JPH11117100A - 電解研摩液 - Google Patents
電解研摩液Info
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- JPH11117100A JPH11117100A JP27743797A JP27743797A JPH11117100A JP H11117100 A JPH11117100 A JP H11117100A JP 27743797 A JP27743797 A JP 27743797A JP 27743797 A JP27743797 A JP 27743797A JP H11117100 A JPH11117100 A JP H11117100A
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- Japan
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- copper
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- polishing
- electrolytic polishing
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 研摩対象物である銅または銅合金材料の表面
にスマットが発生しがたい電解研摩液を提供すること 【解決手段】 銅または銅合金を電解研摩する際に使用
する電解研摩液。リン酸根及びカルボン酸根の各含有化
合物を必須成分として含有し、 pH が約５〜８に調整さ
れてなる。
にスマットが発生しがたい電解研摩液を提供すること 【解決手段】 銅または銅合金を電解研摩する際に使用
する電解研摩液。リン酸根及びカルボン酸根の各含有化
合物を必須成分として含有し、 pH が約５〜８に調整さ
れてなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、銅または銅合金を
電解研摩する際に使用する電解研摩液に関する。特に、
リード（端子）材等の電子部品に好適な発明である。
電解研摩する際に使用する電解研摩液に関する。特に、
リード（端子）材等の電子部品に好適な発明である。
【０００２】
【背景技術】昨今、銅や銅合金からなる材料（以下「銅
系材料」と称す。）は、コンデンサ、抵抗器、コネク
タ、プリント回路、集積回路等の電子部品のリード材
（端子材）として多用化されている。そして、昨今の電
子部品の高性能化・高密度化等の要請から、従来にもま
して、銅系材料の表面が平滑であることが要求されるよ
うになってきている。その平滑化が容易に可能な方法と
して、本願出願人が先に提案した電解研摩方法がある
（特開平６−２３８５１９号公報、特開平６−２８５７
１９号公報、同７−６０５４９号公報等）。
系材料」と称す。）は、コンデンサ、抵抗器、コネク
タ、プリント回路、集積回路等の電子部品のリード材
（端子材）として多用化されている。そして、昨今の電
子部品の高性能化・高密度化等の要請から、従来にもま
して、銅系材料の表面が平滑であることが要求されるよ
うになってきている。その平滑化が容易に可能な方法と
して、本願出願人が先に提案した電解研摩方法がある
（特開平６−２３８５１９号公報、特開平６−２８５７
１９号公報、同７−６０５４９号公報等）。
【０００３】ここで、これらの電解研摩方法は、陽極
（被加工物）と陰極との対面間の電解液を、流動させて
研摩する方法で、ヤッケ層を発生させずに表面粗さ２〜
１００μｍに仕上げる粗研摩（マクロ研摩）と、ヤッケ
層を発生させて表面粗さを２μｍ未満にする鏡面研摩
（ミクロ研摩）とを、一工程で同時にできる方法であ
る。
（被加工物）と陰極との対面間の電解液を、流動させて
研摩する方法で、ヤッケ層を発生させずに表面粗さ２〜
１００μｍに仕上げる粗研摩（マクロ研摩）と、ヤッケ
層を発生させて表面粗さを２μｍ未満にする鏡面研摩
（ミクロ研摩）とを、一工程で同時にできる方法であ
る。
【０００４】そして、従来の電解研摩液としては、通
常、硫酸塩、硝酸塩、キレート剤を含む、中性から酸性
のものを使用していた（特開平７−３１６８９９号公
報：（特願平６−１３９２８５号）参照）。
常、硫酸塩、硝酸塩、キレート剤を含む、中性から酸性
のものを使用していた（特開平７−３１６８９９号公
報：（特願平６−１３９２８５号）参照）。
【０００５】例えば、銅合金である黄銅（Ｃｕ−Ｚｎ）
用の電解液として、上記特開平７−３１６８９９号公報
に、下記組成のものが記載されている。
用の電解液として、上記特開平７−３１６８９９号公報
に、下記組成のものが記載されている。
【０００６】 硫酸アンモニウム １００ｇ／Ｌ 酢酸アンモニウム １００ｇ／Ｌ
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記組成の電
解研摩液を使用して銅合金を研摩した場合、銅合金の種
類により、特にコルソン系合金に下記のような問題点が
発生し易いことが分かった。
解研摩液を使用して銅合金を研摩した場合、銅合金の種
類により、特にコルソン系合金に下記のような問題点が
発生し易いことが分かった。
【０００８】研摩対象物（銅系材料）の表面に、スマッ
ト（粉状の黒色酸化物）が発生し易い。このスマット
は、後工程で、電気メッキ、無電解メッキ、ＣＶＤ（ch
emicalvapor depositiond）、ＰＶＤ（physical vapor
deposition)等による被膜（表面処理）を形成した場
合、該被膜に表面フクレ、コブ、ハガレ等の原因とな
り、望ましくない。
ト（粉状の黒色酸化物）が発生し易い。このスマット
は、後工程で、電気メッキ、無電解メッキ、ＣＶＤ（ch
emicalvapor depositiond）、ＰＶＤ（physical vapor
deposition)等による被膜（表面処理）を形成した場
合、該被膜に表面フクレ、コブ、ハガレ等の原因とな
り、望ましくない。
【０００９】本発明は、上記にかんがみて、研摩対象物
である銅系材料の表面にスマットが発生しがたい電解研
摩液を提供することを目的とする。
である銅系材料の表面にスマットが発生しがたい電解研
摩液を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明に係る電解研摩液
は、上記課題を、下記構成により解決するものである。
は、上記課題を、下記構成により解決するものである。
【００１１】銅または銅合金を電解研摩する際に使用す
る電解研摩液であって、リン酸根及びカルボン酸根の各
含有化合物を必須成分として含有し、 pH が約５〜８に
調整されてなることを特徴とする。
る電解研摩液であって、リン酸根及びカルボン酸根の各
含有化合物を必須成分として含有し、 pH が約５〜８に
調整されてなることを特徴とする。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に、上記手段の各構成について
詳細な説明を行う。
詳細な説明を行う。
【００１３】(1) 研摩対象物である銅合金としては、 銅−亜鉛系合金：丹銅、七三しんちゅう、六四しんち
ゅう 銅−錫系合金：実用青銅（砲金）コルソン合金（Ｃｕ
−Ｎｉ−Ｓｉ）、ケイ素青銅、ベリリウム青銅 等が好適である。
ゅう 銅−錫系合金：実用青銅（砲金）コルソン合金（Ｃｕ
−Ｎｉ−Ｓｉ）、ケイ素青銅、ベリリウム青銅 等が好適である。
【００１４】しかし、上記以外の他の銅合金、例えば、
鉛入り黄銅、錫入り黄銅、高力黄銅、、リン青銅、鉛青
銅、アルミニウム青銅、ニッケルアルミニウム青銅、ニ
ッケルマンガン青銅、、ケイ素青銅、ベリリウム青銅、
白銅（Ｃｕ−Ｎｉ合金）、洋銀（Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎ合
金）、銅−鉛合金、銅マンガン合金、カドミニウム銅等
も、本発明の研摩対象物とすることができる。
鉛入り黄銅、錫入り黄銅、高力黄銅、、リン青銅、鉛青
銅、アルミニウム青銅、ニッケルアルミニウム青銅、ニ
ッケルマンガン青銅、、ケイ素青銅、ベリリウム青銅、
白銅（Ｃｕ−Ｎｉ合金）、洋銀（Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎ合
金）、銅−鉛合金、銅マンガン合金、カドミニウム銅等
も、本発明の研摩対象物とすることができる。
【００１５】(2) 上記リン酸根含有化合物としては、リ
ン酸、二リン酸（ピロリン酸）の他、リン酸アンモニウ
ム、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のオルトリン
酸塩；リン酸水素アンモニウム、リン酸水素カリウム、
リン酸水素ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リ
ン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム等のリン
酸酸性塩、及び、二リン酸アンモニウム、二リン酸カリ
ウム、二リン酸ナトリウム等のオルト二リン酸塩；二リ
ン酸水素アンモニウム、二リン酸水素カリウム、二リン
酸水素ナトリウム、二リン酸二水素アンモニウム、二リ
ン酸二水素カリウム、二リン酸二ナトリウム等の二リン
酸酸性塩等、のうちから一種または２種以上を併用して
使用することができる。
ン酸、二リン酸（ピロリン酸）の他、リン酸アンモニウ
ム、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のオルトリン
酸塩；リン酸水素アンモニウム、リン酸水素カリウム、
リン酸水素ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リ
ン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム等のリン
酸酸性塩、及び、二リン酸アンモニウム、二リン酸カリ
ウム、二リン酸ナトリウム等のオルト二リン酸塩；二リ
ン酸水素アンモニウム、二リン酸水素カリウム、二リン
酸水素ナトリウム、二リン酸二水素アンモニウム、二リ
ン酸二水素カリウム、二リン酸二ナトリウム等の二リン
酸酸性塩等、のうちから一種または２種以上を併用して
使用することができる。
【００１６】こららのリン酸根含有化合物の内、リン酸
アンモニウム、二リン酸カリウム、二リン酸の群から選
択される１種または２種以上のものが望ましい。
アンモニウム、二リン酸カリウム、二リン酸の群から選
択される１種または２種以上のものが望ましい。
【００１７】このリン酸根含有化合物の含有量は、通
常、２０〜１２０ｇ／Ｌ、望ましくは、４０〜８０ｇ／
Ｌ、更に望ましくは、５０〜７０ｇ／Ｌとする。
常、２０〜１２０ｇ／Ｌ、望ましくは、４０〜８０ｇ／
Ｌ、更に望ましくは、５０〜７０ｇ／Ｌとする。
【００１８】(3) 上記カルボン酸根含有化合物として
は、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イ
ソ吉草酸、ラウリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸等
の飽和脂肪族モノカルボン酸；シュウ酸、マロン酸、コ
ハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピペリン酸、スベリ
ン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の飽和脂肪族ジカル
ボン酸；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソ
クロトン酸、オレイン酸等の不飽和モノカルボン酸；フ
マル酸、マレイン酸等の不飽和ジカルボン酸；アコニッ
ト酸等のトリカルボン酸；クエン酸、リンゴ酸、酒石
酸、グリコール酸、乳酸、グリセリン酸等のヒドロキシ
カルボン酸；更には、各種、アミド酸、メルカプトカル
ボン酸、ケトカルボン酸等、及び、それらのアンモニア
塩及びアルカリ塩のうちから１種または２種以上を併用
して使用できる。
は、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イ
ソ吉草酸、ラウリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸等
の飽和脂肪族モノカルボン酸；シュウ酸、マロン酸、コ
ハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピペリン酸、スベリ
ン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の飽和脂肪族ジカル
ボン酸；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソ
クロトン酸、オレイン酸等の不飽和モノカルボン酸；フ
マル酸、マレイン酸等の不飽和ジカルボン酸；アコニッ
ト酸等のトリカルボン酸；クエン酸、リンゴ酸、酒石
酸、グリコール酸、乳酸、グリセリン酸等のヒドロキシ
カルボン酸；更には、各種、アミド酸、メルカプトカル
ボン酸、ケトカルボン酸等、及び、それらのアンモニア
塩及びアルカリ塩のうちから１種または２種以上を併用
して使用できる。
【００１９】こらのカルボン酸根含有化合物のうち、ク
エン酸、リンゴ酸、酒石酸等のヒドロキシカルボン酸が
特に好ましい。
エン酸、リンゴ酸、酒石酸等のヒドロキシカルボン酸が
特に好ましい。
【００２０】このカルボン酸根含有化合物の含有量は、
通常、５０〜１５０ｇ／Ｌ、望ましくは７０〜１３０ｇ
／Ｌ、更に望ましくは９０〜１１０ｇ／Ｌとする。
通常、５０〜１５０ｇ／Ｌ、望ましくは７０〜１３０ｇ
／Ｌ、更に望ましくは９０〜１１０ｇ／Ｌとする。
【００２１】(4) 上記 pH （水素イオン指数）が、約５
未満では、研摩ムラが発生し易い。、約８を越えると、
研摩が困難となり、エッチング現象が発生し易くなる。
未満では、研摩ムラが発生し易い。、約８を越えると、
研摩が困難となり、エッチング現象が発生し易くなる。
【００２２】そして、この pH 調整は、塩基または酸の
水溶液を使用して行う。このとき、塩基としては、上記
各種塩に含まれるものが望ましく、アンモニア水、水酸
化カリ、水酸化ナトリウムの水溶液を使用でき、特に、
アンモニア水が望ましい。通常、上記リン酸化合物及び
カルボン酸化合物を使用したとき、電解液は、酸性を示
すことが多いため、アンモニア水で調整することが多い
が、 pH ８をこえるアルカリ性に傾いたときは、上記リ
ン酸、二リン酸、カルボン酸を使用して調整する。
水溶液を使用して行う。このとき、塩基としては、上記
各種塩に含まれるものが望ましく、アンモニア水、水酸
化カリ、水酸化ナトリウムの水溶液を使用でき、特に、
アンモニア水が望ましい。通常、上記リン酸化合物及び
カルボン酸化合物を使用したとき、電解液は、酸性を示
すことが多いため、アンモニア水で調整することが多い
が、 pH ８をこえるアルカリ性に傾いたときは、上記リ
ン酸、二リン酸、カルボン酸を使用して調整する。
【００２３】(5) 次に、上記電解液を使用しての電解研
摩方法を説明する。
摩方法を説明する。
【００２４】本電解液は、電解研摩、特に鏡面研摩に好
適に適用できるが、上記公報に記載の電解粗研摩・鏡面
研摩を同時にできる方法にも適用できる。
適に適用できるが、上記公報に記載の電解粗研摩・鏡面
研摩を同時にできる方法にも適用できる。
【００２５】上記公報に記載の方法を使用できる。電解
研摩の条件は、下記の通りとする。
研摩の条件は、下記の通りとする。
【００２６】電解液温度 ２０〜６０℃（望ましくは３
０〜５０℃）、 研摩電流 ２０〜１００Ａ／ｄｍ2 （望ましくは３０
〜８０Ａ／ｄｍ2 ） 加工時間 ５〜９０秒（望ましくは１５〜６０秒、更
に望ましくは２０〜４０秒） (6) こうして、銅系金属を電解研摩した場合、粗研摩と
ともにを鏡面研摩が行われるが、スマットが発生しがた
い。従って、後工程で電気メッキ等の被膜処理を行って
も、該被膜に、フクレ、コブ、ハガレ等が発生するおそ
れがない。
０〜５０℃）、 研摩電流 ２０〜１００Ａ／ｄｍ2 （望ましくは３０
〜８０Ａ／ｄｍ2 ） 加工時間 ５〜９０秒（望ましくは１５〜６０秒、更
に望ましくは２０〜４０秒） (6) こうして、銅系金属を電解研摩した場合、粗研摩と
ともにを鏡面研摩が行われるが、スマットが発生しがた
い。従って、後工程で電気メッキ等の被膜処理を行って
も、該被膜に、フクレ、コブ、ハガレ等が発生するおそ
れがない。
【００２７】
【実施例】本発明の硬化を確認するために行った実施例
について説明をする。
について説明をする。
【００２８】なお、被研摩物は、コルソン合金（組成：
Ｎｉ ２．４％，Ｓｉ ０．４％、Ｐ ０．１５％，Ｃ
ｕ 残部）製の、５０mm□のものを使用し、陰極は、同
断面形状のＳＵＳ３０４の角柱状のものを用い、被研摩
物に対して、８cm間隔とした。
Ｎｉ ２．４％，Ｓｉ ０．４％、Ｐ ０．１５％，Ｃ
ｕ 残部）製の、５０mm□のものを使用し、陰極は、同
断面形状のＳＵＳ３０４の角柱状のものを用い、被研摩
物に対して、８cm間隔とした。
【００２９】＜実施例１＞電解研摩液は、ピロリン酸カ
リ：６０ｇ／Ｌ、クエン酸１００ｇ／Ｌの組成液を、ア
ンモニア水（１Ｎ）で pH ７に調整した。
リ：６０ｇ／Ｌ、クエン酸１００ｇ／Ｌの組成液を、ア
ンモニア水（１Ｎ）で pH ７に調整した。
【００３０】そして、研摩電流（陽極）：５０Ａ／ｄｍ
2 、鏡面電解研摩を２０秒を行った。
2 、鏡面電解研摩を２０秒を行った。
【００３１】その電解研摩加工の前後の結果を表１に示
す。
す。
【００３２】本電解研摩液は、十分な研摩作用を奏する
ことがわかる。また、表面にはスマットが認められなか
った。
ことがわかる。また、表面にはスマットが認められなか
った。
【００３３】＜実施例２＞上記実施例１と同様の条件に
おいて、鏡面電解研摩を６０秒行った。
おいて、鏡面電解研摩を６０秒行った。
【００３４】結果を表１に示すが、長く行えば研摩度が
若干であるが向上することがわかる。また、表面にはス
マットが認められなかった。
若干であるが向上することがわかる。また、表面にはス
マットが認められなかった。
【００３５】＜比較例＞上記実施例１において、電解研
摩液を、硫酸アンモニウム：１００ｇ／Ｌ、酢酸アンモ
ニウム：１００ｇ／Ｌ、とした以外は、同様に行った。
摩液を、硫酸アンモニウム：１００ｇ／Ｌ、酢酸アンモ
ニウム：１００ｇ／Ｌ、とした以外は、同様に行った。
【００３６】結果を表１に示すが、実施例１に比して、
Ｒz （十点平均粗さ）が大きく、かつ、Ｓm （平均山間
隔）が小さく、研摩度が劣ることが分かる。なお、比較
例ではスマットが確認された。
Ｒz （十点平均粗さ）が大きく、かつ、Ｓm （平均山間
隔）が小さく、研摩度が劣ることが分かる。なお、比較
例ではスマットが確認された。
【００３７】
【発明の作用・効果】本発明の電解研摩液は、上記の如
く、リン酸根及びカルボン酸根を必須成分として含有
し、 pH が約５〜８に調整されてなる構成により、前述
の実施例で支持される如く、銅径材料に対する電解鏡面
研摩が円滑に行われるとともに、スマットの発生も全く
認められない。
く、リン酸根及びカルボン酸根を必須成分として含有
し、 pH が約５〜８に調整されてなる構成により、前述
の実施例で支持される如く、銅径材料に対する電解鏡面
研摩が円滑に行われるとともに、スマットの発生も全く
認められない。
【００３８】従って、後工程で、電気メッキ、無電解メ
ッキ、ＣＶＤ（chemical vapor depositiond）、ＰＶＤ
（physical vapor deposition)等による被膜（表面処
理）を形成しても、該被膜にスマットに起因する表面フ
クレ、コブ、ハガレ等を発生するおそれがない。
ッキ、ＣＶＤ（chemical vapor depositiond）、ＰＶＤ
（physical vapor deposition)等による被膜（表面処
理）を形成しても、該被膜にスマットに起因する表面フ
クレ、コブ、ハガレ等を発生するおそれがない。
【００３９】
【表１】
Claims (6)
- 【請求項１】 銅または銅合金を電解研摩する際に使用
する電解研摩液であって、 リン酸根及びカルボン酸根の各含有化合物を必須成分と
して含有し、 pH が約５〜８に調整されてなることを特
徴とする電解研摩液。 - 【請求項２】 前記リン酸根含有化合物が、リン酸アン
モニウム、二リン酸カリウム、二リン酸の群から選択さ
れる１種または２種以上のものを起源とすることを特徴
とする請求項１記載の電解研摩液。 - 【請求項３】 前記カルボン酸根含有化合物が、ヒドロ
キシカルボン酸を起源とすることを特徴とする請求項１
又は２記載の電解研摩液。 - 【請求項４】 銅または銅合金を、電解研摩液を用いて
電解研摩する方法において、 前記電解研摩液として、水溶性のリン酸根及びカルボン
酸根の各含有化合物を必須成分とし、 pH が約５〜８に
調整されてなるものを使用することを特徴とする電解研
摩方法。 - 【請求項５】 前記リン酸根含有化合物が、リン酸アン
モニウム、ピロリン酸カリウム、ピロリン酸の群から選
択される１種または２種以上のものを起源とすることを
特徴とする請求項４記載の電解研摩方法。 - 【請求項６】 前記カルボン酸根含有化合物が、ヒドロ
キシカルボン酸を起源とすることを特徴とする請求項４
又は５記載の電解研摩方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27743797A JP3796599B2 (ja) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | 電解研摩液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27743797A JP3796599B2 (ja) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | 電解研摩液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11117100A true JPH11117100A (ja) | 1999-04-27 |
| JP3796599B2 JP3796599B2 (ja) | 2006-07-12 |
Family
ID=17583560
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27743797A Expired - Lifetime JP3796599B2 (ja) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | 電解研摩液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3796599B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003089886A (ja) * | 2001-09-14 | 2003-03-28 | Chuetsu Metal Works Co Ltd | 鉛含有銅合金材からの鉛溶出防止方法 |
| JP2006131970A (ja) * | 2004-11-08 | 2006-05-25 | Yamanashi Prefecture | 非シアン系電解研磨液及びそれを用いた電解研磨方法 |
| WO2013036999A1 (en) * | 2011-09-15 | 2013-03-21 | Ensitech Ip Pty Ltd | Weld cleaning fluid |
| JP2013245391A (ja) * | 2012-05-28 | 2013-12-09 | Ishitobi Seisakusho:Kk | 電解研磨用電解液 |
| CN110629227A (zh) * | 2019-08-14 | 2019-12-31 | 沈阳造币有限公司 | 一种造币铜合金坯饼电解质等离子抛光液及抛光工艺 |
-
1997
- 1997-10-09 JP JP27743797A patent/JP3796599B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003089886A (ja) * | 2001-09-14 | 2003-03-28 | Chuetsu Metal Works Co Ltd | 鉛含有銅合金材からの鉛溶出防止方法 |
| JP2006131970A (ja) * | 2004-11-08 | 2006-05-25 | Yamanashi Prefecture | 非シアン系電解研磨液及びそれを用いた電解研磨方法 |
| JP4617425B2 (ja) * | 2004-11-08 | 2011-01-26 | 山梨県 | 非シアン系電解研磨液及びそれを用いた電解研磨方法 |
| WO2013036999A1 (en) * | 2011-09-15 | 2013-03-21 | Ensitech Ip Pty Ltd | Weld cleaning fluid |
| JP2013245391A (ja) * | 2012-05-28 | 2013-12-09 | Ishitobi Seisakusho:Kk | 電解研磨用電解液 |
| CN110629227A (zh) * | 2019-08-14 | 2019-12-31 | 沈阳造币有限公司 | 一种造币铜合金坯饼电解质等离子抛光液及抛光工艺 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3796599B2 (ja) | 2006-07-12 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040507 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050310 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Written amendment |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R154 | Certificate of patent or utility model (reissue) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R154 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120428 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120428 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150428 Year of fee payment: 9 |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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