合するのが製品中に安定に配合できるので
好ましい。植物抽出物を用いる場合、全組成中に乾燥固
形分として0.05〜20重量%、特に0.1〜10重
量%配合することが好ましい。植物の圧搾物を用いる場
合、全組成物中に乾燥固形分として0.01〜20重量
%、特に0.05〜10重量%配合するのが好ましい。
また、抽出画分又は抽出成分を用いる場合、全組成中に
乾燥固形分として0.05〜10重量%、特に0.1〜
5重量%配合するのが好ましい。これらの範囲内である
と、より優れたダメージ防止効果が得られ、しかも安定
であるので好ましい。
【0040】本発明の毛髪化粧料には、前記成分の他、
目的に応じて通常の毛髪化粧料に配合される成分、例え
ばカチオン活性剤、アニオン活性剤、ノニオン活性剤、
両性活性剤等の界面活性剤、直鎖又は分岐鎖のアルキル
基又はアルケニル基を有する高級アルコール類、流動パ
ラフィン、ワセリン等の炭化水素類、ジメチルポリシロ
キサン、ポリエーテル変性シリコーン、アミノ変性シリ
コーン等のシリコーン類、液状ラノリン、ラノリン脂肪
酸等のラノリン誘導体、レシチン等のリン脂質、コレス
テロール等のステロール及びその誘導体、コラーゲン、
ケラチン等蛋白及びその誘導体、高級脂肪酸類、動植物
油脂類、スタイリング性付与ポリマー、アルコール類、
プロピレングリコール等の溶剤、抗フケ剤、ビタミン等
の薬効剤、防腐剤、水溶性高分子等の増粘剤、着色剤、
収れん剤、香料、色素、pH調整剤、エアゾール噴射剤等
を本発明の効果を損なわない範囲で適宜配合することが
できる。
【0041】本発明の毛髪化粧料は、前記成分を混合
し、通常の方法に従って製造することができ、例えばヘ
アムース、ヘアオイル、スタイリング剤等のアウトバス
剤や、シャンプー、リンス、トリートメント、ヘアコン
ディショナー等のインバス剤などとすることができる。
また剤型としてもその用途に応じて水溶液、エタノール
溶液、エマルジョン、サスペンジョン、ゲル、液晶、固
型、エアゾール等の各種形態とすることができる。
【0042】
【発明の効果】本発明の毛髪化粧料は、毛髪のパサツ
キ、表面酸化、色調の変化などを防止することができ、
更に、より強いダメージを受けても髪をパサつかずしっ
とりした健康な状態に保ち続けることができる。
【0043】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を更に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0044】実施例1 表1に示す組成のヘアオイル(実施例1〜4及び比較例
1〜3)を常法により製造し、これらを使用したときの
毛髪損傷度及び感触を評価した。結果を表1に示す。
【0045】(評価方法)1g/5cmの日本人黒色毛髪
を、0.25gのヘアオイルで処理し、ソーラーシュミ
レーターで20時間紫外線照射した。この処理毛と、非
処理毛について、毛髪表面のS−S結合の酸化程度をE
SCA表面分析により測定し、以下の基準に従って評価
した。
【0046】評価基準: (1)毛髪損傷度; ○;非処理毛と比較し、酸化されたS基の増加は見られ
ない。 △;非処理毛と比較し、酸化されたS基の増加は10%
未満。 ×;非処理毛と比較し、酸化されたS基の増加は10%
以上。 (2)感触; ○;非処理毛と比較し、変化が見られない。 △;非処理毛と比較し、やや変化が見られる。 ×;非処理毛と比較し、明らかに変化が見られる。
【0047】表1の結果から明らかなように、本発明の
ヘアオイルは、いずれも紫外線による毛髪の損傷を抑え
ることができ、しかも感触が良好であった。また、安定
性及び安全性にも優れたものであった。
【0048】
【表1】
【0049】 実施例5(シャンプー組成物) (成分) (重量%) (1)ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム 12 (2EO) (2)ラウリル酸ジエタノールアミド 3 (3)アミド誘導体(1b)融点33℃*2 0.5 (4)2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン 0.2 (Uvinul M-40 BASF社製) (5)ジメチルポリシロキサン(2000万cs/100cs(1/10)) 3 (6)エチレングリコールジステアレート 2 (7)食塩 2 (8)香料 適量 (9)色素(黄色4号) 微量 (10)防腐剤、pH調整剤 適量 (11)精製水 バランス
【0050】(製法)上記成分(1)〜(11)を75
℃で均一に混合した後、冷却し、パール状のシャンプー
組成物を得た。
【0051】
【化11】
【0052】 実施例6(コンディショナー組成物) (成分) (重量%) (1)セトステアリルトリメチルアンモニウムクロライド 2 (2)セタノール 2 (3)アミド誘導体(1c)融点25℃*3 1 (4)オクチルトリアゾン(Uvinul T-150 BASF社製) 0.2 (5)ハマメリス抽出物 0.2 (ハマメリスリキッド:一丸ファルコス社製) (6)ブチルヒドロキシトルエン 0.1 (7)ヒドロキシエチルセルロース 適量 (8)防腐剤、pH調整剤 適量 (9)香料 適量 (10)精製水 バランス
【0053】(製法)上記成分(1)〜(10)を80
℃で均一に混合した後、冷却し、クリーム状のヘアコン
ディショナー組成物を得た。
【0054】
【化12】
【0055】 実施例7(ヘアムース) (成分) (重量%) (1)ジメチルポリシロキサン(100万cs) 3 (2)アミド誘導体(1d)融点32℃*4 1 (3)パラジメチルアミノ安息香酸 0.2 (エスカロール507;Dan Dyk 社製) (4)グリセリン 2 (5)ノニオン活性剤(エマノンCH40;花王社製) 2 (6)エタノール 15 (7)酢酸トコフェロール 0.1 (8)香料 適量 (9)精製水 バランス (10)n−ブタン 7
【0056】(製法)上記成分(1)〜(9)を混合し
て乳化液を調整し、エアゾール缶に入れ、弁を取り付け
た後、成分(10)を充填し、ヘアムースを得た。
【0057】
【化13】
【0058】 実施例8(ヘアオイル) (成分) (重量%) (1)アミド誘導体(1e)融点23℃*5 1 (2)ブチルメトキシベンゾイルメタン 0.5 (パーソール1789、ジボダン社製) (3)精製ゴマ油(太白ゴマ油、竹本油脂社製) 5 (4)2−エチルヘキサン酸トリグリセライド 40 (5)ノニオン活性剤(エマノーンCH-80、花王社製) 5 (6)イソパラフィン 48 (アイソゾール450、日本石油化学社製) (7)香料 0.5
【0059】(製法)上記成分(1)〜(7)を均一に
混合し、液体状のヘアオイルを得た。
【0060】
【化14】
【0061】 実施例9(シャンプー組成物) (成分) (重量%) (1)ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム 8 (2EO) (2)ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸トリエタノ 4 ールアミン(2EO) (3)ラウリル酸ジエタノールアミド 3 (4)アミド誘導体(1a)(前記と同じ) 1 (5)ベンゾフェノンスルホン酸 0.5 (Uvinul MS-40 BASF 社製) (6)ローズマリー抽出物 0.2 (ローズマリーエキス;岩瀬コスファ社製) (7)食塩 2 (8)香料 適量 (9)防腐剤、pH調整剤 適量 (10)精製水 バランス
【0062】(製法)上記成分(1)〜(10)までを
75℃で均一に混合した後、冷却し、シャンプー組成物
を得た。
【0063】実施例10(ヘアリンス剤) 以下に示す組成のヘアリンス剤を常法により製造した。 (成分) (重量%) (1)セチルトリメチルアンモニウムクロリド 2 (2)セチルアルコール 2.5 (3)プロピレングリコール 3 (4)アミド誘導体(1c)(前記と同じ) 0.5 (5)オクチルメトキシシンナメート 1 (パーソールMCX;ジボダン社製) (6)ワセリン 0.5 (7)精製水 バランス
【0064】実施例11(ヘアトリートメント) 以下に示す組成のヘアトリートメント剤を常法により製
造した。 (成分) (重量%) (1)2−ドデシルヘキサデシルトリメチルアンモニウム 1.5 クロリド (2)ステアリルトリメチルアンモニウムクロリド 1 (3)ステアリルアルコール 3 (4)アミド誘導体(1d)(前記と同じ) 2 (5)パラジメチルアミノ安息香酸 1 (エスカロール507;Dan Dyk 社製) (6)ジメチルポリシロキサン(1000万cs/100cs(1/10)) 2 (7)流動パラフィン 1 (8)ハマメリス抽出物 0.1 (ハマメリスリキッド;一丸ファルコス社製) (9)防腐剤、pH調整剤 適量 (10)香料 適量 (11)精製水 バランス
【0065】実施例5〜11で得られた毛髪化粧料はい
ずれも紫外線による毛髪のダメージを抑えることがで
き、しかも感触が良好で安定性及び安全性に優れたもの
であった。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)融点が0〜50℃のアミド化合
    物、及び(B)紫外線吸収剤を含有する毛髪化粧料。
  2. 【請求項2】 成分(A)が、総炭素数30以上のN−
    置換アミド化合物である請求項1記載の毛髪化粧料。
  3. 【請求項3】 成分(A)が、次の一般式(1)〜
    (3) 【化1】 (式中、R1 及びR2 は同一又は異なって炭素数1〜4
    0のヒドロキシル化されていてもよい炭化水素基を示
    し、R3 は炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキ
    レン基又は単結合を示し、R4 は水素原子、炭素数1〜
    12の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又は2,3−
    ジヒドロキシプロピルオキシ基を示す。ただしR3 が単
    結合のときはR4 は水素原子である。) 【化2】 (式中、R1 及びR2 は前記と同じ意味を示し、R3a
    炭素数3〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキレン基を示
    し、R4aは炭素数1〜12の直鎖又は分岐鎖のアルコキ
    シ基を示す。) 【化3】 (式中、R1 、R2 及びR3 は前記と同じ意味を示し、
    4bは水素原子、炭素数1〜12の直鎖若しくは分岐鎖
    のアルコキシ基又は2,3−エポキシプロピルオキシ基
    を示す。ただし、R3 が単結合のときR4bは水素原子で
    ある。)で表わされるアミド誘導体から選ばれるもので
    ある請求項1又は2記載の毛髪化粧料。
  4. 【請求項4】 成分(B)が、オクチルメトキシシンナ
    メート、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、パラ
    アミノ安息香酸及びベンゾイルメタン類から選ばれる紫
    外線吸収剤である請求項1〜3のいずれか1項記載の毛
    髪化粧料。
  5. 【請求項5】 更に、ゴマ、ローズマリー、セージ、カ
    ミツレ、クローブ、タイム、ターメリック、グリーンオ
    ニオン、セロリ、甘草、ブルーベリー、オウゴン、ソウ
    ハクヒ、オウバク、オウレン、ハマメリス、エイジツ、
    ジュ、ヘンナ及びボタンから選ばれる植物、その抽出物
    又は圧搾物を含有する請求項1〜4のいずれか1項記載
    の毛髪化粧料。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004503480A (ja) * 2000-06-13 2004-02-05 ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ ヘアオイル

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