JPH11120545A

JPH11120545A - 磁気記録媒体およびその製造方法

Info

Publication number: JPH11120545A
Application number: JP27694697A
Authority: JP
Inventors: Hideo Okada; 英夫岡田; Atsushi Saiki; 淳齋木
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1997-10-09
Filing date: 1997-10-09
Publication date: 1999-04-30

Abstract

(57)【要約】【課題】ガラス基板と密着性の高いＮｉＰ無電解メッ
キ層を有する磁気記録媒体用基板を提供する。【解決手段】非磁性基板上に、少なくとも非磁性金属
メッキ層及び磁性層を有する磁気記録媒体であって、非
磁性基板のヴィッカーズ硬度が厚さ方向に均一で６５０
ｋｇ／ｍｍ²以上であり、かつＣＳＳゾーンの非磁性金
属メッキ層表面にはレーザービームの照射による突起が
形成され、データゾーンの非磁性金属メッキ層表面には
機械的テキスチャーによる同心円状加工痕が形成されて
いることを特徴とする磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク装置な
どに使用される磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は、例えば、ＮｉＰ無電解
メッキを施したＡｌ−Ｍｇ系合金製の基板上に、スパッ
タリング法によりＣｒ下地膜、Ｃｏ系磁性膜、Ｃなどを
主成分とする保護膜を順次成膜して製造されている。磁
気ディスク装置においては、記録再生用ヘッドが磁気記
録媒体上を一定の浮上量で移動しているが、近年、磁気
記録媒体の面記録密度の急激な増加に伴って、この浮上
量が極めて小さい値になってきている。また記録密度増
大に伴い、磁気記録読み出し速度の向上も求められ、高
速回転領域で基板の微細振動の低減が要求されている。
これらに対応するためには、媒体の剛性を増大し、表面
の平滑性及び表面粗さを小さくしなければならない。そ
こで、媒体の剛性を増大し且つ、表面平滑性向上の見地
から、ガラス基板が使用され始めている。

【０００３】ガラス基板を用いて安定した特性を有する
磁気記録媒体を得るために、ガラスを含む代替基板上に
ＮｉＰ無電解メッキ膜を形成し、機械研磨によるテキス
チャリング処理することが提案されている。（特開平７
−２７２２６３号公報等。）しかし、これだけでは近年の厳しい磁気記録媒体の使用
環境に適応するに十分とはいえない。十分な耐久性、Ｃ
ＳＳ特性を得るためにはデータゾーンを含む表面に同心
円方向に機械的にテキスチャーを付与した上に、ＣＳＳ
ゾーンの粗さを精密に制御することによって、媒体とヘ
ッドスライダとの間の摩擦力を低減することが必要であ
る。

【０００４】近年では磁気ディスク装置作動時のヘッド
の浮上量が著しく小さくなっていることに伴い、ＣＳＳ
ゾーンにおいて、研磨によるテキスチャーに代えてレー
ザービーム照射によるテキスチャー、すなわちレーザー
ビーム照射により突起を形成することが試みられてい
る。しかしながら、ＣＳＳ方式においては、スタート・
ストップ時にヘッドが突起に衝突するために、ガラス基
板とＮｉＰ無電解メッキ層との密着性が悪いと、ヘッド
衝突時に突起が剥がれてしまう。そのために、レーザー
ビーム照射により突起を形成する場合は、機械テキスチ
ャーを施す以上に、ガラス基板とＮｉＰメッキ層とのよ
り強固な密着性が要求される。

【０００５】更に、モービルコンピューター用ハードデ
ィスクドライブでは、パーキング時にヘッドがＣＳＳゾ
ーンに強く衝突する場合がある。このヘッドと基板の衝
突により、基板自身のヴィカーズ硬度が小さい場合に
は、基板が凹む場合がある。通常ＮｉＰメッキ層は、ヴ
ィカーズ硬度５００ｋｇ／ｍｍ²程度の硬さを有する
が、特に、基板としてアルミニウム合金を使用した場合
には、ヴィカーズ硬度７０ｋｇ／ｍｍ²程度と柔らかい
ため凹みが生じ、耐久性が問題となる。すなわち、ヘッ
ドがＣＳＳゾーンに衝突した際の衝撃が大きい場合に
は、柔らかいアルミニウム基板にまで衝突痕が到達す
る。このため、基板としてガラス、セラッミックス等の
高硬度な基板の使用が検討されている。しかし、ＣＳＳ
ゾーンにレーザー突起を形成した場合、ヘッドの衝撃力
を一部のレーザー突起頂上部で受けるため、従来の機械
テキスチャーでヘッド衝撃力を全面で受ける場合に比べ
て接触基板表面に加わる衝撃力が大きくなる。そのた
め、、レーザーテキスチャーの場合、基板の硬度を更に
高める必要がある。

【０００６】特開平７−２７２２５７号公報には、ガラ
ス基板上に下地層、磁性層及び保護層を順次形成したの
ち、レーザービームを照射することが記載されている。
しかしながら、この方法ではレーザービームにより保護
層に微小な欠落部位を生じ、ここから保護層の下の磁性
層や下地層の金属が磁気記録媒体の表面に湧出してきて
腐蝕が起り易いという問題がある。また、保護層には主
にカーボンが用いられるが、レーザービームによりカー
ボン保護膜に一定の形状の突起を形成するのは極めて困
難である。これらの理由により、この方法では十分なＣ
ＳＳ特性は得られない。

【０００７】また、特開平８−１５３３２４号公報に
は、ＮｉＰ無電解メッキを施したアルミニウム基板上
に、同心円方向に機械テキスチャーを付与した後、ＣＳ
Ｓゾーンにレーザービームにより突起を形成することが
記載されている。しかしながら、アルミニウム基板と異
なり、ガラス等の絶縁性基板にレーザービームにより直
接突起を形成することは極めて困難である。

【０００８】一方、特開平８−１２９７４９号公報に
は、スパッタ法によりガラス基板上に、１００〜１５０
ｎｍ厚のＮｉＰ層を設けた後、レーザービームにより突
起を形成することが記載されている。しかしながら、工
業的な生産において、スパッタ法ではＮｉＰ膜を２００
ｎｍ以上厚く設けることは困難である。また、１５０ｎ
ｍ程度のＮｉＰ膜では、レーザー照射により突起を形成
する際に、ガラス基板の熱伝導性が低いために、畜熱効
果によりレーザー突起が細く尖った形状になる。その結
果、突起高さのバラツキが大きくなり、グライド特性が
悪化したり、耐久性が劣化することになる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の点に鑑
みなされたものであり、その目的は、ガラス基板を用い
た磁気記録媒体の製造において、従来のＮｉＰメッキを
施したＡｌ−Ｍｇ合金の場合と同様なレーザービームに
よる突起形成と機械的テキスチャリング加工を施すこと
により、ガラス基板の優れた特徴を活かし、しかも、十
分な耐衝撃性、摩擦特性、耐久性、電磁変換特性を確保
した磁気記録媒体およびその製造方法を提供することに
ある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記事情
に鑑み鋭意検討した結果、特定の硬度を有する非磁性基
板に無電解メッキ層を設け、レーザービームによる突起
形成と機械的テキスチャリング加工を施すことにより、
電磁変換特性および記録再生用ヘッドとの摩擦特性が良
好で、かつ良好な耐衝撃性を有し、耐久性に富む磁気記
録媒体を製造することができることを見いだし、本発明
に到達した。すなわち、本発明の要旨は、ヴィッカーズ
硬度が６５０ｋｇ／ｍｍ²以上の非磁性基板上に、少な
くとも非磁性金属メッキ層及び磁性層を有する磁気記録
媒体であって、ＣＳＳゾーンの非磁性金属メッキ層表面
にはレーザービームの照射による突起が形成され、デー
タゾーンの非磁性金属メッキ層表面には機械的テキスチ
ャーによる同心円状加工痕が形成されていることを特徴
とする磁気記録媒体に存する。

【００１１】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
磁気記録媒体は、高硬度の非磁性基板上に、少なくとも
非磁性金属メッキ層、磁性層を順次設けた磁気記録媒体
であり、優れた耐久性を示し且つ耐衝撃性に優れる。

【００１２】本発明の非磁性基板は、ヴィッカーズ硬度
が６５０ｋｇ／ｍｍ²以上、好ましくは、６９０ｋｇ／
ｍｍ²以上の優れた高剛性を有する基板からなる。ヴィ
ッカーズ硬度が６５０ｋｇ／ｍｍ²未満であると、ヘッ
ドの衝撃によりレーザー突起部分が変形したり、ひどい
場合にはレーザー突起が破壊する。ヴィカーズ硬度は、
非磁性基板表面に応力を集中させないため、厚さ方向に
均一であることが必要である。なお、使用される非磁性
基板は、予めその表面が研磨処理により鏡面仕上げされ
ていてもされていなくても良い。

【００１３】非磁性基板の材質としては、特に限定され
ないが、例えば、結晶化ガラスやＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂等
の添加により硬度を増したアルミノシリケートガラス、
ＳｉＣ、ＡｌＢＣ等のセラミックス等などが好ましく使
用される。中でも結晶化ガラスが好ましく、特には、Ｓ
ｉＯ₂−Ｌｉ₂Ｏ系結晶化ガラスが好適である。非磁性
基板上には、非磁性金属メッキ層、特には無電解メッキ
法による非磁性金属メッキ層が設けられるが、該メッキ
層との密着性を確保するため、基板表面に微細な凹部を
有するガラス基板を用いることが好適である。より具体
的には、凹部の最大幅が、２０μｍ以下、更に好ましく
は１０μｍ以下、特に好ましくは５μｍ以下の微細な凹
部が好適に使用される。

【００１４】ガラス基板の表面の微細な凹部は、例え
ば、結晶化ガラス基板においては、フッ酸、フッ化カリ
ウム、フッ化アンモニウム等のフッ酸系のエッチング剤
を使用して、化学エッチング処理を行うことにより、形
成することができる。これは、結晶化ガラスを用いる
と、化学エッチングを基板表面のアモルファス領域を選
択的にエッチングできるため、表面の平滑性をある程度
損なうことなく、適切に凹部を形成でき、好適である。
凹部の大きさは、エッチング液の濃度、処理温度、処理
時間などを適宜選択することにより制御することが可能
である。また、高硬度アルミノシリケート基板において
は、遊離砥粒や研削処理により加工することにより、微
細な凹部を形成することができる。

【００１５】本発明の磁気記録媒体は、上記の微細な凹
みを有する非磁性基板を、洗浄して表面を清浄にした
後、ＮｉＰ、ＮｉＡｌ等の非磁性金属被覆層を無電解メ
ッキ法で形成する。非磁性金属メッキ層は、少くとも５
０ｎｍの厚さであることが好ましい。これよりも薄い
と、次工程でレーザー照射により所望の形状の突起を形
成するのが困難である。非磁性金属メッキ層の厚さの上
限は限定されないが、工業的な生産性などの点から、２
０，０００ｎｍ以下が好適である。非磁性金属メッキ層
の特に好ましい範囲は１，０００〜１０，０００ｎｍで
ある。無電解メッキは、公知の方法により施され、具体
的には、感受性化工程、活性化工程および無電解メッキ
工程を通じて製造される。そして、通常は、感受性化処
理の前には、脱脂処理が設けられる。

【００１６】本発明の磁気記録媒体を製造するための好
ましい方法としては、上記の非磁性金属メッキ層を設け
た磁気記録媒体用基板の全面に表面粗さを下げるため、
機械的テキスチャーにより同心円状の研磨加工を施し、
次いで、その表面のＣＳＳゾーンにレーザービームを照
射して突起を形成する方法等が挙げられる。機械的テキ
スチャーは、通常、回転している基板表面に遊離砥粒を
供給しテープで研磨する方法又は、研磨砥粒が固定され
た研磨テープで回転している基板を研磨する方法等の公
知の方法が用いられる。遊離砥粒を用いる場合には、粒
径１μｍ以下のダイアモンド砥粒を用いることが最も好
ましい。グライド特性から、テキスチャー研磨後の表面
粗さは、平均表面粗さ（Ｒａ）１５Å以下、最大表面粗
さ（Ｒｍａｘ）６０Å以下が好ましい。

【００１７】次いで、ＣＳＳゾーンの非磁性金属被覆膜
にレーザービームの照射を行い、非磁性金属被覆膜を部
分的に溶融させ、この部分に突起を形成する。照射は基
板に対し任意の方向に行うことができる。例えば、円周
方向や平行方向に行うことができ、また所望ならば相互
に交差する方向に行ったり、さらには何らの規則性を持
たずに不規則な方向に行うこともできる。

【００１８】レーザービームとしては金属被覆膜に溶融
により突起を形成しうるものであれば、任意のものを用
いることができる。例えば、パルスレーザー等が使用さ
れる。レーザービームの照射により形成される突起の平
均高さは、通常、５〜１００ｎｍであれば良い。また、
突起の密度は、１０³〜１０⁸個／ｍｍ²が好ましい。
突起の配列は上述の照射の方向により定まるが、規則的
であっても不規則であってもよい。レーザービームの照
射により突起が形成された非磁性金属被覆膜上には、次
いで少くとも磁性層を含む磁気記録層を形成する。な
お、所望ならば、磁気記録層の形成に先立ち、基板の洗
浄を行ってもよい。洗浄は例えば超純水を用いた超音波
洗浄、スクラブ洗浄等が使用される。

【００１９】次いで、常法に従って磁気記録層を形成す
る。通常はスパッタ法によりＣｒ下地層、磁性層、保護
層及び潤滑層の順に各層が積層されるように形成する。
Ｃｒ下地層の膜厚は、磁気記録媒体に所望の磁気特性に
合わせて設定するが、通常は１００〜１０００Åであ
る。Ｃｒ下地層は通常は純Ｃｒで形成するが、合計で２
０原子％程度までの他の元素を含有させてもよい。Ｃｒ
下地層は通常は１層であるが、所望ならば複数の層から
なる多層膜とすることもできる。磁性層は通常はＣｏ系
合金、例えばＣｏＮｉＣｒ，ＣｏＣｒ，ＣｏＣｒＴａ，
ＣｏＣｒＰｔ，ＣｏＣｒＰｔＴａ，ＣｏＣｒＰｔＢ，Ｃ
ｏＮｉＰｔ，ＣｏＮｉＣｒＢＴａ，ＣｏＳｍなどで形成
する。磁性層の膜厚は通常１００〜５００Åである。磁
性層も１層であっても多層であってもよい。

【００２０】保護層は通常はアモルファスカーボン、水
素化カーボンなどの炭素材料や、シリカ、ジルコニアな
どの金属酸化物で形成され、その膜厚は通常３０〜５０
０Å、好ましくは３０〜２００Åである。保護層も１層
であっても多層であってもよい。潤滑層はフッ素系液体
潤滑剤などを保護層に塗布することにより形成される。
なお、保護層と潤滑層とは、磁気記録媒体として不可欠
ではないが、磁気記録媒体の耐久性や記録再生用ヘッド
との摩擦特性などからして、この両層を設けておくのが
極めて望ましい。

【００２１】下地層、磁性層及び保護層の形成は、直流
スパッタリング法、高周波スパッタリング法、真空蒸着
法など、常法により行うことができる。この際、基板に
対して一定の電圧を印加しておいてもよい。基板バイア
ス電圧は直流、交流のいずれでもよい。またその大きさ
は目的とする磁気記録媒体の特性に合せて任意に設定で
きるが、直流の場合で通常は数百ボルト程度である。各
層の形成は、成膜装置の真空室内で、下地層、磁性層、
保護層の順に連続して行うのが好ましいが、所望ならば
例えば下地層を形成したのち大気中に取出し、次いで再
び成膜装置に挿入して磁性層を形成するようにすること
もできる。なお、磁気記録層の形成に際しては、基板を
加熱することが優れた磁気特性を発現させるのに好まし
いことが多い。

【００２２】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。

【００２３】実施例１ヴィカーズ硬度６９０ｋｇ／ｍｍ²のＳｉＯ₂−Ｌｉ₂
Ｏ系結晶化ガラスからなる直径９５ｍｍの円盤状ポリッ
シュ基板をフッ酸系水溶液で表面エッチングした。表面
をＳＥＭで３万倍で観察したところ、サブミクロンの微
細な凹凸が確認できた。次に、ガラス基板を、市販の
０．０５ｇ／ｌのＳｎＣｌ₂水溶液に室温で２分間浸漬
し、水洗を行い、感受性化処理を行った。その後、市販
の０．０５ｇ／ｌのＰｄＣｌ₂水溶液に室温で２分間浸
漬し、水洗を行い活性化処理を行った。次いで、無電解
メッキ法を用いて厚さ８μｍのＮｉＰ層を形成し、アル
ミナ砥粒で２μｍ研磨することにより、平均表面粗さ
（Ｒａ）１５Å、厚さ６μｍのＮｉＰ被覆膜とした。次
いで、データ面の平滑化と配向制御のため、このＮｉＰ
被覆膜を粒径０．５μのダイヤ砥粒で研磨を行い、同心
円状に溝のあるテキスチャー加工を施した。テキスチャ
ー加工後の平均表面粗さ（Ｒａ）は１０Å、最大表面粗
さ（Ｒｍａｘ）は４０Åであった。これを超純水を用い
てスクラブ洗浄により砥粒と研削粉を洗浄後乾燥した。

【００２４】続いて、ＣＳＳゾーンである半径１７〜２
１ｍｍのドーナツ状の領域に、基板線速度８５７ｍｍ／
ｓ、レーザー強度３００ｍＷ、平均照射時間２．５μ・
ｓｅｃでアルゴンパルスレーザーを照射して突起を形成
させた。突起が形成された領域を触針式表面粗さ計で測
定したところ、平均突起密度は４１２０／ｍｍ²、平均
突起高さは３７ｎｍであった。なお、粗さ測定は、先端
が半径０．２μｍの針を用いて行った。上記の数値は、
この測定の場所を６ケ所変えて、それぞれの場所の平均
表面粗さを算出し、これを更に６ケ所で平均したもので
ある。

【００２５】突起を形成した基板は超純水を用いて洗浄
後乾燥したのち、下地層、磁性層及び保護層を順次成膜
した。成膜は基板にバイアス電圧を印加せずに直流スパ
ッタリング法を用いて行った。成膜に際しては、先ず真
空室を４×１０^-8ｔｏｒｒまで排気し、この状態でラン
プヒーターを用いて基板を２５０℃まで加熱した。成膜
はＣｒ下地層２００Å、７６Ｃｏ−１５Ｃｒ−２Ｔａ−
６Ｐｔ−１Ｗ（原子％）の磁性層１７０Å、Ｃ保護層１
００Åの順に行い、さらに保護層の上にフッ素系の液体
潤滑剤（モンテエジソン社製、商品名ＤＯＬ−２００
０）を塗布した。

【００２６】この磁気記録媒体の静磁気特性、電磁変換
特性、耐久性、耐衝撃性を評価した。ＶＳＭ（試料振動
型磁力計）を用いて静磁気特性を測定した結果、Ｈｃ
（磁気記録媒体の面内方向の保磁力）２６００Ｏｅ、
Ｂｒｔ（残留磁束密度）６０Ｇμｍであった。コンタク
ト・スタート・ストップ試験（ＣＳＳ試験）により耐久
性を評価した結果、６５℃、１０％Ｒ．Ｈ．下で１万回
ＣＳＳを行っても、スティクションは増加することな
く、良好な性能を示した。用いたヘッドはＤＬＣ付き５
０％スライダーを有し、荷重は６．５ｇｆである。ま
た、３．５インチの市販のドライブにヘッドと共に組み
込み、ヘッドをＣＳＳゾーンにパーキング後、そのドラ
イブを衝撃試験装置（吉田精機製落下式衝撃試験機Ｓ
ＤＳＴ−３００、高加速度発生装置ＨＧＰ−２０付き）
に組み込むことにより行った。印可した衝撃力と作用時
間はそれぞれ、８００Ｇと２ｍｓである。このドライブ
への衝撃により、ヘッドがディスク基板に衝突する。こ
の衝撃により、スライダー端面がディスク基板に衝突し
た際のキズは残ったが、スライダー平坦部においてはデ
ィスク基板に大きな凹みは全く発生しなかった。

【００２７】実施例２ヴィカーズ硬度６７０ｋｇ／ｍｍ²のＳｉＯ₂−Ｌｉ₂
Ｏ系の結晶化ガラスからなる直径９５ｍｍの円盤状の基
板を用い、フジミインコーポレーティッド社製人造研削
剤Ｆ０（複合人造エメリー、比重３．９０以上、Ａｌ２
０３；４５重量％以上、ＴｉＯ：２．０重量％以下、Ｚ
ｒＳｉＯ４９重量％以下）の粒度区分＃１０００（最大
粒子径２７μｍ以下）でラッピング処理を行った。

【００２８】次いで、フッ酸系水溶液で表面をエッチン
グし、無電解メッキ法を用いて厚さ１２μｍのＮｉＰ層
を形成し、アルミナ砥粒で５μｍ研磨することにより、
平均表面粗さ１５Å、厚さ７μｍのＮｉＰ被覆膜とした
以外は実施例１と同様の方法で磁気記録媒体を作成し
た。この磁気記録媒体を実施例１と同様に評価した。静
磁気特性は、Ｈｃが２６００Ｏｅ、Ｂｒｔが６０Ｇμ
ｍと良好であった。またＣＳＳ試験の結果、６５℃、１
０％Ｒ．Ｈ．下で１万回ＣＳＳを行っても、スティクシ
ョンは増加することなく、良好な性能を示した。更に市
販のドライブを用いて衝撃試験を行った結果、ヘッドス
ライダーの端面のキズは残ったが、大きな凹みは全く発
生しなかった。

【００２９】比較例１基板表面のヴィカーズ硬度６２０ｋｇ／ｍｍ²の強化系
アルミノシリケートガラス製の直径９５ｍｍの円盤状の
ポリッシュ基板をフッ酸系水溶液で表面をエッチングし
た後に、無電解メッキ法を用いて厚さ８μｍのＮｉＰ層
を形成しアルミナ砥粒で２μｍ研磨することにより、平
均表面粗さ１５Åの金属被覆膜とした以外は実施例１と
同様の方法で磁気記録媒体を作成した。この磁気記録媒
体を実施例１と同様に評価した。静磁気特性は、Ｈｃが
２６００Ｏｅ、Ｂｒｔが６０Ｇμｍと良好であった。
またＣＳＳ試験の結果、６５℃、１０％Ｒ．Ｈ．下で１
万回ＣＳＳを行っても、スティクションは増加すること
なく、良好な性能を示した。しかし、市販のドライブを
用いて衝撃試験を行った結果、ヘッドスライダーの端面
のキズから、ＮｉＰ膜の剥離が発生した。その個所を光
学顕微鏡で観察すると、強化層が剥離していることが分
かった。

【００３０】比較例２レーザー照射によるテキスチャー処理を施さなかった以
外は実施例１と同様の方法で磁気記録媒体を作成した。
この磁気記録媒体を実施例１と同様に評価した。静磁気
特性は、Ｈｃが２６００Ｏｅ、Ｂｒｔが６０Ｇμｍと
良好であった。またＣＳＳ試験の結果、６５℃、１０％
Ｒ．Ｈ．下で１００回以下のＣＳＳで、スティクション
が増加し、ヘッドがディスクに吸着してヘッドクラッシ
ュを引き起こした。しかし、市販のドライブを用いて衝
撃試験を行った結果、ヘッドスライダーの端面のキズは
見られたが、大きな凹みは見られなかった。

【００３１】

【発明の効果】本発明によれば代替基板を用いた磁気記
録媒体において、磁気特性、電磁変換特性、耐久性、摩
擦特性、耐衝撃性に優れた磁気記録媒体を作成すること
ができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性基板上に、少なくとも非磁性金属
メッキ層及び磁性層を有する磁気記録媒体であって、非
磁性基板のヴィッカーズ硬度が厚さ方向に均一で６５０
ｋｇ／ｍｍ²以上であり、かつＣＳＳゾーンの非磁性金
属メッキ層表面にはレーザービームの照射による突起が
形成され、データゾーンの非磁性金属メッキ層表面には
機械的テキスチャーによる同心円状加工痕が形成されて
いることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】非磁性基板が、ＳｉＯ₂−Ｌｉ₂Ｏ系結
晶化ガラスからなることを特徴とする請求項１記載の磁
気記録媒体。
【請求項３】レーザービームの照射により形成された
突起の平均高さが５〜１００ｎｍであり、かつその数が
１０³〜１０⁸個／ｍｍ²であることを特徴とする請求
項１または２記載の磁気記録媒体。
【請求項４】非磁性金属メッキ層が、ＮｉＰ無電解メ
ッキ層であることを特徴とする請求項１ないし３記載の
磁気記録媒体。
【請求項５】機械的テキスチャーが、ダイヤモンド砥
粒を用いて施されたものであることを特徴とする請求項
１ないし４記載の磁気記録媒体。
【請求項６】ヴィッカーズ硬度が厚さ方向に均一で６
５０ｋｇ／ｍｍ²以上の非磁性基板上に、無電解メッキ
法により非磁性金属層を形成し、該非磁性金属メッキ層
表面に機械的テキスチャーを施すことにより同心円状加
工痕を形成した後、その表面のＣＳＳゾーンにレーザー
ビームを照射することにより突起を形成し、次いで少な
くとも磁性層を設けることを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。