JPH11120924A - プラズマ表示装置 - Google Patents
プラズマ表示装置Info
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- JPH11120924A JPH11120924A JP10234527A JP23452798A JPH11120924A JP H11120924 A JPH11120924 A JP H11120924A JP 10234527 A JP10234527 A JP 10234527A JP 23452798 A JP23452798 A JP 23452798A JP H11120924 A JPH11120924 A JP H11120924A
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- plasma display
- discharge space
- thin film
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/10—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma
- H01J11/12—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma with main electrodes provided on both sides of the discharge space
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- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/40—Layers for protecting or enhancing the electron emission, e.g. MgO layers
-
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- H01J11/44—Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters, black matrices, light reflecting means or electromagnetic shielding means
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- H01J2211/00—Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
- H01J2211/20—Constructional details
- H01J2211/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J2211/44—Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters or lenses
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 放電空間内で1次発光時損失される親光線を
蛍光層に反射させて２次発光に利用可能に反射膜を具備
し、輝度の向上が図られたプラズマ表示装置を提供す
る。 【解決手段】 相面するように結合された前面基板３２
及び背面基板３１と、前記前面基板３２と背面基板３１
との間に形成されて放電空間３３を限定する隔壁４５
と、前記放電空間３３内に充電されたガスを放電させ、
親光線を発生させる放電手段４０と、前記放電空間３３
内に所定のパターンで形成され、前記親光線により励起
されて発光する蛍光層５０と、前記放電空間３３内の前
記蛍光層５０が形成されない領域に形成され、前記親光
線を前記蛍光層５０に反射させる反射膜６０とを含む。
これにより、放電空間３３内で紫外線を蛍光層５０に反
射させることにより発光輝度を向上させうる。
蛍光層に反射させて２次発光に利用可能に反射膜を具備
し、輝度の向上が図られたプラズマ表示装置を提供す
る。 【解決手段】 相面するように結合された前面基板３２
及び背面基板３１と、前記前面基板３２と背面基板３１
との間に形成されて放電空間３３を限定する隔壁４５
と、前記放電空間３３内に充電されたガスを放電させ、
親光線を発生させる放電手段４０と、前記放電空間３３
内に所定のパターンで形成され、前記親光線により励起
されて発光する蛍光層５０と、前記放電空間３３内の前
記蛍光層５０が形成されない領域に形成され、前記親光
線を前記蛍光層５０に反射させる反射膜６０とを含む。
これにより、放電空間３３内で紫外線を蛍光層５０に反
射させることにより発光輝度を向上させうる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガス放電時発生され
る紫外線により蛍光層が発光されることにより画像が形
成されるプラズマ表示装置に関する。
る紫外線により蛍光層が発光されることにより画像が形
成されるプラズマ表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラズマ表示装置は、その表示容量及び
視野角が大きく、輝度、コントラストなどに優れ、陰極
線管に匹敵する平板型表示パネルとして注目を浴びてい
る。
視野角が大きく、輝度、コントラストなどに優れ、陰極
線管に匹敵する平板型表示パネルとして注目を浴びてい
る。
【０００３】前記プラズマ表示装置はその動作原理によ
って直流プラズマ表示装置と交流プラズマ表示装置とに
大別される。直流プラズマ表示装置は全ての電極が放電
空間に露出された構造であって、対応される電極の間に
電荷の移動が直接的に行われる。これに対して、交流プ
ラズマ表示装置は少なくとも１つの電極が誘電体で塗布
されており、壁電荷(wall-charge）の電界によって放電
される。
って直流プラズマ表示装置と交流プラズマ表示装置とに
大別される。直流プラズマ表示装置は全ての電極が放電
空間に露出された構造であって、対応される電極の間に
電荷の移動が直接的に行われる。これに対して、交流プ
ラズマ表示装置は少なくとも１つの電極が誘電体で塗布
されており、壁電荷(wall-charge）の電界によって放電
される。
【０００４】また、プラズマ表示装置はその電極の構成
形態によって対向放電型及び面放電型表示装置に大別さ
れる。対向放電型プラズマ表示装置は単位画素ごとにア
ドレッシング電極及び走査用電極が対向して設けられ、
所望の画素を選択的に放電させるアドレッシング放電及
び前記アドレッシング放電を保たせる維持放電がこれら
両電極の間で発生される。
形態によって対向放電型及び面放電型表示装置に大別さ
れる。対向放電型プラズマ表示装置は単位画素ごとにア
ドレッシング電極及び走査用電極が対向して設けられ、
所望の画素を選択的に放電させるアドレッシング放電及
び前記アドレッシング放電を保たせる維持放電がこれら
両電極の間で発生される。
【０００５】一方、面放電型プラズマ表示装置は単位画
素ごとにアドレッシング電極に対向される走査電極及び
共通電極が備えられ、アドレッシング電極と走査電極と
の間でアドレッシング放電が起こり、走査電極と共通電
極との間で維持放電が起こる。
素ごとにアドレッシング電極に対向される走査電極及び
共通電極が備えられ、アドレッシング電極と走査電極と
の間でアドレッシング放電が起こり、走査電極と共通電
極との間で維持放電が起こる。
【０００６】前記プラズマ表示装置の放電時、発生され
る紫外線により放電空間にある蛍光層が発光されること
により画像が形成される。
る紫外線により放電空間にある蛍光層が発光されること
により画像が形成される。
【０００７】図５は従来のプラズマ表示装置の一例を示
す図面である。
す図面である。
【０００８】図示されたようにプラズマ表示素子は基板
１０と、前記基板１０上に形成された第1電極１１と、
該第1電極１１が形成された基板１０上に塗布された誘
電層１２と、該誘電層１２上に形成され放電セルを限定
してセル間のクロストークを防止する隔壁１３と、前記
隔壁１３の間の放電空間に所定のパターンで形成された
蛍光層１４を含む。
１０と、前記基板１０上に形成された第1電極１１と、
該第1電極１１が形成された基板１０上に塗布された誘
電層１２と、該誘電層１２上に形成され放電セルを限定
してセル間のクロストークを防止する隔壁１３と、前記
隔壁１３の間の放電空間に所定のパターンで形成された
蛍光層１４を含む。
【０００９】前記隔壁１３上には透明な前面基板２０が
結合され、前面基板２０の下面には前記第1電極１１と
直交するように第2及び第3電極２１、２２が形成され、
前記第2、3電極２１、２２の下面には誘電層２３及び保
護層２４が順次に塗布される。
結合され、前面基板２０の下面には前記第1電極１１と
直交するように第2及び第3電極２１、２２が形成され、
前記第2、3電極２１、２２の下面には誘電層２３及び保
護層２４が順次に塗布される。
【００１０】前記各電極に所定の電圧が印加されること
によって電荷が誘電層１２に集積され、該電荷に応じて
前記第1電極１１と第2電極２１との間でトリガー放電が
起こって前面基板１６の誘電層２３の下面に荷電粒子が
形成される。この状態で第2電極２１及び第3電極２２に
所定の電圧が印加されると維持放電が起こる。従って、
放電空間に充電されたガス層でプラズマが形成され、そ
れより放射された紫外線によって蛍光層１４が励起され
て光が発生される。
によって電荷が誘電層１２に集積され、該電荷に応じて
前記第1電極１１と第2電極２１との間でトリガー放電が
起こって前面基板１６の誘電層２３の下面に荷電粒子が
形成される。この状態で第2電極２１及び第3電極２２に
所定の電圧が印加されると維持放電が起こる。従って、
放電空間に充電されたガス層でプラズマが形成され、そ
れより放射された紫外線によって蛍光層１４が励起され
て光が発生される。
【００１１】このようなプラズマ表示装置の動作中に、
ガス放電により放射される紫外線の一部は蛍光層１４が
形成されない前面基板２０及び隔壁１３側に吸収され
る。また、蛍光体から放出された光の一部は蛍光層１４
の下の誘電層１２及び基板１０側に消失されて輝度に影
響を与えられない。
ガス放電により放射される紫外線の一部は蛍光層１４が
形成されない前面基板２０及び隔壁１３側に吸収され
る。また、蛍光体から放出された光の一部は蛍光層１４
の下の誘電層１２及び基板１０側に消失されて輝度に影
響を与えられない。
【００１２】前述したような問題点を解決するためのプ
ラズマ表示装置が米国特許第５，１８２，４８９号及び
日本国特願平５−８０３９０号に開示されている。
ラズマ表示装置が米国特許第５，１８２，４８９号及び
日本国特願平５−８０３９０号に開示されている。
【００１３】前記文献に記載されたプラズマ表示装置の
一例が図６に示されている。ここで、図５に示したもの
と同一な符号は同一部材を示す。図示されたように、基
板１０と誘電層１２との間に上面が絶縁体で処理された
可視光反射層１６が形成され、蛍光層１４から基板１０
側に照射される光を前面基板２０側に反射させて発光輝
度を増加させた。しかし、前記反射層１６は蛍光層１４
から発光された可視光のみを反射させ、ガス放電時発生
される紫外線は反射させるに限界があって顕著な輝度の
向上は期待できない。特に蛍光層１４の可視光透過率は
極端に低いので反射層の反射による輝度の向上には限界
がある。
一例が図６に示されている。ここで、図５に示したもの
と同一な符号は同一部材を示す。図示されたように、基
板１０と誘電層１２との間に上面が絶縁体で処理された
可視光反射層１６が形成され、蛍光層１４から基板１０
側に照射される光を前面基板２０側に反射させて発光輝
度を増加させた。しかし、前記反射層１６は蛍光層１４
から発光された可視光のみを反射させ、ガス放電時発生
される紫外線は反射させるに限界があって顕著な輝度の
向上は期待できない。特に蛍光層１４の可視光透過率は
極端に低いので反射層の反射による輝度の向上には限界
がある。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記問題点を
解決するために創出されたものであって、放電空間内で
1次発光時損失される親光線を蛍光層に反射させて２次
発光に利用可能に反射膜を具備し、これによって輝度の
向上が図られたプラズマ表示装置を提供することを目的
とする。
解決するために創出されたものであって、放電空間内で
1次発光時損失される親光線を蛍光層に反射させて２次
発光に利用可能に反射膜を具備し、これによって輝度の
向上が図られたプラズマ表示装置を提供することを目的
とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明のプラズマ表示装置は、相面するように結合さ
れた前面基板及び背面基板と、前記前面基板と背面基板
との間に形成されて放電空間を限定する隔壁と、前記放
電空間内に充電されたガスを放電させ、親光線を発生さ
せる放電手段と、前記放電空間内に所定のパターンで形
成され、前記親光線により励起されて発光する蛍光層
と、前記放電空間内の前記蛍光層が形成されない領域に
形成され、前記親光線を前記蛍光層に反射させる反射膜
とを含む。
の本発明のプラズマ表示装置は、相面するように結合さ
れた前面基板及び背面基板と、前記前面基板と背面基板
との間に形成されて放電空間を限定する隔壁と、前記放
電空間内に充電されたガスを放電させ、親光線を発生さ
せる放電手段と、前記放電空間内に所定のパターンで形
成され、前記親光線により励起されて発光する蛍光層
と、前記放電空間内の前記蛍光層が形成されない領域に
形成され、前記親光線を前記蛍光層に反射させる反射膜
とを含む。
【００１６】ここで、前記反射膜は屈折率の相異なる少
なくとも二枚の透明な薄膜層が積層されてなる。
なくとも二枚の透明な薄膜層が積層されてなる。
【００１７】前記薄膜層は周期律表の１Ａ族及び２Ａ族
の塩を含む物質、望ましくはMgO、LiF、MgF2、CaF2、Sr
F2、BaF2のうち少なくとも一つよりなる。
の塩を含む物質、望ましくはMgO、LiF、MgF2、CaF2、Sr
F2、BaF2のうち少なくとも一つよりなる。
【００１８】前記薄膜層の厚さはλ/4n±λ/16(λは前
記親光線の波長)で形成される。
記親光線の波長)で形成される。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面に基づき本発
明を詳しく説明する。
明を詳しく説明する。
【００２０】図１及び図２は本発明の望ましい実施形態
によるプラズマ表示装置を示す図面である。背面基板３
１及び透明な前面基板３２が所定の間隔に離隔されるよ
うに対向して結合され、その間には放電空間３３が形成
される。
によるプラズマ表示装置を示す図面である。背面基板３
１及び透明な前面基板３２が所定の間隔に離隔されるよ
うに対向して結合され、その間には放電空間３３が形成
される。
【００２１】前記背面基板３１の上面及び前面基板３２
の下面には２次発光に使われる親光線が照射される1次
発光用放電部４０が形成される。本明細書において使用
される"1次発光"とはプラズマ表示装置の動作初期にガ
スが放電されることにより紫外線が発生されることを意
味し、"２次発光"とは前記紫外線により蛍光層が励起さ
れて光が発生されることを意味する。
の下面には２次発光に使われる親光線が照射される1次
発光用放電部４０が形成される。本明細書において使用
される"1次発光"とはプラズマ表示装置の動作初期にガ
スが放電されることにより紫外線が発生されることを意
味し、"２次発光"とは前記紫外線により蛍光層が励起さ
れて光が発生されることを意味する。
【００２２】前記放電部４０は、背面基板３１の上面に
形成されたストライプ状の第1電極４１と、該第1電極４
１をつつむように前記背面基板３１の上面に塗布される
誘電層４２と、前記前面基板３２の下面に前記第1電極
４１と直交するように形成された第2及び第3電極４３、
４４と、該第2、3電極４３、４４を取囲むように前記前
面基板３２の下面に形成された誘電層５３を含む。前記
放電部４０は本実施形態に限定されず、放電空間３３で
グロー放電を起こせる構造なら何れでも良い。
形成されたストライプ状の第1電極４１と、該第1電極４
１をつつむように前記背面基板３１の上面に塗布される
誘電層４２と、前記前面基板３２の下面に前記第1電極
４１と直交するように形成された第2及び第3電極４３、
４４と、該第2、3電極４３、４４を取囲むように前記前
面基板３２の下面に形成された誘電層５３を含む。前記
放電部４０は本実施形態に限定されず、放電空間３３で
グロー放電を起こせる構造なら何れでも良い。
【００２３】前記背面基板３１と前面基板３２との間に
は放電空間３３を限定する隔壁４５が形成される。該隔
壁４５は誘電層４２の上面の前記第1電極４１の間に該
第1電極４１と並んで形成される。
は放電空間３３を限定する隔壁４５が形成される。該隔
壁４５は誘電層４２の上面の前記第1電極４１の間に該
第1電極４１と並んで形成される。
【００２４】前記隔壁４５の間には２次発光が起こる蛍
光層５０が所定のパターンで形成される。前記蛍光層５
０は隔壁４５の内面と前記隔壁４５の間の誘電層４２の
上面に形成される。前記蛍光層５０の形成位置はプラズ
マ表示装置の種類、即ち反射型及び透過形に応じて変わ
る。
光層５０が所定のパターンで形成される。前記蛍光層５
０は隔壁４５の内面と前記隔壁４５の間の誘電層４２の
上面に形成される。前記蛍光層５０の形成位置はプラズ
マ表示装置の種類、即ち反射型及び透過形に応じて変わ
る。
【００２５】本発明の特徴によれば、前記放電空間内の
蛍光層が形成されない領域には1次発光時発生する親光
線を蛍光層５０側に反射させる反射膜６０が形成され
る。即ち、前記前面基板３２の誘電層５３の下面及び/
または隔壁４５の内面の蛍光層が形成されない部分に反
射膜６０が形成される。
蛍光層が形成されない領域には1次発光時発生する親光
線を蛍光層５０側に反射させる反射膜６０が形成され
る。即ち、前記前面基板３２の誘電層５３の下面及び/
または隔壁４５の内面の蛍光層が形成されない部分に反
射膜６０が形成される。
【００２６】前記反射膜６０は屈折率の差が相対的に大
きな少なくとも二枚の薄膜層６１、６２で構成される。
きな少なくとも二枚の薄膜層６１、６２で構成される。
【００２７】前記薄膜層６１、６２の各々は周期律表１
Ａ族と２Ａ族の塩を用いた透明なMgO、LiF、MgF2、Ca
F2、SrF2、BaF2、またはサファイア、水晶のうち少なく
とも一つよりなる。
Ａ族と２Ａ族の塩を用いた透明なMgO、LiF、MgF2、Ca
F2、SrF2、BaF2、またはサファイア、水晶のうち少なく
とも一つよりなる。
【００２８】特に、放電空間に直接露出される薄膜層６
２は2次電子を放出するMgOで形成されることが望まし
い。
２は2次電子を放出するMgOで形成されることが望まし
い。
【００２９】本発明の他の実施形態によれば、図３に示
されたように反射膜６０'は屈折率の相異なる多数の第1
薄膜層６１1、、、６１nと第2薄膜層６２1、、、６２n
が交番に積層されて構成される。即ち、第1及び第2薄膜
層６１1、６２1または６１n、６２n が一つの単位薄膜
層を構成し、このような単位薄膜層が複数個積層されて
反射膜６０'を構成する。
されたように反射膜６０'は屈折率の相異なる多数の第1
薄膜層６１1、、、６１nと第2薄膜層６２1、、、６２n
が交番に積層されて構成される。即ち、第1及び第2薄膜
層６１1、６２1または６１n、６２n が一つの単位薄膜
層を構成し、このような単位薄膜層が複数個積層されて
反射膜６０'を構成する。
【００３０】望ましく、前記第1薄膜層６１1、、、６１
n 及び第2薄膜層６２1、、、６２nは各々LiF及びMgOよ
りなり、前記単位薄膜層は２〜１０枚が望ましい。
n 及び第2薄膜層６２1、、、６２nは各々LiF及びMgOよ
りなり、前記単位薄膜層は２〜１０枚が望ましい。
【００３１】代案として、前記反射膜６０'はMgO層及び
LiF層よりなる3枚の単位薄膜層と、MgO層及びMgF2階よ
りなる2枚以上の単位薄膜層で構成される。
LiF層よりなる3枚の単位薄膜層と、MgO層及びMgF2階よ
りなる2枚以上の単位薄膜層で構成される。
【００３２】前記第1薄膜層６１1、、、６１n と第2薄
膜層６２1、、、６２n の厚さはλ/4n±λ/16(λは1次
発光時発生される親光線の波長)で設定されることが望
ましい。前記薄膜層の厚さ及び積層数は反射率及び透過
率を考慮して適切に決定される。
膜層６２1、、、６２n の厚さはλ/4n±λ/16(λは1次
発光時発生される親光線の波長)で設定されることが望
ましい。前記薄膜層の厚さ及び積層数は反射率及び透過
率を考慮して適切に決定される。
【００３３】なお、図３において図２と同一な部材番号
は同一な機能をする同一な部材を示す。
は同一な機能をする同一な部材を示す。
【００３４】このように構成された本実施形態によるプ
ラズマ表示装置の動作において、前記第1電極４１(図２
参照)と第2電極４３に交流電圧が印加されて予備放電が
起こり、前記第2電極４３と第3電極４４との間で維持放
電が起こる。
ラズマ表示装置の動作において、前記第1電極４１(図２
参照)と第2電極４３に交流電圧が印加されて予備放電が
起こり、前記第2電極４３と第3電極４４との間で維持放
電が起こる。
【００３５】この時に発生される親光線、即ち紫外線に
より蛍光層５０が励起されて発光される。本実施形態に
よれば、前記放電空間３３の内部には反射膜６０(６
０')が形成されているので、前記蛍光層３３の形成され
ていない領域に照射された紫外線が反射膜６０(６０')
により蛍光層５０側に反射され発光輝度を向上させう
る。
より蛍光層５０が励起されて発光される。本実施形態に
よれば、前記放電空間３３の内部には反射膜６０(６
０')が形成されているので、前記蛍光層３３の形成され
ていない領域に照射された紫外線が反射膜６０(６０')
により蛍光層５０側に反射され発光輝度を向上させう
る。
【００３６】図４は本発明者の実験を示す図面である。
参照すれば、MgO層及びLiF層よりなる１０枚の単位薄膜
層で構成された反射膜が備えられた場合(実線)、１００
〜２００nm波長の紫外線反射率が向上されたことが分か
る。また、MgO層及びLiF層よりなる3つの単位薄膜層
と、MgO層及びMgF2層よりなる2枚の単位薄膜層を含む反
射膜が備えられた場合(二点鎖線）は、MgO層及びLiF層
よりなる2つの単位薄膜層を具備する場合(点線で表示)
に比べて、１００〜２００nm波長の紫外線反射率が相対
的に高まる。
参照すれば、MgO層及びLiF層よりなる１０枚の単位薄膜
層で構成された反射膜が備えられた場合(実線)、１００
〜２００nm波長の紫外線反射率が向上されたことが分か
る。また、MgO層及びLiF層よりなる3つの単位薄膜層
と、MgO層及びMgF2層よりなる2枚の単位薄膜層を含む反
射膜が備えられた場合(二点鎖線）は、MgO層及びLiF層
よりなる2つの単位薄膜層を具備する場合(点線で表示)
に比べて、１００〜２００nm波長の紫外線反射率が相対
的に高まる。
【００３７】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によるプラ
ズマ表示装置は、放電空間内で紫外線を蛍光層に反射さ
せることにより発光輝度を向上させうる。
ズマ表示装置は、放電空間内で紫外線を蛍光層に反射さ
せることにより発光輝度を向上させうる。
【００３８】なお、本発明は図示された実施形態に基づ
き説明したがこれは例示的なものに過ぎなく、本発明の
技術的範囲内で当業者により変形可能なのは明白であ
る。
き説明したがこれは例示的なものに過ぎなく、本発明の
技術的範囲内で当業者により変形可能なのは明白であ
る。
【図１】本発明の一実施形態によるプラズマ表示装置の
分離斜視図。
分離斜視図。
【図２】図１に示されたプラズマ表示装置の断面図。
【図３】本発明の他の実施形態によるプラズマ表示装置
の断面図。
の断面図。
【図４】反射膜の反射率と波長との関係を示すグラフ。
【図５】従来のプラズマ表示装置を示す分離斜視図。
【図６】従来の他のプラズマ表示装置を示す断面図。
３１ 背面基板 ３２ 前面基板 ３３ 放電空間 ４０ 放電部 ４２ 誘電層 ４５ 隔壁
Claims (7)
- 【請求項１】 相面するように結合された前面基板及び
背面基板と、 前記前面基板と背面基板との間に形成されて放電空間を
限定する隔壁と、 前記放電空間内に充電されたガスを放電させ、親光線を
発生させる放電手段と、 前記放電空間内に所定のパターンで形成され、前記親光
線により励起されて発光する蛍光層と、 前記放電空間内の前記蛍光層が形成されない領域に形成
され、前記親光線を前記蛍光層に反射させる反射膜とを
含むことを特徴とするプラズマ表示装置。 - 【請求項２】 前記反射膜は屈折率の相異なる少なくと
も二つの透明な薄膜層が積層されてなることを特徴とす
る請求項１に記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項３】 前記薄膜層は周期律表の１Ａ族及び２Ａ
族の塩を含む物質よりなることを特徴とする請求項２に
記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項４】 前記薄膜層はMgO、LiF、MgF2、CaF2、Sr
F2、BaF2のうち少なくとも一つよりなることを特徴とす
る請求項３に記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項５】 前記放電空間に直接露出される反射膜の
薄膜層は2次電子を放出する物質よりなることを特徴と
する請求項２に記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項６】 前記放電空間に露出された薄膜層がMgO
よりなることを特徴とする請求項５に記載のプラズマ表
示装置。 - 【請求項７】 前記薄膜層の厚さはλ/4n±λ/16で形成
されたことを特徴とする請求項２に記載のプラズマ表示
装置（但し、前記λは前記親光線の波長である）。
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